JP4079904B2 - Low dielectric materials for display panels containing organic-inorganic hybrid glassy materials - Google Patents

Low dielectric materials for display panels containing organic-inorganic hybrid glassy materials Download PDF

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Description

本発明は、有機無機ハイブリッドガラス状物質を含有するディスプレイパネル用低誘電体材料に関する。   The present invention relates to a low dielectric material for a display panel containing an organic-inorganic hybrid glassy substance.

近年の電子部品、特にディスプレイ用パネルの発達に伴い、これまで要求されなかった物性を有する材料の開発が望まれている。例えば、可視光線透過率が高く、低軟化温度特性を有し、さらには誘電率が低い材料である。このような材料が開発されれば、プラズマディスプレイ用パネル、液晶表示用パネル、エレクトロルミネッセンス用パネル、蛍光表示用パネル、エレクトロクロミック表示用パネル、発光ダイオード表示用パネル、ガス放電式表示用パネル等の表示パネルに応用できる可能性が高い。例えば、その中でも特に薄型かつ大型の平板型カラー表示装置として注目を集めているプラズマディスプレイ用パネルへの応用が期待されている。   With the recent development of electronic parts, particularly display panels, development of materials having physical properties that have not been required has been desired. For example, it is a material having a high visible light transmittance, a low softening temperature characteristic, and a low dielectric constant. Once such materials are developed, plasma display panels, liquid crystal display panels, electroluminescence panels, fluorescent display panels, electrochromic display panels, light emitting diode display panels, gas discharge display panels, etc. There is a high possibility that it can be applied to display panels. For example, it is expected to be applied to a plasma display panel, which is particularly attracting attention as a thin and large flat color display device.

プラズマディスプレイ用パネルは、表示面として使用される前面基板と背面基板の間に多くのセルを有し、そのセル中でプラズマ放電させることにより画像が形成される。このセルは、隔壁で区画形成されており、画像を形成する各画素での表示状態を制御するため、各画素単位に電極が形成されている。このプラズマディスプレイパネルの前面ガラス板には、プラズマを放電させるための電極が形成され、電極として細い線状の銀が多く使われている。その電極の周りには、透明度の高い絶縁材料が配されている。この絶縁材料については、プラズマ耐久性を有し、低誘電率のいわゆる低誘電体材料であることが好ましい。さらには、透明性を求められるため、絶縁材料としては低軟化温度特性を有する低誘電体ガラスが使われていることが多い。また、プラズマディスプレイ用パネル以外に使われるガラス基板についても、プラズマ耐久性に優れており、かつ透明で低誘電率であることが好ましいことは同様である。   The plasma display panel has many cells between a front substrate and a rear substrate used as a display surface, and an image is formed by performing plasma discharge in the cells. This cell is partitioned by partition walls, and an electrode is formed for each pixel unit in order to control the display state of each pixel forming an image. An electrode for discharging plasma is formed on the front glass plate of the plasma display panel, and thin linear silver is often used as the electrode. A highly transparent insulating material is disposed around the electrode. The insulating material is preferably a so-called low dielectric material having plasma durability and a low dielectric constant. Furthermore, since transparency is required, low dielectric glass having a low softening temperature characteristic is often used as an insulating material. Similarly, glass substrates used other than plasma display panels are preferably excellent in plasma durability, transparent and have a low dielectric constant.

一方、低軟化温度特性を有す低誘電体ガラスの製作方法としては、ゾルゲル法、液相反応法及び無水酸塩基反応法等が考えられている。ゾルゲル法は金属アルコキシドなどを加水分解−重縮合し、500℃を超える温度(例えば、非特許文献1参照)、通常は700〜1600℃で熱処理することにより、薄膜状の低誘電体ガラスを得ることができる。ゾルゲル法ではバルク体を得ることもできるとされているが、原料溶液の調製時に導入するアルコールなど有機物の分解・燃焼、又は有機物の分解ガス若しくは水の加熱過程における蒸発放出等のために多孔質となることが多く、低軟化温度特性を有す低誘電体ガラスをゾルゲル法で生産することはなされていない。   On the other hand, as a method for producing a low dielectric glass having a low softening temperature characteristic, a sol-gel method, a liquid phase reaction method, an acid anhydride base reaction method, and the like are considered. In the sol-gel method, metal alkoxide is hydrolyzed and polycondensed, and heat treatment is performed at a temperature exceeding 500 ° C. (see, for example, Non-Patent Document 1), usually 700 to 1600 ° C., thereby obtaining a thin-film low dielectric glass. be able to. The sol-gel method is said to be able to obtain a bulk material, but it is porous due to the decomposition and combustion of organic substances such as alcohol introduced during the preparation of the raw material solution, or evaporative emission during the heating process of decomposition gas or water of organic substances. Therefore, a low dielectric glass having a low softening temperature characteristic has not been produced by the sol-gel method.

液相反応法は収率が低いために生産性が低いという問題の他、反応系にフッ酸などを用いることや薄膜合成が限度とされていることなどから、現実的には低軟化温度特性を有すバルク状の低誘電体ガラスの生産方法としては不可能に近い状態にある。   The liquid phase reaction method has a low yield due to the low yield, as well as the use of hydrofluoric acid in the reaction system and the limited thin film synthesis. It is almost impossible to produce a bulk-like low dielectric glass having the above.

無水酸塩基反応法は、近年開発された手法であり、低軟化温度特性を有する有機無機ハイブリッドガラスの製作も可能(例えば、非特許文献2参照)であるが、まだ開発途上であり、製作できるガラスも限られており、現時点においては十分な可視光透過率を得ることができる特性を満足するものすら開発されていない。   The anhydride-base reaction method is a technique developed in recent years, and it is possible to produce an organic-inorganic hybrid glass having a low softening temperature characteristic (for example, see Non-Patent Document 2), but it is still under development and can be produced. Glass is also limited, and at the present time, it has not been developed even to satisfy the characteristics capable of obtaining sufficient visible light transmittance.

したがって、多くの低軟化温度特性を有するガラスの製造は、低温合成法ではなく、溶融法により行われてきた。このため、ガラス原料を溶融する都合上からそのガラス組成は制限され、実質的に生産できる低誘電体ガラスとなると、その種類は極めて限定されている。   Therefore, the production of glass having many low softening temperature characteristics has been carried out not by a low temperature synthesis method but by a melting method. For this reason, the glass composition is limited for the convenience of melting the glass raw material, and the type of the low dielectric glass that can be substantially produced is extremely limited.

このように、従来の方法では、近年の電子部品の要求に対応できる低誘電体ガラスは開発されていない。すなわち、高い可視光透過率、鉛を含有させないで500℃未満の軟化点(Logηが7.6となる温度)、及び10以下の誘電率を同時に満たす、さらには化学的耐久性やその他の要求物性を満足する材料はこれまでなく、その開発が強く望まれている。   As described above, in the conventional method, a low dielectric glass capable of meeting the recent demand for electronic components has not been developed. That is, high visible light transmittance, softening point of less than 500 ° C. without containing lead (temperature at which Log η becomes 7.6), and dielectric constant of 10 or less are satisfied at the same time. Furthermore, chemical durability and other requirements There has never been a material that satisfies the physical properties, and its development is strongly desired.

公知技術をみれば、低軟化温度特性を示す透明材料としては、例えば、積算ふるい下10%径が1.0μm以下50%径が0.3〜5.0μm、積算ふるい下90%径が10.0μm以下である粒度を有し、軟化点が480〜620℃で、重量%表示で、PbOが0〜80%、Bが0〜25%、SiOが10〜60%、MgOが0〜15%、CaOが0〜15%、ZnOが0〜25%、Alが0〜15%からなる低融点ガラスを用いた電極被覆用低融点ガラス粉末およびプラズマディスプレイ装置(例えば、特許文献1参照)が、またPbOとCuOの含有量を限定したプラズマディスプレイ用材料(例えば、特許文献2参照)が、またPbO、B、SiO、CaO、の他BaO+SrO+MgOの含有量を限定したプラズマディスプレイ用材料(例えば、特許文献3参照)が、さらにはBaO+CaO+Bi、ZnO、B、SiO、PbO、SnOの含有量を限定したプラズマディスプレイ用材料(例えば、特許文献4参照)が開示されている。 In view of the known technology, as the transparent material exhibiting low softening temperature characteristics, for example, the 10% diameter under the integrated sieve is 1.0 μm or less, the 50% diameter is 0.3 to 5.0 μm, and the 90% diameter under the integrated sieve is 10%. Having a particle size of 0.0 μm or less, a softening point of 480 to 620 ° C., expressed in weight%, PbO of 0 to 80%, B 2 O 3 of 0 to 25%, SiO 2 of 10 to 60%, MgO but 0-15%, CaO is from 0 to 15%, ZnO is 0~25%, Al 2 O 3 is covering electrodes for the low melting point glass powder and a plasma display device using a low melting glass consisting of 0-15% (e.g. In addition, PbO and CuO (see Patent Document 2) are also limited to PbO, B 2 O 3 , SiO 2 , CaO, and BaO + SrO + MgO. Limit amount The specified plasma display material (for example, refer to Patent Document 3) is a plasma display material in which the content of BaO + CaO + Bi 2 O 3 , ZnO, B 2 O 3 , SiO 2 , PbO, SnO 2 is limited (for example, Patent Document 4) is disclosed.

特開2000−119039号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2000-11903 特開2001−52621号公報JP 2001-52621 A 特開2001−80934号公報JP 2001-80934 A 特開2001−48577号公報JP 2001-48577 A 神谷寛一、作花済夫、田代憲子、窯業協会誌,618−618,84(1976).Kamiya, K., Sakuhana, K., Tashiro, K., Journal of Ceramic Industry Association, 618-618, 84 (1976). 高橋雅英、新居田治樹、横尾俊信,New Glass, 8-14,17(2002).Masahide Takahashi, Haruki Niida, Toshinobu Yokoo, New Glass, 8-14, 17 (2002).

従来からある低誘電体材料では、高い可視光透過率、鉛を含有させないで500℃未満の軟化温度、10以下の誘電率を同時に満足させることはできない。このため、上述の問題点を解決した誘電体材料の開発、さらには改善された誘電体材料を有するディスプレイ用基板あるいはディスプレイ用パネルの開発が待たれている。   Conventional low dielectric materials cannot satisfy high visible light transmittance, softening temperature of less than 500 ° C. without containing lead, and dielectric constant of 10 or less at the same time. Therefore, development of a dielectric material that solves the above-described problems, and further development of a display substrate or display panel having an improved dielectric material are awaited.

開示された文献の特開2000−119039号公報、特開2001−52621号公報、特開2001−80934号公報及び特開2001−48577号公報等の方法でも、上述を満足させる低誘電体材料を得ることはできない。   A low dielectric material satisfying the above can be obtained by the methods disclosed in Japanese Unexamined Patent Application Publication Nos. 2000-1119039, 2001-52621, 2001-80934, and 2001-48577. I can't get it.

本発明は、ディスプレイパネル用の低誘電体材料において、該材料が、出発原料が金属アルコキシドであり、その原料とする金属アルコキシドと水、酸触媒及びアルコールによる混合工程の後、加熱反応工程、溶融工程及び熟成工程を経て製造され、かつ溶融性を有する有機無機ハイブリッドガラス状物質を含有することを特徴とする、ディスプレイパネル用低誘電体材料である。   The present invention relates to a low dielectric material for a display panel, wherein the material is a metal alkoxide as a starting material, a mixing step using the metal alkoxide as a raw material, water, an acid catalyst and an alcohol, a heating reaction step, a melting step A low-dielectric material for a display panel, comprising an organic-inorganic hybrid glassy material produced through a process and an aging process and having meltability.

また、有機無機ハイブリッドガラス状物質の誘電率が2.5以上9以下であることを特徴とする上記のディスプレイパネル用低誘電体材料である。   In addition, in the above-mentioned low dielectric material for a display panel, the dielectric constant of the organic-inorganic hybrid glassy substance is 2.5 or more and 9 or less.

また、30μm厚での可視光透過率が90%以上であることを特徴とする上記のディスプレイパネル用低誘電体材料である。   Further, the low dielectric material for a display panel described above, wherein the visible light transmittance at a thickness of 30 μm is 90% or more.

また、上記のディスプレイパネル用低誘電体材料を用いたことを特徴とするディスプレイパネル用ガラス板である。 The display panel glass plate is characterized by using the above-mentioned low dielectric material for a display panel.

本発明によれば、可視光透過率が高く、鉛を含有させずに軟化温度が500℃未満で、誘電率が10以下であるようなディスプレイパネル用低誘電体材料を得ることができる。   According to the present invention, it is possible to obtain a low dielectric material for a display panel that has high visible light transmittance, does not contain lead, has a softening temperature of less than 500 ° C., and a dielectric constant of 10 or less.

本発明は、有機無機ハイブリッドガラス状物質を含有するディスプレイパネル用の低誘電体材料である。ディスプレイ用パネルの低誘電体材料としては多くの種類があり、多くのところで使われている。プラズマディスプレイ用パネルを一例として説明する。図1に示すように、プラズマディスプレイ用パネルは前面ガラス板1と背面ガラス板2の間に挟まれ、前面ガラス板1と背面ガラス板2は封止材3でシールされている。パネルの前部には前面ガラス板1、透明電極4、バス電極5、透明誘電体6及び保護膜7があり、背面部には背面ガラス板2、アドレス電極8、白色誘電体9、蛍光体10、隔壁11がある。紫外線12は蛍光体10の作用により可視光13となる。この中で、前面ガラス板1、背面ガラス板2、封止材3、透明誘電体6、保護膜7及び隔壁11にその使用が可能である。すなわち、基板としても、他の材料と混合して低誘電体材料としても、その使用が可能であるところに特徴がある。なお、基板として用いるためには、ディスプレイ用パネルにするための熱処理温度は600℃以下、より好ましくは500℃以下とする必要がある。   The present invention is a low dielectric material for a display panel containing an organic-inorganic hybrid glassy substance. There are many types of low dielectric materials for display panels, and they are used in many places. A plasma display panel will be described as an example. As shown in FIG. 1, the plasma display panel is sandwiched between a front glass plate 1 and a back glass plate 2, and the front glass plate 1 and the back glass plate 2 are sealed with a sealing material 3. There are a front glass plate 1, a transparent electrode 4, a bus electrode 5, a transparent dielectric 6 and a protective film 7 at the front of the panel, and a back glass plate 2, an address electrode 8, a white dielectric 9, and a phosphor on the back. 10 and a partition wall 11. The ultraviolet rays 12 become visible light 13 due to the action of the phosphor 10. Among these, the front glass plate 1, the rear glass plate 2, the sealing material 3, the transparent dielectric 6, the protective film 7, and the partition wall 11 can be used. That is, it is characterized in that it can be used as a substrate or a low dielectric material mixed with other materials. In order to use as a substrate, the heat treatment temperature for forming a display panel needs to be 600 ° C. or lower, more preferably 500 ° C. or lower.

なお、本発明は、ディスプレイパネル用の低誘電体材料において、該材料が、出発原料が金属アルコキシドであり、その原料とする金属アルコキシドと水、酸触媒及びアルコールによる混合工程の後、加熱反応工程、溶融工程及び熟成工程を経て製造され、かつ溶融性を有する有機無機ハイブリッドガラス状物質を含有することを特徴とする、ディスプレイパネル用低誘電体材料である。この有機無機ハイブリッドガラス状物質は、ゾルゲル法の原料の酸化物前駆体から得られる生成物が溶融性を有すること、さらには1〜3日間を要していたゲル化工程をなくすことができるという特徴を有している。   The present invention relates to a low dielectric material for a display panel, wherein the material is a metal alkoxide as a starting material, and a heating reaction step after a mixing step using the metal alkoxide as a raw material, water, an acid catalyst and an alcohol. A low dielectric material for a display panel, which is produced through a melting step and an aging step and contains an organic-inorganic hybrid glassy substance having a melting property. This organic-inorganic hybrid glassy material is that the product obtained from the oxide precursor as the raw material of the sol-gel method has a melting property, and further, it can eliminate the gelation step that required 1-3 days. It has characteristics.

原料とする金属アルコキシドは有機置換基で置換されたアルコキシシランであり、有機置換基としてフェニル基、メチル基、エチル基、プロピル基(n−、i−)、ブチル基(n−、i−、t−)、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、メルカプトメチル基、メルカプトプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、3-トリフルオロアセトキシプロピル基、ビニル基、ベンジル基、スチリル基等から、アルコキシル基としてメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基(n−、i−)等からなる金属アルコキシドから選ばれることが好ましい。これらは、有機無機ハイブリッドガラス状物質、特に室温以下の低軟化となる透明状物質を製造する上で極めて有用な原料である。なお、上記以外の金属アルコキシドでも良い。また、金属アセチルアセトナート、金属カルボン酸塩、金属硝酸塩、金属水酸化物、及び金属ハロゲン化物等、ゾルゲル法で使われているものであれば製造は可能であるが、フェニル基を含むことがさらに好ましい。   The metal alkoxide used as a raw material is an alkoxysilane substituted with an organic substituent. The organic substituent is a phenyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group (n-, i-), a butyl group (n-, i-, t-), pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, mercaptomethyl group, mercaptopropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 3-trifluoroacetoxypropyl group, vinyl It is preferably selected from a group, a benzyl group, a styryl group, and the like, and a metal alkoxide composed of a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group (n-, i-) or the like as an alkoxyl group. These are extremely useful raw materials for producing an organic-inorganic hybrid glassy material, particularly a transparent material having a low softness at room temperature or lower. Metal alkoxides other than those described above may be used. In addition, metal acetylacetonate, metal carboxylate, metal nitrate, metal hydroxide, metal halide, and the like can be produced as long as they are used in the sol-gel method, but may contain a phenyl group. Further preferred.

混合工程では、触媒を用いることが好ましい。これらの触媒については、従来のゾルゲル法で使われてきたアルカリ触媒及び酸触媒で問題はないが、アルカリ触媒としてはアンモニアが、酸触媒としては塩酸、酢酸がより好ましい。   In the mixing step, it is preferable to use a catalyst. With respect to these catalysts, there is no problem with the alkali catalyst and acid catalyst used in the conventional sol-gel method, but ammonia is more preferable as the alkali catalyst, and hydrochloric acid and acetic acid are more preferable as the acid catalyst.

アルコールとしては、メタノール、エタノール、1−プロパノ-ル、2−プロパノール、1−ブタノール、2−メチル−1−プロパノ-ル、2−ブタノール、1.1−ジメチル−1−エタノール等が代表的であるが、これらに限定される訳ではない。   Typical alcohols include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-methyl-1-propanol, 2-butanol, 1.1-dimethyl-1-ethanol and the like. However, it is not limited to these.

溶融工程に入る前、すなわち、出発原料の混合工程と加熱による溶融工程との間に、加熱反応工程を有することが好ましい。この加熱反応工程は40℃以上100℃以下の温度で行われることが好ましい。この温度域以外では、その構造中に有機官能基Rを持つ金属ユニット、例えば(RSiO(4−n)/2)(n=1、2、3から選択)で表されるケイ素ユニット、さらに、詳細には、フェニル基の金属ユニット(PhSiO(4−n)/2)、メチル基の金属ユニット(MeSiO(4−n)/2)、エチル基の金属ユニット(EtSiO(4−n)/2)、ブチル基の金属ユニット(BtSiO(4−n)/2)(n=1〜3)などを適切に含有させることができないため、ガラス溶融のできる有機無機ハイブリッドガラス状物質を得ることは極めて難しくなる。 It is preferable to have a heating reaction step before entering the melting step, that is, between the starting material mixing step and the melting step by heating. This heating reaction step is preferably performed at a temperature of 40 ° C. or higher and 100 ° C. or lower. Outside this temperature range, a metal unit having an organic functional group R in its structure, for example, a silicon unit represented by (R n SiO (4-n) / 2 ) (selected from n = 1, 2, 3), Further, in detail, a phenyl group metal unit (Ph n SiO (4-n) / 2 ), a methyl group metal unit (Me n SiO (4-n) / 2 ), an ethyl group metal unit (Et n SiO (4-n) / 2 ), butyl group metal units (Bt n SiO (4-n) / 2 ) (n = 1 to 3) and the like cannot be appropriately contained, so that the glass can be melted organic Obtaining an inorganic hybrid glassy material becomes extremely difficult.

なお、この有機官能基Rは、アルキル基やアリール基が代表的である。アルキル基としては、直鎖型でも分岐型でもさらには環状型でも良い。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基(n−、i−)、ブチル基(n−、i−、t−)、ペンチル基、ヘキシル基(炭素数:1〜20)などが挙げられ、特に好ましいのはメチル基とエチル基である。さらに、アリール基としては、フェニル基、ピリジル基、トリル基、キシリル基などがあり、特に好ましいのはフェニル基である。当然ながら、有機官能基は上述のアルキル基やアリール基に限定されるものではない。   The organic functional group R is typically an alkyl group or an aryl group. The alkyl group may be linear, branched or cyclic. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group (n-, i-), a butyl group (n-, i-, t-), a pentyl group, a hexyl group (carbon number: 1 to 20). Particularly preferred are methyl and ethyl groups. Furthermore, examples of the aryl group include a phenyl group, a pyridyl group, a tolyl group, and a xylyl group, and a phenyl group is particularly preferable. Of course, the organic functional group is not limited to the above-described alkyl group or aryl group.

加熱による溶融工程は40℃以上500℃以下の温度で処理されることが好ましい。40℃よりも低い温度では、実質上溶融できない。また、500℃を超えると、網目を形成する金属元素と結合する有機基が燃焼するために所望の有機無機ハイブリッドガラス状物質を得られないばかりか、破砕したり、気泡を生じて不透明になったりする。望ましくは、100℃以上300℃以下である。   The melting step by heating is preferably performed at a temperature of 40 ° C. or higher and 500 ° C. or lower. At temperatures lower than 40 ° C., it cannot be melted substantially. Further, when the temperature exceeds 500 ° C., the organic group bonded to the metal element forming the network burns, so that a desired organic-inorganic hybrid glassy material cannot be obtained, and it becomes opaque due to crushing or generation of bubbles. Or Desirably, it is 100 degreeC or more and 300 degrees C or less.

熟成工程では30℃以上400℃以下の温度で処理する。30℃よりも低い温度では、実質上熟成できない。400℃を超えると、熱分解することがあり、安定したガラス状物質を得ることは難しくなる。この熟成温度は、溶融下限温度よりも低い温度ではその効果が極めて小さくなる。一般的には、溶融下限温度〜(溶融下限温度+150℃)程度が望ましい。さらに、熟成に要する時間は5分以上必要である。熟成時間は、その処理量、処理温度及び反応活性な水酸基(−OH)の許容残留量により異なるが、一般的には5分未満では満足できるレベルに到達することは極めて難しい。また、長時間では生産性が下がってくるので、望ましくは10分以上1週間以内である。なお、熟成する場合において、40℃〜230℃の温度かつ1.5×10−5kPa以下の圧力下で行われる第1熟成と大気圧下70℃〜350℃で行われる第2熟成の2つの工程と分けることも有効である。 In the aging step, the treatment is performed at a temperature of 30 ° C. or higher and 400 ° C. or lower. At a temperature lower than 30 ° C., it cannot be aged substantially. When it exceeds 400 ° C., it may be thermally decomposed, and it becomes difficult to obtain a stable glassy substance. The effect of the aging temperature becomes extremely small at a temperature lower than the melting lower limit temperature. Generally, the lower limit of melting temperature to the lower limit of melting temperature (+ 150 ° C.) is desirable. Furthermore, the time required for aging is 5 minutes or more. The aging time varies depending on the processing amount, processing temperature, and allowable residual amount of reactive hydroxyl group (—OH), but generally it is extremely difficult to reach a satisfactory level in less than 5 minutes. Moreover, since productivity falls in a long time, it is 10 minutes or more and less than 1 week desirably. In addition, in the case of aging, 2 of the 1st ageing | curing | ripening performed at the temperature of 40 to 230 degreeC and the pressure of 1.5 * 10 < -5 > kPa or less and the 2nd ageing | curing | ripening performed at 70 to 350 degreeC under atmospheric pressure. It is also effective to divide into two steps.

溶融工程及び熟成工程を経ることにより、安定化した有機無機ハイブリッドガラス状物質を得ることができる。従来から行われてきたゾルゲル法では、前記の溶融工程がないため、当然ながらその後の熟成工程もない一方、ゲル体を経るという特徴も有する。このように、従来の有機無機ハイブリッドガラス状物質とは異なった性質を有している。   A stable organic-inorganic hybrid glassy material can be obtained through the melting step and the aging step. Since the conventional sol-gel method does not have the melting step, it naturally has no subsequent aging step, but also has a characteristic of passing through a gel body. Thus, it has different properties from the conventional organic-inorganic hybrid glassy material.

加熱反応工程の上限温度は沸点が100℃を越すアルコール、例えば118℃の1−ブタノールを用いる場合では100℃以下であるが、沸点が100℃以下のアルコールでは沸点も考慮する方が望ましい。例えば、エタノールを用いる場合は、その沸点の80℃以下とした方が良い結果となる傾向にある。これは、沸点を越えると、アルコールが急激に蒸発するので、アルコール量や状態変化から均一反応が達成されにくくなるためであると考えられる。   The upper limit temperature of the heating reaction step is 100 ° C. or lower when an alcohol having a boiling point exceeding 100 ° C., for example, 1-butanol having a boiling point of 118 ° C. is used, but it is desirable to consider the boiling point of alcohol having a boiling point of 100 ° C. or lower. For example, when ethanol is used, the boiling point tends to be better at 80 ° C. or lower. This is presumably because when the boiling point is exceeded, the alcohol rapidly evaporates, so that it is difficult to achieve a uniform reaction from the amount of alcohol and changes in state.

この熱処理に要する時間は、30分〜5時間程度であるので、ゲル化に1〜3日を要していた従来のゾルゲル法による処理時間とは大きく異なる。なお、この加熱反応工程後、すぐに溶融工程に入っても良いし、一度冷却してから溶融工程に入っても良い。   Since the time required for this heat treatment is about 30 minutes to 5 hours, it is greatly different from the treatment time by the conventional sol-gel method, which takes 1 to 3 days for gelation. In addition, after this heating reaction process, you may enter into a melting process immediately, and may enter into a melting process after cooling once.

なお、この有機無機ハイブリッドガラス状物質の軟化温度が80℃以上400℃以下であることが好ましい。80℃未満では得られる有機無機ハイブリッドガラス状物質の化学的安定性が低く、400℃を越すと溶融性を有しなくなる場合が多いためである。より好ましくは100℃以上380℃以下、さらに好ましくは100℃以上350℃以下である。ここで、有機無機ハイブリッドガラス状物質の軟化温度は、10℃/minで昇温したTMA測定から判断することができる。すなわち、上記条件で収縮量を測定し、収縮量の変化開始温度を軟化温度とする。この軟化温度は軟化点(Logηが7.6となる温度)とほぼ同等と考えて良い。   In addition, it is preferable that the softening temperature of this organic inorganic hybrid glassy substance is 80 degreeC or more and 400 degrees C or less. This is because the organic inorganic hybrid glassy material obtained has a low chemical stability at a temperature below 80 ° C., and often has no meltability at temperatures above 400 ° C. More preferably, it is 100 degreeC or more and 380 degrees C or less, More preferably, it is 100 degreeC or more and 350 degrees C or less. Here, the softening temperature of the organic-inorganic hybrid glassy substance can be determined from TMA measurement in which the temperature is increased at 10 ° C./min. That is, the shrinkage is measured under the above conditions, and the change start temperature of the shrinkage is defined as the softening temperature. This softening temperature may be considered to be substantially equal to the softening point (the temperature at which Log η becomes 7.6).

有機無機ハイブリッドガラス状物質の誘電率は2.5以上9以下であることが好ましい。有機無機ハイブリッドガラス状物質の誘電率が2.5未満であると、強度を保つことができなくなるため、ディスプレイ用パネルに用いることは困難となる。一方、有機無機ハイブリッドガラス状物質の誘電率が9を越えると誘電性を帯びるため種々の問題がでてくる。より好ましくは3以上8以下、さらに好ましくは4以上7以下である。ここで、誘電率とは10Hzにおける誘電率を指す。 The dielectric constant of the organic-inorganic hybrid glassy substance is preferably 2.5 or more and 9 or less. If the dielectric constant of the organic-inorganic hybrid glassy material is less than 2.5, the strength cannot be maintained, so that it is difficult to use it for a display panel. On the other hand, when the dielectric constant of the organic-inorganic hybrid glassy material exceeds 9, various problems arise because it is dielectric. More preferably, it is 3-8, More preferably, it is 4-7. Here, the dielectric constant refers to the dielectric constant at 10 6 Hz.

また、有機無機ハイブリッドガラス状物質の30μm厚での可視光透過率が90%以上であることが好ましい。有機無機ハイブリッドガラス状物質の30μm厚での可視光透過率が90%未満であると、ディスプレイ用パネルにした場合の可視光線透過率が悪く、結果として大きな光源となり、従来よりも多大なエネルギーを必要とすることになるからである。   Moreover, it is preferable that the visible light transmittance | permeability in 30 micrometers thickness of an organic inorganic hybrid glassy substance is 90% or more. When the visible light transmittance at 30 μm thickness of the organic-inorganic hybrid glassy material is less than 90%, the visible light transmittance in the case of a display panel is poor, resulting in a large light source, which consumes much energy than before. It will be necessary.

さらに、上記のディスプレイパネル用低誘電体材料を用いたことを特徴とするディスプレイパネル用ガラス板であることが好ましく、このようなディスプレイ用ガラス板を用いることにより、省エネルギータイプのディスプレイ用前面板を得ることができる。
以下、実施例に基づき、述べる。
Furthermore, a display panel glass plate characterized by using the above-mentioned low dielectric material for display panels is preferable. By using such a display glass plate, an energy saving display front plate can be obtained. Obtainable.
Hereinafter, description will be made based on examples.

出発原料として金属アルコキシドのフェニルトリエトキシシラン(PhSi(OEt)3)約10mlとジエトキシジフェニルシラン(Ph2Si(OEt)2)約2mlの混合系を用い、そのモル比は8:2とした。容器中でフェニルトリエトキシシランとジエトキシジフェニルシランに約45mlの水(フェニルトリエトキシシランに対するモル比は50)、約30mlのエタノール(フェニルトリエトキシシランに対するモル比は10)、触媒である酢酸を約0.5ml(フェニルトリエトキシシランに対するモル比は0.01)加え、加熱反応工程として60℃で3時間撹拌後、150℃に上げ1時間溶融した。溶融後に200℃で5時間熟成した後、室温まで冷却し、厚さ約3mmの透明状物質を得た。 As a starting material, a mixed system of metal alkoxide phenyltriethoxysilane (PhSi (OEt) 3 ) of about 10 ml and diethoxydiphenylsilane (Ph 2 Si (OEt) 2 ) of about 2 ml was used, and the molar ratio was 8: 2. . In a container, about 45 ml of water (molar ratio to phenyltriethoxysilane is 50), about 30 ml of ethanol (molar ratio to phenyltriethoxysilane is 10), and acetic acid as a catalyst to phenyltriethoxysilane and diethoxydiphenylsilane. About 0.5 ml (molar ratio to phenyltriethoxysilane was 0.01) was added, and after heating at 60 ° C. for 3 hours as a heating reaction step, the temperature was raised to 150 ° C. and melted for 1 hour. After melting and aging at 200 ° C. for 5 hours, the mixture was cooled to room temperature to obtain a transparent material having a thickness of about 3 mm.

10℃/minで昇温したTMA測定での収縮量変化から軟化挙動開始点を求め、その開始温度を軟化温度としたところ、この物質の軟化温度は108℃であった。この物質のTMA曲線を図2に示す。また、JEOL社の磁気共鳴測定装置CMX−400型でケイ素ユニットRnSiO(4-n)/2(R:有機官能基、n:1〜3)が存在していることを確認した。不規則網目構造を有していたことも考慮すると、今回得た透明状物質は有機無機ハイブリッドガラス構造をとる物質、すなわち有機無機ハイブリッドガラス状物質である。 The starting point of the softening behavior was determined from the change in shrinkage in the TMA measurement with the temperature raised at 10 ° C./min. The starting temperature was taken as the softening temperature, and the softening temperature of this substance was 108 ° C. The TMA curve for this material is shown in FIG. Further, it was confirmed that silicon unit R n SiO (4-n) / 2 (R: organic functional group, n: 1 to 3) was present in a magnetic resonance measuring apparatus CMX-400 type manufactured by JEOL. In consideration of having an irregular network structure, the transparent material obtained this time is a material having an organic-inorganic hybrid glass structure, that is, an organic-inorganic hybrid glassy material.

この有機無機ハイブリッドガラス状物質の誘電率を測定したところ、4.5であった。この測定は東陽テクニカ社製の誘電率測定装置SI1255型を用い、20℃で10Hzの結果である。また、このガラス板を日立製作所製の分光光度計U−4000型を用いて、波長300〜800nmの可視光線透過率を測定したところ、波長550nmでの可視光透過率は約86%であったので、30μm厚での可視光線透過率は97%と推定した。 The dielectric constant of this organic-inorganic hybrid glassy material was measured and found to be 4.5. This measurement is a result of 10 6 Hz at 20 ° C. using a dielectric constant measuring device SI1255 type manufactured by Toyo Technica. Moreover, when the visible light transmittance of wavelength 300-800 nm was measured for this glass plate using the spectrophotometer U-4000 type made from Hitachi, the visible light transmittance in wavelength 550nm was about 86%. Therefore, the visible light transmittance at a thickness of 30 μm was estimated to be 97%.

次に、前面板ガラスとして市販されている70mmx70mmで2.9mm厚のソーダ石灰ガラス板を準備した。そのソーダ石灰ガラス板に、電極として銀を63μmの幅、約4μmの深さでプリントした。さらに、その周りを前述の有機無機ハイブリッドガラス状物質でシールし、熱処理して透明の低誘電体層を得た。すなわち、有機無機ハイブリッドガラス状物質をアセトン等の有機溶媒と混合し、室温でペースト状とした後にアプリケーターを用いて塗布し、約100℃の温度で乾燥させ、焼成炉内を1.3×10−5kPaの真空度に保ちながら、180℃で30分間熱処理した。さらに、大気圧下250℃で1時間の焼成を行うことにより、透明の低誘電体層を得た。さらに、MgOの保護膜も付与し、プラズマディスプレイ用前面板と同じ構成のガラス板を得た。このガラス板を分光光度計で測定したところ、このガラス板の波長550nmでの可視光透過率は約85%であった。なお、塗布後の有機無機ハイブリッドガラス状物質の厚さは約30μmであった。このようにして得られたガラス板をプラズマディスプレイと同様の仕様にして検討したところ、従来タイプのものよりも電力料で約10%の削減が図れる結果となった。 Next, a soda-lime glass plate having a thickness of 2.9 mm and a thickness of 70 mm × 70 mm, which is commercially available as a front plate glass, was prepared. On the soda-lime glass plate, silver was printed as an electrode with a width of 63 μm and a depth of about 4 μm. Further, the periphery thereof was sealed with the above-mentioned organic-inorganic hybrid glassy substance, and heat-treated to obtain a transparent low dielectric layer. That is, an organic-inorganic hybrid glassy substance is mixed with an organic solvent such as acetone to form a paste at room temperature, and then applied using an applicator and dried at a temperature of about 100 ° C. While maintaining a vacuum of −5 kPa, heat treatment was performed at 180 ° C. for 30 minutes. Furthermore, the transparent low dielectric material layer was obtained by baking for 1 hour at 250 degreeC under atmospheric pressure. Furthermore, the protective film of MgO was also provided, and the glass plate of the same structure as the front plate for plasma displays was obtained. When this glass plate was measured with a spectrophotometer, the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of this glass plate was about 85%. Note that the thickness of the organic-inorganic hybrid glassy material after coating was about 30 μm. The glass plate thus obtained was examined with the same specifications as the plasma display. As a result, the electric power charge was reduced by about 10% compared to the conventional type.

(実施例2)
実施例1で得られたものと同様の有機無機ハイブリッドガラス状物質を70mmx70mmで3.0mm厚のガラス板とした。次に、電極として銀を63μmの幅、約4μmの深さでプリントし、その周りを新しく作製した有機無機ハイブリッドガラス状物質でシールし、熱処理して透明の低誘電体層を得た。すなわち、新しく作製した有機無機ハイブリッドガラス状物質の溶融性を利用し、約150℃の温度で溶融した後に180℃で30分間熱処理した。さらに250℃まで昇温し、大気圧中で1時間焼成することにより、透明の誘電体層を得た。さらに、MgOの保護膜も付与し、プラズマディスプレイ用前面板と同じ構成のガラス板を得た。このガラス板を分光光度計で測定したところ、このガラス板の波長550nmでの可視光透過率は約87%であった。なお、塗布後の有機無機ハイブリッドガラス状物質の厚さは約30μmであった。このようにして得られたガラス板をプラズマディスプレイと同様の仕様にして検討したところ、従来タイプのものよりも電力料で約12%の削減が図れる結果となった。
(Example 2)
An organic-inorganic hybrid glassy material similar to that obtained in Example 1 was used as a glass plate of 70 mm × 70 mm and a thickness of 3.0 mm. Next, silver was printed as an electrode with a width of 63 μm and a depth of about 4 μm, and the periphery thereof was sealed with a newly produced organic-inorganic hybrid glassy material, followed by heat treatment to obtain a transparent low dielectric layer. That is, using the meltability of the newly produced organic-inorganic hybrid glassy material, it was melted at a temperature of about 150 ° C. and then heat-treated at 180 ° C. for 30 minutes. Furthermore, it heated up to 250 degreeC and baked at atmospheric pressure for 1 hour, and the transparent dielectric material layer was obtained. Furthermore, the protective film of MgO was also provided, and the glass plate of the same structure as the front plate for plasma displays was obtained. When this glass plate was measured with a spectrophotometer, the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of this glass plate was about 87%. Note that the thickness of the organic-inorganic hybrid glassy material after coating was about 30 μm. The glass plate thus obtained was examined with the same specifications as the plasma display, and as a result, it was possible to achieve a reduction of about 12% in power charges compared to the conventional type.

(比較例1)
源としてほう酸を、ZnO源として亜鉛華を、BaO源として硝酸バリウムを、PbO源として鉛丹を使用し、これらを所望のガラス組成となるべく調合したうえで、白金ルツボに投入し、電気加熱炉内で1100〜1400℃、1〜2時間で加熱熔融して、Bが約45%、ZnOが約30%、BaOが約1%、PbOが約24%のガラスを得た。このガラスを実施例と同様にして、ソーダ石灰ガラス板の上に塗布し、プラズマディスプレイ用前面板と同じ構成のガラス板を得た。このガラス板を分光光度計で測定したところ、このガラス板の可視光透過率は約68%であった。なお、塗布後のこの低融点ガラスの厚さは約30μmであり、このガラスの可視光線透過率は約75%であった。
(Comparative Example 1)
Use boric acid as the B 2 O 3 source, zinc white as the ZnO source, barium nitrate as the BaO source, and red lead as the PbO source. In an electric heating furnace, it is heated and melted at 1100 to 1400 ° C. for 1 to 2 hours to obtain a glass having about 45% B 2 O 3 , about 30% ZnO, about 1% BaO and about 24% PbO. Obtained. This glass was applied onto a soda-lime glass plate in the same manner as in the example to obtain a glass plate having the same structure as the front plate for plasma display. When this glass plate was measured with a spectrophotometer, the visible light transmittance of this glass plate was about 68%. The thickness of the low-melting glass after coating was about 30 μm, and the visible light transmittance of this glass was about 75%.

PDPを始めとするディスプレイ部品の封着・被覆用材料、光スイッチや光結合器を始めとする光情報通信デバイス材料、LEDチップを始めとする光学機器材料、光機能性(非線形)光学材料、接着材料等、低融点ガラスが使われている分野、エポキシ等の有機材料が使われている分野に利用可能である。   Materials for sealing and covering display components such as PDP, optical information communication device materials such as optical switches and optical couplers, optical equipment materials such as LED chips, optical functional (non-linear) optical materials, It can be used in fields where low-melting glass is used, such as adhesive materials, and fields where organic materials such as epoxy are used.

本発明の利用例を説明するために示すプラズマディスプレイ用パネルの概略図である。It is the schematic of the panel for plasma displays shown in order to demonstrate the example of utilization of this invention. 実施例1で示したTMA曲線。The TMA curve shown in Example 1. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 前面ガラス板
2 背面ガラス板
3 封止材
4 透明電極
5 バス電極
6 透明誘電体
7 保護膜
8 アドレス電極
9 白色誘電体
10 蛍光体
11 隔壁
12 紫外線
13 可視光
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Front glass plate 2 Back glass plate 3 Sealing material 4 Transparent electrode 5 Bus electrode 6 Transparent dielectric 7 Protective film 8 Address electrode 9 White dielectric 10 Phosphor 11 Bulkhead 12 Ultraviolet 13 Visible light

Claims (4)

ディスプレイパネル用の低誘電体材料において、該材料が、出発原料が金属アルコキシドであり、その原料とする金属アルコキシドと水、酸触媒及びアルコールによる混合工程の後、加熱反応工程、溶融工程及び熟成工程を経て製造され、かつ溶融性を有する有機無機ハイブリッドガラス状物質を含有することを特徴とする、ディスプレイパネル用低誘電体材料。   In a low dielectric material for a display panel, the material is a metal alkoxide as a starting material, and after the mixing step with the metal alkoxide as a raw material and water, an acid catalyst and an alcohol, a heating reaction step, a melting step and an aging step A low dielectric material for a display panel, comprising an organic-inorganic hybrid glassy material produced through the process and having a melting property. 有機無機ハイブリッドガラス状物質の誘電率が2.5以上9以下であることを特徴とする請求項1に記載のディスプレイパネル用低誘電体材料。   2. The low dielectric material for a display panel according to claim 1, wherein the organic-inorganic hybrid glassy substance has a dielectric constant of 2.5 or more and 9 or less. 30μm厚での可視光透過率が90%以上であることを特徴とする請求項1または2に記載のディスプレイパネル用低誘電体材料。   The low dielectric material for display panels according to claim 1 or 2, wherein the visible light transmittance at a thickness of 30 µm is 90% or more. 請求項1乃至3のいずれか1項に記載のディスプレイパネル用低誘電体材料を用いたことを特徴とするディスプレイパネル用ガラス板。   A glass plate for a display panel, wherein the low dielectric material for a display panel according to any one of claims 1 to 3 is used.
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