JP2002290044A - Multilayer printed wiring board and manufacturing method thereof - Google Patents

Multilayer printed wiring board and manufacturing method thereof

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JP2002290044A
JP2002290044A JP2001091491A JP2001091491A JP2002290044A JP 2002290044 A JP2002290044 A JP 2002290044A JP 2001091491 A JP2001091491 A JP 2001091491A JP 2001091491 A JP2001091491 A JP 2001091491A JP 2002290044 A JP2002290044 A JP 2002290044A
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the accuracy of the relative position of a following process to the position of its preceding process in the manufacture of a multilayer printed wiring board. SOLUTION: In the manufacturing method of the multilayer printed wiring board, a through hole is formed in a core board and inner-layer conductor patterns are formed on the core board by using the through hole as a positional reference. Then, an insulation layer is formed on the surface of the core board, and an insulation material is filled partly or wholly into the through hole. Subsequently, via holes are formed in the insulation layer by using as a positional reference a guide mark formed together with the inner-layer conductor patterns, and a new through bole 24 whose sectional area in the parallel direction with the core board is smaller than the one of the original through hole is formed in the inside of the original through by removing a portion of the insulation material filled into the original through hole. Thereafter, outer-layer conductor patterns are formed on the core board by using the new through hole 24 as a positional reference.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、硬質なコア基板を
用いた多層プリント配線板、フレキシブルなコア基板を
用いたプリント配線板または硬質な基板とフレキシブル
なフィルム基板を組み合わせた複合基板をコア基板とし
て用いた多層プリント配線板等の多層プリント配線板お
よびその製造方法に関し、特に、ビルドアップ構成の多
層プリント配線板およびその製造方法に関する。
The present invention relates to a multilayer printed wiring board using a hard core board, a printed wiring board using a flexible core board, or a composite board combining a hard board and a flexible film board as a core board. The present invention relates to a multilayer printed wiring board such as a multilayer printed wiring board used as a device and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a multilayer printed wiring board having a build-up configuration and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】多層プリント配線板は、エッチング等に
より回路パターンに形成した複数の導体層(導体パター
ン)が、その導体層の各層を電気的に絶縁する絶縁層を
間に挟んで重畳され、絶縁層に設けられたバイアホール
を介して導体層の各層が電気的に接続されている。複数
の導体層をパターン形成し、これらの導体層間を接続す
る方法としては、従来から様々な方法が知られている
が、以下ではその代表的なものとしてビルドアップ法に
よるものについて説明する。
2. Description of the Related Art In a multilayer printed wiring board, a plurality of conductor layers (conductor patterns) formed in a circuit pattern by etching or the like are overlapped with an insulating layer electrically insulating each of the conductor layers interposed therebetween. Each layer of the conductor layer is electrically connected via a via hole provided in the insulating layer. As a method of forming a pattern of a plurality of conductor layers and connecting these conductor layers, various methods have been conventionally known. Hereinafter, a typical method using a build-up method will be described.

【0003】まず、内層回路(内層または下層の導体パ
ターン)を表面に形成したコア基板の表面に、絶縁性樹
脂からなる絶縁層を積層、塗布またはラミネート等によ
り形成し、次に、フォトリソグラフィー法やレーザー加
工法等により絶縁層に層間接続のための微小な穴(バイ
アホール)を形成し、その表面に銅めっきを施して導体
層を絶縁層の表面と微小な穴の内壁に形成する。その
後、導体層に対してエッチング等によりパターンニング
を施して外層回路(外層または上層の導体パターン)を
形成する。以上により微小穴を介して内層回路と外層回
路とが接続された多層構造を有するプリント配線板を形
成することができる。
First, an insulating layer made of an insulating resin is formed by laminating, coating or laminating on the surface of a core substrate having an inner layer circuit (inner or lower conductive pattern) formed on the surface thereof. A small hole (via hole) for interlayer connection is formed in the insulating layer by laser or laser processing or the like, and the surface thereof is plated with copper to form a conductor layer on the surface of the insulating layer and the inner wall of the fine hole. Thereafter, the conductor layer is patterned by etching or the like to form an outer layer circuit (outer layer or upper layer conductor pattern). As described above, a printed wiring board having a multilayer structure in which the inner layer circuit and the outer layer circuit are connected via the minute holes can be formed.

【0004】以下、4層構成のビルドアッププリント配
線板の製造工程について、図面を参照しながら説明す
る。図5(a)および図5(b)はビルドアップ工程を
行う前のコア基板を示す断面図である。まず、図5
(a)に示すように、両面に銅箔を貼って導体層5を形
成した基材1に公知の方法により層間導通用のスルーホ
ール2を形成し、スルーホール2に銅めっきを施して導
体層3を形成する。次に、絶縁性樹脂4等によりスルー
ホール2内を充填し、再度表面に銅めっきを施して導体
層6を形成する。その後、図5(b)に示すように、表
面の導体層をエッチング等の公知の方法によりパターン
ニングして導体パターン7、8を形成する。
[0004] Hereinafter, a manufacturing process of a four-layer build-up printed wiring board will be described with reference to the drawings. FIG. 5A and FIG. 5B are cross-sectional views showing the core substrate before the build-up process is performed. First, FIG.
As shown in (a), a through-hole 2 for interlayer conduction is formed by a known method on a substrate 1 on which a conductor layer 5 is formed by pasting a copper foil on both sides, and the through-hole 2 is plated with copper to form a conductor. The layer 3 is formed. Next, the inside of the through hole 2 is filled with the insulating resin 4 or the like, and the surface is again plated with copper to form the conductor layer 6. Thereafter, as shown in FIG. 5B, the conductor layer on the surface is patterned by a known method such as etching to form conductor patterns 7 and 8.

【0005】図6(a)〜図6(d)は図5のコア基板
をビルドアップ法により多層化していく工程を示す断面
図である。まず、図6(a)に示すように、コア基板の
表面に絶縁性樹脂等を積層、塗布またはラミネート等の
方法により形成し、絶縁層9を形成する。次に、図6
(b)に示すように、絶縁層9に公知の方法により非貫
通のバイアホール10を形成する。このバイアホール1
0の形成方法としては、絶縁層9に感光性を有する絶縁
性樹脂を用い、露光および現像を行ってバイアホールを
形成する方法や、バイアホール位置の絶縁性樹脂を炭酸
ガスレーザー、YAGレーザー、エキシマレーザー等の
レーザーにより除去し、バイアホールを形成する方法等
が挙げられる。続いて、図6(c)に示すように、バイ
アホール形成後の絶縁層9の表面全面に銅めっきを施し
て導体層11を形成する。その後、図6(d)に示すよ
うに、エッチング等の公知の方法により導体層を必要部
分のみ残してパターンニングし、導体パターン12、1
3を形成する。
FIGS. 6 (a) to 6 (d) are cross-sectional views showing a process of forming the core substrate of FIG. 5 into a multilayer by a build-up method. First, as shown in FIG. 6A, an insulating resin or the like is formed on the surface of the core substrate by a method such as laminating, coating or laminating to form the insulating layer 9. Next, FIG.
As shown in (b), a non-penetrating via hole 10 is formed in the insulating layer 9 by a known method. This via hole 1
As a method for forming the insulating layer 9, a method of forming a via hole by performing exposure and development using a photosensitive insulating resin for the insulating layer 9, or a method using a carbon dioxide gas laser, a YAG laser, A method of forming via holes by removing with a laser such as an excimer laser may be used. Subsequently, as shown in FIG. 6C, the entire surface of the insulating layer 9 after the formation of the via hole is plated with copper to form the conductor layer 11. Thereafter, as shown in FIG. 6D, patterning is performed by a known method such as etching while leaving only a necessary portion of the conductor layer, and the conductor patterns 12, 1 are formed.
Form 3

【0006】以上の工程を経て、バイアホールを介して
内層回路と外層回路が電気的に接続された多層構造のプ
リント配線板を作製することができる。
[0006] Through the above steps, a printed wiring board having a multilayer structure in which the inner layer circuit and the outer layer circuit are electrically connected via the via holes can be manufactured.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】多層プリント配線板に
おいて、内層と外層をバイアホールにて確実に電気的に
接続するためには、内層パターンとバイアホールの位
置、およびバイアホールと外層パターンの位置を正確に
合わせて形成することが必要である。各々の位置を合致
させて形成するためには、加工ワーク単位でそのワーク
が行われる周辺数箇所に、穴や導電パターン等の何らか
のガイドマークを予め位置決めして設け、その位置を基
準として内層パターン、バイアホールおよび外層パター
ンを加工する。
In a multilayer printed wiring board, in order to reliably electrically connect an inner layer and an outer layer with a via hole, the positions of the inner layer pattern and the via hole, and the positions of the via hole and the outer layer pattern are required. Need to be formed exactly. In order to match each position and form, some guide marks such as holes and conductive patterns are pre-positioned and provided in several places around the work where the work is performed, and the inner layer pattern is determined based on the position. , Via holes and outer layer patterns.

【0008】通常は、以下のような方法が採用されてい
る。まず、(1)コア基板にガイドマークとなる貫通穴
を加工する。この加工は、製品内の貫通スルーホールや
貫通穴の加工と同時に実施される。なお、貫通穴は貫通
スルーホール形成後に後工程(回路形成時のエッチング
工程など)において、スルーホール内壁に形成した銅め
っきを除去したものであり、後工程後も銅めっきを除去
せずに残したものが貫通スルーホールとなる。次に、
(2)コア基板に加工されたガイドマークの貫通穴を加
工位置の基準として、コア基板の表面に内層導体パター
ンをフォトリソグラフィー法やサブトラクティブ法等の
公知の方法にて形成する。その際に、導体パターンにて
ガイドマークを形成しておく。次に、(3)絶縁性樹脂
をコア基板表面に積層、塗布またはラミネート等の公知
の方法により形成して絶縁層を形成後、上記導体パター
ンによるガイドマークを加工位置の基準として、バイア
ホールを形成する。続いて、(4)バイアホールを介し
て内層パターンと外層パターンを電気的に接続するた
め、デスミア等の公知の方法によりバイアホール内の残
さを除去した後、バイアホールを含んで、絶縁層表面に
銅めっきを施す。その後、(5)上記コア基板に設けた
ガイドマークの貫通穴を加工位置の基準として、外層パ
ターンをフォトリソグラフィー法やサブトラクティブ法
等の公知の方法にて形成する。
Usually, the following method is adopted. First, (1) a through hole serving as a guide mark is formed in a core substrate. This processing is performed simultaneously with the processing of the through-hole and the through-hole in the product. The through-hole is obtained by removing the copper plating formed on the inner wall of the through-hole in a post-process (such as an etching process at the time of forming a circuit) after the formation of the through-hole. Is a through hole. next,
(2) An inner conductor pattern is formed on the surface of the core substrate by a known method such as a photolithography method or a subtractive method, using the through hole of the guide mark processed on the core substrate as a reference of the processing position. At this time, a guide mark is formed by a conductor pattern. Next, (3) an insulating resin is formed on the surface of the core substrate by a known method such as lamination, coating or lamination to form an insulating layer. Form. Subsequently, (4) in order to electrically connect the inner layer pattern and the outer layer pattern via the via hole, the residue in the via hole is removed by a known method such as desmear, and then the insulating layer surface including the via hole is removed. Is plated with copper. Thereafter, (5) an outer layer pattern is formed by a known method such as a photolithography method or a subtractive method using the through hole of the guide mark provided in the core substrate as a reference for a processing position.

【0009】ところで、各加工工程を経る際には、コア
基板(基材)の寸法変化およびそのばらつきや、ガイド
マークへの位置合わせ誤差の発生、加工用フォトマスク
の寸法変動等が生じる。このため、加工時には、ガイド
マークに対する導電パターンやバイアホールの位置関係
に必ず誤差が発生する。従って、内層パターンとバイア
ホール、およびバイアホールと外層パターンの互いの相
対位置精度を最も高く形成するためには、各々直前の工
程にて形成したガイドマークを位置基準として次の加工
工程を行うのが理想的である。
In the meantime, during each processing step, dimensional changes and variations of the core substrate (substrate), alignment errors with guide marks, dimensional variations of the processing photomask, and the like occur. Therefore, at the time of processing, an error always occurs in the positional relationship between the conductive pattern and the via hole with respect to the guide mark. Therefore, in order to form the inner layer pattern and the via hole and the via hole and the outer layer pattern with the highest relative positional accuracy, the next processing step is performed using the guide mark formed in the immediately preceding step as a position reference. Is ideal.

【0010】これに対して、同一のガイドマークを位置
基準として次工程の加工とさらに次の工程の加工とを各
々行う場合、ガイドマークに対して上記次工程とさらに
次の工程では逆方向に加工誤差が発生する場合があり得
るため、上記次工程を基準として見た場合、さらに次の
工程の相対位置関係が大きくずれてしまうおそれがあ
る。
On the other hand, in the case where the processing in the next step and the processing in the next step are respectively performed using the same guide mark as a position reference, the guide mark is reversed in the next step and the next step. Since a processing error may occur, there is a possibility that the relative positional relationship of the next step is significantly shifted when viewed from the above next step as a reference.

【0011】上記(1)〜(5)の加工工程において、
ガイドマークと各加工工程の関係は、 a.コア基板の貫通穴によるガイドマークを位置基準と
して内層パターンを形成 b.内層パターンによるガイドマークを位置基準として
バイアホールを形成 c.コア基板の貫通穴によるガイドマークを位置基準と
して外層パターンを形成 となる。
In the processing steps (1) to (5),
The relationship between the guide mark and each processing step is as follows: a. An inner layer pattern is formed with reference to a guide mark formed by a through hole in a core substrate. B. Via holes are formed with reference to the guide mark formed by the inner layer pattern. C. The outer layer pattern is formed based on the position of the guide mark formed by the through hole in the core substrate.

【0012】上記a、bは各々直前の工程にて形成した
ガイドマークを位置基準として次の加工工程を行ってお
り、前後の工程間の相対位置精度を高くすることができ
る。しかし、外層パターンの形成工程では、直前の工程
にて形成したガイドマークを位置基準として次の加工工
程を行っていないため、バイアホールと外層パターンの
相対位置精度は良くない傾向がある。
In each of the steps a and b, the next processing step is performed using the guide mark formed in the immediately preceding step as a position reference, and the relative positional accuracy between the preceding and subsequent steps can be increased. However, in the step of forming the outer layer pattern, since the next processing step is not performed using the guide mark formed in the immediately preceding step as a position reference, the relative positional accuracy between the via hole and the outer layer pattern tends to be poor.

【0013】バイアホールと外層パターンの位置合わせ
誤差を小さくするためには、上記cの代りに、 d.内層パターンによるガイドマークを位置基準として
外層パターンを形成 e.バイアホールによるガイドマークを位置基準として
外層パターンを形成 という方法が考えられる。
In order to reduce the alignment error between the via hole and the outer layer pattern, d. Form outer layer pattern with reference to guide mark by inner layer pattern e. A method is conceivable in which an outer layer pattern is formed using a guide mark formed by a via hole as a position reference.

【0014】バイアホールと外層パターンの相対位置合
わせ誤差は、cに比べてd、eの順に小さくすることが
できる。しかし、上記公知の方法(1)〜(5)により
加工を行った場合、dの内層パターンによるガイドマー
クは、上記(4)工程において銅めっきにより覆われて
しまうため、外層パターン形成工程時に見えなくなり、
内層パターンによる位置合わせは不可能である。
The relative alignment error between the via hole and the outer layer pattern can be reduced in the order of d and e in comparison with c. However, when processing is performed by the above-mentioned known methods (1) to (5), the guide mark formed by the inner layer pattern of d is covered by the copper plating in the above-mentioned step (4), so that it is not visible during the outer layer pattern forming step. Gone
Positioning using the inner layer pattern is impossible.

【0015】一方、eのバイアホールによるガイドマー
クは、上記(4)工程において表面が銅めっきにより覆
われるため、銅めっき表面に絶縁層厚に相当する僅かな
段差が残るのみとなる。しかし、ガイドマークの位置の
認識は貫通穴や導体パターンに透過光を照射して得られ
るコントラストの充分な画像を処理することにより初め
て精度良く行われるものであるため、僅かの段差で反射
された光により安定した画像処理を行うことは非常に困
難である。従って、ガイドマーク位置を安定して正確に
認識することは非常に困難である。
On the other hand, since the surface of the guide mark formed by the via hole e is covered with copper plating in the above step (4), only a slight step corresponding to the thickness of the insulating layer remains on the copper plating surface. However, since the recognition of the position of the guide mark can be performed with high accuracy only by processing a sufficient contrast image obtained by irradiating the through hole and the conductor pattern with transmitted light, the light is reflected by a slight step. It is very difficult to perform stable image processing with light. Therefore, it is very difficult to stably and accurately recognize the guide mark position.

【0016】従って、上記公知の方法(1)〜(5)に
より加工を行った場合、cの方法を採用せざるを得ず、
この方法ではバイアホールと外層パターン間の相対位置
合わせ誤差が大きくなって両者間に位置ずれが生じるお
それがある。
Therefore, when processing is performed by the above-mentioned known methods (1) to (5), the method c must be adopted.
In this method, a relative alignment error between the via hole and the outer layer pattern becomes large, and there is a possibility that a positional shift occurs between the two.

【0017】図7によりこの状態を説明する。図7(a
−1)、図7(b−1)、図7(c−1)は上面図であ
り、図7(a−2)、図7(b−2)、図7(c−2)
は断面図である。この図7において、33はコア基板
(基材)、34は絶縁性樹脂からなる絶縁層、35は内
層パターンにて形成されたランド、36はバイアホー
ル、37は外層パターンにて形成されたランドを示す。
This state will be described with reference to FIG. FIG.
-1), FIG. 7 (b-1), and FIG. 7 (c-1) are top views, and FIG. 7 (a-2), FIG. 7 (b-2), and FIG.
Is a sectional view. In FIG. 7, 33 is a core substrate (base material), 34 is an insulating layer made of an insulating resin, 35 is a land formed in an inner layer pattern, 36 is a via hole, and 37 is a land formed in an outer layer pattern. Is shown.

【0018】図7(a−1)、図7(a−2)は内層パ
ターンランド35とバイアホール36および外層パター
ンランド37の相対位置関係が一致している状態を示
し、バイアホール36に対して外層パターンランド37
が正常な位置にある。また、図7(b−1)、図7(b
−2)はバイアホール36と外層パターンランド37の
相対位置関係のずれが限界に達している状態を示す。さ
らに、図7(c−1)、図7(c−2)はバイアホール
36と外層パターンランド37の相対位置関係のずれが
限界を超えており、バイアホールにおける接続が外層パ
ターン形成時にエッチングにより破壊されている状態3
8を示す。
FIGS. 7 (a-1) and 7 (a-2) show a state in which the relative positions of the inner layer pattern land 35 and the via hole 36 and the outer layer pattern land 37 are coincident. Outer layer pattern land 37
Is in a normal position. 7 (b-1) and 7 (b)
2B shows a state where the deviation of the relative positional relationship between the via hole 36 and the outer layer pattern land 37 has reached the limit. Further, FIGS. 7 (c-1) and 7 (c-2) show that the deviation of the relative positional relationship between the via hole 36 and the outer layer pattern land 37 exceeds the limit, and the connection in the via hole is formed by etching at the time of forming the outer layer pattern. Destruction state 3
8 is shown.

【0019】本発明は、このような従来技術の課題を解
決するべくなされたものであり、前後の工程間の相対位
置精度を向上することができる多層プリント配線板およ
びその製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve such problems of the prior art, and provides a multilayer printed wiring board capable of improving the relative positional accuracy between the preceding and subsequent steps, and a method of manufacturing the same. With the goal.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明の多層プリント配
線板の製造方法は、内層の導体パターンを表面に形成し
たコア基板の表面に絶縁層が積層され、該絶縁層に形成
したバイアホールを介して該絶縁層上に積層された外層
の導体パターンと該内層の導体パターンとが電気的に接
続された多層プリント配線板の製造方法であって、コア
基板に貫通穴を形成する工程と、該貫通穴を位置基準と
して内層の導体パターンを形成する工程と、該コア基板
の表面に絶縁層を形成すると共に、該貫通穴の一部また
は全部に絶縁性材料を充填する工程と、該内層の導体パ
ターンと共に形成したガイドマークを位置基準として絶
縁層にバイアホールを形成すると共に、該貫通穴内の絶
縁性材料を一部除去して該貫通穴内部に該貫通穴よりも
基板に平行な方向の断面積が小さい新たな貫通穴を形成
する工程と、該新たな貫通穴を位置基準として外層の導
体パターンを形成する工程とを含み、そのことにより上
記目的が達成される。
According to the method of manufacturing a multilayer printed wiring board of the present invention, an insulating layer is laminated on a surface of a core substrate on which a conductive pattern of an inner layer is formed, and a via hole formed in the insulating layer is formed. A method of manufacturing a multilayer printed wiring board in which a conductor pattern of an outer layer and a conductor pattern of the inner layer laminated on the insulating layer are electrically connected via a step of forming a through hole in the core substrate, Forming a conductor pattern of an inner layer with the through-hole as a position reference, forming an insulating layer on the surface of the core substrate, and filling a part or all of the through-hole with an insulating material; A via hole is formed in the insulating layer with reference to the guide mark formed together with the conductor pattern of (a) and a portion of the insulating material in the through hole is partially removed so that a direction parallel to the substrate than the through hole is formed inside the through hole. And forming a new through hole having a small cross-sectional area, and forming an outer layer conductor pattern the new through-hole as a position reference, the object is achieved.

【0021】前記コア基板の貫通穴内に充填した絶縁性
材料の除去を、フォトリソグラフィー法により行っても
よく、前記コア基板の貫通穴内に充填した絶縁性材料の
除去を、レーザー加工法により行ってもよい。
The insulating material filled in the through hole of the core substrate may be removed by photolithography, and the insulating material filled in the through hole of the core substrate may be removed by laser processing. Is also good.

【0022】前記新たな貫通穴表面に銅めっきを施し
て、穴壁面の補強を行うのが好ましい。
Preferably, the surface of the new through hole is plated with copper to reinforce the hole wall surface.

【0023】前記コア基板の貫通穴を後工程のパターン
形成加工および新たな貫通穴の形成加工の少なくとも一
方を行う際の位置基準として用いることができる。
The through hole of the core substrate can be used as a position reference when performing at least one of a pattern forming process and a new through hole forming process in a later step.

【0024】前記新たな貫通穴を後工程のパターン形成
加工を行う際の位置基準として用いることができる。
The new through-hole can be used as a position reference when performing a pattern forming process in a later step.

【0025】前記コア基板の貫通穴と新たな貫通穴を円
形に形成し、両円形穴の中心を同軸上に位置させてもよ
く、前記コア基板の貫通穴と新たな貫通穴を円形に形成
し、両円形穴を偏心させてもよい。
The through hole of the core substrate and the new through hole may be formed in a circular shape, and the centers of the two circular holes may be positioned coaxially, and the through hole of the core substrate and the new through hole may be formed in a circular shape. Alternatively, both circular holes may be eccentric.

【0026】前記新たな貫通穴を多層プリント配線板に
おいて位置精度を要求される部分に設けてもよい。
The new through hole may be provided in a portion of the multilayer printed wiring board where positional accuracy is required.

【0027】前記新たな貫通穴を位置基準として導体パ
ターンを形成した基板の表面に新たな絶縁層を形成する
と共に、該新たな貫通穴の一部または全部に絶縁性材料
を充填する工程と、該下層の導体パターンと共に形成し
たガイドマークを位置基準として新たな絶縁層にバイア
ホールを形成すると共に、該新たな貫通穴内の絶縁性材
料を一部除去して該新たな貫通穴内部に該新たな貫通穴
よりも基板に平行な方向の断面積が小さいさらに新たな
貫通穴を形成する工程と、さらに新たな貫通穴を位置基
準として上層の導体パターンを形成する工程とを繰り返
してもよい。
Forming a new insulating layer on the surface of the substrate on which the conductor pattern is formed with the new through hole as a position reference, and filling an insulating material in a part or the whole of the new through hole; Via holes are formed in a new insulating layer based on the guide marks formed together with the lower conductor pattern, and the insulating material in the new through holes is partially removed to form the new through holes inside the new through holes. The step of forming a new through-hole having a smaller cross-sectional area in the direction parallel to the substrate than the small through-hole and the step of forming an upper-layer conductor pattern with the new through-hole as a position reference may be repeated.

【0028】本発明の多層プリント配線板は、本発明の
多層プリント配線板の製造方法により作製され、そのこ
とにより上記目的が達成される。
The multilayer printed wiring board of the present invention is manufactured by the method for manufacturing a multilayer printed wiring board of the present invention, thereby achieving the above object.

【0029】以下に、本発明の作用について説明する。The operation of the present invention will be described below.

【0030】本発明にあっては、バイアホールと同時に
加工した新たな貫通穴を、次工程である外層パターンの
位置合わせ基準とするため、バイアホールと外層パター
ンとの相対位置の整合性を従来の方法に比べて大きく改
善して、バイアホールと外層パターンとの位置ずれによ
る不良発生を防ぐことが可能である。また、新たな貫通
穴をガイドマークとして認識するため、貫通穴に透過光
を照射して得られるコントラストが充分な画像を処理す
ることができるため、位置精度の良い画像認識処理を行
うことが可能である。さらに、コア層に設けた貫通穴の
内部に新たな貫通穴を設けてガイドマークとするため、
同一箇所にて異なるガイドマークとして機能させること
ができ、ガイドマーク設置場所の制約が生じない。新た
に設けた貫通穴をガイドマークとして上層を形成する工
程を繰り返すことにより、3層以上のビルドアップ構成
の多層配線板を形成することが可能である。
According to the present invention, since the new through-hole processed at the same time as the via hole is used as a reference for positioning the outer layer pattern in the next step, the consistency of the relative position between the via hole and the outer layer pattern is conventionally determined. This method is greatly improved as compared with the method described above, and it is possible to prevent the occurrence of a defect due to a positional shift between the via hole and the outer layer pattern. In addition, since a new through hole is recognized as a guide mark, an image with sufficient contrast obtained by irradiating the through hole with transmitted light can be processed, so that image recognition processing with high positional accuracy can be performed. It is. Furthermore, in order to provide a new through hole inside the through hole provided in the core layer and use it as a guide mark,
The same location can function as different guide marks, and there is no restriction on the guide mark installation location. By repeating the process of forming the upper layer using the newly provided through hole as a guide mark, it is possible to form a multilayer wiring board having a build-up configuration of three or more layers.

【0031】コア基板の貫通穴内に充填した絶縁性材料
の除去を、製品内のバイアホール形成時に同時に行うた
めには、位置精度が必要である。よって、製品内のバイ
アホール加工に一般に用いられるフォトリソグラフィー
法またはレーザー加工法によりコア基板の貫通穴内に充
填した絶縁性材料の除去を行うことにより、これらの方
法をガイドマーク形成にそのまま利用することができ
る。さらに、新たな貫通穴表面に銅めっきを施すことに
より、穴壁面の補強を行うことが可能である。
In order to remove the insulating material filled in the through hole of the core substrate simultaneously with the formation of the via hole in the product, positional accuracy is required. Therefore, by removing the insulating material filled in the through-hole of the core substrate by a photolithography method or a laser processing method generally used for processing a via hole in a product, these methods can be directly used for forming a guide mark. Can be. Further, by applying copper plating to the surface of a new through hole, it is possible to reinforce the hole wall surface.

【0032】各工程間の基材の寸法変化等に応じて、後
述する実施形態2に示すように、コア基板の貫通穴と新
たな貫通穴を円形に形成し、両円形穴の中心を同軸上に
位置させてもよく、または、両円形穴を偏心させてもよ
い。また、後述する実施形態3に示すように、新たな貫
通穴を多層プリント配線板において位置精度を要求され
る部分に設けて、位置精度を要求される基準穴として使
用することも可能である。
In accordance with the dimensional change of the base material between the steps, a through hole of the core substrate and a new through hole are formed in a circular shape as shown in a second embodiment described later, and the centers of both circular holes are coaxial. It may be located on top, or both circular holes may be eccentric. Further, as shown in a third embodiment described later, it is also possible to provide a new through hole in a portion where positional accuracy is required in the multilayer printed wiring board and use it as a reference hole requiring positional accuracy.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて説明する。本発明では、以下の手順により多層プリ
ント配線板を作製する。まず、(A)コア基板にガイド
マークとなる貫通穴を形成する。この貫通穴の加工は、
製品内の貫通スルーホールや貫通穴の加工と同時に行う
ことができる。次に、(B)コア基板に加工したガイド
マークとなる貫通穴を位置基準としてコア基板表面に内
層の導体パターンをフォトリソグラフィー法やサブトラ
クティブ法等、公知の方法にて形成する。その際に、導
体パターンにてガイドマークを形成しておく。続いて、
(C)コア基板の表面に絶縁性樹脂を積層、塗布、ラミ
ネート等の公知の方法により形成して絶縁層とする。こ
の際に、コア基板の貫通穴内の一部または全部に絶縁性
材料を充填する。その後、(D)内層の導体パターンと
共に形成したガイドマークを位置基準として絶縁層にバ
イアホールを形成する。このバイアホールの加工は、フ
ォトリソグラフィー法やレーザー加工法等の公知の方法
による絶縁性樹脂の部分的な除去工程である。この際
に、同一座標系にて同時に上記工程(C)において充填
したコア基板の貫通穴内の絶縁性材料を一部除去して、
上記貫通穴よりも基板に平行な方向の断面積が小さい新
たな貫通穴を形成する。次に、(E)バイアホールを介
して内層パターンと外層パターンを接続するため、デス
ミア等の公知の方法によりバイアホール内の残さを除去
した後、バイアホールを含んで絶縁層表面に銅めっきを
施す。この際、上記工程(D)において形成した新たな
貫通穴表面にも銅めっきが施され、穴壁強度を向上する
ことができる。その後、(F)上記新たな貫通穴をガイ
ドマークとし、これを位置基準として外層の導体パター
ンをフォトリソグラフィー法やサブトラクティブ法等、
工程公知の方法にて形成する。
Embodiments of the present invention will be described below. In the present invention, a multilayer printed wiring board is manufactured by the following procedure. First, (A) a through hole serving as a guide mark is formed in a core substrate. The processing of this through hole
It can be performed simultaneously with the processing of through through holes and through holes in the product. Next, (B) an inner conductor pattern is formed on the surface of the core substrate by a known method such as a photolithography method or a subtractive method, with the through hole serving as a guide mark processed on the core substrate as a position reference. At this time, a guide mark is formed by a conductor pattern. continue,
(C) An insulating resin is formed on the surface of the core substrate by a known method such as lamination, coating, lamination, or the like to form an insulating layer. At this time, an insulating material is filled in a part or the whole of the through hole of the core substrate. Thereafter, (D) via holes are formed in the insulating layer with reference to the position of the guide mark formed together with the conductor pattern of the inner layer. The processing of the via hole is a step of partially removing the insulating resin by a known method such as a photolithography method or a laser processing method. At this time, a part of the insulating material in the through hole of the core substrate filled in the above step (C) at the same time in the same coordinate system is partially removed.
A new through hole having a smaller cross-sectional area in a direction parallel to the substrate than the through hole is formed. Next, (E) in order to connect the inner layer pattern and the outer layer pattern via the via hole, after removing the residue in the via hole by a known method such as desmear, copper plating is applied to the insulating layer surface including the via hole. Apply. At this time, copper plating is also applied to the surface of the new through hole formed in the step (D), and the hole wall strength can be improved. After that, (F) the new through hole is used as a guide mark, and using this as a position reference, the conductor pattern of the outer layer is formed by a photolithography method, a subtractive method, or the like.
Process is formed by a known method.

【0034】以上により、上記新たな貫通穴はバイアホ
ール加工工程における位置を代表するものとなり、これ
を加工位置の基準として形成した外層パターンとの相対
位置整合性が従来の方法に比べて大きく改善され、バイ
アホールと外層パターンとの位置ずれによる不良発生を
防ぐことができる。
As described above, the new through hole represents the position in the via hole processing step, and the relative positional consistency with the outer layer pattern formed using the new through hole as a reference of the processing position is greatly improved as compared with the conventional method. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of a defect due to a displacement between the via hole and the outer layer pattern.

【0035】(実施形態1)図1および図2は本発明の
一実施形態である多層プリント配線板の製造方法を説明
するための図であり、コア基板に外層パターンを形成す
るまでを各工程順に示したものである。図1(a−1)
〜図2(g−1)(各図の左側)はガイドマーク部の断
面図であり、図1(a−2)〜図2(g−2)(各図の
右側)は基板全体の斜視図である。ここでは簡単のため
にコア基板は両面銅箔貼りの基材構成から工程を開始し
たものとして例を示しているが、両面銅箔貼り基材の代
りに多層基材(絶縁層と導体層を交互に積層した基材)
を用いることも可能である。
(Embodiment 1) FIGS. 1 and 2 are views for explaining a method of manufacturing a multilayer printed wiring board according to an embodiment of the present invention, and show steps until an outer layer pattern is formed on a core substrate. These are shown in order. FIG. 1 (a-1)
2 (g-1) (left side of each figure) are cross-sectional views of the guide mark portion, and FIGS. 1 (a-2) to 2 (g-2) (right side of each figure) are perspective views of the entire substrate. FIG. Here, for the sake of simplicity, the core substrate is shown as an example in which the process has been started from a base material structure with a double-sided copper foil, but instead of a double-sided copper-foil base material, a multilayer base material (an insulating layer and a conductive layer are used). Substrates alternately laminated)
Can also be used.

【0036】まず、図1(a−1)、図1(a−2)に
示すように、銅箔17を貼ったコア基板14に貫通穴1
5、16を形成する。この貫通穴のうち、15はガイド
マークとして用いられ、16は実製品内の貫通穴であ
る。この貫通穴は、一般的にはドリリングにより形成さ
れるが、レーザー加工法により形成することも可能であ
る。
First, as shown in FIGS. 1 (a-1) and 1 (a-2), a through hole 1 is formed in a core substrate 14 on which a copper foil 17 is adhered.
5 and 16 are formed. Of these through holes, 15 is used as a guide mark, and 16 is a through hole in an actual product. This through hole is generally formed by drilling, but can also be formed by a laser processing method.

【0037】次に、図1(b−1)、図1(b−2)に
示すように、貫通穴16に対して銅めっきを施す。この
とき同時に、ガイドマークの貫通穴15に対しても銅め
っきが施される。なお、めっき材料としては半田めっき
や金めっきを用いてもよい。
Next, as shown in FIGS. 1 (b-1) and 1 (b-2), the through holes 16 are plated with copper. At the same time, copper plating is also applied to the through hole 15 of the guide mark. Note that solder plating or gold plating may be used as the plating material.

【0038】続いて、図1(c−1)、図1(c−2)
に示すように、ガイドマークの貫通穴15を位置基準と
してコア基板表面にフォトリソグラフィー法やサブトラ
クティブ法等の公知の方法により内層パターン19を形
成する。この導体材料としては、銅、半田や金などを用
いることができる。その際に、内層導体パターンによる
ガイドマーク20を同時に形成する。この後、必要であ
れば、次工程で形成する絶縁層21との密着強度を向上
させるために、内層パターン表面に粗化等の表面処理を
施す。
Subsequently, FIGS. 1 (c-1) and 1 (c-2)
As shown in (1), an inner layer pattern 19 is formed on the surface of the core substrate by a known method such as a photolithography method or a subtractive method using the through hole 15 of the guide mark as a position reference. As the conductor material, copper, solder, gold, or the like can be used. At this time, the guide mark 20 using the inner layer conductor pattern is formed at the same time. Thereafter, if necessary, a surface treatment such as roughening is performed on the inner layer pattern surface in order to improve the adhesion strength to the insulating layer 21 formed in the next step.

【0039】その後、図1(d−1)、図1(d−2)
に示すように、コア基板の表面に絶縁性樹脂を積層、塗
布、ラミネート等の公知の方法により形成して絶縁層2
1とする。この絶縁性材料としては、エポキシ樹脂やア
クリル変性エポキシ樹脂などを用いることができる。そ
の際に、コア基板の貫通穴15内に絶縁性樹脂が22の
ように充填される。このとき、ガイドホールの貫通穴1
5内部の全ての空間に充填させず、一部だけ充填させる
ことも可能である。ガイドホールの貫通穴15内部全て
に絶縁性樹脂を充填させない方法としては、例えば以下
のような方法が考えられる。シートまたはフィルム状に
形成された半硬化状態の絶縁性樹脂をコア基板の両面に
予め軽く接触する程度に配置しておく。そして、気密を
保つことができるチャンバー内にそれらを入れて真空下
で保持し、積層またはラミネート処理により加圧・加熱
することにより、穴内への樹脂の充填度を制御すること
ができる。よって、一部分に空洞を形成することも、完
全に樹脂を充填することも可能となる。
Thereafter, FIGS. 1 (d-1) and 1 (d-2)
As shown in FIG. 3, an insulating resin is formed on the surface of the core substrate by a known method such as lamination, coating, lamination, etc.
Let it be 1. As the insulating material, an epoxy resin, an acrylic-modified epoxy resin, or the like can be used. At this time, the insulating resin is filled in the through hole 15 of the core substrate as indicated by 22. At this time, the through hole 1 of the guide hole
It is also possible to fill only a part of the space inside the space 5 without filling the space. As a method for preventing the entire inside of the through hole 15 of the guide hole from being filled with the insulating resin, for example, the following method can be considered. A semi-cured insulating resin formed in the form of a sheet or a film is placed beforehand so as to lightly contact both surfaces of the core substrate. Then, they are placed in a chamber capable of maintaining airtightness, are held under vacuum, and are pressurized and heated by lamination or lamination processing, whereby the degree of filling of the resin into the holes can be controlled. Therefore, it is possible to form a cavity in a part or to completely fill the resin.

【0040】次に、図2(e−1)、図2(e−2)に
示すように、内層導体パターンによるガイドマーク20
を位置基準として絶縁層21にバイアホール23を形成
する。これは、フォトリソグラフィー法やレーザー加工
法等の公知の方法により絶縁性樹脂を部分的に除去して
製品内にバイアホール23を加工するものである。その
際に、同一座標系にて同時にコア基板の貫通穴15内に
充填された絶縁性樹脂22に対しても同様の加工を施
し、上記貫通穴15よりも基板に平行な方向の断面積が
小さい新たな貫通穴24を形成する。
Next, as shown in FIG. 2 (e-1) and FIG. 2 (e-2), the guide mark 20 formed by the inner conductor pattern is used.
The via hole 23 is formed in the insulating layer 21 with reference to the position. In this method, the insulating resin is partially removed by a known method such as a photolithography method or a laser processing method to process the via hole 23 in the product. At this time, the same processing is performed on the insulating resin 22 filled in the through hole 15 of the core substrate at the same time in the same coordinate system, so that the cross-sectional area in the direction parallel to the substrate is larger than that of the through hole 15. A new small through hole 24 is formed.

【0041】続いて、図2(f−1)、図2(f−2)
に示すように、バイアホールを介して内層パターンと外
層パターンを接続するため、バイアホールを含んで絶縁
層表面に銅めっき39を施す。この際、新たな貫通穴2
4表面にも銅めっき39が施され、穴壁強度を向上する
ことができる。
Subsequently, FIGS. 2 (f-1) and 2 (f-2)
As shown in (2), copper plating 39 is applied to the surface of the insulating layer including the via hole in order to connect the inner layer pattern and the outer layer pattern via the via hole. At this time, a new through hole 2
The copper plating 39 is also applied to the four surfaces, so that the hole wall strength can be improved.

【0042】その後、図2(g−1)、図2(g−2)
に示すように、新たな貫通穴24をガイドマークとし、
これを位置基準としてフォトリソグラフィー法やサブト
ラクティブ法等、工程公知の方法にて外層パターン25
を形成する。この導体材料としては、銅、半田や金など
を用いることができる。
Thereafter, FIGS. 2 (g-1) and 2 (g-2)
As shown in the figure, the new through hole 24 is used as a guide mark,
Using this as a position reference, the outer layer pattern 25 is formed by a known method such as a photolithography method or a subtractive method.
To form As the conductor material, copper, solder, gold, or the like can be used.

【0043】なお、新たな貫通穴を位置基準とする方法
としては、新たな貫通穴に背面から光を照射し、新たな
貫通穴の輪郭をCCDカメラ等で取り込んでパターン認
識することにより、貫通穴の中心位置を座標値に読み込
むことが公知の方法により可能である。よって、外層パ
ターン形成のためのフォトリソグラフィー工程時、露光
機に保持されたマスクフィルムを、この座標値に合致す
る所定の配置に機械的な手段により精密に移動して、露
光工程を実施することにより、上記新たな貫通穴を位置
基準とした外層回路のパターニングが可能となる。
As a method of using the new through hole as a position reference, light is irradiated from the back onto the new through hole, and the contour of the new through hole is captured by a CCD camera or the like to recognize the pattern. It is possible to read the center position of the hole into the coordinate value by a known method. Therefore, at the time of the photolithography step for forming the outer layer pattern, the mask film held by the exposure machine is precisely moved to a predetermined arrangement matching the coordinate values by mechanical means to perform the exposure step. Accordingly, patterning of the outer layer circuit can be performed with the new through hole as a position reference.

【0044】さらに必要であれば、上記図1(d−
1)、図1(d−2)〜図2(g−1)、図2(g−
2)の工程を繰り返し、絶縁層を多段に積層すると共
に、ガイドマークの貫通穴の内部により小さいサイズの
貫通穴を形成して各工程における異なった位置基準のガ
イドマークとすることも可能である。
If necessary, as shown in FIG.
1), FIGS. 1 (d-2) to 2 (g-1), and FIG.
By repeating the step 2), the insulating layers may be stacked in multiple stages, and a through hole of a smaller size may be formed inside the through hole of the guide mark to provide a guide mark with a different position reference in each step. .

【0045】(実施形態2)図3(a)〜図3(d)は
本発明の他の実施形態である多層プリント配線板につい
て説明するための図であり、コア基板に形成した貫通穴
とその内部に充填した絶縁性樹脂に新たに形成した貫通
穴について、各々2種類の形状と位置関係を示したもの
である。
(Embodiment 2) FIGS. 3A to 3D are views for explaining a multilayer printed wiring board according to another embodiment of the present invention. The through hole newly formed in the insulating resin filled therein has two types of shapes and positional relationships.

【0046】図3(a)は、コア基板14の貫通穴26
と新たな貫通穴27とを円形にして、両者の円形穴の中
心を同軸上に位置させた場合を示す。また、図3(b)
は、コア基板14の貫通穴26と新たな貫通穴27とを
円形にして、両者の円形穴を偏心させた場合を示す。さ
らに、図3(c)および図3(d)は、新たな貫通穴2
7の形状を各々四辺形および十字形とした場合を示す。
FIG. 3A shows the through hole 26 of the core substrate 14.
And the new through-hole 27 are circular, and the center of both circular holes is coaxial. FIG. 3 (b)
Shows a case where the through hole 26 of the core substrate 14 and the new through hole 27 are made circular, and both circular holes are eccentric. Further, FIGS. 3C and 3D show a new through hole 2.
7 shows a case where the shape of each is a quadrilateral and a cross.

【0047】通常は、図3(a)のような位置関係およ
び形状に設計するが、各工程間で基材の寸法変化が大き
い場合や、特殊なガイドマークの配置を行いたい場合に
は、図3(b)のような位置関係としてもよい。また、
ガイドマークの認識装置によっては、新たな貫通穴のガ
イドマークとしての位置認識精度向上のために図3
(c)および図3(d)のような円形穴とは異なる形状
がより適切な場合もあり、このような場合には他の形状
によっても円形穴と同様の効果を得ることができる。
Normally, the positional relationship and the shape are designed as shown in FIG. 3A. However, when the dimensional change of the base material is large between each process or when a special guide mark is to be arranged, The positional relationship as shown in FIG. Also,
Depending on the guide mark recognition device, FIG. 3 is used to improve the position recognition accuracy of a new through hole as a guide mark.
In some cases, a shape different from the circular hole as shown in FIG. 3C and FIG. 3D is more appropriate. In such a case, the same effect as the circular hole can be obtained with other shapes.

【0048】(実施形態3)図4は本発明のさらに他の
実施形態である多層プリント配線板について説明するた
めの図である。上記実施形態1および実施形態2では、
新たな貫通穴を製品外の加工上のガイドマークとして説
明してきたが、この新たな貫通穴は、バイアホール形成
時に同時に製品内に設置することも可能であり、外層パ
ターンとの位置精度を要求される基準穴として使用する
ことも可能である。
(Embodiment 3) FIG. 4 is a view for explaining a multilayer printed wiring board according to still another embodiment of the present invention. In the first and second embodiments,
Although the new through-hole has been described as a guide mark for processing outside the product, this new through-hole can also be installed in the product at the same time as the formation of the via hole, requiring positional accuracy with the outer layer pattern. It is also possible to use it as a reference hole.

【0049】この図4は、製品32内に新たな貫通穴3
0を設置した例であり、外層パターン31との位置整合
性が高いため、部品実装用の基準穴として用いることが
可能である。
FIG. 4 shows that a new through hole 3 is formed in the product 32.
This is an example in which 0 is set, and since the position matching with the outer layer pattern 31 is high, it can be used as a reference hole for component mounting.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
内層パターンとバイアホール、およびバイアホールと外
層パターンの相対位置整合性が良好な多層プリント配線
板を作製することが可能であり、従来の方法において発
生しがちであった、バイアホールと内層パターンおよび
外層パターンとの位置ずれに起因する不良の発生を抑え
て、信頼性の向上および製造コストの低減を図ることが
できる。
As described in detail above, according to the present invention,
It is possible to produce a multilayer printed wiring board having good relative positional consistency between the inner layer pattern and the via hole, and the via hole and the outer layer pattern, and the via hole and the inner layer pattern, which tend to occur in the conventional method. It is possible to suppress the occurrence of a defect due to a displacement from the outer layer pattern, thereby improving reliability and reducing manufacturing cost.

【0051】また、バイアホールと内層パターンおよび
外層パターンとの相対位置精度が向上することにより、
バイアホール部分においてパターンランドの直径をより
小さく設計することが可能となり、パターンの高密度化
を図ることができる。
Further, the relative positional accuracy between the via hole and the inner layer pattern and the outer layer pattern is improved,
The diameter of the pattern land can be designed to be smaller in the via hole portion, and the density of the pattern can be increased.

【0052】さらに、同一箇所に工程毎に異なる位置基
準のガイドマークを設けることができるため、ガイドマ
ークの設置スペースを節約することができる。
Further, since guide marks based on different positions can be provided in the same place for each process, the installation space for guide marks can be saved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施形態1の多層プリント配線板の製造方法に
ついて工程順に示した図であり、(a−1)〜(d−
1)は断面図、(a−2)〜(d−2)は斜視図であ
る。
FIG. 1 is a view showing a method of manufacturing a multilayer printed wiring board according to a first embodiment in the order of steps, and (a-1) to (d-).
1) is a sectional view, and (a-2) to (d-2) are perspective views.

【図2】実施形態1の多層プリント配線板の製造方法に
ついて工程順に示す図であり、(e−1)〜(g−1)
は断面図、(e−2)〜(g−2)は斜視図である。
FIGS. 2A to 2C are diagrams illustrating a method of manufacturing the multilayer printed wiring board according to the first embodiment in the order of steps, and include (e-1) to (g-1).
Is a sectional view, and (e-2) to (g-2) are perspective views.

【図3】(a)〜(d)は実施形態2の多層プリント配
線板について、貫通穴の形状と位置関係を説明するため
の図である。
FIGS. 3A to 3D are diagrams for explaining the shape and positional relationship of through holes in the multilayer printed wiring board according to the second embodiment.

【図4】実施形態3の多層プリント配線板について、新
たな貫通穴の位置を説明するための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining positions of new through holes in the multilayer printed wiring board according to the third embodiment.

【図5】(a)および(b)はビルドアップ工程前のコ
ア基板を示す断面図である。
FIGS. 5A and 5B are cross-sectional views showing a core substrate before a build-up process.

【図6】(a)〜(d)はコア基板をビルドアップ法に
て多層化していく工程を工程順に示す断面図である。
FIGS. 6A to 6D are cross-sectional views showing steps of forming a core substrate into multiple layers by a build-up method in the order of steps.

【図7】従来技術における位置不整合による不良の例を
示す図であり、(a−1)〜(c−1)は上面図、(a
−2)〜(c−2)は断面図である。
FIG. 7 is a diagram showing an example of a defect due to misalignment in the related art, wherein (a-1) to (c-1) are top views,
-2) to (c-2) are cross-sectional views.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 コア基板(基材) 2 スルーホール 3 銅めっき 4 貫通穴内に充填された絶縁性樹脂 5 銅箔 6 銅めっき 7 導体パターン(内層パターン) 8 導体パターン(内層パターン) 9 絶縁層(絶縁性樹脂) 10 バイアホール 11 銅めっき 12 導体パターン(外層パターン) 13 導体パターン(外層パターン) 14 コア基板 15 貫通穴(ガイドマーク) 16 貫通穴(製品) 17 銅箔 18 銅めっき 19 内層パターン 20 内層パターンによるガイドマーク 21 絶縁層(絶縁性樹脂) 22 貫通穴内に充填された絶縁性樹脂 23 バイアホール 24 貫通穴内に形成した新たな貫通穴 25 外層パターン 26 コア基板の貫通穴 27 新たな貫通穴 30 製品内の貫通穴 31 外層パターン 32 製品 33 コア基板 34 絶縁層(絶縁性樹脂) 35 内層パターンランド 36 バイアホール 37 外層パターンランド 38 エッチングにより破壊されたバイアホール接続 39 銅めっき DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Core board (base material) 2 Through hole 3 Copper plating 4 Insulating resin filled in the through hole 5 Copper foil 6 Copper plating 7 Conductor pattern (inner layer pattern) 8 Conductor pattern (inner layer pattern) 9 Insulating layer (insulating resin) 10 via hole 11 copper plating 12 conductor pattern (outer layer pattern) 13 conductor pattern (outer layer pattern) 14 core substrate 15 through hole (guide mark) 16 through hole (product) 17 copper foil 18 copper plating 19 inner layer pattern 20 depending on inner layer pattern Guide mark 21 Insulating layer (insulating resin) 22 Insulating resin filled in through hole 23 Via hole 24 New through hole formed in through hole 25 Outer layer pattern 26 Core substrate through hole 27 New through hole 30 Product Through hole 31 outer layer pattern 32 product 33 core substrate 34 insulating layer (insulating layer) ) 35 inner layer pattern land 36 via hole 37 via hole connection 39 copper plating was destroyed by the outer pattern lands 38 etched

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 内層の導体パターンを表面に形成したコ
ア基板の表面に絶縁層が積層され、該絶縁層に形成した
バイアホールを介して該絶縁層上に積層された外層の導
体パターンと該内層の導体パターンとが電気的に接続さ
れた多層プリント配線板の製造方法であって、 コア基板に貫通穴を形成する工程と、 該貫通穴を位置基準として内層の導体パターンを形成す
る工程と、 該コア基板の表面に絶縁層を形成すると共に、該貫通穴
の一部または全部に絶縁性材料を充填する工程と、 該内層の導体パターンと共に形成したガイドマークを位
置基準として絶縁層にバイアホールを形成すると共に、
該貫通穴内の絶縁性材料を一部除去して該貫通穴内部に
該貫通穴よりも基板に平行な方向の断面積が小さい新た
な貫通穴を形成する工程と、 該新たな貫通穴を位置基準として外層の導体パターンを
形成する工程とを含む多層プリント配線板の製造方法。
An insulating layer is laminated on a surface of a core substrate on which a conductor pattern of an inner layer is formed, and a conductor pattern of an outer layer laminated on the insulating layer through a via hole formed in the insulating layer is provided. A method of manufacturing a multilayer printed wiring board in which a conductor pattern of an inner layer is electrically connected, wherein a step of forming a through hole in the core substrate, and a step of forming the conductor pattern of the inner layer with the through hole as a position reference Forming an insulating layer on the surface of the core substrate and filling an insulating material in a part or the entirety of the through hole; and forming a via in the insulating layer based on the position of the guide mark formed together with the conductive pattern of the inner layer. While forming a hole,
Forming a new through-hole having a smaller cross-sectional area in a direction parallel to the substrate than the through-hole inside the through-hole by partially removing the insulating material in the through-hole; Forming a conductor pattern of an outer layer as a reference.
【請求項2】 前記コア基板の貫通穴内に充填した絶縁
性材料の除去を、フォトリソグラフィー法またはレーザ
ー加工法により行う請求項1に記載の多層プリント配線
板の製造方法。
2. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the removal of the insulating material filled in the through holes of the core substrate is performed by a photolithography method or a laser processing method.
【請求項3】 前記新たな貫通穴表面に銅めっきを施し
て、穴壁面の補強を行う請求項1または請求項2に記載
の多層プリント配線板の製造方法。
3. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein copper plating is applied to a surface of the new through hole to reinforce a hole wall surface.
【請求項4】 前記コア基板の貫通穴を後工程のパター
ン形成加工および新たな貫通穴の形成加工の少なくとも
一方を行う際の位置基準として用いる請求項1乃至請求
項3のいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方
法。
4. The method according to claim 1, wherein the through hole of the core substrate is used as a position reference when performing at least one of a pattern forming process and a new through hole forming process in a later step. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board.
【請求項5】 前記新たな貫通穴を後工程のパターン形
成加工を行う際の位置基準として用いる請求項1乃至請
求項4のいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方
法。
5. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the new through hole is used as a position reference when performing a pattern forming process in a later step.
【請求項6】 前記コア基板の貫通穴と新たな貫通穴を
円形に形成し、両円形穴の中心を同軸上に位置させる
か、または両円形穴を偏心させた請求項1乃至請求項5
のいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法。
6. The through hole of the core substrate and a new through hole are formed in a circular shape, and the centers of the two circular holes are located coaxially, or the two circular holes are eccentric.
The method for producing a multilayer printed wiring board according to any one of the above.
【請求項7】 前記新たな貫通穴を多層プリント配線板
において位置精度を要求される部分に設けた請求項1乃
至請求項6のいずれかに記載の多層プリント配線板の製
造方法。
7. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein said new through hole is provided in a portion of said multilayer printed wiring board where positional accuracy is required.
【請求項8】 前記新たな貫通穴を位置基準として導体
パターンを形成した基板の表面に新たな絶縁層を形成す
ると共に、該新たな貫通穴の一部または全部に絶縁性材
料を充填する工程と、 該下層の導体パターンと共に形成したガイドマークを位
置基準として新たな絶縁層にバイアホールを形成すると
共に、該新たな貫通穴内の絶縁性材料を一部除去して該
新たな貫通穴内部に該新たな貫通穴よりも基板に平行な
方向の断面積が小さいさらに新たな貫通穴を形成する工
程と、 さらに新たな貫通穴を位置基準として上層の導体パター
ンを形成する工程とを繰り返す請求項1乃至請求項7の
いずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法。
8. A step of forming a new insulating layer on the surface of the substrate on which the conductor pattern is formed with the new through hole as a position reference, and filling an insulating material in a part or all of the new through hole. Forming a via hole in the new insulating layer with the guide mark formed together with the underlying conductor pattern as a position reference, and removing a portion of the insulating material in the new through hole to form a via hole in the new through hole; A step of forming a further new through-hole having a smaller cross-sectional area in a direction parallel to the substrate than the new through-hole, and a step of forming an upper-layer conductive pattern with the new through-hole as a position reference are repeated. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to any one of claims 1 to 7.
【請求項9】 請求項1乃至請求項8のいずれかに記載
の多層プリント配線板の製造方法により作製した多層プ
リント配線板。
9. A multilayer printed wiring board manufactured by the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1.
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