JP4076491B2 - レジオネラ属菌あるいは病原性アメーバの消毒・洗浄機構を有する浴槽ろ過循環給湯装置および浴槽ろ過循環給湯装置内に発生するレジオネラ属菌の自動消毒・洗浄方法 - Google Patents

Description

本発明は、浴槽温湯を循環させ、ろ過材を用いて浄化する浴槽温湯のろ過循環装置およびその方法に関し、特に浴槽ろ過循環給湯装置内に発生するレジオネラ属菌あるいは病原性アメーバの自動消毒・洗浄する装置およびその運転方法に関する。

従来の業務用の浴槽のろ過循環給湯装置は、病院、特別養護老人施設、旅館やホテルなどの大浴場や露天風呂や温水プールなどに使用されるものである。これらのろ過循環給湯装置は、タイマー設定により浴槽に供給する温湯を適温に制御している。さらに、ろ過循環給湯装置は、浴槽の温湯をろ過装置に通して清浄化することで、いつでも心地よく入浴できる状態としている。

このような浴槽のろ過循環給湯装置では、温湯を毎日新しい湯と入れ替えて清浄化する必要はなく、１週間に１回ないし２回程度の頻度で新しい温湯に入れ替え、あとは循環して清浄化すればよく、そこで水道代や加熱燃料代や人件費が節約できる利点を有する。

このような浴槽における温湯のろ過循環給湯装置は、図４に示すように、浴槽１の温湯を浴槽底部より排出して排湯管路３を通じてろ過ポンプ５の吸入側で吸い出すことにより、合成樹脂製バケットを内蔵しているヘアーキャッチャー４に通し、ヘアーキャッチャー４ににより毛髪や異物を除去している。ヘアーキャッチャー４で毛髪や異物を除去した温湯は、さらにろ過ポンプ５によりろ過フィルターを内蔵するろ過装置６に送られ、ろ過装置６に内蔵のフィルターによりろ過されて清浄化される。次いで浄化された温湯は熱交換器７に通され適温に加熱される。例えば、温湯が４０℃より低い場合は、熱源からの湯を熱供給管２５から熱交換器７へ供給して熱交換器７側へ流入するように熱源側の三方弁２４をＡパターンにして温湯が設定温度の４０℃に近づくように調整して浴槽１に供給される。

出願人は、先に、異なる大きさあるいは異なるレベル高さに設置した複数の浴槽において、浴槽に循環する浴槽温湯の循環管路を共通化し、一つの浴槽温湯循環ろ過加熱装置を配備し、さらに各浴槽の湯温を任意の適温および適湯面に制御することにより、設備スペースを縮小すると共に設備コストおよび運転コストを削減可能な装置を開発している（例えば、特許文献１参照）。

ところで、上記のような公衆浴場や老人ホームあるいはホテルや旅館などの循環式浴槽では、レジオネラ属菌若しくは病原性アメーバが繁殖する場合がある。これらのレジオネラ属菌若しくは病原性アメーバを含んだ水からなるの直径５μｍ以下のエアロゾルを吸入すると、気道感染症であるレジオネラ症やアメーバ性脳炎が起こる恐れがある。ところでこれらのレジオネラ属菌や病原性アメーバは環境細菌であり、土壌や河川や湖沼などの自然環境に生息している。

一方、ビル冷却塔の冷却水や循環式浴槽の温湯など２０℃以上の人工的な環境における水や温湯では、アメーバ、繊毛中など細菌を餌とする原生動物が生息している。ところでこれら原生動物の細胞中にレジオネラ属菌や病原性アメーバは取り込まれても死滅することなく細胞内で増殖する。

ところで、これらのレジオネラ属菌や病原性アメーバに汚染された温湯を循環供給する浴槽やシャワーにおけるこれらの温湯や、ホテルのロビーにおける噴水からのエアロゾルを誤って鼻や口から吸い込んだ場合や、浴槽内で溺れて汚染温湯を呼吸器に吸い込んだ場合などに、レジオネラ症や病原性アメーバに感染することとなる。これらのレジオネラ症や病原性アメーバに感染すると、基本的には肺炎やアメーバ性脳炎を発生する。

このようなレジオネラ症の感染を防止するために、厚生労働省から浴槽温湯の温湯質基準および管理要領が示されている（例えば、非特許文献１参照。）。ところで上記したような循環式浴槽とは、温泉の温湯の使用量や銭湯の温湯の使用量を少なくする目的で、浴槽の温湯をろ過装置を通して循環させることにより、浴槽内の温湯を清浄に保ちながら一定温度の湯温に保持して循環供給する構造の浴槽である。その一つである連日使用型の循環浴槽は、浴槽の温湯を２４時間以上にわたり完全に湯を交換することなく供給しつづけるタイプのろ過循環式の浴槽、いわゆる２４時間風呂である。

この２４時間風呂は、浴槽の他に、排湯管路、ヘアーキャッチャー、循環ポンプ、塩素剤自動注入装置、ろ過装置、熱交換器あるいは給湯管路などの循環機器からなっており、これらの循環機器により浴槽内の温湯を浄化し、消毒し、かつ、適温に保っている。つまり浴槽の温湯は、髪の毛などの混入物をヘアーキャッチャーで除去され、さらに例えば塩素系薬剤を用いてろ過装置内が消毒されている。

上記のような塩素消毒は、高濃度の有効塩素を浴槽からの温湯に含有させて配管中に循環させることにより殺菌する方法である。この場合、温湯中の残留塩素濃度は、循環系内の配管などの材質の腐食を考慮して、１０〜５０ｐｐｍ程度としている。この状態で浴槽温湯を数時間循環させている。このように循環させることでバイオフィルムが存在している配管などの循環系に塩素を入れると、塩素は微生物の細胞膜を破壊してタンパクや多糖類を溶出させるので、浴槽温湯が濁ったり発泡したりすることがある。ただし、普段から塩素系薬剤を連続注入することにより浴槽の温湯中の遊離残留塩素濃度を０．２〜０．４ｐｐｍとなるように添加することで微生物の繁殖を防いでいれば、高濃度の塩素処理を行ったとしても発泡は起きることがない。

米国やオーストラリアでは、浴槽温湯中に残留塩素を常時保つことがレジオネラ属菌を含む微生物の繁殖を防ぐキーポイントであるとされており、具体的には使用時に残留塩素濃度を４〜５ｐｐｍに保つこと、営業終了時に毎日１０ｐｐｍの塩素で１〜４時間処理することが推奨されている。この方法は病原性アメーバにも有効である。

特開２００２−２２４５１１号公報 「循環式浴槽におけるレジオネラ症防止対策マニュアルについて」厚生労働省健康局生活衛生課長著、健衛発９５号、平成１３年９月１１日

本発明が解決しようとする課題は、浴槽に温湯を循環する浴槽ろ過循環給湯装置において、浴槽ろ過循環給湯装置内に発生するレジオネラ属菌あるいは病原性アメーバを自動で的確に消毒および洗浄する装置およびその方法を提供することである。

課題を解決するための本発明の手段は、請求項１の発明では、浴槽１に給湯する給湯管路２と浴槽１から排湯する排湯管路３を浴槽１に配備し、浴槽１からの排湯管路３にヘアーキャッチャー４、ろ過ポンプ５、ろ過装置６および熱交換器７を順次接続し、熱交換器７からの管路を浴槽１への給湯管路２とする浴槽ろ過循環給湯装置において、排湯管路３を主管路１０と分岐管路１１に分岐し、主管路１０に三方弁１２の第３弁口を接続し、三方弁１２の第２弁口をさらに三方弁１３の第１弁口に接続し、三方弁１３の第２弁口をヘアーキャッチャー４の入口に接続し、ヘアーキャッチャー４の出口からの管路をさらに主管路１４と分岐管路１５に分岐し、主管路１４を三方弁１６の第１弁口に接続し、三方弁１６の第２弁口をさらにろ過ポンプ５の入口に接続し、ろ過ポンプ５の出口を三方弁１７の第２弁口に接続し、三方弁１７の第３弁口をさらに管路を経て五方弁１８の第１弁口に接続し、塩素剤自動注入装置８からの薬剤注入管路１９を五方弁１８の第１弁口ａに接続し、第２弁口ｂをろ過装置６の上部開口６ａに接続すると共にろ過装置６の下部開口６ｂをさらに五方弁１８の第４弁口に接続し、さらに五方弁１８の第３弁口を熱交換器７の入口に接続し、熱交換器７の出口を給湯配管２に接続すると共に、分岐管路１１をバルブ２０を経て三方弁１６の第３弁口に接続し、さらに三方弁１７の第１弁口を分岐管路１５に接続し、三方弁１３の第３弁口を温湯排水会所管路２７に接続し、さらに五方弁１８の第５弁口ｅを三方弁２２の第２弁口に接続し、三方弁２２の第３弁口をバルブ２１を経て三方弁１２の第１弁口に接続してハイクロル洗浄管路２３とし、他方の三方弁２２の第１弁口を温湯排水会所管路２８に接続し、熱源からの熱供給管路２５を三方弁２４の第２弁口に接続し、三方弁２４の第１弁口から熱交換器７に連通し、熱交換器７で熱交換後の冷却温湯を熱源に戻す排管２６を付設したことを特徴とするレジオネラ属菌あるいは病原性アメーバの消毒・洗浄機構を有する浴槽ろ過循環給湯装置である。なお、バルブ２０およびバルブ２１は通常は常に開いた状態となっている。

請求項２の発明では、請求項１の手段における浴槽ろ過循環給湯装置は、さらに三方弁１２、三方弁１３、三方弁１６、三方弁１７、三方弁２２、三方弁２４、五方弁１８のそれぞれの弁の開閉の切替え、ならびに塩素剤自動注入装置８を薬剤注入量のハイクロル洗浄時と平常運転時の切換えを自動制御する制御機構２９を設けていることを特徴とするレジオネラ属菌あるいは病原性アメーバの消毒・洗浄機構を有する浴槽ろ過循環給湯装置である。

請求項３の発明では、三方弁の第１弁口及び第２弁口間のみを連通するバルブ開口をＡパターンとし、第２弁口及び第３弁口間のみを連通するバルブ開口をＢパターンとするとき、第１段階として浴槽１から排出した排湯をＢパターンの三方弁１２及びＡパターンの三方弁１３を経てヘアーキャッチャー４に順方向に通して毛髪などを除去した後、さらにＡパターンの三方弁１６を経てろ過ポンプ５で送給してＢパターンの三方弁１７を経て五方弁１８によりろ過装置６に下部開口６ｂから上部開口６ａへ逆方向に通してろ過装置６を洗浄（以下、「逆洗」という。）した後、逆洗後の排湯を五方弁１８からＡパターンの三方弁２２から温湯排水会所管路２８に流す逆洗運転を５０〜７０秒間実施した後、第２段階として塩素剤自動注入装置８よりハイクロル洗浄液を加えて塩素濃度を１０〜５０ｐｐｍとなるようにして五方弁１８によりろ過装置６に下部開口６ｂから上部開口６ａへ逆方向に通してろ過装置６を消毒・洗浄した後、消毒・洗浄後のハイクロル洗浄液をＢパターンの三方弁２２から送給してＡパターンの三方弁１２を経てＡパターンの三方弁１３からヘアーキャッチャー４に順方向に通して消毒・洗浄し、さらにＡパターンの三方弁１６からろ過ポンプ５で送給してＢパターンの三方弁１７を経てろ過装置６に戻すハイクロル洗浄運転を３０分〜１時間の間に繰り返し循環して実施した後、第３段階として浴槽１から排出した排湯をＢパターンの三方弁１２及びＡパターンの三方弁１３を経てヘアーキャッチャー４に順方向に通して毛髪などを除去した後、Ａパターンの三方弁１６を経てろ過ポンプ５で送給してＢパターンの三方弁１７を経て五方弁１８によりろ過装置６に下部開口６ｂから上部開口６ａへ逆方向に通してろ過装置６を洗浄した後、洗浄後の排湯を五方弁１８からＡパターンの三方弁２２に通して温湯排水会所管路２８に流す洗浄運転を２分５０秒〜３分１０秒間実施することによりろ過装置６のろ過材を洗浄することを特徴とする請求項１に記載の浴槽ろ過循環給湯装置のレジオネラ属菌あるいは病原性アメーバの消毒・洗浄方法である。

請求項４の発明では、三方弁の第１弁口及び第２弁口間のみを連通するバルブ開口をＡパターンとし、第２弁口及び第３弁口間のみを連通するバルブ開口をＢパターンとするとき、第１段階として浴槽１から排出する温湯をバルブ２０を経て分岐管路１１からＢパターンの三方弁１６を経てろ過ポンプ５で送給してＡパターンの三方弁１７を経て分岐管路１５によりヘアーキャッチャー４の出口から入口に逆方向に通して逆洗してヘアーキャッチャーに捕捉された毛髪などを除去した後、Ｂパターンの三方弁１３経て温湯排水会所管路２７に流し去るヘアーキャッチャー自動洗浄運転を１０〜２０秒間実施した後、第２段階として浴槽１から排出した温湯をＢパターンの三方弁１２からＡパターンの三方弁１３を経てヘアーキャッチャー４の入口から出口に順方向に通し、Ａパターンの三方弁１６からろ過ポンプ５で送給してＢパターンの三方弁１７を経てろ過装置６に送給し、五方弁１８によりろ過装置６に上部開口６ａから下部開口６ｂへ順方向に通してろ過装置６でろ過した後、ろ過後の冷めた温湯を五方弁１８から熱交換器７に通して熱交換により再加熱して給湯管路２から浴槽１に温湯を供給する通常運転を継続開始することを特徴とする請求項１に記載の浴槽ろ過循環給湯装置のレジオネラ属菌あるいは病原性アメーバの消毒・洗浄方法である。

本発明は、浴槽に２４時間以上の長日時にわたって温湯を供給するろ過循環給湯装置内において、ヘアーキャッチャーあるいはろ過装置のろ材を最適の周期で定期的に塩素消毒剤により消毒および洗浄を自動で行える装置を設けたことにより、確実にレジオネラ属菌あるいは病原性アメーバをろ過循環給湯装置から死滅除去し、浴槽の湯を常に最適の温度に維持して消毒・洗浄された温湯を安定して浴槽に供給することができるなど、従来に比して優れた効果を奏する。

本発明の最良の実施の形態を図面を参照して説明する。先ず、請求項１に係る発明の浴槽ろ過循環給湯装置について説明する。

図１に示すように、浴槽ろ過循環給湯装置による温湯を循環して給湯する浴場は、浴槽１に給湯管路２から温湯を供給する一方で、温湯の供給箇所と異なる箇所の浴槽底から排湯管路３に温湯を排出し、再度、浄化して昇温して給湯管路２から温湯を浴槽１に供給する機構からなる。

すなわち、請求項１の形態では、図１に示すように、浴槽ろ過循環給湯装置は浴槽１に給湯する給湯管路２と浴槽１から排湯する排湯管路３を浴槽１に配備している。この浴槽１からの排湯管路３を先ず主管路１０と分岐管路１１に分岐する。この分岐した主管路１０にはヘアーキャッチャー４、ろ過ポンプ５、ろ過装置６および熱交換器７を順次接続し、熱交換器７からの管路を浴槽１へ温湯を戻すための給湯管路２としている。主管路１０を三方弁１２の第３弁口に接続し、三方弁１２の第２弁口からさらに三方弁１３の第１弁口に接続する。この三方弁１３の第２弁口をヘアーキャッチャー４の入口に接続する。ヘアーキャッチャー４の出口から出た管路は、さらに主管路１４と分岐管路１５に分岐される。この分岐後の主管路１４はさらに三方弁１６の第１弁口に接続され、この三方弁１６の第２弁口からさらに主管路としてろ過ポンプ５の入口に接続される。

ろ過ポンプ５の出口はさらに三方弁１７の第２弁口に接続され、三方弁１７の第３弁口からさらに主管路としてろ過装置６の五方弁１８の第１弁口ａに接続される。この五方弁１８の第２弁口ｂからろ過装置６のろ過材に供給され、ろ過材を出て第４弁口ｄから五方弁１８に接続され、五方弁１８内で第３弁口ｃから管路により熱交換器７に接続される。熱交換器７で熱交換して出た管路は給湯管路２となって浴槽１に循環されて浴槽ろ過循環給湯装置の循環主管路に形成されている。

さらに上記の浴槽ろ過循環給湯装置において、主管路１０と分岐した分岐管路１１は、バルブ２０を経て、上記のヘアーキャッチャー４の後方の三方弁１６の第３弁口に接続されている。三方弁１６では、その第２弁口からさらにろ過ポンプ５の入口に接続する管路とされ、ろ過ポンプ５の出口からさらに三方弁１７の第２弁口に接続され、三方弁１７の第１弁口から再び分岐管路１５となり、ヘアーキャッチャー４の出口に接続されている。さらにヘアーキャッチャー４内を逆流してヘアーキャッチャー４の入口から出され、三方弁１３の第２弁口から第３弁口に流され、三方弁１３の第３弁口からの管路は排水会所管路２７となり、ヘアーキャッチャー４の逆洗による洗浄管路を形成している。

さらに、別途配設の塩素剤自動注入装置８からの管路は薬剤注入管路１９として逆止弁１９ａを経て三方弁１７の第３弁口からろ過装置６の五方弁１８の第１弁口ａへの管路に接続されている。さらに五方弁１８の第１弁口ａから第４弁口ｄ２に入りろ過装置６のろ過材内を通ってろ過材をハイクロル洗浄し、第２弁口ｂから第５弁口ｅに通される。さらに五方弁１８の第５弁口ｅから出た管路は分岐管路として三方弁２２の第２弁口に接続され、三方弁２２の第１弁口は温湯排水会所管路２８にバルブを介して接続されている。一方、三方弁２２の第３弁口は透明塩ビ管路を経て、バルブ２１を介して三方弁１２の第１弁口に接続され、三方弁１２の第２弁口から三方弁１３の第１弁口に入って第２弁口からヘアーキャッチャー４の入口に接続されてヘアーキャッチャー４内を順方向に洗浄する。洗浄後の温湯はヘアーキャッチャー４の出口から三方弁１６の第１弁口から第２弁口を経てろ過ポンプ５の入口に接続する管路とされる。ろ過ポンプ５の出口を出た管路は三方弁１７の第２弁口から第３弁口を経てろ過装置６の五方弁１８の第１弁口ａに接続される。この第１弁口ａから第４弁口ｄに通され、ハイクロル洗浄の循環管路を形成してハイクロル洗浄管路２３とされている。

上記の塩素剤自動注入装置８は薬注ポンプを有し、塩素剤を２段パルス注入可能に形成されており、ハイクロル洗浄時には塩素剤として例えば次亜塩素酸ソーダーを塩素濃度５０ｐｐｍ、平常運転時には浴槽の塩素濃度が０．４ｐｐｍになるような量を自動注入する。

一方、熱交換器７では、熱源からの熱湯は熱湯供給管路２５で三方弁２４の第２弁口に送給され、第１弁口から熱交換器７内において浴槽の冷めた温湯を加熱するため熱交換され排管２６から熱源に戻される。

さらに、循環する温湯に供給力を付与するろ過ポンプ５はハイクロル洗浄時は一般操業時の２０〜５０％の低速送給可能に形成されている。

この浴槽ろ過循環給湯装置に使用される各三方弁は、図２に示すように、バルブの切換えにより、第１弁口と第２弁口間を連通する場合はＡパターンとなり、第２弁口と第３弁口間を連通する場合はＢパターンとなる。

請求項２の発明の実施の形態では、上記の請求項１の発明の実施の形態における浴槽ろ過循環給湯装置において、さらに上記の各三方弁１２、三方弁１３、三方弁１６、三方弁１７、三方弁２２、三方弁２４、五方弁１８のそれぞれの弁の開閉を上記した第１弁口と第２弁口を連通するＡパターンあるいは第２弁口と第３弁口を連通するＢパターンへの切替え、および塩素剤自動注入装置８を薬剤注入量のハイクロル洗浄時と平常運転時への切替えをそれぞれ適時時間毎に自動的に制御して実施する制御機構２９を図１に示すように設け、この制御機構２９によりレジオネラ属菌あるいは病原性アメーバを自動的に消毒および洗浄する機構とした浴槽ろ過循環給湯装置である。

請求項３の発明の実施の形態のハイクロル洗浄方法について説明する。ハイクロル洗浄方法では、図３に示すように、第１段階として浴槽１から排出された排湯を排湯管路３から主管路１０のＢパターンとしたの三方弁１２及びＡパターンとした三方弁１３（図３では省略）を経てヘアーキャッチャー４の入口から順方向に通して毛髪などを除去した出口から、さらに主管路１４のＡパターンとした三方弁１６（図３では省略）を経て入口からろ過ポンプ５内に送られ、ろ過ポンプ５で送給力を付加される。ろ過ポンプ５の出口からＢパターンとした三方弁１７（図３では省略）を経て五方弁１８に送給される。

先ず、第１段階として、五方弁１８の第１弁口ａより弁切換えして第４弁口ｄに送給し、第４弁口ｄからろ過装置６内のろ過材に逆方向に通した後に第２弁口ｂに入れ、それを第５弁口ｅから排出することで、ろ過装置６を下部開口６ｂから上部開口６ａへ逆向きに洗浄（以下、「逆洗」という。）した後、逆洗後の排湯を五方弁１８の第５弁口ｅからＡパターンとした三方弁２２により温湯排水会所管路２８に排水する。この逆洗による運転は５０〜７０秒間実施するものとする。

次いで、第２段階として、塩素剤自動注入装置８より塩素剤として例えば次亜塩素酸ソーダーにより塩素濃度を５０ｐｐｍになるように濃度調整したハイクロル洗浄液を五方弁１８の第１弁口ａに供給し、次いで、第４弁口ｄからろ過装置６内のろ過材に下部開口６ｂから上部開口６ａへ逆方向に通してろ過材を消毒・洗浄する。消毒・洗浄したハイクロル洗浄液は第２弁口ｂから再び五方弁１８に入れ、弁切換えして第５弁口ｅから排出してＢパターンとした三方弁２２からハイクロル洗浄管路２３に送給する。ハイクロル洗浄管路２３からは、Ａパターンとした三方弁１２を経てＡパターンとした三方弁１３（図３では省略）からヘアーキャッチャー４に入口から順方向に通してヘアーキャッチャー４内をさらに消毒・洗浄する。ヘアーキャッチャー４内を消毒・洗浄したハイクロル洗浄液は、さらにＡパターンとした三方弁１６（図３では省略）からろ過ポンプ５に送給してＢパターンとした三方弁１７（図３では省略）を経てろ過装置６に戻して循環するハイクロル洗浄運転を、例えば１時間にわたり繰り返し循環して実施する。この第２段階のハイクロル洗浄運転においてはろ過ポンプ５を正常運転時の約１５％の低速運転とする。

この後、第３段階として、浴槽１から排出した排湯を排湯管路３から主管路１０のＢパターンとした三方弁１２およびＡパターンとした三方弁１３（図３では省略）を経て、ヘアーキャッチャー４に順方向に通して毛髪などをヘアーキャッチャー４で除去した後、Ａパターンとした三方弁１６（図３では省略）からろ過ポンプ５で送給してＢパターンとした三方弁１７（図３では省略）を経て再び五方弁１８の第１弁口ａに送給して、弁切換えして第４弁口ｄからろ過装置６内のろ過材に下部開口６ｂから上部開口６ａへ逆方向に通してろ過装置６を洗浄する。さらに洗浄後の排湯を五方弁１８の第２弁口ｂに受け入れ弁切換えして第５弁口ｅからＡパターンとした三方弁２２に通して温湯排水会所管路２８に排出する洗浄運転を約３分間実施する。

以上の方法によりろ過装置６内のろ過材を洗浄して、ろ過装置６に内在するレジオネラ属菌あるいは病原性アメーバは自動的に消毒および洗浄される。

次いで、請求項４の発明の実施の形態のヘアーキャッチャーの洗浄方法について説明する。先ず、第１段階として浴槽１から排出する温湯をバルブ２０をへて分岐管路１１からＢパターンとした三方弁１６の第３弁口に供給し、第２弁口からろ過ポンプ５の入口に送り、ろ過ポンプ５の出口から送給してＡパターンとした三方弁１７の第２弁口に入れ第１弁口から分岐管路１５を経てヘアーキャッチャー４の出口に送給して入口に逆方向に通して逆洗によりヘアーキャッチャー４に捕捉された毛髪などを除去する。次いでヘアーキャッチャー４の入口から毛髪などを含む洗浄廃温湯をＢパターンとした三方弁１３の第２弁口に供給して第３弁口から温湯排水会所管路２７に排出して、ヘアーキャッチャー４を約２０秒間、自動洗浄運転する。

次いで第２段階として、浴槽１から排出した温湯を主管路１０に通してＢパターンとした三方弁１２（図４では省略）からＡパターンとした三方弁１３を経てヘアーキャッチャー４の入口に送給してヘアーキャッチャー４に順方向に通す。さらにヘアーキャッチャー４の出口からＡパターンとした三方弁１６に供給してろ過ポンプ５に送給し、さらにろ過ポンプ５からＢパターンとした三方弁１７を経てろ過装置６に送給する。五方弁１８の第１弁口ａから第２弁口ｂを経てろ過装置６内のろ過材に上部開口６ａから下部開口６ｂへ順方向に通してろ過して第４弁口ｄに再度注入し、五方弁１８の弁切換えにより第３弁口ｃからろ過後の冷えた温湯を熱交換器７に通して熱交換により再加熱して給湯管路２から浴槽１に温湯を供給する通常運転を継続開始する。

以上に説明したように、レジオネラ属菌あるいは病原性アメーバの自動消毒・洗浄を行った浴槽１は、通常の操業運転である浴槽ろ過循環給湯の運転が行われる。すなわち、先ず、第１段階としてろ過運転を行う。これは浴槽１から排湯管路３で排湯した温湯を主管路１０からＢパターンとした三方弁１２およびＡパターンとした三方弁１３からヘアーキャッチャー４に順方向に通して排湯から毛髪などを除去する。さらに主管路１４からＡパターンとした三方弁１６からろ過ポンプ５に送給し、さらにＡパターンとした三方弁１７からろ過装置６の五方弁１８の第１弁口ａに送給し、弁切換えで第２弁口ｂからろ過装置６内のろ過材中を上部開口６ａから下部開口６ｂへ順方向に送給する。このとき塩素剤自動注入装置８から塩素剤を浴槽濃度が０．４ｐｐｍになるように五方弁１８の第１弁口ａに送給して上記の温湯に混ぜ、第２弁口ｂからろ過材を順方向に送給して消毒する。消毒した液は第４弁口ｄから再び五方弁１８に通して弁切換えにより第３弁口ｃから出して熱交換器７に通してこれらを消毒および加熱し、給湯管路２から浴槽１に温湯として循環して供給する通常の浴槽の循環給湯運転とする。この場合、排湯管路３の排湯の温度を測温抵抗体９により測定し、もし温度が適温よりも低すぎる場合は、熱源から高温の湯を熱供給管路２５に流して浴槽１に供給する温湯を熱交換器７で適温に熱交換して加熱するものとする。この場合、図１に示す浴槽ろ過循環給湯装置において三方弁を省略して示した運転回路図を図２に示した。

本発明の浴槽循環ろ過循環給湯装置の管路配置を示す図である。 本発明装置の標準ろ過運転時のフローを簡略化して示す簡略図である。 本発明装置のハイクロル洗浄時のフローを簡略化して示す簡略図および三方弁の流路パターンを説明する図である。 本発明装置のヘアーキャッチャー洗浄時のフローを簡略化して示す簡略図および三方弁の流路パターンを説明する図である。

符号の説明

１ 浴槽
２ 給湯管路
３ 排湯管路
４ ヘアーキャッチャー
５ ろ過ポンプ
６ ろ過装置
６ａ 上部開口
６ｂ 下部開口
７ 熱交換器
８ 塩素剤自動注入装置
９ 測温抵抗体
１０ 主管路
１１ 分岐管路
１２ 三方弁
１３ 三方弁
１４ 主管路
１５ 分岐管路
１６ 三方弁
１７ 三方弁
１８ 五方弁
１９ 塩素剤流入管路
１９ａ 逆止弁
２０ バルブ
２１ バルブ
２２ 三方弁
２３ ハイクロル洗浄管路
２４ 三方弁
２５ 熱供給管路
２６ 排管
２７ 温湯排水会所管路
２８ 温湯排水会所管路
２９ 制御装置

Claims (4)

1. 浴槽１に給湯する給湯管路２と浴槽１から排湯する排湯管路３を浴槽１に配備し、浴槽１からの排湯管路３にヘアーキャッチャー４、ろ過ポンプ５、ろ過装置６および熱交換器７を順次接続し、熱交換器７からの管路を浴槽１への給湯管路２とする浴槽ろ過循環給湯装置において、排湯管路３を主管路１０と分岐管路１１に分岐し、主管路１０に三方弁１２の第３弁口を接続し、三方弁１２の第２弁口をさらに三方弁１３の第１弁口に接続し、三方弁１３の第２弁口をヘアーキャッチャー４の入口に接続し、ヘアーキャッチャー４の出口からの管路をさらに主管路１４と分岐管路１５に分岐し、主管路１４を三方弁１６の第１弁口に接続し、三方弁１６の第２弁口をさらにろ過ポンプ５の入口に接続し、ろ過ポンプ５の出口を三方弁１７の第２弁口に接続し、三方弁１７の第３弁口をさらに管路を経て五方弁１８の第１弁口に接続し、塩素剤自動注入装置８からの薬剤注入管路１９を五方弁１８の第１弁口ａに接続し、第２弁口ｂをろ過装置６の上部開口６ａに接続すると共にろ過装置６の下部開口６ｂをさらに五方弁１８の第４弁口に接続し、さらに五方弁１８の第３弁口を熱交換器７の入口に接続し、熱交換器７の出口を給湯配管２に接続すると共に、分岐管路１１をバルブ２０を経て三方弁１６の第３弁口に接続し、さらに三方弁１７の第１弁口を分岐管路１５に接続し、三方弁１３の第３弁口を温湯排水会所管路２７に接続し、さらに五方弁１８の第５弁口ｅを三方弁２２の第２弁口に接続し、三方弁２２の第３弁口をバルブ２１を経て三方弁１２の第１弁口に接続してハイクロル洗浄管路２３とし、他方の三方弁２２の第１弁口を温湯排水会所管路２８に接続し、熱源からの熱供給管路２５を三方弁２４の第２弁口に接続し、三方弁２４の第１弁口から熱交換器７に連通し、熱交換器７で熱交換後の冷却温湯を熱源に戻す排管２６を付設したことを特徴とするレジオネラ属菌あるいは病原性アメーバの消毒・洗浄機構を有する浴槽ろ過循環給湯装置。
2. 請求項１に記載の浴槽ろ過循環給湯装置は、さらに三方弁１２、三方弁１３、三方弁１６、三方弁１７、三方弁２２、三方弁２４、五方弁１８のそれぞれの弁の開閉の切替え、ならびに塩素剤自動注入装置８を薬剤注入量のハイクロル洗浄時と平常運転時の切替えを自動制御する制御機構２９を設けていることを特徴とするレジオネラ属菌あるいは病原性アメーバの消毒・洗浄機構を有する浴槽ろ過循環給湯装置。
3. 三方弁の第１弁口及び第２弁口間のみを連通するバルブ開口をＡパターンとし、第２弁口及び第３弁口間のみを連通するバルブ開口をＢパターンとするとき、第１段階として浴槽１から排出した排湯をＢパターンの三方弁１２及びＡパターンの三方弁１３を経てヘアーキャッチャー４に順方向に通して毛髪などを除去した後、さらにＡパターンの三方弁１６を経てろ過ポンプ５で送給してＢパターンの三方弁１７を経て五方弁１８によりろ過装置６に下部開口６ｂから上部開口６ａへ逆方向に通してろ過装置６を洗浄（以下、「逆洗」という。）した後、逆洗後の排湯を五方弁１８からＡパターンの三方弁２２から温湯排水会所管路２８に流す逆洗運転を５０〜７０秒間実施した後、第２段階として塩素剤自動注入装置８よりハイクロル洗浄液を加えて塩素濃度を１０〜５０ｐｐｍとなるようにして五方弁１８によりろ過装置６に下部開口６ｂから上部開口６ａへ逆方向に通してろ過装置６を消毒・洗浄した後、消毒・洗浄後のハイクロル洗浄液をＢパターンの三方弁２２から送給してＡパターンの三方弁１２を経てＡパターンの三方弁１３からヘアーキャッチャー４に順方向に通して消毒・洗浄し、さらにＡパターンの三方弁１６からろ過ポンプ５で送給してＢパターンの三方弁１７を経てろ過装置６に戻すハイクロル洗浄運転を３０分〜１時間の間に繰り返し循環して実施した後、第３段階として浴槽１から排出した排湯をＢパターンの三方弁１２及びＡパターンの三方弁１３を経てヘアーキャッチャー４に順方向に通して毛髪などを除去した後、Ａパターンの三方弁１６を経てろ過ポンプ５で送給してＢパターンの三方弁１７を経て五方弁１８によりろ過装置６に下部開口６ｂから上部開口６ａへ逆方向に通してろ過装置６を洗浄した後、洗浄後の排湯を五方弁１８からＡパターンの三方弁２２に通して温湯排水会所管路２８に流す洗浄運転を２分５０秒〜３分１０秒間実施することによりろ過装置６のろ過材を洗浄することを特徴とする請求項１に記載の浴槽ろ過循環給湯装置のレジオネラ属菌あるいは病原性アメーバの消毒・洗浄方法。
4. 三方弁の第１弁口及び第２弁口間のみを連通するバルブ開口をＡパターンとし、第２弁口及び第３弁口間のみを連通するバルブ開口をＢパターンとするとき、第１段階として浴槽１から排出する温湯をバルブ２０を経て分岐管路１１からＢパターンの三方弁１６を経てろ過ポンプ５で送給してＡパターンの三方弁１７を経て分岐管路１５によりヘアーキャッチャー４の出口から入口に逆方向に通して逆洗してヘアーキャッチャーに捕捉された毛髪などを除去した後、Ｂパターンの三方弁１３経て温湯排水会所管路２７に流し去るヘアーキャッチャー自動洗浄運転を１０〜２０秒間実施した後、第２段階として浴槽１から排出した温湯をＢパターンの三方弁１２からＡパターンの三方弁１３を経てヘアーキャッチャー４の入口から出口に順方向に通し、Ａパターンの三方弁１６からろ過ポンプ５で送給してＢパターンの三方弁１７を経てろ過装置６に送給し、五方弁１８によりろ過装置６に上部開口６ａから下部開口６ｂへ順方向に通してろ過装置６でろ過した後、ろ過後の冷めた温湯を五方弁１８から熱交換器７に通して熱交換により再加熱して給湯管路２から浴槽１に温湯を供給する通常運転を継続開始することを特徴とする請求項１に記載の浴槽ろ過循環給湯装置のレジオネラ属菌あるいは病原性アメーバの消毒・洗浄方法。

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