JP4084785B2 - Manufacturing method of electronic parts - Google Patents

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Description

本発明は、誘電体層と所定パターンの導体層とを組み合わせて構成されているコンデンサやインダクタ,フィルタ,回路基板等の電子部品の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing electronic components such as capacitors, inductors, filters, circuit boards, and the like that are configured by combining a dielectric layer and a conductor layer having a predetermined pattern.

従来より、コンデンサやインダクタ,フィルタ,回路基板等の電子部品を形成するのに誘電体材料が用いられている。   Conventionally, dielectric materials have been used to form electronic components such as capacitors, inductors, filters, and circuit boards.

このような従来の電子部品として、例えば、所定の誘電率を有した複数個のセラミック層を、間に第1の内部電極と第2の内部電極とを交互に介在させて積層するとともに、該積層体の側面や主面に前記第1,第2の内部電極にそれぞれ電気的に接続される一対の外部電極を設けてなる積層セラミックコンデンサ等がよく知られており、かかる積層セラミックコンデンサは、一対の外部電極を介して第1の内部電極と第2の内部電極との間に所定の電圧を印加し、第1の内部電極−第2の内部電極間に配されているセラミック層に所定の静電容量を形成することによってコンデンサとして機能するようになっている。   As such a conventional electronic component, for example, a plurality of ceramic layers having a predetermined dielectric constant are laminated with a first internal electrode and a second internal electrode interposed therebetween, and A multilayer ceramic capacitor or the like is well known in which a pair of external electrodes electrically connected to the first and second internal electrodes are provided on the side surface and the main surface of the multilayer body, respectively. A predetermined voltage is applied between the first internal electrode and the second internal electrode via the pair of external electrodes, and a predetermined voltage is applied to the ceramic layer disposed between the first internal electrode and the second internal electrode. It functions as a capacitor by forming a capacitance of.

また上述した積層セラミックコンデンサは以下の工程を経て製作される(例えば、特許文献1参照。)。   The above-mentioned multilayer ceramic capacitor is manufactured through the following steps (for example, see Patent Document 1).

まず、所定のセラミック材料粉末に有機バインダ及び有機溶剤を添加・混合してスラリー状の無機組成物を作製し、これを従来周知のドクターブレード法等によって所定厚みのシートに成形加工してセラミックグリーンシートを形成する。   First, an organic binder and an organic solvent are added to and mixed with a predetermined ceramic material powder to prepare a slurry-like inorganic composition, which is formed into a sheet with a predetermined thickness by a conventionally known doctor blade method, etc. Form a sheet.

次に、得られたセラミックグリーンシートの主面に従来周知のスクリーン印刷等によってニッケル等の金属を主成分とする導体ペーストを所定パターンに印刷・塗布して導体パターンを形成し、これを複数枚、積み重ねることによってセラミックグリーンシートの積層体を形成する。   Next, a conductor paste mainly composed of a metal such as nickel is printed and applied in a predetermined pattern on the main surface of the obtained ceramic green sheet by screen printing or the like known in the art to form a conductor pattern. Then, a laminated body of ceramic green sheets is formed by stacking.

続いて、前記積層体を高温で焼成することによって導体ペーストを内部電極に、セラミックグリーンシートをセラミック層に成し、最後に、前記積層体の端面等に従来周知のディッピング法等によって導体ペーストを塗布し、これを焼き付けて外部電極を形成することによって積層セラミックコンデンサが製作される。
特開2000−243650号公報
Subsequently, the laminate is fired at a high temperature to form a conductor paste as an internal electrode and a ceramic green sheet as a ceramic layer. Finally, the conductor paste is applied to the end face of the laminate by a conventionally known dipping method or the like. A multilayer ceramic capacitor is manufactured by coating and baking to form external electrodes.
JP 2000-243650 A

ところで、近年、電子機器の小型化に伴い、電子部品の小型化が求められており、上述した積層セラミックコンデンサの場合、個々のセラミック層や内部電極を薄く形成し、さらには高積層化、高容量化するための種々の検討がなされている。   By the way, in recent years, with the miniaturization of electronic devices, there has been a demand for miniaturization of electronic components. In the case of the multilayer ceramic capacitor described above, individual ceramic layers and internal electrodes are formed thinly, and further, the number of layers is increased. Various studies have been made to increase the capacity.

例えば、上述した従来の積層セラミックコンデンサにおいて、内部電極の厚みを薄くするには、内部電極の形成に使用されている導体ペースト中に含まれる金属粉末の平均粒径を、例えば、0.3μm程度に極めて小さくすることが重要とされている。   For example, in the above-described conventional multilayer ceramic capacitor, in order to reduce the thickness of the internal electrode, the average particle size of the metal powder contained in the conductor paste used for forming the internal electrode is, for example, about 0.3 μm It is important to make it extremely small.

しかしながら、導体ペースト中に含まれている金属粉末の粒径を極めて小さくして、厚みの薄い内部電極を形成し、この内部電極の形成されたセラミック層を複数枚積層した場合でも、内部電極のある領域とない領域で厚み差が生じる。この厚みの差は、積層数が増えれば増えるほど増大して、デラミネーションや電極が湾曲してショートといった電気不良が生じることがある。   However, the particle size of the metal powder contained in the conductor paste is made extremely small to form a thin internal electrode, and even when a plurality of ceramic layers having this internal electrode are laminated, A thickness difference occurs between a certain region and a non-region. This difference in thickness increases as the number of layers increases, which may cause electrical failure such as delamination or bending of the electrode to cause a short circuit.

本発明は上記欠点に鑑み案出されたもので、その目的は、比較的容易に導体層のある領域とない領域の厚み差を解消し高積層型の電子部品を製作することができ、しかも導体層や誘電体層に変形やクラック等の不具合が生じるのを有効に防止することができる電子部品の製造方法を提供することにある。   The present invention has been devised in view of the above-mentioned drawbacks, and its purpose is to relatively easily eliminate the difference in thickness between a region with a conductor layer and a region without a conductor layer, and to produce a highly laminated electronic component. An object of the present invention is to provide an electronic component manufacturing method capable of effectively preventing defects such as deformation and cracks in a conductor layer and a dielectric layer.

本発明の電子部品の製造方法は、一主面に粘着剤が存在する支持フィルムの前記一主面に、導体パターンを付着させる工程Aと、前記支持フィルムの一主面であって、前記導体パターンの存在する部位及び前記導体パターンが存在せずに前記粘着剤が露出した部位の双方に対して、誘電体シートを押圧・剥離することによって、前記支持フィルムの一主面のうち前記導体パターンの存在しない部位に、前記誘電体シートのうち対応する部分を選択的に付着させる工程Bと、前記導体パターンと前記誘電体シートの付着部分とで構成される層を複数積層することにより積層体を形成する工程Cと、を含むものである。   The method of manufacturing an electronic component according to the present invention includes a step A in which a conductor pattern is attached to the one main surface of the support film having an adhesive on one main surface, and one main surface of the support film, the conductor The conductor pattern of one main surface of the support film is pressed and peeled against both the part where the pattern exists and the part where the adhesive is exposed without the conductor pattern. A layered product by laminating a plurality of layers composed of a step B for selectively attaching a corresponding portion of the dielectric sheet to a portion where the dielectric sheet does not exist, and a portion where the conductor pattern and the dielectric sheet are attached The process C which forms is included.

上記電子部品の製造方法において、前記積層体を焼成する工程D、をさらに有することが好ましい。   The method for manufacturing an electronic component preferably further includes a step D of firing the laminate.

上記電子部品の製造方法において、前記工程Aは、支持体上に存在する前記導体パターンを、前記支持フィルムの一主面に押圧・転写するものであることが好ましい。
上記電子部品の製造方法において、前記工程Bにおいて、前記誘電体シートは、加圧ロールによって前記支持フィルムに対して押圧されることが好ましい。特に、前記加圧ロールは、その表面部分がウレタンゴムコート、ネオプレーンゴムコート又は天然ゴムコートを用いて形成されていることが好ましい。
上記電子部品の製造方法において、前記工程Bは、樹脂フィルムの表面に形成された前記誘電体シートを、前記支持フィルムに対して押圧することが好ましい。特に、前記樹脂フィルムには、シリコーン樹脂又はフッ素樹脂を介して前記誘電体シートが形成されていることが好ましい。
上記電子部品の製造方法において、前記工程Dにおいて、前記粘着剤は、前記焼成によって熱分解されることが好ましい。特に、前記粘着剤は、アクリル系、アクリルエマルジョン系又はブチラール系の材料を用いて成ることが好ましい。
上記電子部品の製造方法において、前記工程Cは、前記導体パターンと前記誘電体シートの付着部分とで構成される層の上に、層形成グリーンシートを形成する工程と、前記導体パターンと前記誘電体シートの付着部分とで構成される層の上に前記層形成グリーンシートを形成して成るものを、複数積層する工程と、を含むことが好ましい。
上記電子部品の製造方法において、前記導体パターンが金属メッキ膜により形成されていることが好ましい。特に、前記金属メッキ膜は、銅、ニッケル、クローム又はこれらの合金からなることが好ましい。また、前記工程Dの焼成温度は、金属メッキ膜を形成している金属の融点よりも低く、かつ前記金属の再結晶温度よりも高いことが好ましい。
上記電子部品の製造方法において、前記誘電体シートは、セラミックグリーンシートであること或いは有機材料からなることが好ましい
上記電子部品の製造方法において、前記支持フィルムは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート又はポリプロピレンを用いて成ることが好ましい。
In the method for manufacturing an electronic component, it is preferable that the step A is to press and transfer the conductor pattern existing on the support to one main surface of the support film.
In the method for manufacturing an electronic component, in the step B, the dielectric sheet is preferably pressed against the support film by a pressure roll. In particular, it is preferable that the surface portion of the pressure roll is formed using a urethane rubber coat, a neoprene rubber coat, or a natural rubber coat.
In the method for manufacturing an electronic component, the step B preferably presses the dielectric sheet formed on the surface of the resin film against the support film. In particular, the dielectric sheet is preferably formed on the resin film via a silicone resin or a fluororesin.
In the method for manufacturing an electronic component, in the step D, the pressure-sensitive adhesive is preferably thermally decomposed by the firing. In particular, the pressure-sensitive adhesive is preferably made of an acrylic, acrylic emulsion or butyral material.
In the method of manufacturing an electronic component, the step C includes a step of forming a layer-forming green sheet on a layer constituted by the conductor pattern and a portion where the dielectric sheet is attached, and the conductor pattern and the dielectric. It is preferable to include a step of laminating a plurality of layers formed by forming the layer-forming green sheet on a layer composed of the adhered portion of the body sheet.
In the method for manufacturing an electronic component, it is preferable that the conductor pattern is formed of a metal plating film. In particular, the metal plating film is preferably made of copper, nickel, chrome, or an alloy thereof. Moreover, it is preferable that the baking temperature of the said process D is lower than melting | fusing point of the metal which forms the metal plating film, and is higher than the recrystallization temperature of the said metal.
In the electronic component manufacturing method, the dielectric sheet is preferably a ceramic green sheet or made of an organic material. In the electronic component manufacturing method, the support film is made of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, or polypropylene. It is preferable to use.

本発明の電子部品の製造方法は、一主面に粘着剤が存在する支持フィルムの前記一主面に、導体パターンを付着させる工程Aと、前記支持フィルムの一主面であって、前記導体パターンの存在する部位及び前記導体パターンが存在せずに前記粘着剤が露出した部位の双方に対して、誘電体シートを押圧・剥離することによって、前記支持フィルムの一主面のうち前記導体パターンの存在しない部位に、前記誘電体シートのうち対応する部分を選択的に付着させる工程Bと、前記導体パターンと前記誘電体シートの付着部分とで構成される層を複数積層することにより積層体を形成する工程Cと、を含むものであることから、支持フィルム上には導体パターンと誘電体シートとが間に大きな隙間を形成することなく略面一に付着・形成されることとなり、このような導体パターン及び誘電体シートを複数積層することにより積層体を形成し、これを焼成しても、デラミネーションや電極の湾曲による電気不良が生じるのを有効に防止することができ、信頼性及び生産性に優れた電子部品を得ることが可能となる。   The method of manufacturing an electronic component according to the present invention includes a step A in which a conductor pattern is attached to the one main surface of the support film having an adhesive on one main surface, and one main surface of the support film, the conductor The conductor pattern of one main surface of the support film is pressed and peeled against both the part where the pattern exists and the part where the adhesive is exposed without the conductor pattern. A layered product by laminating a plurality of layers composed of a step B for selectively attaching a corresponding portion of the dielectric sheet to a portion where the dielectric sheet does not exist, and a portion where the conductive pattern and the attached portion of the dielectric sheet are attached Therefore, the conductor pattern and the dielectric sheet can be adhered and formed on the support film in a substantially flush manner without forming a large gap therebetween. Thus, even if a laminate is formed by laminating a plurality of such conductor patterns and dielectric sheets, and firing the laminate, it is possible to effectively prevent electrical failure due to delamination or electrode bending. Thus, it is possible to obtain an electronic component excellent in reliability and productivity.

また、本発明によれば、導体パターンを金属メッキ膜により形成することにより、比較的薄い導体パターンを作製することができる。この場合、支持フィルムに付着される誘電体シートの厚みも導体パターンと同様に薄くなることから、誘電体シートを支持フィルム上に選択的に付着・転写させる際、両者を押圧することによって誘電体シートを導体パターンの輪郭に沿って比較的容易に破断することができる。従って、誘電体シートを導体パターンの存在しない部位と対応するパターンに精度良く切り出して付着させることができ、これらを焼成してなる導体層や誘電体層に変形やクラック等の不具合が生じるのを有効に防止することができる。   Further, according to the present invention, a relatively thin conductor pattern can be produced by forming the conductor pattern with a metal plating film. In this case, since the thickness of the dielectric sheet attached to the support film is also reduced in the same manner as the conductor pattern, when the dielectric sheet is selectively attached and transferred onto the support film, the dielectric material is pressed by pressing both of them. The sheet can be broken relatively easily along the contour of the conductor pattern. Therefore, the dielectric sheet can be accurately cut out and attached to the pattern corresponding to the portion where the conductor pattern does not exist, and defects such as deformation and cracks occur in the conductor layer and the dielectric layer obtained by firing them. It can be effectively prevented.

さらに、本発明によれば、工程Dにおける積層体の焼成温度を、金属メッキ膜を形成する金属の融点よりも低く、かつ、再結晶温度より高い温度となすことにより、焼成時の熱によって金属メッキ膜が熔けて金属メッキ膜を分断するといった不都合を生じることなく、連続性に優れた導体層を形成することができる。なお、ここで、金属メッキ膜が連続性に優れた導体層となるのは、誘電体シートの焼成時、金属メッキ膜を形成している金属の再結晶化が進むことで金属が適度に軟化し、誘電体シート中の(セラミック)粒子が金属メッキ膜の表面に入り込むからであり、これによって金属メッキ膜と誘電体シートの密着力が向上し、構造欠陥の少ない電子部品を得ることが可能となる。   Furthermore, according to the present invention, the firing temperature of the laminate in step D is lower than the melting point of the metal forming the metal plating film and higher than the recrystallization temperature, so that the metal is heated by the heat during firing. A conductor layer having excellent continuity can be formed without causing the inconvenience of melting the plating film and dividing the metal plating film. Here, the metal plating film becomes a conductor layer with excellent continuity, because the metal forming the metal plating film is recrystallized at the time of firing the dielectric sheet, so that the metal is moderately softened. This is because the (ceramic) particles in the dielectric sheet enter the surface of the metal plating film, thereby improving the adhesion between the metal plating film and the dielectric sheet, and obtaining an electronic component with few structural defects. It becomes.

以下、本発明を添付図面に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は本発明の一実施形態に係る製造方法によって製作した電子部品としての積層セラミックコンデンサを示す断面図であり、同図に示す積層セラミックコンデンサ1は、大略的に、絶縁層2と、導体層としての内部電極3と、誘電体層4と、外部電極5とで構成されている。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a multilayer ceramic capacitor as an electronic component manufactured by a manufacturing method according to an embodiment of the present invention. The multilayer ceramic capacitor 1 shown in FIG. An internal electrode 3 as a layer, a dielectric layer 4, and an external electrode 5 are configured.

積層セラミックコンデンサ1は、内部電極3と所定の誘電率を有した誘電体層4とを交互に積層して直方体形状の積層体を形成するとともに、該積層体の上下両面に誘電体層4と同一材料からなる絶縁層2を形成し、更に前記積層体の両端部に内部電極3と電気的に接続される外部電極5を被着・形成した構造を有している。   The multilayer ceramic capacitor 1 is formed by alternately laminating internal electrodes 3 and dielectric layers 4 having a predetermined dielectric constant to form a rectangular parallelepiped-shaped multilayer body, and dielectric layers 4 on both upper and lower surfaces of the multilayer body. An insulating layer 2 made of the same material is formed, and an external electrode 5 electrically connected to the internal electrode 3 is attached and formed at both ends of the laminate.

前記誘電体層4は、セラミック材料又は有機材料により形成される。セラミック材料から成る場合、例えば、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム等により形成される。有機材料から成る場合、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PP(ポリプロピレン)、PPS(ポリフェニレンサルファイド)等により形成される。誘電体層4の厚みは、例えば1層あたり1.0μm〜4.0μmに設定され、その積層数は、例えば30層〜600層に設定される。なお、絶縁層2の材質としては、誘電体層4と同様のセラミック材料や有機材料が用いられる。   The dielectric layer 4 is formed of a ceramic material or an organic material. When made of a ceramic material, it is formed of, for example, barium titanate, calcium titanate, strontium titanate or the like. In the case of an organic material, it is made of, for example, PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate), PP (polypropylene), PPS (polyphenylene sulfide) or the like. The thickness of the dielectric layer 4 is set to, for example, 1.0 μm to 4.0 μm per layer, and the number of stacked layers is set to, for example, 30 to 600 layers. As the material of the insulating layer 2, a ceramic material or an organic material similar to that of the dielectric layer 4 is used.

また、積層セラミックコンデンサ1の外形は、例えば、巾1.2mm、長さ2mm、高さ1.2mmの寸法にて形成され、誘電体層4や内部電極3の積層数は30層〜600層に設定される。   The outer shape of the multilayer ceramic capacitor 1 is, for example, formed with dimensions of 1.2 mm in width, 2 mm in length, and 1.2 mm in height, and the number of stacked dielectric layers 4 and internal electrodes 3 is 30 to 600 layers. Set to

また、前記内部電極3の厚みは0.5μm〜2.0μm程度、また誘電体層4の厚みは1.0μm〜4.0μm程度に設定される。   The thickness of the internal electrode 3 is set to about 0.5 μm to 2.0 μm, and the thickness of the dielectric layer 4 is set to about 1.0 μm to 4.0 μm.

これら誘電体層4の材質や厚み,積層数,内部電極3の対向面積等は、所望する静電容量の大きさによって適宜、決定される。   The material and thickness of the dielectric layer 4, the number of stacked layers, the facing area of the internal electrode 3, and the like are appropriately determined depending on the desired capacitance.

かかる積層セラミックコンデンサ1は、外部電極5を介して隣合う内部電極間3−3に所定の電圧を印加し、内部電極間3−3に配されている誘電体層4に所定の静電容量を形成することによってコンデンサとして機能する
次に、上述した積層セラミックコンデンサの製造方法について図2〜図4を用いて説明する。ここで、図2は本発明の製造方法における工程1を説明するための断面図、図3は本発明の製造方法における工程2〜3を説明するための断面図、図4は本発明の製造方法における工程5を説明するための断面図である。尚、以下に述べる工程1〜7は各請求項における工程A〜Dと1対1に対応するものではない。
The multilayer ceramic capacitor 1 applies a predetermined voltage to the adjacent internal electrodes 3-3 through the external electrodes 5, and applies a predetermined capacitance to the dielectric layer 4 disposed between the internal electrodes 3-3. Next, a method for manufacturing the above-described multilayer ceramic capacitor will be described with reference to FIGS. 2 is a cross-sectional view for explaining step 1 in the production method of the present invention, FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining steps 2 to 3 in the production method of the present invention, and FIG. 4 is a production of the present invention. It is sectional drawing for demonstrating the process 5 in a method. Steps 1 to 7 described below do not correspond to steps A to D in each claim on a one-to-one basis.

<工程1>
まず、粘着剤7が塗布されている支持フィルム6の一主面にニッケルメッキ膜で作製された導体パターン9を付着させる。
<Step 1>
First, the conductor pattern 9 made of a nickel plating film is attached to one main surface of the support film 6 to which the adhesive 7 is applied.

前記支持フィルム6としては、例えば、厚み10μm〜100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)、ポリエチレンナフタレート(PENフィルム)、ポリプロピレンフィルム(PPフィルム)等の硬質樹脂材料が用いることができる。   As the support film 6, for example, a hard resin material such as a polyethylene terephthalate film (PET film), a polyethylene naphthalate (PEN film), or a polypropylene film (PP film) having a thickness of 10 μm to 100 μm can be used.

この支持フィルム6の主面に粘着剤7を従来周知のカーテンコート法やダイコート法により塗布、乾燥して、厚み0.05μm〜10μmに形成する。粘着剤7としては、比較的低温で確実に熱分解される材料により形成され、導体パターン9及びセラミックグリーンシート11に付着した場合であっても焼成に際して熱分解する、例えば、アクリル系(溶剤系)、アクリルエマルジョン系(水系)、ブチラール系等の粘着剤7(溶剤系)を用いることが好ましく、これらの中でも剥離性の良好なアクリル系粘着剤7を用いるのが特に好ましい。   The pressure-sensitive adhesive 7 is applied to the main surface of the support film 6 by a conventionally known curtain coating method or die coating method and dried to form a thickness of 0.05 μm to 10 μm. The pressure-sensitive adhesive 7 is formed of a material that is reliably pyrolyzed at a relatively low temperature, and is thermally decomposed upon firing even when attached to the conductor pattern 9 and the ceramic green sheet 11. For example, an acrylic (solvent type) ), Acrylic emulsion-based (water-based), butyral-based pressure-sensitive adhesive 7 (solvent-based) is preferably used, and among these, acrylic-based pressure-sensitive adhesive 7 having good peelability is particularly preferable.

さらに、粘着剤7の乾燥後の粘着力が例えば、0.005N/cm〜1.0N/cm、また転写性の観点から0.01N/cm〜1.0N/cmのものを用いるのが好ましく、剥離性の観点からは、0.01N/cm〜0.2N/cmのものを用いることが好ましい。   Further, the adhesive strength after drying of the pressure-sensitive adhesive 7 is, for example, 0.005 N / cm to 1.0 N / cm, and from the viewpoint of transferability, it is preferable to use a pressure-sensitive adhesive having a pressure-sensitive adhesive strength of 0.01 N / cm to 1.0 N / cm. From the viewpoint of releasability, it is preferable to use one having a thickness of 0.01 N / cm to 0.2 N / cm.

また、導体パターン9は、支持体8の主面に、例えば、電解メッキ及び無電解メッキにより析出された金属メッキ膜を所定の導体パターン9にエッチング処理を施して形成したものを用いることができる。あるいは、支持体8の主面に所定の導体パターン9が得られるように導体パターン9の形成領域以外をマスクして電解メッキによって導体パターン9を作製するようにしてもよい。あるいは、金属メッキ膜をイオンプレーテング、スパッタリング、化学蒸着等の薄膜形成法により作製してもよく、その形成方法を特に限定するものではない。   Moreover, the conductor pattern 9 can use what formed by performing the etching process to the predetermined conductor pattern 9 on the main surface of the support body 8, for example by depositing the metal plating film deposited by electrolytic plating and electroless plating. . Alternatively, the conductor pattern 9 may be produced by electrolytic plating while masking areas other than the formation area of the conductor pattern 9 so that the predetermined conductor pattern 9 is obtained on the main surface of the support 8. Alternatively, the metal plating film may be produced by a thin film forming method such as ion plating, sputtering, chemical vapor deposition, etc., and the forming method is not particularly limited.

導体パターン9の材料としては、例えば、銅、ニッケル、クローム等の金属または、それらの金属を含む合金等が用いられる。   As a material of the conductor pattern 9, for example, a metal such as copper, nickel, chrome, or an alloy containing these metals is used.

このようにして得られた導体パターン9を支持フィルム6の粘着剤7が塗布された面に押圧・転写することにより導体パターン9を支持フィルム6に付着させる。その後、導体パターン9は支持体8より剥離される。   The conductor pattern 9 is adhered to the support film 6 by pressing and transferring the conductor pattern 9 thus obtained to the surface of the support film 6 to which the adhesive 7 is applied. Thereafter, the conductor pattern 9 is peeled off from the support 8.

尚、上述した導体パターン9は、支持フィルム6の粘着剤7が塗布された面に従来周知のスクリーン印刷等によってニッケル等の金属を主成分とする導体ペーストを所定パターンに印刷・塗布することによって形成しても良い。   The conductor pattern 9 described above is obtained by printing and applying a conductor paste mainly composed of a metal such as nickel in a predetermined pattern on the surface of the support film 6 on which the adhesive 7 is applied by screen printing or the like. It may be formed.

<工程2>
次に、導体パターン9を付着させた支持フィルム6と、導体パターン9と略等しい厚みを有したセラミックグリーンシート11とを準備し、支持フィルム6のうち導体パターン9の存在する部位と導体パターン9の存在しない部位の双方の部位に対してセラミックグリーンシート11を押圧する。
<Process 2>
Next, a support film 6 to which the conductor pattern 9 is attached and a ceramic green sheet 11 having a thickness substantially equal to that of the conductor pattern 9 are prepared. A portion of the support film 6 where the conductor pattern 9 exists and the conductor pattern 9 are prepared. The ceramic green sheet 11 is pressed against both parts of the part where no water is present.

セラミックグリーンシート11は、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム等を主成分とする誘電体材料粉末に適当な有機溶剤、有機バインダ等を添加・混合して泥漿状となすセラミックスラリを樹脂フィルム10の主面に従来周知のダイコート法等により前記導体パターン9と略等しい厚みとなるように塗布し、70℃〜85℃の温度で約30秒〜60秒間加熱し、セラミックスラリ中に存在する有機溶剤の多くを蒸発させることによってこれを乾燥することにより得られる。   The ceramic green sheet 11 is made of a ceramic slurry that is made into a mud by adding and mixing a suitable organic solvent, organic binder, etc. to a dielectric material powder mainly composed of barium titanate, calcium titanate, strontium titanate, etc. It is applied to the main surface of the film 10 by a conventionally known die coating method or the like so as to have a thickness substantially equal to that of the conductor pattern 9 and is heated at a temperature of 70 ° C. to 85 ° C. for about 30 seconds to 60 seconds to be present in the ceramic slurry. It is obtained by drying many of the organic solvents that evaporate.

この樹脂フィルム10としては、例えば、厚み10μm〜100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)、ポリエチレンナフタレート(PENフィルム)、ポリプロピレンフィルム(PPフィルム)等の硬質樹脂材料が用いることができる。さらに、この樹脂フィルム10の主面には、セラミックグリーンシート11が樹脂フィルム10より剥離が容易になるようにシリコーン樹脂、フッ素樹脂等を従来周知のダイコート法等により塗布し、離型処理を施すことが好ましい。   As the resin film 10, for example, a hard resin material such as a polyethylene terephthalate film (PET film), a polyethylene naphthalate (PEN film), or a polypropylene film (PP film) having a thickness of 10 μm to 100 μm can be used. Further, a silicone resin, a fluororesin, or the like is applied to the main surface of the resin film 10 by a conventionally known die coating method or the like so that the ceramic green sheet 11 can be easily peeled off from the resin film 10. It is preferable.

押圧手段としては、例えば、加圧ロール13等が用いられる。この加圧ロール13は、導体パターン9の存在する部位と導体パターン9の存在しない部位の双方をセラミックグリーンシート11に対して均等に加圧することができるように、表面部分をウレタンゴムコート、ネオプレーンゴムコート、天然ゴムコート等の弾力材料によって形成したものが好適に使用される。   As the pressing means, for example, a pressure roll 13 or the like is used. The pressure roll 13 has a urethane rubber coat, neoprene on the surface portion so that both the portion where the conductor pattern 9 exists and the portion where the conductor pattern 9 does not exist can be uniformly pressed against the ceramic green sheet 11. What was formed with elastic materials, such as a rubber coat and a natural rubber coat, is used suitably.

前述の工程1により得られる導体パターン9は、導体パターン9が金属メッキ等からなる場合、厚みが比較的薄くなるので、導体パターン9の存在する部位は、押圧されると支持フィルム6及び粘着剤7を圧縮変形させ、支持フィルム6及び粘着剤7に押し込まれる。これと同時にセラミックグリーンシート11が押圧されるため、導体パターン9の存在しない部位に露出された粘着剤7にセラミックグリーンシート11が密着することとなる。   When the conductor pattern 9 is made of metal plating or the like, the conductor pattern 9 obtained by the above-described step 1 has a relatively thin thickness. Therefore, when the conductor pattern 9 is pressed, the portion where the conductor pattern 9 exists is pressed and the adhesive film 6 and the pressure-sensitive adhesive. 7 is compressed and deformed and pushed into the support film 6 and the adhesive 7. At the same time, since the ceramic green sheet 11 is pressed, the ceramic green sheet 11 comes into close contact with the adhesive 7 exposed at a portion where the conductor pattern 9 does not exist.

またこのとき、セラミックグリーンシート11は導体パターン9の上面角部に強く押圧されることから、導体パターン9のエッジの切断力によって、セラミックグリーンシート11の表面には導体パターン9の輪郭に沿った亀裂を生じ易く、セラミックグリーンシート11は導体パターン9の存在しない部位と対応するパターンに精度良く分離されることとなる。   At this time, since the ceramic green sheet 11 is strongly pressed against the upper corner of the conductor pattern 9, the surface of the ceramic green sheet 11 follows the contour of the conductor pattern 9 due to the cutting force of the edge of the conductor pattern 9. Cracks are likely to occur, and the ceramic green sheet 11 is accurately separated into a pattern corresponding to a portion where the conductor pattern 9 does not exist.

<工程3>
次に、支持フィルム6上に付着させたセラミックグリーンシート11より樹脂フィルム10を剥離させる。
<Step 3>
Next, the resin film 10 is peeled from the ceramic green sheet 11 adhered on the support film 6.

導体パターン9の存在する部位のセラミックグリーンシート11は、導体パターン9とセラミックグリーンシート11の密着力が樹脂フィルム10とセラミックグリーンシート11の密着力に比べて小さく設定されているので、樹脂フィルム10を剥離する際に、同時に剥離される。一方、導体パターン9の存在しない部位のセラミックグリーンシート11は、粘着剤7によって支持フィルム6に対して比較的強固に密着しており、樹脂フィルム10とセラミックグリーンシート11の密着力より大きいので、樹脂フィルム10を剥離する際に粘着剤7によって支持フィルム5側に残り、樹脂フィルム10と共に剥離されることはない。   The ceramic green sheet 11 at the portion where the conductor pattern 9 exists is set such that the adhesion force between the conductor pattern 9 and the ceramic green sheet 11 is set smaller than the adhesion force between the resin film 10 and the ceramic green sheet 11. When peeling the film, it is peeled off at the same time. On the other hand, the ceramic green sheet 11 in the portion where the conductor pattern 9 does not exist is relatively firmly adhered to the support film 6 by the adhesive 7 and is larger than the adhesion force between the resin film 10 and the ceramic green sheet 11. When the resin film 10 is peeled off, the adhesive 7 remains on the support film 5 side and is not peeled off together with the resin film 10.

さらに、セラミックグリーンシート11は、その厚みが導体パターン9と同程度に薄く、しかも前述した工程2において導体パターン9の輪郭に沿って亀裂を生じていることから、樹脂フィルム10を剥離する際に、導体パターン9の存在しない部位と導体パターン9の存在する部位の境界で破断し、支持フィルム6上の導体パターン9の存在しない部位に残留することとなる。このような支持フィルム6上には、導体パターン9とセラミックグリーンシート11´とが、間に大きな隙間を形成することなく略面一に並設されていることから、後述する工程5において複数枚積層しても、導体パターン9の存在する部位と存在しない部位とで大きな厚みの差を生じることもなく、このような積層体を焼成して電子部品を製作した場合、内部電極の変形が抑制されて電気不良やデラミネーションの発生を有効に防止することができる。   Furthermore, since the ceramic green sheet 11 is as thin as the conductor pattern 9 and has cracks along the contour of the conductor pattern 9 in the above-described step 2, when the resin film 10 is peeled off. Then, the fracture occurs at the boundary between the portion where the conductor pattern 9 does not exist and the portion where the conductor pattern 9 exists, and remains at the portion where the conductor pattern 9 does not exist on the support film 6. On such a support film 6, the conductor pattern 9 and the ceramic green sheet 11 'are arranged substantially flush with each other without forming a large gap therebetween. Even when laminated, there is no great difference in thickness between the portion where the conductor pattern 9 is present and the portion where the conductor pattern 9 is not present. When an electronic component is manufactured by firing such a laminate, the deformation of the internal electrode is suppressed. Thus, it is possible to effectively prevent the occurrence of electrical failure and delamination.

<工程4>
次に、前記工程3で得られたセラミックグリーンシート11´及び導体パターン9にセラミックスラリを塗布した後、このセラミックスラリを乾燥することによってセラミックグリーンシート11´及び導体パターン9上にわたってセラミックグリーンシートを積層してなる層形成グリーンシート12を積層する。
<Step 4>
Next, after applying a ceramic slurry to the ceramic green sheet 11 ′ and the conductor pattern 9 obtained in the above step 3, the ceramic green sheet is dried over the ceramic green sheet 11 ′ and the conductor pattern 9 by drying the ceramic slurry. The layer-forming green sheets 12 are stacked.

このようなセラミックスラリとしては、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム等を主成分とする誘電体材料粉末に適当な有機溶剤、有機バインダ等を添加・混合して得る。このようにして得られたセラミックスラリを導体パターン9及びセラミックグリーンシート11´を覆うように従来周知のダイコート法等により塗布し、乾燥させる。   Such a ceramic slurry is obtained by adding and mixing an appropriate organic solvent, organic binder or the like to a dielectric material powder mainly composed of barium titanate, calcium titanate, strontium titanate or the like. The ceramic slurry thus obtained is applied by a conventionally known die coating method or the like so as to cover the conductor pattern 9 and the ceramic green sheet 11 ′ and dried.

また上述した工程4に代えて、セラミックスラリをシート形成用樹脂フィルムの主面に従来周知のダイコート法等により塗布し、乾燥して得た層形成グリーンシート12を工程3で得た導体パターン9及びセラミックグリーンシート11´に加熱圧着して、このシート形成用樹脂フィルムを剥離するようにしてもかまわない。   Further, in place of the above-described step 4, a ceramic pattern is applied to the main surface of the sheet-forming resin film by a conventionally known die coating method or the like, and dried to form the layer-formed green sheet 12 obtained in the step 3. The sheet-forming resin film may be peeled off by thermocompression bonding to the ceramic green sheet 11 ′.

<工程5>
次に、工程4で得た導体パターン9及びセラミックグリーンシート11´を覆うように形成した層形成グリーンシート12を複数枚準備して、これらを相互に圧着・積層し、さらに絶縁層2となる無効層14を積層することにより積層体15を形成する。
<Step 5>
Next, a plurality of layer-formed green sheets 12 formed so as to cover the conductor pattern 9 and the ceramic green sheet 11 ′ obtained in step 4 are prepared, and these are pressure-bonded and laminated to each other, and the insulating layer 2 is further formed. A laminate 15 is formed by laminating the ineffective layer 14.

このような積層体は、例えば、60℃の温度で加熱しながら0.9MPaの圧力で仮圧着され、その後、従来周知の静水圧プレス等によって70℃の温度、50MPaの圧力で、積層体15を構成する導体パターン9及びセラミックグリーンシート11´を覆うように形成した層形成グリーンシート12を相互に圧着させることによって形成される。   Such a laminate is, for example, temporarily pressure-bonded at a pressure of 0.9 MPa while being heated at a temperature of 60 ° C., and then, at a temperature of 70 ° C. and a pressure of 50 MPa by a conventionally known hydrostatic pressure press or the like. The layer-formed green sheet 12 formed so as to cover the conductor pattern 9 and the ceramic green sheet 11 ′ constituting the structure is bonded to each other.

<工程6>
そして、工程5で得た積層体を所定形状に切断し、これらを高温で焼成する。
<Step 6>
And the laminated body obtained at the process 5 is cut | disconnected to a predetermined shape, and these are baked at high temperature.

ここで重要なのは、積層体の焼成温度を、導体パターン9を形成している金属の融点よりも低く、かつ該金属の再結晶温度よりも高い温度で焼成することであり、これによって層形成セラミックグリーンシート12は積層セラミックコンデンサの誘電体層4となり、導体パターン9は内部電極3となる。   What is important here is that the laminate is fired at a temperature lower than the melting point of the metal forming the conductor pattern 9 and higher than the recrystallization temperature of the metal. The green sheet 12 becomes the dielectric layer 4 of the multilayer ceramic capacitor, and the conductor pattern 9 becomes the internal electrode 3.

例えば、導体パターン9がニッケルから成る場合、ニッケルの再結晶温度は500〜550℃で、ニッケルの融点は1450℃であるため、積層体の焼成は、例えば、1300℃の温度で行われる。   For example, when the conductor pattern 9 is made of nickel, the recrystallization temperature of nickel is 500 to 550 ° C., and the melting point of nickel is 1450 ° C. Therefore, the laminate is fired at a temperature of 1300 ° C., for example.

このように導体パターン9を形成する金属の融点より低い温度で焼成することにより、焼成時に導体パターン9が熔けて導体パターン9が分断されるといった不都合が確実に防止され、連続性に優れた内部電極3を形成することができる。   By firing at a temperature lower than the melting point of the metal forming the conductor pattern 9 in this way, the inconvenience that the conductor pattern 9 is melted and the conductor pattern 9 is divided at the time of firing is surely prevented, and the continuity is excellent. The electrode 3 can be formed.

またこの場合、積層体の焼成温度は、導体パターン9を形成している金属の再結晶温度よりも高く設定されているため、焼成時に導体パターン9を形成している金属の再結晶化が進むことで金属が適度に軟化し、層形成セラミックグリーンシート12中のセラミック粒子が導体パターン9の表面に入り込むことによって導体パターン9と層形成セラミックグリーンシート12との密着力を向上せしめ、その結果、構造欠陥の少ない積層セラミックコンデンサが得られるようになる。   In this case, since the firing temperature of the laminate is set higher than the recrystallization temperature of the metal forming the conductor pattern 9, the recrystallization of the metal forming the conductor pattern 9 proceeds during firing. Thus, the metal is moderately softened, and the ceramic particles in the layer-formed ceramic green sheet 12 enter the surface of the conductor pattern 9, thereby improving the adhesion between the conductor pattern 9 and the layer-formed ceramic green sheet 12, A multilayer ceramic capacitor with few structural defects can be obtained.

<工程7>
そして最後に、積層体の両端部に外部電極用の導体ペーストを塗布して焼成し、更にメッキ処理を施すことによって外部電極5が形成され、これによって製品としての積層セラミックコンデンサ1が完成する。
<Step 7>
Finally, a conductive paste for external electrodes is applied to both ends of the multilayer body, fired, and further subjected to plating to form external electrodes 5, thereby completing a multilayer ceramic capacitor 1 as a product.

尚、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。   In addition, this invention is not limited to the above-mentioned embodiment, A various change, improvement, etc. are possible in the range which does not deviate from the summary of this invention.

更に上述した実施形態においては、積層セラミックコンデンサを製造する場合を例にとって説明したが、積層セラミックコンデンサ以外の電子部品、例えば、インダクタ,フィルタ,回路基板等の他の電子部品を製造する場合においても本発明が適用可能であることは言うまでもない。   Further, in the above-described embodiment, the case where the multilayer ceramic capacitor is manufactured has been described as an example. However, even in the case where other electronic components other than the multilayer ceramic capacitor, for example, other electronic components such as an inductor, a filter, and a circuit board are manufactured. Needless to say, the present invention is applicable.

本発明の一実施形態に係る製造方法によって製作した電子部品としての積層セラミックコンデンサを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the multilayer ceramic capacitor as an electronic component manufactured with the manufacturing method which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の製造方法における工程1を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the process 1 in the manufacturing method of this invention. 本発明の製造方法における工程2〜3を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process 2-3 in the manufacturing method of this invention typically. 本発明の製造方法における工程5を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the process 5 in the manufacturing method of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・・積層セラミックコンデンサ(電子部品)
2・・・・絶縁層
3・・・・内部電極(導体層)
4・・・・セラミック層(誘電体層)
5・・・・外部電極
6・・・・支持フィルム
7・・・・粘着剤
8・・・・支持体
9・・・・導体パターン
10・・・樹脂フィルム
11・・・セラミックグリーンシート(誘電体シート)
11´・・セラミックグリーンシート(誘電体シート)
12・・・層形成グリーンシート
13・・・加圧ロール
14・・・無効層
15・・・積層体
1 .... Multilayer ceramic capacitors (electronic parts)
2 .... Insulating layer 3 .... Internal electrode (conductor layer)
4. Ceramic layer (dielectric layer)
5 ... External electrode 6 ... Support film 7 ... Adhesive 8 ... Support 9 ... Conductor pattern 10 ... Resin film 11 ... Ceramic green sheet (dielectric) Body sheet)
11 '・ ・ Ceramic green sheet (dielectric sheet)
12 ... Green sheet for layer formation 13 ... Pressure roll 14 ... Invalid layer 15 ... Laminate

Claims (16)

一主面に粘着剤が存在する支持フィルムの前記一主面に導体パターンを付着させる工程Aと、
前記支持フィルムの一主面であって、前記導体パターンの存在する部位及び前記導体パターンが存在せずに前記粘着剤が露出した部位の双方に対して、誘電体シートを押圧・剥離することによって、前記支持フィルムの一主面のうち前記導体パターンの存在しない部位に前記誘電体シートのうち対応する部分を選択的に付着させる工程Bと、
前記導体パターン前記誘電体シートの付着部分とで構成される層を複数積層することにより積層体を形成する工程Cと
含む電子部品の製造方法。
Step A for attaching a conductor pattern to the one main surface of the support film having an adhesive on one main surface;
By pressing and peeling the dielectric sheet against both the main surface of the support film and the portion where the conductor pattern is present and the portion where the conductive pattern is not present and the adhesive is exposed , a nonexistent region of the conductor pattern of the one main surface of the support film, a step B selectively depositing a corresponding portion of the dielectric sheet,
A step C of forming a laminate by stacking a plurality of layers composed of said conductor pattern and the dielectric deposition portion of the sheet,
Of electronic parts including
前記積層体を焼成する工程D、をさらに有することを特徴とする請求項1に記載の電子部品の製造方法。  The method of manufacturing an electronic component according to claim 1, further comprising a step D of firing the laminate. 前記工程Aは、支持体上に存在する前記導体パターンを、前記支持フィルムの一主面に押圧・転写するものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の電子部品の製造方法。   3. The method of manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein the step A includes pressing and transferring the conductor pattern existing on the support to one main surface of the support film. 前記工程Bにおいて、前記誘電体シートは、加圧ロールによって前記支持フィルムに対して押圧されることを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 In the step B, the dielectric sheet, a method of manufacturing an electronic component according to any of claims 1 to 3, characterized in that it is pressed against the support film by pressure roll. 前記加圧ロールは、その表面部分がウレタンゴムコート、ネオプレーンゴムコート又は天然ゴムコートを用いて形成されていることを特徴とする請求項に記載の電子部品の製造方法。 The method of manufacturing an electronic component according to claim 4 , wherein a surface portion of the pressure roll is formed using a urethane rubber coat, a neoprene rubber coat, or a natural rubber coat. 前記工程Bは、樹脂フィルムの表面に形成された前記誘電体シートを、前記支持フィルムに対して押圧することを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 Wherein step B, the dielectric sheet formed on the surface of the resin film, method for manufacturing the electronic component according to any one of claims 1 to 5, characterized in that for pressing against the support film. 前記樹脂フィルムには、シリコーン樹脂又はフッ素樹脂を介して前記誘電体シートが形成されていることを特徴とする請求項に記載の電子部品の製造方法。 The method of manufacturing an electronic component according to claim 6 , wherein the dielectric sheet is formed on the resin film via a silicone resin or a fluororesin. 前記工程Dにおいて、前記粘着剤は、前記焼成によって熱分解されることを特徴とする請求項2乃至のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 In the said process D, the said adhesive is thermally decomposed by the said baking, The manufacturing method of the electronic component in any one of the Claims 2 thru | or 7 characterized by the above-mentioned. 前記粘着剤は、アクリル系、アクリルエマルジョン系又はブチラール系の材料を用いて成ることを特徴とする請求項に記載の電子部品の製造方法。 9. The method of manufacturing an electronic component according to claim 8 , wherein the pressure-sensitive adhesive is made of an acrylic, acrylic emulsion, or butyral material. 前記工程Cは、
前記導体パターン前記誘電体シートの付着部分とで構成される層の上に、層形成グリーンシートを形成する工程と、
前記導体パターン前記誘電体シートの付着部分とで構成される層の上に前記層形成グリーンシートを形成して成るものを、複数積層する工程と、
を含むことを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載の電子部品の製造方法。
Step C includes
Forming a layer-forming green sheet on the layer composed of the conductor pattern and the attached portion of the dielectric sheet;
A step of laminating a plurality of layers formed by forming the layer-forming green sheet on a layer composed of the conductive pattern and the attached portion of the dielectric sheet; and
Method of manufacturing an electronic component according to any one of claims 1 to 9, characterized in that it comprises a.
前記導体パターンが金属メッキ膜により形成されていることを特徴とする請求項1乃至10のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 Method of manufacturing an electronic component according to any of claims 1 to 10, characterized in that said conductor pattern is formed by a metal plating film. 前記金属メッキ膜は、銅、ニッケル、クローム又はこれらの合金からなることを特徴とする請求項11に記載の電子部品の製造方法。 The method of manufacturing an electronic component according to claim 11 , wherein the metal plating film is made of copper, nickel, chrome, or an alloy thereof. 前記工程Dの焼成温度は、金属メッキ膜を形成している金属の融点よりも低く、かつ前記金属の再結晶温度よりも高いことを特徴とする請求項11又は12に記載の電子部品の製造方法。 The manufacturing temperature of the electronic component according to claim 11 or 12 , wherein the firing temperature in the step D is lower than the melting point of the metal forming the metal plating film and higher than the recrystallization temperature of the metal. Method. 前記誘電体シートは、セラミックグリーンシートであることを特徴とする請求項1乃至13のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 The dielectric sheet, a method of manufacturing an electronic component according to any of claims 1 to 13, characterized in that a ceramic green sheet. 前記誘電体シートは、有機材料からなることを特徴とする請求項1乃至13のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 The dielectric sheet, a method of manufacturing an electronic component according to any of claims 1 to 13, characterized in that it consists of an organic material. 前記支持フィルムは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート又はポリプロピレンを用いて成ることを特徴とする請求項1乃至15のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 16. The method of manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein the support film is made of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, or polypropylene.
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