JP4069559B2 - Low melting glass for forming barrier ribs and plasma display panel - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル(PDP)、蛍光表示管(VFD)等における隔壁形成に好適な無鉛低融点ガラスおよびPDPに関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、大型の薄型平板型カラー表示装置としてPDPが注目を集めている。PDPのパネル構造の特徴のひとつに画素を区切る隔壁がある。隔壁の幅はたとえば80μm、その高さはたとえば150μmであり、この隔壁は画面全域に等間隔で形成される。隔壁用材料としては、固着材としての低融点ガラス粉末に、通常は、隔壁形状保持のための低膨張セラミックスフィラー、および/または、色調調整のための耐熱顔料等を混合したガラスセラミックス組成物が用いられている。前記ガラスセラミックス組成物は、通常は有機ビヒクルによってペースト化して用いられる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
PDPにおいては時間経過とともに輝度が低下することがあり、この問題の解決が求められている。また、VFDにおいても同様の問題が起っている。
本発明は、この輝度低下問題を解決するための隔壁形成用低融点ガラスの提供を目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明は、Cu、Mo、Sn、SbおよびCeからなる群から選ばれる1種以上を含有し、モル%表示で、CuのCuO換算含有量、MoのMoO3換算含有量、SnのSnO2換算含有量、SbのSb2O3換算含有量およびCeのCeO2換算含有量の合計が0.01〜5%の範囲にある隔壁形成用低融点ガラスを提供する。
また、前記隔壁形成用低融点ガラスであって、下記酸化物基準のモル%表示で、SiO2 0〜45%、B2O3 0〜79.99%、ZnO 20〜70%、MgO 0〜50%、CaO 0〜50%、SrO 0〜50%、BaO 0〜50%、Li2O 0〜30%、Na2O 0〜30%、K2O 0〜30%、Al2O3 0〜15%、ZrO2 0〜15%、Bi2O3 0〜20%、CuO 0〜5%、MoO3 0〜5%、SnO2 0〜5%、Sb2O3 0〜5%、CeO2 0〜5%、を含有し、SiO2+B2O3が25〜79.99モル%であり、MgO+CaO+SrO+BaOが0〜50モル%であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのうちの1種以上を含有してLi2O+Na2O+K2Oが30モル%以下であり、Al2O3+ZrO2が0〜15モル%である隔壁形成用低融点ガラス(B2O3を26質量%以上含有するものを除く)を提供する。
また、前記隔壁形成用低融点ガラスによって隔壁が形成されているPDPを提供する。
【0005】
本発明者は、PDPにおける輝度低下の原因の一つが、以下に述べる炭素含有不純物の隔壁への残留であると推定し、本発明に至った。
焼成して得られた隔壁は、遷移金属等の着色成分を含有しない場合でも、黒色に着色することが多い。この現象は、有機ビヒクル等に含まれる炭素含有不純物が前記隔壁に残留し、この残留炭素含有不純物が隔壁を黒色化している現象であると考えられる。
前記残留炭素含有不純物は、PDPにおいてプラズマが発生しているときに、電極被覆ガラス層に存在する水等と反応して炭酸ガスとして隔壁から放出され、これによりPDPの輝度が低下すると考えられる。
【0006】
VFDにおける輝度低下の原因も、前記残留炭素含有不純物が炭酸ガスとして隔壁から放出されることにあると考えられる。
【0007】
【発明の実施の形態】
本発明の隔壁形成用低融点ガラス(以下単に本発明のガラスという。)は、典型的にはケイ酸塩ガラス、さらに典型的には亜鉛ホウケイ酸塩ガラスであり、通常は粉末状にして使用される。
この粉末化されたガラスは通常、必要に応じて低膨張セラミックスフィラー、耐熱顔料、等と混合され、次に有機ビヒクルと混練してペースト化される。このガラスペーストは下地のガラスの所定部位に塗布され、たとえば500〜620℃で焼成される。ここでいう下地のガラスはガラス基板等であるが、ガラス基板の上に透明電導膜、不透明電導膜等が被覆されているものも含む。また、前記有機ビヒクルは、エチルセルロース等のバインダをα−テルピネオール等の有機溶剤に溶解したものである。
【0008】
本発明のガラスの軟化点は450〜650℃であることが好ましい。450℃未満では、焼成時にガラスが流動しすぎ、所望の隔壁形状が得られなくなるおそれがある。より好ましくは500℃以上である。650℃超では、焼成時のガラスの流動性が低下し、緻密な隔壁が得られなくなるおそれがある。より好ましくは620℃以下、特に好ましくは600℃以下である。
【0009】
前記ガラス基板としては、通常、50〜350℃における平均線膨張係数が80×10-7〜90×10-7/℃のものが用いられる。したがってこのようなガラス基板と膨張特性をマッチングさせ、ガラス基板のそりや強度の低下を防止するためには、本発明のガラスの前記平均線膨張係数は60×10-7〜100×10-7/℃であることが好ましい。より好ましくは65×10-7〜95×10-7/℃、特に好ましくは70×10-7〜90×10-7/℃である。なお、50〜350℃における平均線膨張係数を以下では単に膨張係数という。
【0010】
本発明のガラスは、隔壁中の残留炭素含有不純物の量を減少させることを目的として、Cu、Mo、Sn、SbおよびCeからなる群から選ばれる1種以上を含有する。なお、これらの元素は本発明のガラス中に、通常はいずれも酸化物状態で存在する。
モル%表示で、CuのCuO換算含有量(以下CuO含有量という。)、MoのMoO3換算含有量(以下MoO3含有量という。)、SnのSnO2換算含有量(以下SnO2含有量という。)、SbのSb2O3換算含有量(以下Sb2O3含有量という。)およびCeのCeO2換算含有量(以下CeO2含有量という。)の合計が0.01%未満では、前記残留炭素含有不純物を減少させる効果が小さくなりすぎるおそれがある。好ましくは0.1%以上、より好ましくは0.5%以上である。5%超ではCu、Mo、Sn、Sb、Ceに起因する着色が濃くなりすぎるおそれがある。好ましくは4%以下、より好ましくは3%以下である。以下、含有量はモル%で表示する。
【0011】
CuO含有量は3%以下であることが好ましく、2%以下であることがより好ましい。Cuを含有する場合、CuO含有量は0.1%以上であることが好ましく、0.5%以上であることがより好ましい。
【0012】
MoO3含有量は3%以下であることが好ましく、2%以下であることがより好ましい。Moを含有する場合、MoO3含有量は0.1%以上であることが好ましい。より好ましくは0.5%以上、特に好ましくは1%以上である。
【0013】
SnO2含有量は4%以下であることが好ましく、3%以下であることがより好ましい。Snを含有する場合、SnO2含有量は0.1%以上であることが好ましい。より好ましくは0.5%以上、特に好ましくは1%以上である。
【0014】
Sb2O3含有量は4%以下であることが好ましく、3%以下であることがより好ましい。Sbを含有する場合、Sb2O3含有量は0.5%以上であることが好ましい。より好ましくは1%以上、特に好ましくは2%以上である。
【0015】
CeO2含有量は3%以下であることが好ましく、1%以下であることがより好ましい。Ceを含有する場合、CeO2含有量は0.1%以上であることが好ましく、0.3%以上であることがより好ましい。
【0016】
本発明のガラスは下記酸化物基準で、
SiO2 0〜45%、
B2O3 0〜80%、
ZnO 20〜70%、
MgO 0〜50%、
CaO 0〜50%、
SrO 0〜50%、
BaO 0〜50%、
Li2O 0〜30%、
Na2O 0〜30%、
K2O 0〜30%、
Al2O3 0〜15%、
ZrO2 0〜15%、
Bi2O3 0〜20%、
CuO 0〜5%、
MoO3 0〜5%、
SnO2 0〜5%、
Sb2O3 0〜5%、
CeO2 0〜5%、
から実質的になり、SiO2+B2O3が25〜80%、MgO+CaO+SrO+BaOが0〜50%、Li2O+Na2O+K2Oが0〜30%、Al2O3+ZrO2が0〜15%であることが好ましい。
【0017】
次に、上記好ましい組成について説明する。なお、CuO、MoO3、SnO2、Sb2O3、CeO2については先に述べたので省略する。
SiO2またはB2O3の少なくともいずれか一方は含有しなければならない。SiO2のみを含有してもよいし、B2O3のみを含有してもよいし、これら両者を含有してもよい。SiO2とB2O3の含有量の合計は25〜80%であり、好ましくは28〜55%、より好ましくは30〜45%である。
【0018】
SiO2はネットワークフォーマであり45%まで含有してもよい。45%超では軟化点が高くなりすぎる。より好ましくは35%以下、特に好ましくは20%以下である。SiO2を含有する場合、その含有量は1%以上であることが好ましい。より好ましくは3%以上、特に好ましくは5%以上、最も好ましくは10%以上である。
【0019】
B2O3はガラスを安定化し、また流動性を増加させる成分であり、80%まで含有してもよい。80%超では化学的耐久性が低下する。より好ましくは60%以下、特に好ましくは40%以下である。B2O3を含有する場合、その含有量は5%以上であることが好ましい。より好ましくは10%以上、特に好ましくは15%以上である。
【0020】
ZnOは軟化点を下げ、また失透を抑制する成分であり、必須である。20%未満では軟化点が高くなりすぎ、また失透しやすくなる。好ましくは30%以上、より好ましくは35%以上である。70%超ではガラス化が困難になる。好ましくは60%以下、より好ましくは50%以下である。
【0021】
MgO、CaO、SrOおよびBaOはいずれも必須ではないが、失透を抑制するために、または焼成時の結晶化を抑制するために、それぞれ50%まで含有してもよい。50%超ではガラス化が困難になるおそれがある、または軟化点が高くなりすぎるおそれがある。より好ましくはそれぞれ30%以下、特に好ましくはそれぞれ10%以下である。MgO、CaO、SrOまたはBaOを含有する場合、その含有成分のそれぞれについて、含有量は1%以上であることが好ましく、2%以上であることがより好ましい。
【0022】
MgO、CaO、SrO、BaOのうちの1種以上を含有する場合、その含有量の合計は50%以下でなければならない。50%超ではガラス化が困難になるおそれがある、または軟化点が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは30%以下、より好ましくは15%以下、特に好ましくは13%以下である。また、前記含有量の合計は2%以上であることが好ましく、4%以上であることがより好ましい。
【0023】
Li2O、Na2OおよびK2Oはいずれも必須ではないが、軟化点を下げ流動性を増加させために、それぞれ30%まで含有してもよい。30%超では、化学的耐久性が低下したり、電気絶縁性が低下したり、また膨張係数が大きくなりすぎたりするおそれがある。好ましくはそれぞれ25%以下、より好ましくはそれぞれ15%以下、特に好ましくは10%以下である。Li2O、Na2OまたはK2Oを含有する場合、その含有成分のそれぞれについて、含有量は1%以上であることが好ましい。より好ましくは2%以上、特に好ましくは3%以上である。
【0024】
Li2O、Na2OおよびK2Oのうちの1種以上を含有する場合、その含有量の合計は30%以下でなければならない。30%超では、化学的耐久性が低下したり、電気絶縁性が低下したり、また膨張係数が大きくなりすぎたりするおそれがある。好ましくは25%以下、より好ましくは15%以下である。また、前記含有量の合計は3%以上であることが好ましい。より好ましくは6%以上、特に好ましくは8%以上である。
【0025】
Al2O3およびZrO2はいずれも必須ではないが、化学的耐久性を高くする効果を有し、それぞれ15%まで含有してもよい。15%超では軟化点が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは5%以下、より好ましくは3%以下、特に好ましくは2%以下である。Al2O3および/またはZrO2を含有する場合、それぞれの含有量は0.2%以上であることが好ましく、0.5%以上であることがより好ましい。
【0026】
Al2O3およびZrO2のいずれか少なくとも一方を含有する場合、その含有量の合計は15%以下でなければならない。15%超では軟化点が高くなりすぎるおそれがある。好ましくは10%以下、より好ましくは7%以下、特に好ましくは3%以下である。
【0027】
Bi2O3は必須ではないが、軟化点を下げ流動性を増加させるために、20%まで含有してもよい。20%超では濃い着色が起るおそれがある、または化学的耐久性が低下するおそれがある。好ましくは10%以下、より好ましくは5%以下である。Bi2O3を含有する場合、その含有量は0.2%以上であることが好ましい。より好ましくは0.5%以上、特に好ましくは0.8%以上である。
【0028】
本発明のガラスは実質的に上記成分からなるが、これ以外の成分を合計で5モル%まで含有してもよい。このような成分として、La2O3等の希土類酸化物、P2O5、TiO2、MnO、Fe2O3、CoO、NiO、GeO2、Y2O3、Rh2O3、Ag2O、In2O3、TeO2、WO3、ReO2、V2O5、PdO、が例示される。なお、PbO、CdOについてはいずれも実質的に含有せず、不純物レベル以下である。
【0029】
【実施例】
表1のSiO2〜CeO2の欄にモル%表示で示した組成となるように原料を調合、混合して白金るつぼに入れ、1200℃に加熱し30分間溶融した。次いで溶融ガラスをステンレス鋼製ローラに流し込んでフレーク化した。得られたフレーク状のガラスをアルミナ製ボールミルで18時間湿式粉砕してガラス粉末とした。
例1〜5は実施例、例6は比較例である。軟化点(単位:℃)および50〜350℃における平均線膨張係数(単位:10-7/℃)をそれぞれ組成から計算で求めた。結果を表の軟化点、膨張係数の欄にそれぞれ示す。
【0030】
これらガラス粉末とエチルセルロースを質量比で96:4となるように秤取して混合し、得られた混合物2gを直径12mmの円柱状の型に入れて成形し円柱状試料とした。この円柱状試料を540℃で30分間焼成し、円盤状の焼成体を得た。この焼成体の色を表に示す。
焼成体の色が黒色のものは焼成体中の炭素含有不純物の量が多いものと考えられる。したがって、例1〜5の焼成体の炭素含有不純物の量は例6の焼成体に比べ少ないと考えられる。
【0031】
【表1】
【0032】
【発明の効果】
本発明のガラスを用いることにより、PDP等の隔壁中の炭素含有不純物残存量が減少しPDP等における輝度低下が起りにくくなる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a lead-free low-melting glass and PDP suitable for forming barrier ribs in plasma display panels (PDP), fluorescent display tubes (VFD) and the like.
[0002]
[Prior art]
In recent years, PDPs have attracted attention as large thin flat color display devices. One of the features of the panel structure of the PDP is a partition that separates pixels. The partition wall has a width of, for example, 80 μm and a height of, for example, 150 μm. The partition walls are formed at equal intervals over the entire screen. As the partition wall material, there is usually a glass ceramic composition in which a low-melting glass powder as a fixing material is mixed with a low expansion ceramic filler for maintaining a partition wall shape and / or a heat-resistant pigment for color tone adjustment. It is used. The glass ceramic composition is usually used after being pasted with an organic vehicle.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
In the PDP, the luminance may decrease with time, and there is a need for a solution to this problem. A similar problem occurs in VFD.
An object of the present invention is to provide a low-melting glass for forming barrier ribs to solve this problem of lowering luminance.
[0004]
[Means for Solving the Problems]
The present invention, Cu, Mo, Sn, contain one or more selected from the group consisting of Sb and Ce, by mol%, CuO converted content of Cu, MoO 3 conversion content of Mo, SnO of Sn 2 Provided is a low-melting glass for barrier rib formation in which the total of the converted content, the Sb 2 O 3 converted content of Sb, and the CeO 2 converted content of Ce is in the range of 0.01 to 5%.
Further, the low-melting glass for forming a partition wall, which is expressed by mol% based on the following oxides, SiO 2 0-45%, B 2 O 3 0-79.99%, ZnO 20-70%, MgO 0 50%, CaO 0~50%, SrO 0~50%, BaO 0~50%, Li 2 O 0~30%, Na 2 O 0~30%, K 2 O 0~30%, Al 2 O 3 0 ~15%, ZrO 2 0~15%, Bi 2 O 3 0~20%, 0~5% CuO, MoO 3 0~5%, SnO 2 0~5%, Sb 2 O 3 0~5%, CeO 2 0-5%, containing, SiO 2 + B 2 O 3 is 25 to 79.99 mol%, MgO + CaO + SrO + BaO is 0 to 50 mol% Li 2 O, of Na 2 O and K 2 O And Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is 30 mol% or less, Al 2 O 3 + ZrO 2 There is provided a 0-15 mol% and a low-melting glass for forming barrier ribs (the B 2 O 3 except for those containing more than 26 wt%).
Also provided is a PDP in which partition walls are formed of the low-melting glass for partition formation.
[0005]
The present inventor presumed that one of the causes of the luminance decrease in the PDP was the residual carbon-containing impurities described below in the partition walls, and reached the present invention.
The partition walls obtained by firing are often colored black even when they do not contain a coloring component such as a transition metal. This phenomenon is considered to be a phenomenon in which carbon-containing impurities contained in the organic vehicle or the like remain in the partition walls, and the residual carbon-containing impurities blacken the partition walls.
When the plasma is generated in the PDP, the residual carbon-containing impurity reacts with water or the like present in the electrode-coated glass layer and is released from the partition walls as carbon dioxide gas, thereby reducing the brightness of the PDP.
[0006]
It is considered that the cause of the decrease in luminance in the VFD is that the residual carbon-containing impurities are released from the partition walls as carbon dioxide gas.
[0007]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The low-melting glass for forming a partition wall of the present invention (hereinafter simply referred to as the glass of the present invention) is typically a silicate glass, more typically a zinc borosilicate glass, usually used in powder form. Is done.
This powdered glass is usually mixed with a low expansion ceramic filler, a heat-resistant pigment, etc., if necessary, and then kneaded with an organic vehicle to form a paste. This glass paste is applied to a predetermined portion of the underlying glass and baked at, for example, 500 to 620 ° C. The underlying glass here is a glass substrate or the like, but also includes a glass substrate coated with a transparent conductive film, an opaque conductive film or the like. The organic vehicle is obtained by dissolving a binder such as ethyl cellulose in an organic solvent such as α-terpineol.
[0008]
The softening point of the glass of the present invention is preferably 450 to 650 ° C. If it is less than 450 degreeC, there exists a possibility that glass may flow too much at the time of baking and a desired partition shape may not be obtained. More preferably, it is 500 degreeC or more. If it exceeds 650 ° C., the fluidity of the glass at the time of firing is lowered, and there is a possibility that a dense partition cannot be obtained. More preferably, it is 620 degrees C or less, Most preferably, it is 600 degrees C or less.
[0009]
As the glass substrate, those having an average linear expansion coefficient at 50 to 350 ° C. of 80 × 10 −7 to 90 × 10 −7 / ° C. are usually used. Therefore, in order to match the expansion characteristics with such a glass substrate and prevent the glass substrate from being warped or reduced in strength, the average linear expansion coefficient of the glass of the present invention is 60 × 10 −7 to 100 × 10 −7. / ° C is preferred. More preferably, it is 65 × 10 −7 to 95 × 10 −7 / ° C., and particularly preferably 70 × 10 −7 to 90 × 10 −7 / ° C. In addition, the average linear expansion coefficient in 50-350 degreeC is only called an expansion coefficient below.
[0010]
The glass of the present invention contains one or more selected from the group consisting of Cu, Mo, Sn, Sb and Ce for the purpose of reducing the amount of residual carbon-containing impurities in the partition walls. These elements are usually present in an oxide state in the glass of the present invention.
In terms of mol%, Cu CuO content (hereinafter referred to as CuO content), Mo MoO 3 content (hereinafter referred to as MoO 3 content), Sn SnO 2 content (hereinafter SnO 2 content) If the total of Sb 2 O 3 equivalent content (hereinafter referred to as Sb 2 O 3 content) and Ce CeO 2 equivalent content (hereinafter referred to as CeO 2 content) is less than 0.01% The effect of reducing the residual carbon-containing impurities may be too small. Preferably it is 0.1% or more, More preferably, it is 0.5% or more. If it exceeds 5%, coloring due to Cu, Mo, Sn, Sb, and Ce may be too dark. Preferably it is 4% or less, More preferably, it is 3% or less. Hereinafter, the content is expressed in mol%.
[0011]
The CuO content is preferably 3% or less, and more preferably 2% or less. When Cu is contained, the CuO content is preferably 0.1% or more, and more preferably 0.5% or more.
[0012]
The MoO 3 content is preferably 3% or less, and more preferably 2% or less. When Mo is contained, the MoO 3 content is preferably 0.1% or more. More preferably, it is 0.5% or more, and particularly preferably 1% or more.
[0013]
The SnO 2 content is preferably 4% or less, and more preferably 3% or less. When containing Sn, it is preferable content of SnO 2 is 0.1% or more. More preferably, it is 0.5% or more, and particularly preferably 1% or more.
[0014]
The Sb 2 O 3 content is preferably 4% or less, and more preferably 3% or less. When Sb is contained, the Sb 2 O 3 content is preferably 0.5% or more. More preferably, it is 1% or more, and particularly preferably 2% or more.
[0015]
The CeO 2 content is preferably 3% or less, and more preferably 1% or less. When Ce is contained, the CeO 2 content is preferably 0.1% or more, and more preferably 0.3% or more.
[0016]
The glass of the present invention is based on the following oxides:
SiO 2 0~45%,
B 2 O 3 0-80%,
ZnO 20-70%,
MgO 0-50%,
CaO 0-50%,
SrO 0-50%,
BaO 0-50%,
Li 2 O 0-30%,
Na 2 O 0-30%,
K 2 O 0-30%,
Al 2 O 3 0-15%,
ZrO 2 0-15%,
Bi 2 O 3 0-20%,
CuO 0-5%,
MoO 3 0-5%,
SnO 2 0-5%,
Sb 2 O 3 0-5%,
CeO 2 0-5%,
SiO 2 + B 2 O 3 is 25 to 80%, MgO + CaO + SrO + BaO is 0 to 50%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is 0 to 30%, Al 2 O 3 + ZrO 2 is 0 to 15%. Preferably there is.
[0017]
Next, the preferable composition will be described. Since CuO, MoO 3 , SnO 2 , Sb 2 O 3 , and CeO 2 have been described above, they are omitted.
At least one of SiO 2 and B 2 O 3 must be contained. Only SiO 2 may be contained, B 2 O 3 alone may be contained, or both of these may be contained. The total content of SiO 2 and B 2 O 3 is 25 to 80%, preferably 28 to 55%, more preferably 30 to 45%.
[0018]
SiO 2 is a network former and may contain up to 45%. If it exceeds 45%, the softening point becomes too high. More preferably, it is 35% or less, and particularly preferably 20% or less. When SiO 2 is contained, the content is preferably 1% or more. More preferably, it is 3% or more, particularly preferably 5% or more, and most preferably 10% or more.
[0019]
B 2 O 3 is a component that stabilizes the glass and increases fluidity, and may be contained up to 80%. If it exceeds 80%, the chemical durability is lowered. More preferably, it is 60% or less, and particularly preferably 40% or less. When B 2 O 3 is contained, the content is preferably 5% or more. More preferably, it is 10% or more, and particularly preferably 15% or more.
[0020]
ZnO is a component that lowers the softening point and suppresses devitrification, and is essential. If it is less than 20%, the softening point becomes too high and devitrification tends to occur. Preferably it is 30% or more, more preferably 35% or more. If it exceeds 70%, vitrification becomes difficult. Preferably it is 60% or less, More preferably, it is 50% or less.
[0021]
All of MgO, CaO, SrO and BaO are not essential, but may be contained up to 50% in order to suppress devitrification or to suppress crystallization during firing. If it exceeds 50%, vitrification may be difficult, or the softening point may be too high. More preferably, each is 30% or less, and particularly preferably 10% or less. When MgO, CaO, SrO or BaO is contained, the content of each of the components is preferably 1% or more, and more preferably 2% or more.
[0022]
When one or more of MgO, CaO, SrO and BaO are contained, the total content must be 50% or less. If it exceeds 50%, vitrification may be difficult, or the softening point may be too high. Preferably it is 30% or less, more preferably 15% or less, and particularly preferably 13% or less. Further, the total content is preferably 2% or more, and more preferably 4% or more.
[0023]
Li 2 O, Na 2 O and K 2 O are not essential, but may be contained up to 30% in order to lower the softening point and increase the fluidity. If it exceeds 30%, the chemical durability may be lowered, the electrical insulation property may be lowered, or the expansion coefficient may be excessively increased. Each is preferably 25% or less, more preferably 15% or less, and particularly preferably 10% or less. When Li 2 O, Na 2 O or K 2 O is contained, the content is preferably 1% or more for each of the components contained therein. More preferably, it is 2% or more, and particularly preferably 3% or more.
[0024]
When it contains one or more of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O, the total content must be 30% or less. If it exceeds 30%, the chemical durability may be lowered, the electrical insulation property may be lowered, or the expansion coefficient may be excessively increased. Preferably it is 25% or less, More preferably, it is 15% or less. The total content is preferably 3% or more. More preferably, it is 6% or more, and particularly preferably 8% or more.
[0025]
Al 2 O 3 and ZrO 2 are not essential, but they have the effect of increasing chemical durability and may be contained up to 15% each. If it exceeds 15%, the softening point tends to be too high. Preferably it is 5% or less, More preferably, it is 3% or less, Most preferably, it is 2% or less. In the case of containing Al 2 O 3 and / or ZrO 2 , each content is preferably 0.2% or more, and more preferably 0.5% or more.
[0026]
When at least one of Al 2 O 3 and ZrO 2 is contained, the total content must be 15% or less. If it exceeds 15%, the softening point tends to be too high. Preferably it is 10% or less, More preferably, it is 7% or less, Most preferably, it is 3% or less.
[0027]
Bi 2 O 3 is not essential, but may be contained up to 20% in order to lower the softening point and increase the fluidity. If it exceeds 20%, deep coloring may occur, or chemical durability may be deteriorated. Preferably it is 10% or less, More preferably, it is 5% or less. When it contains Bi 2 O 3 , the content is preferably 0.2% or more. More preferably, it is 0.5% or more, and particularly preferably 0.8% or more.
[0028]
The glass of the present invention consists essentially of the above components, but may contain other components up to 5 mol% in total. Such components include rare earth oxides such as La 2 O 3 , P 2 O 5 , TiO 2 , MnO, Fe 2 O 3 , CoO, NiO, GeO 2 , Y 2 O 3 , Rh 2 O 3 , Ag 2. Examples are O, In 2 O 3 , TeO 2 , WO 3 , ReO 2 , V 2 O 5 , and PdO. Note that PbO and CdO are not substantially contained, and are below the impurity level.
[0029]
【Example】
The raw materials were prepared, mixed and mixed in a platinum crucible so that the composition represented by mol% in the column of SiO 2 to CeO 2 in Table 1 was heated to 1200 ° C. and melted for 30 minutes. The molten glass was then poured into a stainless steel roller and flaked. The obtained flaky glass was wet pulverized with an alumina ball mill for 18 hours to obtain a glass powder.
Examples 1 to 5 are examples, and example 6 is a comparative example. A softening point (unit: ° C.) and an average linear expansion coefficient (unit: 10 −7 / ° C.) at 50 to 350 ° C. were respectively calculated from the composition. The results are shown in the columns of softening point and expansion coefficient in the table.
[0030]
These glass powder and ethyl cellulose were weighed and mixed so that the mass ratio was 96: 4, and 2 g of the resulting mixture was put into a cylindrical mold having a diameter of 12 mm to form a cylindrical sample. This columnar sample was fired at 540 ° C. for 30 minutes to obtain a disk-shaped fired body. The color of this fired body is shown in the table.
When the color of the fired body is black, it is considered that the amount of carbon-containing impurities in the fired body is large. Therefore, it is considered that the amount of carbon-containing impurities in the fired bodies of Examples 1 to 5 is smaller than that of the fired body of Example 6.
[0031]
[Table 1]
[0032]
【The invention's effect】
By using the glass of the present invention, the residual amount of carbon-containing impurities in the partition walls of PDP or the like is reduced, and it is difficult for luminance to be lowered in PDP or the like.
Claims (4)
SiO2 0〜45%、
B2O3 0〜79.99%、
ZnO 20〜70%、
MgO 0〜50%、
CaO 0〜50%、
SrO 0〜50%、
BaO 0〜50%、
Li2O 0〜30%、
Na2O 0〜30%、
K2O 0〜30%、
Al2O3 0〜15%、
ZrO2 0〜15%、
Bi2O3 0〜20%、
CuO 0〜5%、
MoO3 0〜5%、
SnO2 0〜5%、
Sb2O3 0〜5%、
CeO2 0〜5%、
を含有し、SiO2+B2O3が25〜79.99モル%であり、MgO+CaO+SrO+BaOが0〜50モル%であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのうちの1種以上を含有してLi2O+Na2O+K2Oが30モル%以下であり、Al2O3+ZrO2が0〜15モル%である隔壁形成用低融点ガラス(B2O3を26質量%以上含有するものを除く)。Cu, Mo, Sn, contain one or more selected from the group consisting of Sb and Ce, by mol%, CuO converted content of Cu, MoO 3 conversion content of Mo, SnO 2 conversion amount of Sn, A low melting point glass for barrier rib formation in which the total of Sb 2 O 3 equivalent content of Sb and CeO 2 equivalent content of Ce is in the range of 0.01 to 5%, and expressed in mol% on the basis of the following oxides:
SiO 2 0~45%,
B 2 O 3 0~79.99%,
ZnO 20-70%,
MgO 0-50%,
CaO 0-50%,
SrO 0-50%,
BaO 0-50%,
Li 2 O 0-30%,
Na 2 O 0-30%,
K 2 O 0-30%,
Al 2 O 3 0-15%,
ZrO 2 0-15%,
Bi 2 O 3 0-20%,
CuO 0-5%,
MoO 3 0-5%,
SnO 2 0-5%,
Sb 2 O 3 0-5%,
CeO 2 0-5%,
Containing, SiO 2 + B 2 O 3 is 25 to 79.99 mol%, MgO + CaO + SrO + BaO is 0 to 50 mol%, contain one or more of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O And a low-melting glass for forming a partition wall in which Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is 30 mol% or less and Al 2 O 3 + ZrO 2 is 0 to 15 mol% (containing 26 mass% or more of B 2 O 3 except for).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36055399A JP4069559B2 (en) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | Low melting glass for forming barrier ribs and plasma display panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36055399A JP4069559B2 (en) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | Low melting glass for forming barrier ribs and plasma display panel |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001172046A JP2001172046A (en) | 2001-06-26 |
JP4069559B2 true JP4069559B2 (en) | 2008-04-02 |
Family
ID=18469904
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP36055399A Expired - Fee Related JP4069559B2 (en) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | Low melting glass for forming barrier ribs and plasma display panel |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4069559B2 (en) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6861798B1 (en) * | 1999-02-26 | 2005-03-01 | Candescent Technologies Corporation | Tailored spacer wall coatings for reduced secondary electron emission |
KR100941907B1 (en) * | 2003-07-18 | 2010-02-11 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | Lead-free glass, glass powder of electrode coating, and plasma display |
JP4791746B2 (en) * | 2005-03-29 | 2011-10-12 | 地方独立行政法人 東京都立産業技術研究センター | Lead-free borosilicate glass frit and its glass paste |
JP4119477B2 (en) * | 2005-04-04 | 2008-07-16 | 松下電器産業株式会社 | Plasma display panel and manufacturing method thereof |
CN1953942B (en) | 2005-04-04 | 2011-08-17 | 松下电器产业株式会社 | Glass composition for covering electrodes and glass paste containing the same |
CN101258111B (en) * | 2005-09-07 | 2011-05-18 | 松下电器产业株式会社 | Glass composition and display panel using same |
JP2009143729A (en) * | 2006-03-31 | 2009-07-02 | Panasonic Corp | Glass composition and display panel using the same |
JP5025209B2 (en) * | 2006-09-27 | 2012-09-12 | 地方独立行政法人 東京都立産業技術研究センター | Lead-free borosilicate glass frit and glass paste for forming an insulating layer |
JP2009102199A (en) * | 2007-10-24 | 2009-05-14 | Nippon Electric Glass Co Ltd | Dielectric material for plasma display panel |
KR20100069642A (en) * | 2007-10-24 | 2010-06-24 | 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 | Dielectric material for plasma display panel |
JP2009167025A (en) * | 2008-01-11 | 2009-07-30 | Nippon Electric Glass Co Ltd | Insulation layer-forming glass composition and insulation layer-forming material |
JP4958078B2 (en) * | 2008-06-25 | 2012-06-20 | 日本電気硝子株式会社 | A material for a plasma display panel, a method for producing a rear glass substrate for a plasma display panel, and a rear glass substrate for a plasma display panel produced by the method. |
JP5761545B2 (en) * | 2009-06-05 | 2015-08-12 | 日本電気硝子株式会社 | Insulating layer forming glass composition and insulating layer forming material |
JP5609319B2 (en) | 2010-06-29 | 2014-10-22 | セントラル硝子株式会社 | Low melting point glass composition and conductive paste material using the same |
CN105408267B (en) * | 2013-07-25 | 2020-01-14 | 纳美仕有限公司 | Crystalline silicon solar cell and method for manufacturing same |
CN112047631A (en) * | 2020-08-25 | 2020-12-08 | 广东风华高新科技股份有限公司 | Lead-free low-temperature sintering encapsulation glass slurry and preparation method thereof |
-
1999
- 1999-12-20 JP JP36055399A patent/JP4069559B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001172046A (en) | 2001-06-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20041026 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20070511 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
Effective date: 20070824 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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