JP4023622B2 - Manufacturing method of laminated electronic component - Google Patents

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Description

本発明は、積層電子部品の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a laminated electronic component.

一般に、積層セラミックコンデンサなどの積層セラミック電子部品は、次のような工程によって製造されている。まず、原料となるセラミック粉末、有機バインダ、溶剤等を含むセラミックペーストをPETフィルム上に塗布し、いわゆるグリーンシートを形成する。次に、このグリーンシートに、導電性ペーストにより複数の内部電極をスクリーン印刷法などで形成する。そして、内部電極を有するグリーンシートを、内部電極の位置がずらされた状態とずらされていない状態とが交互に重なるように複数枚積層し、シート積層体を作る。次に、かかるシート積層体をプレスし、電子部品単位に対応する大きさに切断して、積層チップ体を得る。さらに、その積層チップ体に対して、バインダ等を除去する脱バインダ処理を行い、所定条件で焼成した後、積層チップ体の両端部に外部電極を形成して、積層セラミック電子部品を得る。   In general, a multilayer ceramic electronic component such as a multilayer ceramic capacitor is manufactured by the following process. First, a ceramic paste containing ceramic powder, organic binder, solvent, and the like as raw materials is applied on a PET film to form a so-called green sheet. Next, a plurality of internal electrodes are formed on the green sheet by a screen printing method using a conductive paste. Then, a plurality of green sheets having internal electrodes are laminated so that the state where the internal electrodes are shifted and the state where they are not shifted are alternately overlapped to form a sheet laminate. Next, the sheet laminated body is pressed and cut into a size corresponding to the electronic component unit to obtain a laminated chip body. Further, the multilayer chip body is subjected to a binder removal process for removing a binder and the like, fired under predetermined conditions, and then external electrodes are formed at both ends of the multilayer chip body to obtain a multilayer ceramic electronic component.

また、このようにして製造される積層セラミック電子部品においては、積層数が多層になるほど内部電極の厚みによる他の部位との段差が無視できなくなる。すなわち、内部電極が印刷されていない余白部分を含む積層領域と、内部電極を含んだ積層領域との間で、内部電極の有無による段差が生じる。かかる段差は、焼成時のクラックやデラミネーションなどを誘発させ、製品の特性の劣化や歩留まりの低下を招く原因となり得る。そこで、内部電極の周囲に段差吸収用のセラミックペーストを印刷することで、上記段差の問題を解消するものもある(特許文献1参照)。
特開2001−358036号公報
Further, in the multilayer ceramic electronic component manufactured in this way, as the number of layers increases, the difference in level from other parts due to the thickness of the internal electrode becomes more ignorable. In other words, a step is generated between the stacked region including the blank portion where the internal electrode is not printed and the stacked region including the internal electrode due to the presence or absence of the internal electrode. Such a step may induce cracks or delamination during firing, and may cause deterioration of product characteristics or a decrease in yield. Therefore, there is a technique that solves the problem of the step by printing a ceramic paste for absorbing a step around the internal electrode (see Patent Document 1).
JP 2001-358036 A

しかしながら、上述した特許文献1のように、内部電極の周囲に段差吸収用のセラミックペーストを印刷した場合には、そのペースト内の溶剤がグリーンシートとPETフィルムとの間にまで浸透し、グリーンシートがPETフィルムから剥離してしまう恐れがあった。このような問題はいわゆるシートアタックと称されており、グリーンシートの剥離や浮き上がりが、シートに凹凸を発生させ、その後の良好な積層を阻害する要因となりうる。特に、多層化に向けて薄層のグリーンシートを使用し、グリーンシートとPETフィルムとの間に軽剥離剤などが付与されている場合には、この問題がより顕著になる。   However, as in Patent Document 1 described above, when a step-absorbing ceramic paste is printed around the internal electrode, the solvent in the paste penetrates between the green sheet and the PET film, and the green sheet May peel off from the PET film. Such a problem is referred to as a so-called sheet attack, and peeling or lifting of the green sheet can cause unevenness in the sheet and can hinder subsequent good lamination. In particular, when a thin green sheet is used for multilayering and a light release agent or the like is provided between the green sheet and the PET film, this problem becomes more prominent.

本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、内部電極などの導電層に起因した段差を解消することが可能でありながらシートアタックを防止することができる、積層電子部品の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a problem, and is capable of eliminating a step caused by a conductive layer such as an internal electrode and manufacturing a multilayer electronic component capable of preventing sheet attack. It aims to provide a method.

上述した課題を解決するため、本発明は、支持体の上に誘電体ペーストから構成したグリーン層を形成し、該グリーン層上に導電層及び段差吸収層を形成した単位層を複数積層して積層電子部品を製造する方法において、少なくとも一つの導電層の上面に前記段差吸収層が形成されている第1の単位層を用意し、導電層の側方に導電層が形成されていない導電層非形成部を有する第2の単位層を用意し、前記導電層非形成部が前記段差吸収層の少なくとも一部の上方に位置するように、前記第2の単位層を前記第1の単位層の上方に積層する、ことを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, the present invention forms a green layer made of a dielectric paste on a support, and stacks a plurality of unit layers each having a conductive layer and a step absorption layer on the green layer. In a method of manufacturing a laminated electronic component, a first unit layer in which the step absorption layer is formed on an upper surface of at least one conductive layer is prepared, and a conductive layer in which a conductive layer is not formed on a side of the conductive layer A second unit layer having a non-formation part is prepared, and the second unit layer is the first unit layer so that the conductive layer non-formation part is located above at least a part of the step absorption layer. It is characterized by laminating above.

また、当該方法は好適には、前記単位層として、前記誘電体ペーストから構成し複数チップ領域を有するグリーンシート上に前記導電層と前記段差吸収層とを複数形成し、該段差吸収層のそれぞれが該導電層の上面に設けられているもの、を複数枚用意する工程と、それら複数の単位層を、前記導電層非形成部が前記段差吸収層の少なくとも一部の上方に位置する態様で積層し、シート積層体を得る工程と、前記シート積層体を、一チップ領域毎に裁断して積層チップ体を得る工程とを備える。   Preferably, the method preferably forms, as the unit layer, a plurality of the conductive layer and the step absorption layer on a green sheet composed of the dielectric paste and having a plurality of chip regions, and each of the step absorption layers. Are provided on the upper surface of the conductive layer, and a plurality of unit layers are arranged in such a manner that the conductive layer non-forming portion is located above at least a part of the step absorption layer. A step of stacking and obtaining a sheet laminate, and a step of cutting the sheet laminate for each chip region to obtain a laminate chip body.

また、平面的にみて前記段差吸収層は前記導電層非形成部よりも広く形成されると好適である。   Further, it is preferable that the step absorption layer is formed wider than the conductive layer non-formation portion in plan view.

導電層の上面とは別に側方にも、一チップ領域内の長手方向の少なくとも一部に延長する段差吸収層を形成すると好適である。   It is preferable to form a step absorption layer that extends to at least a part of the longitudinal direction in one chip region on the side separately from the upper surface of the conductive layer.

複数の前記単位層に亙って、前記段差吸収層を同一パターンによって形成すると好適である。   It is preferable that the step absorption layer is formed in the same pattern over the plurality of unit layers.

また、前記導電層の上面及び側方に設けられた前記段差吸収層は、誘電体材料により構成されていると好適である。   Moreover, it is preferable that the step absorption layer provided on the upper surface and the side of the conductive layer is made of a dielectric material.

あるいは、前記導電層の上面に設けられた前記段差吸収層は、導電材料により構成されていると好適である。   Alternatively, it is preferable that the step absorption layer provided on the upper surface of the conductive layer is made of a conductive material.

本発明に係る積層電子部品の製造方法によれば、内部電極などの導電層に起因した段差を解消することが可能でありながらシートアタックを防止することができる。   According to the method for manufacturing a laminated electronic component according to the present invention, it is possible to eliminate a step due to a conductive layer such as an internal electrode while preventing sheet attack.

また、複数の単位層を用意する工程と、それら複数の単位層を積層してシート積層体を得る工程と、シート積層体を一チップ領域毎に裁断して積層チップ体を得る工程とを備える場合には、上記のように段差吸収層及び導電層非形成部を形成するに際して、積層セラミックコンデンサの既存のプロセスにのせて実施することができる。   Further, the method includes a step of preparing a plurality of unit layers, a step of obtaining a sheet laminate by laminating the plurality of unit layers, and a step of obtaining a laminated chip body by cutting the sheet laminate for each chip region. In this case, when forming the step absorption layer and the conductive layer non-forming portion as described above, it can be carried out on the existing process of the multilayer ceramic capacitor.

また、平面的にみて段差吸収層は導電層非形成部よりも広く形成される場合には、積層時に導電層非形成部に起因した隙間をより確実に埋めることができ、段差吸収効果を一層確実なものとすることができる。   In addition, when the step absorption layer is formed wider than the conductive layer non-formation portion in plan view, the gap due to the conductive layer non-formation portion can be more reliably filled at the time of stacking, and the step absorption effect is further enhanced. It can be certain.

導電層の上面とは別に側方にも、一チップ領域内の長手方向の少なくとも一部に延長する段差吸収層を形成する場合には、導電層の幅方向両側においても段差吸収効果を得られている。よって、導電層の上面に設けられた段差吸収層の上記作用と相俟って、積層セラミックコンデンサ全体でより高い段差発生防止効果を獲得することができる。   In the case where a step absorption layer extending to at least part of the longitudinal direction in one chip region is formed on the side separately from the upper surface of the conductive layer, a step absorption effect can be obtained on both sides in the width direction of the conductive layer. ing. Therefore, in combination with the above-described action of the step absorption layer provided on the upper surface of the conductive layer, a higher step generation preventing effect can be obtained in the entire multilayer ceramic capacitor.

また、段差吸収層が複数の単位層に亙って同一パターンによって形成される場合には、単一の印刷パターンを用いて段差吸収層と導電層非形成部との双方を有する態様を簡単且つ大量に製造できる。   Further, in the case where the step absorption layer is formed in the same pattern over a plurality of unit layers, a mode in which both the step absorption layer and the conductive layer non-formation portion are formed using a single print pattern can be simplified. Can be manufactured in large quantities.

導電層の上面及び側方に設けられた段差吸収層が誘電体材料により構成されている場合には、同じペーストを使用することが可能であり、さらに、同時に形成することも可能となりうる。   When the step absorption layer provided on the upper surface and the side of the conductive layer is made of a dielectric material, the same paste can be used, and it can be formed simultaneously.

導電層の上面に設けられた段差吸収層が導電材料により構成されている場合には、一チップ領域の端部の導電領域が拡大され、外部電極部に対する電気的・機械的な接合がより良好となる。   When the step absorption layer provided on the upper surface of the conductive layer is made of a conductive material, the conductive region at the end of one chip region is enlarged, and electrical and mechanical bonding to the external electrode is better. It becomes.

以下、本発明を積層セラミックコンデンサの製造方法に適用した場合の実施の形態を、添付図面に基づいて説明する。なお、図中、同一符号は同一又は対応部分を示すものとする。   DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments in the case where the present invention is applied to a method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor will be described below with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

図1は、本発明の実施の形態1に係る製造方法を適用する積層セラミックコンデンサの一例を示す断面図である。図示の積層セラミックコンデンサ1は、誘電体基体3の内部に、複数の内部電極層(導電層)5、7が埋設されている。隣り合う2つの内部電極層5、7は誘電体からなる層を介して向き合っている。内部電極層5、7の層数は、要求される静電容量に応じて決定される。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a multilayer ceramic capacitor to which the manufacturing method according to Embodiment 1 of the present invention is applied. In the illustrated multilayer ceramic capacitor 1, a plurality of internal electrode layers (conductive layers) 5 and 7 are embedded in a dielectric substrate 3. Two adjacent internal electrode layers 5 and 7 face each other through a layer made of a dielectric. The number of layers of the internal electrode layers 5 and 7 is determined according to the required capacitance.

誘電体基体3の対向する側面には外部電極部9、11が設けられている。内部電極層5は、このうちの外部電極部9に導通されており、内部電極層7は外部電極部11に導通されている。   External electrode portions 9 and 11 are provided on opposing side surfaces of the dielectric substrate 3. The internal electrode layer 5 is electrically connected to the external electrode portion 9, and the internal electrode layer 7 is electrically connected to the external electrode portion 11.

次に、このような構成の積層セラミックコンデンサの製造方法について説明する。まず、図2に示されるように、可撓性のあるPETフィルム(支持体)21の上面に、セラミック粉末、バインダ及び溶剤などを少なくとも含むセラミックペースト(誘電体ペースト)23を塗布し、いわゆるグリーンシート(グリーン層)25が得られる。セラミックペースト23の塗布は、ドクターブレード又は押出ヘッド等を用い、塗布後の乾燥処理を行う。また、グリーンシート25の厚みは1.0〜3.0μmに設定されている。   Next, a manufacturing method of the multilayer ceramic capacitor having such a configuration will be described. First, as shown in FIG. 2, a ceramic paste (dielectric paste) 23 containing at least ceramic powder, a binder, a solvent, and the like is applied to the upper surface of a flexible PET film (support) 21, so-called green A sheet (green layer) 25 is obtained. The ceramic paste 23 is applied using a doctor blade or an extrusion head, and a drying process after the application is performed. The thickness of the green sheet 25 is set to 1.0 to 3.0 μm.

続いて、グリーンシート25を乾燥させた後、シート上面に、内部電極層5、7を構成すべく導電体ペースト27を複数、分離して配置する。導電体ペースト27は、例えばスクリーン印刷法やグラビア印刷法によって塗布することができる。導電体ペースト27の厚みは1.0〜3.0μmに設定されている。   Subsequently, after the green sheet 25 is dried, a plurality of conductor pastes 27 are separately disposed on the upper surface of the sheet so as to form the internal electrode layers 5 and 7. The conductor paste 27 can be applied by, for example, a screen printing method or a gravure printing method. The thickness of the conductor paste 27 is set to 1.0 to 3.0 μm.

続いて、導電体ペースト27の上面及び側方に段差吸収用セラミックペースト31を塗布する。上面に塗布された段差吸収用セラミックペースト31は、上部段差吸収層6を構成し、側方に塗布された段差吸収用セラミックペースト31は、側方段差吸収層8を構成する。段差吸収用セラミックペースト31は、後述する印刷パターンを実現するスクリーン製版33を使用する。また、段差吸収用セラミックペースト31は、基本的には、前述したセラミックペースト23と同様な構成であり、セラミック粉末、バインダ及び溶剤などを少なくとも構成要素として含む。   Subsequently, a step-absorbing ceramic paste 31 is applied to the upper surface and sides of the conductor paste 27. The step absorbing ceramic paste 31 applied to the upper surface constitutes the upper step absorbing layer 6, and the step absorbing ceramic paste 31 applied to the side constitutes the side step absorbing layer 8. The step-absorbing ceramic paste 31 uses a screen plate making 33 that realizes a printing pattern to be described later. The step-absorbing ceramic paste 31 basically has the same configuration as the ceramic paste 23 described above, and includes ceramic powder, a binder, a solvent, and the like as at least constituent elements.

このようにして、グリーンシート25上に内部電極層5、7、上部段差吸収層6及び側方段差吸収層8を形成した単位シート(単位層)35を、本実施の形態では400層以上積層し、シート積層体37を得る(後述の図3参照)。かかる積層は、内部電極層5、7の位置が交互にずれる態様で行われる。なお、シート積層体37の最上部と最下部には、誘電体のみからなるシートを積層して構成した保護層を設けることもできる。   In this embodiment, the unit sheet (unit layer) 35 in which the internal electrode layers 5 and 7, the upper step absorption layer 6 and the side step absorption layer 8 are formed on the green sheet 25 in this embodiment is laminated by 400 layers or more. And the sheet | seat laminated body 37 is obtained (refer FIG. 3 mentioned later). Such lamination is performed in such a manner that the positions of the internal electrode layers 5 and 7 are alternately shifted. Note that a protective layer formed by laminating sheets made only of dielectrics may be provided on the uppermost and lowermost portions of the sheet laminate 37.

次に、かかるシート積層体37をプレスした後、一チップ領域(単位層)に裁断して、積層チップ体39を得る。さらに、積層チップ体39から有機バインダ等をバーンアウトする脱バインダ処理を行った後、焼成を行って、最後に、積層チップ体の対向する側面に、外部電極部9、11を焼付し、積層セラミックコンデンサ1を得る。   Next, after pressing the sheet laminate 37, the sheet laminate 37 is cut into one chip region (unit layer) to obtain a laminated chip body 39. Further, after performing a binder removal process for burning out an organic binder or the like from the multilayer chip body 39, firing is performed, and finally, the external electrode portions 9 and 11 are baked on the opposite side surfaces of the multilayer chip body, A ceramic capacitor 1 is obtained.

続いて、図3に基づいて、本実施の形態における導電体ペースト27及び段差吸収用セラミックペースト31の印刷パターンについて説明する。導電体ペースト27及び段差吸収用セラミックペースト31はそれぞれ、内部電極層5、7及び段差吸収層6、8を構成する。また、図3において、斜線部分は導電体ペースト27(内部電極層5、7)を示し、格子部分は上部段差吸収層6を構成する段差吸収用セラミックペースト31を示し、ドット部分は側方段差吸収層8を構成する段差吸収用セラミックペースト31を示すものとする。また、点線は、一チップ領域(一部品単位の大きさ、すなわちコンデンサ1個分)の境界すなわち裁断工程の切断ラインを示すものとする。本実施の形態では、一チップ領域は平面視長方形に設定されている。また、説明の便宜上、多層積層されるうちの4層部分のみを抜き出して説明するものとする。   Next, a printed pattern of the conductor paste 27 and the step absorbing ceramic paste 31 in the present embodiment will be described with reference to FIG. The conductor paste 27 and the step absorbing ceramic paste 31 constitute the internal electrode layers 5 and 7 and the step absorbing layers 6 and 8, respectively. In FIG. 3, the hatched portion indicates the conductive paste 27 (internal electrode layers 5 and 7), the lattice portion indicates the step absorbing ceramic paste 31 constituting the upper step absorbing layer 6, and the dot portion indicates the side step. The step-absorbing ceramic paste 31 constituting the absorption layer 8 is shown. A dotted line indicates a boundary of one chip region (a size of one component unit, that is, one capacitor), that is, a cutting line in a cutting process. In the present embodiment, one chip area is set to a rectangular shape in plan view. Further, for convenience of explanation, only the four layer portions of the multilayer stack will be extracted and described.

第1単位シート35a、第2単位シート35b、第3単位シート35c、第4単位シート35dのそれぞれにおいて、導電体ペースト27は、二チップ領域毎にその二チップ領域に跨るように配置されていると共に、当該二チップ領域と隣り合う二チップ領域との境界で分断するように配置されている。   In each of the first unit sheet 35a, the second unit sheet 35b, the third unit sheet 35c, and the fourth unit sheet 35d, the conductor paste 27 is disposed so as to straddle the two chip regions every two chip regions. At the same time, they are arranged so as to be divided at the boundary between the two-chip area and the adjacent two-chip area.

段差吸収用セラミックペースト31は、まず、各導電体ペースト27上面の長手方向中央部すなわち導電体ペースト27が跨っている境界上に配置されている。この段差吸収用セラミックペースト31は、導電体ペースト27と同じ幅で塗布される。また、この段差吸収用セラミックペースト31は、上部段差吸収層6として機能する。   The step-absorbing ceramic paste 31 is first disposed on the center of the upper surface of each conductor paste 27 in the longitudinal direction, that is, on the boundary across which the conductor paste 27 straddles. The step absorbing ceramic paste 31 is applied with the same width as the conductor paste 27. Further, the step absorbing ceramic paste 31 functions as the upper step absorbing layer 6.

さらに、段差吸収用セラミックペースト31は、導電体ペースト27の上面以外に、幅方向に隣り合う導電体ペースト27の間、すなわち長手方向の境界に沿うようにも配置されている。この段差吸収用セラミックペースト31は、各単位シート35a〜35dにおいて、長手方向全体に亙って連続して延びており、導電体ペースト27とほぼ同高さに設けられる。また、この段差吸収用セラミックペースト31は、側方段差吸収層8として機能する。   Further, the step-absorbing ceramic paste 31 is disposed not only on the upper surface of the conductor paste 27 but also between the conductor pastes 27 adjacent in the width direction, that is, along the boundary in the longitudinal direction. This step-absorbing ceramic paste 31 extends continuously over the entire longitudinal direction in each of the unit sheets 35 a to 35 d and is provided at substantially the same height as the conductor paste 27. The step absorbing ceramic paste 31 functions as the side step absorbing layer 8.

そして、隣り合う一対の導電体ペースト27と、側方段差吸収層8を構成する隣り合う一対の段差吸収用セラミックペースト31とに囲まれた部分が、導電層非形成部41として残存する。本実施の形態では、平面的にみて、上部段差吸収層6は導電層非形成部41よりも広く形成されている。すなわち、長手方向寸法に関して、上部段差吸収層6のほうが導電層非形成部41よりも若干長く形成さている。   A portion surrounded by a pair of adjacent conductive pastes 27 and a pair of adjacent step absorbing ceramic pastes 31 constituting the side step absorbing layer 8 remains as the conductive layer non-forming portion 41. In the present embodiment, the upper step absorption layer 6 is formed wider than the conductive layer non-forming portion 41 in plan view. That is, with respect to the longitudinal dimension, the upper step absorption layer 6 is formed slightly longer than the conductive layer non-forming portion 41.

このように、同一形状の導電体ペースト27と段差吸収用セラミックペースト31とが長手方向に繰り返される印刷パターンが用いられる。すなわち、これらの第1〜第4単位シート35a〜35dを含むすべての単位シート35は、積層位置をずらすものの、印刷パターンとしては同一の態様を採用している。   In this way, a printing pattern is used in which the conductive paste 27 having the same shape and the step-absorbing ceramic paste 31 are repeated in the longitudinal direction. That is, all the unit sheets 35 including the first to fourth unit sheets 35a to 35d adopt the same mode as the printing pattern, although the stacking positions are shifted.

また、相互の積層位置は、図3に示すとおりであり、導電体ペースト27の二チップ領域に跨る部分と分断している部分とは一層毎に交互に重なるように、そして、導電層非形成部41と上部段差吸収層6とが一層毎に交互に重なるように、長手方向の位置をずらして積層される。   Also, the mutual stacking positions are as shown in FIG. 3, and the portions of the conductor paste 27 that straddle the two chip regions and the divided portions overlap each other alternately, and no conductive layer is formed. The portions 41 and the upper step absorption layer 6 are laminated with their positions in the longitudinal direction shifted so that they overlap each other alternately.

上記のような単位シート35の積層態様によって、積層位置を同じくする一チップ領域に着目すると次のような構成を備える。本実施の形態の一チップ領域においては、2種類の構成が存在している。   When the unit sheet 35 is stacked as described above, focusing on one chip region having the same stacking position, the following configuration is provided. In one chip region of the present embodiment, there are two types of configurations.

図3には、第1〜第4単位シート35a〜35dにおいて積層位置を同じくする第1〜第4一チップ領域43a〜43dを示すが、全ての一チップ領域43a〜43dにおいて、内部電極層5、7、上部段差吸収層6、側方段差吸収層8及び導電層非形成部41が存在している。   FIG. 3 shows the first to fourth one-chip regions 43a to 43d having the same stacking positions in the first to fourth unit sheets 35a to 35d, but the internal electrode layer 5 in all the one-chip regions 43a to 43d. 7, the upper step absorption layer 6, the side step absorption layer 8, and the conductive layer non-forming portion 41 are present.

図3から分かるように、一層隔てた第1及び第3一チップ領域43a、43cは同じ層内構成を有しており、導電層非形成部41は内部電極層5の側方であって一チップ領域の長手方向の一方側に形成され、上部段差吸収層6は、内部電極層5の上面であって一チップ領域の長手方向の他方側に配置されている。一層隔てた第2及び第4一チップ領域43b、43dは同じ層内構成を有しており、導電層非形成部41は内部電極層7の側方であって一チップ領域の長手方向の他方側に形成され、上部段差吸収層6は、内部電極層7の上面であって一チップ領域の長手方向の一方側に配置されている。そして、内部電極層5、7、上部段差吸収層6及び導電層非形成部41はすべて同じ幅に形成されており、また、平面視矩形に形成されている。   As can be seen from FIG. 3, the first and third one chip regions 43 a and 43 c which are separated from each other have the same in-layer structure, and the conductive layer non-forming portion 41 is on the side of the internal electrode layer 5. The upper step absorption layer 6 is formed on one side in the longitudinal direction of the chip region, and is disposed on the other side in the longitudinal direction of one chip region on the upper surface of the internal electrode layer 5. The second and fourth one-chip regions 43b and 43d separated by one layer have the same intra-layer structure, and the conductive layer non-forming portion 41 is on the side of the internal electrode layer 7 and the other in the longitudinal direction of the one-chip region. The upper step absorption layer 6 is formed on the upper surface of the internal electrode layer 7 on one side in the longitudinal direction of one chip region. The internal electrode layers 5 and 7, the upper step absorption layer 6, and the conductive layer non-forming portion 41 are all formed to have the same width, and are formed in a rectangular shape in plan view.

側方段差吸収層8は、平面視、内部電極層5、7、上部段差吸収層6及び導電層非形成部41における幅方向の両側に設けられている。そして、第1〜第4一チップ領域43a〜43dにおいて、長手方向の全体に亙って連続して延びている。   The side step absorption layer 8 is provided on both sides in the width direction of the internal electrode layers 5 and 7, the upper step absorption layer 6, and the conductive layer non-forming portion 41 in plan view. And in the 1st-4th 1st chip | tip area | regions 43a-43d, it has extended continuously over the whole longitudinal direction.

各一チップ領域43a〜43dがこのように構成された第1〜第4単位シート35a〜35dを積層することによって、積層セラミックコンデンサ1の全体において、一チップ領域内に関し、積層される一対の層においてみて、一方の層の導電層非形成部41は常に、他方の層の上部段差吸収層6の少なくとも一部の上方に重ねられている。特に本実施の形態では、平面的にみて上部段差吸収層6が導電層非形成部41とぴったり整列するように重ねられている。   By laminating the first to fourth unit sheets 35a to 35d configured in this way in each of the one chip regions 43a to 43d, a pair of layers stacked in the entire one chip region in the entire multilayer ceramic capacitor 1. In view of this, the conductive layer non-forming portion 41 of one layer is always overlaid on at least a part of the upper step absorption layer 6 of the other layer. In particular, in the present embodiment, the upper step absorption layer 6 is superposed so as to be exactly aligned with the conductive layer non-forming portion 41 in plan view.

以上のように構成された本実施の形態に係る積層セラミックコンデンサ1においては、内部電極層5、7の上面に設けられた上部段差吸収層6の少なくとも一部の上方に導電層非形成部41が位置するように交互に積層されていくため、内部電極層5、7とそれが形成されていない導電層非形成部41との段差が解消される。さらに、上部段差吸収層6から溶剤が滲出した場合にも上部段差吸収層6とグリーンシート25との間に内部電極層5、7が介在されているため、内部電極層5、7の厚みの分だけ溶剤がPETフィルム21まで浸透することを抑制し、いわゆるシートアタックを防止することができる。特に、グリーンシート25及び内部電極層5、7の合計厚みが3μm以下であって、シート積層体37の厚みが400μm以上の薄層多層品に有効である。   In the multilayer ceramic capacitor 1 according to the present embodiment configured as described above, the conductive layer non-forming portion 41 is provided above at least a part of the upper step absorption layer 6 provided on the upper surfaces of the internal electrode layers 5 and 7. Therefore, the step difference between the internal electrode layers 5 and 7 and the conductive layer non-formation portion 41 where it is not formed is eliminated. Further, when the solvent oozes from the upper step absorption layer 6, the internal electrode layers 5, 7 are interposed between the upper step absorption layer 6 and the green sheet 25, so that the thickness of the internal electrode layers 5, 7 is increased. It is possible to suppress the permeation of the solvent to the PET film 21 by an amount and prevent a so-called sheet attack. Particularly, it is effective for a thin multilayer product in which the total thickness of the green sheet 25 and the internal electrode layers 5 and 7 is 3 μm or less and the thickness of the sheet laminate 37 is 400 μm or more.

さらに、平面的にみて上部段差吸収層6が導電層非形成部41よりも広く形成されているため、積層時に導電層非形成部に起因した隙間をより確実に埋めることができ、段差吸収効果を一層確実なものとすることができる。   Furthermore, since the upper step absorption layer 6 is formed wider than the conductive layer non-formation portion 41 in plan view, the gap caused by the conductive layer non-formation portion can be more reliably filled during lamination, and the step absorption effect Can be further ensured.

また、側方段差吸収層8が内部電極層5、7の側方においてチップ領域の長手方向に延長しているため、内部電極層5、7の幅方向両側においても段差吸収効果を得られている。よって、上部段差吸収層6の上記作用と相俟って、積層セラミックコンデンサ1全体でより高い段差発生防止効果を獲得することができる。なお、側方段差吸収層8は、平面的にみて内部電極層5、7が設けられていない領域に配置されているため、シートアタックによる凹凸に起因し電気的特性が問題となることはない。   Further, since the side step absorption layer 8 extends in the longitudinal direction of the chip region on the side of the internal electrode layers 5 and 7, a step absorption effect can be obtained on both sides in the width direction of the internal electrode layers 5 and 7. Yes. Therefore, in combination with the above-described operation of the upper step absorption layer 6, a higher step generation prevention effect can be obtained in the entire multilayer ceramic capacitor 1. Since the side step absorption layer 8 is disposed in a region where the internal electrode layers 5 and 7 are not provided in a plan view, electrical characteristics do not become a problem due to unevenness due to sheet attack. .

また、複数の単位シート35に亙って、内部電極層5、7、段差吸収層6、8及び導電層非形成部41が同一パターンに形成されるため、単一の印刷パターンを用いて段差吸収層6、8と導電層非形成部41との双方を有する態様を簡単且つ大量に製造できる。   Further, since the internal electrode layers 5 and 7, the step absorption layers 6 and 8, and the conductive layer non-forming portion 41 are formed in the same pattern over the plurality of unit sheets 35, the step is formed using a single print pattern. A mode having both the absorption layers 6 and 8 and the conductive layer non-forming portion 41 can be manufactured easily and in large quantities.

また、段差吸収層6、8と導電層非形成部41との双方は、積層後の裁断処理によって形成されていく。よって、積層セラミックコンデンサの既存のプロセスにのせて実施することができる。   Further, both the step absorption layers 6 and 8 and the conductive layer non-forming portion 41 are formed by a cutting process after lamination. Therefore, it can be carried out on the existing process of the multilayer ceramic capacitor.

以上、好ましい実施の形態を参照して本発明の内容を具体的に説明したが、本発明の基本的技術思想及び教示に基づいて、当業者であれば、種々の改変態様を採り得ることは自明である。   Although the contents of the present invention have been specifically described with reference to the preferred embodiments, various modifications can be made by those skilled in the art based on the basic technical idea and teachings of the present invention. It is self-explanatory.

まず、上記実施の形態では、積層セラミックコンデンサにおいて内部電極層が設けられている全ての単位シートで、一チップ領域でみて導電層の上方に上部段差吸収層が設けられ、且つ、導電層の側方に導電層非形成部が設けられていたが、本発明はこれに限定されるものではなく、少なくとも一つの一チップ領域でみて、導電層の上方に上部段差吸収層が設けられている層を用意し、その上部段差吸収層の少なくとも一部の上方に導電層非形成部が配置されていればよい。   First, in the above-described embodiment, the upper step absorption layer is provided above the conductive layer as viewed in one chip region in all the unit sheets provided with the internal electrode layer in the multilayer ceramic capacitor, and the conductive layer side However, the present invention is not limited to this, and a layer in which an upper step absorption layer is provided above the conductive layer as viewed in at least one chip region. As long as the conductive layer non-forming portion is disposed above at least a part of the upper step absorption layer.

また、積層に際して内部電極層(導電層)をずらしながら配置する態様としては、上記実施の形態のように単位シートを長手方向に直線的にシフトさせる態様には限定されず、180度回転させながら重ねていく態様であってもよい。   Further, the mode of disposing the internal electrode layer (conductive layer) while laminating is not limited to the mode of linearly shifting the unit sheet in the longitudinal direction as in the above embodiment, and while rotating 180 degrees. It may be a mode of overlapping.

また、上部段差吸収層は平面的にみて導電層非形成部よりも広く形成される態様に限定されるものではなく、導電層非形成部が上部段差吸収層の少なくとも一部の上方に位置するように積層が可能な態様であれば適宜改変して実施することができる。よって、例えば、上部段差吸収層を平面的にみて導電層非形成部よりも小さく形成し、積層時に導電層非形成部が上部段差吸収層全体の上方に位置していてもよい。あるいは、上部段差吸収層及び導電層非形成部を同寸法とし平面的にみて両者が一致するように重なる態様で積層することも可能である。これらのような改変形態おいても、導電層非形成部が上部段差吸収層の上方に積層されていれば、両者の重なりの範囲において段差吸収効果が得られる。   Further, the upper step absorption layer is not limited to a mode in which the upper step absorption layer is formed wider than the conductive layer non-formation portion in plan view, and the conductive layer non-formation portion is located above at least a part of the upper step absorption layer. As long as it can be laminated as described above, it can be implemented with appropriate modifications. Therefore, for example, the upper step absorption layer may be formed to be smaller than the conductive layer non-forming portion in plan view, and the conductive layer non-forming portion may be positioned above the entire upper step absorption layer when stacked. Alternatively, the upper step absorption layer and the conductive layer non-forming portion may have the same dimensions, and may be stacked in an overlapping manner so that they match when viewed in plan. Even in these modified forms, if the conductive layer non-forming portion is stacked above the upper step absorption layer, the step absorption effect can be obtained in the overlapping range of both.

さらに、上部段差吸収層及び導電層非形成部は平面的にみて同一形状に形成されることには限定されない。平面的にみて上部段差吸収層が導電層非形成部の範囲内に収容されていれば好適な段差吸収効果が得られる。よって、上部段差吸収層は、導電層非形成部よりも小形状に形成することもできる。   Furthermore, the upper step absorption layer and the conductive layer non-forming portion are not limited to being formed in the same shape as viewed in a plan view. If the upper step absorption layer is accommodated in the range of the conductive layer non-forming portion in plan view, a preferable step absorption effect can be obtained. Therefore, the upper step absorption layer can be formed in a smaller shape than the conductive layer non-forming portion.

また、上部段差吸収層及び側方段差吸収層は、別工程で塗布されていてもよいし、別材料で構成されていてもよい。さらに、側方段差吸収層は設けないようにしてもよい。その場合も、導電層非形成部は、長手方向に隣り合う一対の導電層の間、もしくは、一チップ領域において導電層の長手方向の側方にあって、導電層と導幅の領域として観念することができる。   In addition, the upper step absorption layer and the side step absorption layer may be applied in separate steps or may be formed of different materials. Further, the side step absorption layer may not be provided. Also in this case, the conductive layer non-forming portion is an area between the pair of conductive layers adjacent to each other in the longitudinal direction or on the side in the longitudinal direction of the conductive layer in one chip region, and is considered as a conductive layer and a conductive width region. can do.

また、上記実施の形態では、シート積層体を得る積層工程後に積層チップ体への裁断工程を行うプロセスであったが、本発明はこの順序に限定されるものではない。よって、単位シートから一チップ領域分を取り出す裁断工程の後に、それを重ねる積層工程を行う態様も含まれる。   Moreover, in the said embodiment, although it was the process of performing the cutting process to a lamination | stacking chip body after the lamination process of obtaining a sheet | seat laminated body, this invention is not limited to this order. Therefore, the aspect which performs the lamination process which overlaps it after the cutting process which takes out one chip area | region from a unit sheet is also contained.

また、上記実施の形態では、上部段差吸収層及び側方段差吸収層は誘電体材料で構成されていたため、同じペーストを使用することが可能であり、さらに、同時に形成することも可能となりうる。しかし、これに代えて、上部段差吸収層は導電材料で構成することもできる。その場合には、一チップ領域の端部の導電領域が拡大され、外部電極部に対する電気的・機械的な接合がより良好となる。さらに、上部段差吸収層を導電材料で形成する場合、必ずしも上部段差吸収層を導電層とは別工程で形成する必要はなく、導電ペーストの塗布時に厚みを階段状又は滑らかに変化させて形成するようにしてもよい。   Moreover, in the said embodiment, since the top level | step difference absorption layer and the side level | step difference absorption layer were comprised with the dielectric material, it is possible to use the same paste and also to form simultaneously. However, instead of this, the upper step absorption layer can be made of a conductive material. In that case, the conductive region at the end of the one-chip region is enlarged, and electrical and mechanical bonding to the external electrode portion is improved. Further, when the upper step absorption layer is formed of a conductive material, it is not always necessary to form the upper step absorption layer in a separate process from the conductive layer, and the thickness is changed stepwise or smoothly when applying the conductive paste. You may do it.

さらに、本発明に関する積層電子部品は、積層セラミックコンデンサに限定されるものではなく、例えば、インダクタ、LCフィルタ、アレイ部品に適用することも可能であり、よって、導電層もコンデンサにおける内部電極層に限定されるものではない。   Furthermore, the multilayer electronic component according to the present invention is not limited to the multilayer ceramic capacitor, and can be applied to, for example, an inductor, an LC filter, and an array component. Therefore, the conductive layer is also used as the internal electrode layer in the capacitor. It is not limited.

本発明の実施の形態に係る製造方法を適用する積層セラミックコンデンサを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the laminated ceramic capacitor to which the manufacturing method which concerns on embodiment of this invention is applied. 積層セラミックコンデンサの製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of a multilayer ceramic capacitor. 本発明の一実施の形態における、導電層、段差吸収層及び導電層非形成部の配置パターンを示す図である。It is a figure which shows the arrangement pattern of a conductive layer, a level | step difference absorption layer, and a conductive layer non-formation part in one embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 積層セラミックコンデンサ(積層電子部品)
5、7 内部電極層(導電層)
6 上部段差吸収層
8 側方段差吸収層
21 PETフィルム(支持体)
25 グリーンシート(グリーン層)
35 単位シート(単位層)
37 シート積層体
39 積層チップ体
41 導電層非形成部
43a〜43d 一チップ領域(単位層)
1 Multilayer ceramic capacitors (multilayer electronic components)
5, 7 Internal electrode layer (conductive layer)
6 Upper step absorption layer 8 Side step absorption layer 21 PET film (support)
25 Green sheet (green layer)
35 Unit sheet (unit layer)
37 Sheet Laminated Body 39 Laminated Chip Body 41 Conductive Layer Non-Forming Portions 43a to 43d One Chip Area (Unit Layer)

Claims (7)

支持体の上に誘電体ペーストから構成したグリーン層を形成し、該グリーン層上に導電層及び段差吸収層を形成した単位層を複数積層して積層電子部品を製造する方法において、
少なくとも一つの導電層の上面に前記段差吸収層が形成されている第1の単位層を用意し、
導電層の側方に導電層が形成されていない導電層非形成部を有する第2の単位層を用意し、
前記導電層非形成部が前記段差吸収層の少なくとも一部の上方に位置するように、前記第2の単位層を前記第1の単位層の上方に積層する、
ことを特徴とする積層電子部品の製造方法。
In a method of manufacturing a laminated electronic component by forming a green layer composed of a dielectric paste on a support, and laminating a plurality of unit layers each having a conductive layer and a step absorption layer formed on the green layer.
Preparing a first unit layer in which the step absorption layer is formed on an upper surface of at least one conductive layer;
Preparing a second unit layer having a conductive layer non-formed portion where a conductive layer is not formed on the side of the conductive layer;
Laminating the second unit layer above the first unit layer so that the conductive layer non-forming portion is located above at least part of the step absorption layer;
A method for manufacturing a laminated electronic component, comprising:
前記単位層として、前記誘電体ペーストから構成し複数チップ領域を有するグリーンシート上に前記導電層と前記段差吸収層とを複数形成し、該段差吸収層のそれぞれが該導電層の上面に設けられているもの、を複数枚用意する工程と、
それら複数の単位層を、前記導電層非形成部が前記段差吸収層の少なくとも一部の上方に位置する態様で積層し、シート積層体を得る工程と、
前記シート積層体を、一チップ領域毎に裁断して積層チップ体を得る工程と
を備えることを特徴とする請求項1に記載の積層電子部品の製造方法。
As the unit layer, a plurality of the conductive layer and the step absorption layer are formed on a green sheet made of the dielectric paste and having a plurality of chip regions, and each of the step absorption layers is provided on the upper surface of the conductive layer. A process of preparing a plurality of
Laminating the plurality of unit layers in a mode in which the conductive layer non-forming portion is positioned above at least a part of the step absorption layer, and obtaining a sheet laminate,
The method for manufacturing a laminated electronic component according to claim 1, further comprising a step of cutting the sheet laminated body for each chip region to obtain a laminated chip body.
平面的にみて前記段差吸収層は前記導電層非形成部よりも広く形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載の積層電子部品の製造方法。   3. The method for manufacturing a laminated electronic component according to claim 1, wherein the step absorption layer is formed wider than the conductive layer non-forming portion in plan view. 導電層の上面とは別に側方にも、一チップ領域内の長手方向の少なくとも一部に延長する段差吸収層を形成することを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の積層電子部品の製造方法。   4. The step absorption layer extending to at least a part of the longitudinal direction in one chip region is formed on the side separately from the upper surface of the conductive layer. 5. A method for manufacturing a laminated electronic component. 複数の前記単位層に亙って、前記段差吸収層を同一パターンによって形成することを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の積層電子部品の製造方法。   5. The method for manufacturing a multilayer electronic component according to claim 1, wherein the step absorption layer is formed in the same pattern over the plurality of unit layers. 6. 前記導電層の上面及び側方に設けられた前記段差吸収層は、誘電体材料により構成されていることを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載の積層電子部品の製造方法。   6. The method for manufacturing a multilayer electronic component according to claim 1, wherein the step absorption layer provided on the upper surface and the side of the conductive layer is made of a dielectric material. . 前記導電層の上面に設けられた前記段差吸収層は、導電材料により構成されていることを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載の積層電子部品の製造方法。   The method for manufacturing a multilayer electronic component according to claim 1, wherein the step absorption layer provided on the upper surface of the conductive layer is made of a conductive material.
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