JP4031441B2 - 塩を含有した化粧石鹸の製造方法 - Google Patents
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Description
[化学式1]
ClCH2CH(OH)CH2SO3−M
(式中、Rは炭素数7〜21の飽和または不飽和脂肪族炭化水素ラジカルであり;Mはナトリウム、カリウム、トリエタノールアミンまたはアンモニアである)
[化学式1]
(a)炭素数8〜22の飽和または不飽和脂肪酸を苛性ソーダで中和して以下の化学式3aで示される脂肪酸ナトリウム塩を製造する工程;および
(b)前記脂肪酸ナトリウム塩を以下の化学式2aで示される3−クロロ−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸ナトリウム塩(SCHS)と溶媒存在下で反応させる工程
を含む塩を含有する化粧石鹸の製造方法を提供する:
[化学式3a]
RCOO−Na
[化学式2a]
ClCH2CH(OH)CH2SO3Na
(式中、Rは炭素数7〜21の飽和または不飽和脂肪族炭化水素である)
[化学式3]
RCOOM
(式中、Rは炭素数7〜21の飽和または不飽和脂肪族炭化水素ラジカルであり;Mはナトリウム、カリウム、トリエタノールアミンまたはアンモニアである)
[化学式3a]
RCOONa
(式中、Rは炭素数7〜21の飽和または不飽和脂肪族炭化水素である)
[化学式2a]
RCOOCH2CH(OH)CH2SO3Na
前記(a)工程で、脂肪酸は炭素数8〜22の飽和または不飽和脂肪酸であり得る、脂肪酸は単独または混合脂肪酸形態で使用することができる。脂肪酸の好ましい一例としては前記モノグリセリドスルフェートを製造する時に使用される動物油、植物油、植物油から誘導される安価の高級脂肪酸を使用することができる。
水に亜硫酸ナトリウムを溶解した後、エピクロロヒドリンを添加して反応させ、ナトリウムクロロヒドロキシスルホネート粉末を製造した。
オートクレーブ反応機にパーム核油脂肪酸220gとエタノール90gを投入してよく溶解させ、50%濃度の水酸化ナトリウム溶液80gを滴下して脂肪酸を全て中和し、パーム核油脂肪酸ナトリウム塩を製造した。反応機内部温度が75℃になるようにして30分間撹拌し、ここに前記製造例1で得たナトリウムクロロヒドロキシスルホネート粉末196.6gを添加した。反応機を密閉して反応機内部温度が120℃になるように加熱した後、陰イオン定量分析を行ってモノグリセリドスルホネートの含量が最大になるまで1時間30分間反応を進めた。反応が終了すれば反応混合液を排出して熱風オーブンで乾燥してモノグリセリドスルホネートの含量が63%である陰イオン界面活性剤を440g得た。
[数式1]
Aは空実験の滴定に消費された陽イオン界面活性剤標準溶液の量(ml)であり、
Bは試料溶液の滴定に消費された陽イオン界面活性剤標準溶液の量(ml)であり、
fは陽イオン界面活性剤標準溶液の因子(factor)であり、
Sは試料の採取量(g)であり、
MWはモノグリセリドスルホネートの分子量である。
オートクレーブ反応機にパーム核油脂肪酸200gとエタノール56gを投入してよく溶解させ、50%濃度の水酸化ナトリウム溶液80gを滴下して脂肪酸を全て中和しパーム核油脂肪酸ナトリウム塩を製造した。反応機内部温度が75℃になるようにして30分間撹拌し、ここに前記製造例1で得たナトリウムクロロヒドロキシスルホネート粉末98.3gを添加した。反応機を密閉し反応機内部温度が120℃になるように加熱した後、陰イオン定量分析を行ってモノグリセリドスルホネートの含量が最大になるまで1時間反応を進めた。反応が終了すれば反応混合液を排出して熱風オーブンで乾燥してモノグリセリドスルホネートの含量が35%である陰イオン界面活性剤組成物を320g得た。
400Lサス(Sus)反応機にパーム核油脂肪酸22Kg、ラウリン酸20Kg、エタノール13.5Kgを投入してよく溶解させ、50%濃度の水酸化ナトリウム溶液16Kgを滴下して脂肪酸を全て中和して脂肪酸ナトリウム塩を製造した。反応機内部温度が75℃になるようにして30分間撹拌し、ここに前記製造例1で得たナトリウムクロロヒドロキシスルホネート粉末27.5Kgを添加した。反応機を密閉して反応機内部温度が120℃になるように加熱した後、陰イオン定量分析を行ってモノグリセリドスルホネートの含量が最大になるまで2時間反応を進めた。反応が終了すれば反応混合液を排出して熱風オーブンで乾燥し、モノグリセリドスルホネートの含量が54%である陰イオン界面活性剤組成物を72Kg得た。
400Lサス反応機にパーム核油脂肪酸22Kg、ラウリン酸20Kg、エタノール13.5Kgを投入してよく溶解させ、50%濃度の水酸化ナトリウム溶液16Kgを滴下して脂肪酸を全て中和して脂肪酸ナトリウム塩を製造した。反応機内部温度が75℃になるようにして30分間撹拌し、ここにナトリウムクロロヒドロキシスルホネート粉末3.9Kgを添加した。反応機を密閉して反応機内部温度が120℃になるように加熱した後、陰イオン定量分析を行ってモノグリセリドスルホネートの含量が最大になるまで2時間反応を進めた。反応が終了すれば反応混合液を排出して熱風オーブンで乾燥してモノグリセリドスルホネートの含量が10.5%である陰イオン界面活性剤組成物を51Kg得た。
表1に示した各々の成分を表1に示した比率で含有する組成物をアマルガメータと3段ロールミルで均一に混合した後、一般脂肪酸系化粧石鹸製造装置で成形および圧出工程を経て打抜きして石鹸を製造した。
表2に示した各々の成分を表2に示した比率で混合して前記実施例と同様の方法で石鹸を製造した。
成形作業性は一般脂肪酸系化粧石鹸製造装置によって石鹸を製造するときに、成形機とスクリューでの移送状態を、打抜き作業性は石鹸が金型に付着されずに離脱する程度を次の基準によって測定した。
<評価基準>
○:成形または打抜き作業性が良好である。
△:成形または打抜き作業性が普通である。
×:石鹸の硬度またはやわらかさが過度であるため成形または打抜き作業性が良くない。
石鹸のやわらかさは水の吸収率を測定して評価した。秤量した石鹸(W1)を重量既知のピン(W2)で刺して、25℃の恒温水槽に4時間放置した後、取り出して溶出した部分を20〜25℃で1時間乾燥した後、重量を秤量して(W3)次の数式2のように吸収率を計算した。
[数式2]
水吸収率(%)=[(W2+W3)−(W1+W2)]/W1×100
水吸収率はその値が大きいほど水を含有する能力が大きくなるために物性がよくないことを意味し、一般脂肪酸系化粧石鹸の水吸収率は通常5〜25%である。
前記実施例および比較例の合成固形化粧石鹸に対して男女各20名の被実験者を対象として25℃の水道水で一般に化粧石鹸を使用する方法で使用するようにした後、表3に示した基準で点数を付与してその平均値で評価した。
保湿力は水分保有率を測定して評価した。前記実施例および比較例の組成を有する化粧石鹸組成物を蒸溜水で希釈して4%水溶液に作り、この水溶液5mlとって腕の内側に5cm×5cm部位を1分間擦った後、30秒間待って10秒間流水で洗った。1日3時間間隔で2回洗った後、各々の石鹸に対して30分後に水分保有量を測定した。水分保有量測定機器としてはスキコン(Skicon)200を使用しており、試験は25℃、相対湿度50%の恒温恒湿室で実施した。以下の数式3によって水分保有率を算出した。水分保有率が大きいほど保湿力が優れていることを意味する。
[数式3]
水分保有率(%)=
((洗う前の保有量−洗った後の保有量)/洗う前の保有量)×100
ラウリン酸とパーム核油脂肪酸を70:30の比で混合した後、水とエタノール溶媒に苛性ソーダを滴下して脂肪酸を完全に中和してラウリン酸およびパーム核油脂肪酸のナトリウム塩を製造した。これに高温で3−クロロ−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸ナトリウム塩(SCHS)を添加して塩、モノグリセリドスルホネート、遊離脂肪酸および石鹸原料が混合された混合液を得た後、高温および高圧で乾燥し、添加物を添加した。その後、成形、打抜きを経て化粧石鹸を製造した。
実施例13〜18および比較例13〜14の化粧石鹸内に含まれている塩の含量をKSM 2702に基づいて測定し、その結果を以下の表6に示した。
実施例15および比較例13の化粧石鹸を対象として品質評価を実施した。
効果なし 多少あり 普通 効果優秀 非常に優秀
1 2 3 4 5
|------------|------------|------------|------------|
非常に不満 多少不満 普通 満足 非常に満足
Claims (3)
- (a)炭素数8〜22の飽和または不飽和脂肪酸を苛性ソーダで中和して、以下の化学式3aで示される脂肪酸ナトリウム塩を製造する工程、および
(b)前記脂肪酸ナトリウム塩と、以下の化学式2aで示される3−クロロ−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸ナトリウム塩(SCHS)を溶媒存在下で反応させて2〜15重量%の塩を含むようにする工程を含み、
前記脂肪酸ナトリウム塩におけるラウリン酸ナトリウム塩とミリスチン酸ナトリウム塩の含量が60重量%以上であることを特徴とする塩を含有する化粧石鹸の製造方法:
[化学式3a]
RCOO Na
(式中、Rは炭素数7〜21の飽和または不飽和脂肪族炭化水素ラジカルである)
[化学式2a]
ClCH2CH(OH)CH2SO3Na - 前記(a)工程で炭素数8〜22の飽和または不飽和脂肪酸が単独または混合物として使用される請求項1記載の塩を含有する化粧石鹸の製造方法。
- 前記(b)工程で脂肪酸ナトリウム塩に対する3−クロロ−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸ナトリウム塩の反応当量比が1:0.1〜1:1.2である請求項1記載の塩を含有する化粧石鹸の製造方法。
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