JP5152278B2 - Manufacturing method of laminated electronic component and laminated electronic component - Google Patents
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本発明は、積層電子部品の製造方法及び積層電子部品に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a laminated electronic component and a laminated electronic component.
コンデンサなどの積層電子部品を製造するにあたり、セラミックグリーンシート上に内部電極パターンを形成し、内部電極パターンが形成されたセラミックグリーンシートを積層圧着してグリーン積層体を得ることが行われている。ところで、この製造方法では、内部電極パターンが形成されない非形成領域(空隙)がセラミックグリーンシート上にできてしまうことから、そのまま積層圧着してしまうと、非形成領域と内部電極パターンとの間の段差により、クラックなどの内部構造欠陥を発生させてしまう場合があった。 In manufacturing a laminated electronic component such as a capacitor, an internal electrode pattern is formed on a ceramic green sheet, and a green laminate is obtained by laminating and pressing the ceramic green sheet on which the internal electrode pattern is formed. By the way, in this manufacturing method, since the non-formation area | region (gap | interval) in which an internal electrode pattern is not formed will be formed on a ceramic green sheet, if it laminates and presses as it is, it will be between a non-formation area | region and an internal electrode pattern. In some cases, the steps cause internal structural defects such as cracks.
そこで、特許文献1に記載の製造方法では、セラミックグリーンシート上で内部電極パターンが形成されない非形成領域に、セラミックグリーンシートの材料と同じ誘電体材料を含むペーストを塗布して段差吸収層を設け、この段差吸収層により、かかる段差が生じないようにしている。そして、特許文献1に記載の製造方法では、かかる段差を解消した上でセラミックグリーンシートを積層圧着し、これにより、内部構造欠陥の発生を抑制しつつ、積層電子部品を製造している。
Therefore, in the manufacturing method described in
しかしながら、コンデンサなどの積層電子部品に対する小型化要請がますます強くなってきていることから、これら電子部品の製造にあたり、非形成領域に対して段差吸収層がずれて形成されてしまい、段差吸収層と内部電極パターンとの間に隙間が形成されてしまう場合があった。このような隙間が形成されると、少なからず、内部構造欠陥の原因となってしまうおそれがある。そこで、図26の内部電極層等の平面図に示されるように、非形成領域R201〜R204に段差吸収層213〜216を形成する際、あえて内部電極パターン207〜210の外縁に段差吸収層の一部217〜220が重なるように製造を行い、これにより、非形成領域R201〜R204に形成される段差吸収層213〜216と内部電極パターン207〜210との間の隙間を完全になくし、内部構造欠陥の発生を抑制するようにしている。
However, since the demand for miniaturization of multilayer electronic components such as capacitors has become stronger, in manufacturing these electronic components, the step absorption layer is formed so as to be shifted from the non-formation region. In some cases, a gap is formed between the electrode pattern and the internal electrode pattern. If such a gap is formed, there is a risk of causing internal structural defects. Therefore, as shown in the plan view of the internal electrode layer and the like in FIG. 26, when the
ところで、内部電極パターン207〜210の外縁に段差吸収層217〜220が重なるように構成された複数のセラミックグリーンシートを積層しようとした場合、図27や図28に示されるように、内部電極パターン上に段差吸収層がある場所とない場所とが併存してしまい、例えば、主面電極207a〜210aと引出電極207b〜210bとの連結箇所に段差部分(空隙)Sが形成されてしまう場合があった。このような段差部分Sを含む積層体をそのまま圧着すると(図29(a)参照)、この段差部分に応力が集中し、その結果、対向する主面電極部分同士が接触又は近接してしまうおそれがあった(図29(b)、(c)参照)。このように主面電極207a〜210a同士の接触等が生じてしまうと、積層電子部品は、意図した性能を十分に発揮することが難しくなってしまう。
By the way, when it is going to laminate | stack the some ceramic green sheet comprised so that the level | step difference absorption layers 217-220 may overlap with the outer edge of the internal electrode patterns 207-210, as shown in FIG. 27 and FIG. There may be a place where there is a step absorption layer and a place where there is no step absorption layer. For example, a step portion (gap) S may be formed at the connection portion between the
本発明は、内部構造欠陥の発生を抑制した積層電子部品を製造することができる製造方法及びこの製造方法によって製造される積層電子部品を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the manufacturing method which can manufacture the multilayer electronic component which suppressed generation | occurrence | production of the internal structural defect, and the multilayer electronic component manufactured by this manufacturing method.
本発明に係る積層電子部品の製造方法は、少なくとも主面電極部分を含む内部電極パターンをセラミックグリーンシート上に形成する工程と、セラミックグリーンシート上で内部電極パターンが形成されない非形成領域と内部電極パターンの主面電極部分の周縁全体とに段差吸収層を形成する工程と、内部電極パターンと段差吸収層とが形成されたセラミックグリーンシートを積層且つ圧着して、グリーン積層体を形成する工程とを備えている。 The method for manufacturing a multilayer electronic component according to the present invention includes a step of forming an internal electrode pattern including at least a main surface electrode portion on a ceramic green sheet, a non-formation region where the internal electrode pattern is not formed on the ceramic green sheet, and an internal electrode Forming a step-absorbing layer on the entire periphery of the main surface electrode portion of the pattern; and laminating and pressing a ceramic green sheet on which the internal electrode pattern and the step-absorbing layer are formed; and forming a green laminate It has.
本発明に係る積層電子部品の製造方法では、段差吸収層を形成する工程において、内部電極パターンの主面電極部分の周縁全体に段差吸収層を形成している。この場合、主面電極部分の周縁全体に形成された段差吸収層により、セラミックグリーンシートを積層圧着したとしても、主面電極部分に段差部分が形成されることを防ぐことができ、段差部分に起因する応力集中を回避することができる。その結果、積層体におけるクラックなどの内部構造欠陥の発生が抑制され、例えば主面電極部分同士における接触や近接を回避できる。 In the method for manufacturing a laminated electronic component according to the present invention, in the step of forming the step absorption layer, the step absorption layer is formed over the entire periphery of the main surface electrode portion of the internal electrode pattern. In this case, even if the ceramic green sheet is laminated and pressure-bonded by the step absorption layer formed on the entire periphery of the main surface electrode portion, it is possible to prevent the step portion from being formed on the main surface electrode portion. The resulting stress concentration can be avoided. As a result, the occurrence of internal structural defects such as cracks in the laminate is suppressed, and for example, contact and proximity between main surface electrode portions can be avoided.
本発明に係る積層電子部品の製造方法において、内部電極パターンを形成する工程において、更に引出電極部分を含むように内部電極パターンをセラミックグリーンシート上に形成し、段差吸収層を形成する工程において、内部電極パターンの引出電極部分に段差吸収層を形成することが好ましい。この場合、セラミックグリーンシートを積層圧着しても、引出電極部分に形成された段差吸収層により、引出電極部分に段差部分が形成されることを防ぐことができ、段差部分に起因する応力集中を回避することができる。その結果、積層体における内部構造欠陥の発生が更に抑制される。 In the method for manufacturing a laminated electronic component according to the present invention, in the step of forming the internal electrode pattern, in the step of forming the internal electrode pattern on the ceramic green sheet so as to further include the extraction electrode portion, and forming the step absorption layer, It is preferable to form a step absorption layer in the extraction electrode portion of the internal electrode pattern. In this case, even if the ceramic green sheet is laminated and pressure-bonded, the step absorption layer formed in the extraction electrode portion can prevent the formation of the step portion in the extraction electrode portion, and stress concentration caused by the step portion can be reduced. It can be avoided. As a result, the occurrence of internal structural defects in the laminate is further suppressed.
なお、上述したように、引出電極部分に段差吸収層を形成する場合に、段差吸収層を形成する工程において、引出電極部分の非形成領域側の縁に段差吸収層を形成するようにしてもよいし、引出電極部分の全体に段差吸収層を形成するようにしてもよい。 As described above, when the step absorption layer is formed in the extraction electrode portion, the step absorption layer may be formed at the edge of the extraction electrode portion on the non-formation region side in the step of forming the step absorption layer. Alternatively, a step absorption layer may be formed on the entire extraction electrode portion.
本発明に係る積層電子部品の製造方法において、段差吸収層を形成する工程において、主面電極部分の周縁全体と引出電極部分とに略同時に段差吸収層が形成されるようにしてもよいし、また、非形成領域と主面電極部分の周縁全体とに略同時に段差吸収層が形成されるようにしてもよい。更に、段差吸収層を形成する工程において、非形成領域と主面電極部分の周縁全体と引出電極部分とに略同時に段差吸収層が形成されるようにしてもよい。各段差吸収層を略同時に形成することにより、製造工程を簡略化することができる。 In the method of manufacturing a laminated electronic component according to the present invention, in the step of forming the step absorption layer, the step absorption layer may be formed substantially simultaneously on the entire periphery of the main surface electrode portion and the extraction electrode portion. Further, the step absorption layer may be formed substantially simultaneously in the non-formation region and the entire periphery of the main surface electrode portion. Further, in the step of forming the step absorption layer, the step absorption layer may be formed almost simultaneously in the non-formation region, the entire periphery of the main surface electrode portion, and the extraction electrode portion. By forming each step absorption layer substantially simultaneously, the manufacturing process can be simplified.
本発明に係る積層電子部品は、複数の誘電体層が積層された素体と、誘電体層に挟まれるように素体内に配置され且つ少なくとも主面電極を含む内部電極層と、誘電体層上で内部電極層が配置されていない非形成領域と内部電極層の主面電極の周縁全体とに配置された段差吸収層と、を備えている。 A multilayer electronic component according to the present invention includes an element body in which a plurality of dielectric layers are laminated, an internal electrode layer disposed in the element body so as to be sandwiched between the dielectric layers, and including at least a main surface electrode, and a dielectric layer There is provided a non-formation region where no internal electrode layer is disposed above and a step absorption layer disposed on the entire periphery of the main surface electrode of the internal electrode layer.
本発明に係る積層電子部品では、内部電極層の主面電極の周縁全体に段差吸収層が配置されている。この場合、主面電極同士の間に段差吸収層が介在していることになり、主面電極同士が接触や近接しないようになる。このため、このような段差吸収層により、内部構造欠陥の発生を抑制して所定の性能を発揮できる積層電子部品とすることができる。 In the multilayer electronic component according to the present invention, the step absorption layer is disposed over the entire periphery of the main surface electrode of the internal electrode layer. In this case, the step absorption layer is interposed between the main surface electrodes, so that the main surface electrodes do not come into contact with or approach each other. For this reason, it can be set as a laminated electronic component which can exhibit a predetermined performance by suppressing generation | occurrence | production of an internal structural defect by such a level | step difference absorption layer.
本発明に係る積層電子部品において、内部電極層は、引出電極を更に含んでおり、段差吸収層は、引出電極上に更に配置されていることが好ましい。この場合、引出電極同士の間にも段差吸収層が介在していることになる。このため、このような段差吸収層により、引出電極付近においても、内部構造欠陥の発生を抑制できる。 In the multilayer electronic component according to the present invention, it is preferable that the internal electrode layer further includes an extraction electrode, and the step absorption layer is further disposed on the extraction electrode. In this case, a step absorption layer is also interposed between the extraction electrodes. For this reason, such a step absorption layer can suppress the occurrence of internal structure defects even in the vicinity of the extraction electrode.
本発明に係る積層電子部品において、内部電極層は、少なくとも4種類以上であり、4種類以上の内部電極それぞれに接続される端子電極を更に備えるようにしてもよい。内部電極層が多数の種類から構成される場合、段差部分が内部電極層の面方向においてばらついて発生することにより、積層方向において多数層おきに段差部分が発生し、その結果、積層圧着時に多数層おきに発生した段差部分に応力が集中してしまい、内部構造欠陥が起こりやすくなる。ところが、本発明の構成を備えた積層電子部品であれば、内部電極層が4種類以上の多数の種類から構成される場合であっても、このように多数層おきに発生しかねない段差部分の発生を防止し、かかる内部構造欠陥の発生を抑制することができる。 In the multilayer electronic component according to the present invention, the internal electrode layers may be at least four types or more, and may further include a terminal electrode connected to each of the four or more types of internal electrodes. When the internal electrode layer is composed of many types, the stepped portion varies in the surface direction of the internal electrode layer, resulting in a stepped portion every other multiple layers in the stacking direction. Stress concentrates on the stepped portions generated every other layer, and internal structural defects are likely to occur. However, in the case of the multilayer electronic component having the configuration of the present invention, even in the case where the internal electrode layer is composed of a large number of four or more types, the step portion that may occur every other multiple layers in this way. The occurrence of such internal structural defects can be suppressed.
本発明によれば、内部構造欠陥の発生を抑制した積層電子部品を製造することができる製造方法及びこの製造方法によって製造される積層電子部品を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method which can manufacture the multilayer electronic component which suppressed generation | occurrence | production of an internal structural defect, and the multilayer electronic component manufactured by this manufacturing method can be provided.
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description, the same reference numerals are used for the same elements or elements having the same function, and redundant description is omitted.
まず、図1及び図2を参照して、本実施形態に係る製造方法によって製造される積層コンデンサ1の構成について説明する。積層コンデンサ1は、略直方体形状のコンデンサ素体2と、コンデンサ素体2の外表面に配置される端子電極3〜6と、コンデンサ素体2内に配置される内部電極層7〜10とを備えて構成される。
First, with reference to FIG.1 and FIG.2, the structure of the
コンデンサ素体2は、複数の誘電体層12が積層されて構成され、略直方体形状を呈する。コンデンサ素体2は、互いに対向し且つ略長方形状の主面2a,2bと、互いに対向し且つ略長方形状の端面2c,2dと、互いに対向し且つ略長方形状の側面2e,2fとを有している。端面2c,2d及び側面2e,2fは、主面2a,2b間を連結するように伸びている。誘電体層12は、例えばBaTiO3系、Ba(Ti,Zr)O3系、(Ba,Ca)TiO3系といった電歪特性を有する誘電体材料によって形成される。誘電体層12の厚みは、例えば0.5〜3μm程度である。
The
端子電極3〜6は、コンデンサ素体2の側面2e,2fそれぞれに2個ずつ並列配置され、並列に離間配置された端子電極3,4と端子電極6,5とが、側面2e,2fの対向方向に互いに対向する。各端子電極3〜6は、例えば、導電性金属粉末及びガラスフリットを含む導電性ペーストをコンデンサ素体2の側面2e,2f等の所定箇所に塗布し、焼き付けることによって形成される。必要に応じて、焼き付けられた電極の上にめっき層を形成してもよい。
Two terminal electrodes 3 to 6 are arranged in parallel on each of the
内部電極層7〜10それぞれは、コンデンサ素体2内において、少なくとも一層の誘電体層12を間に挟むようにして順に積層されるものである(図4参照)。各内部電極層7〜10は、図2に示されるように、積層方向に隣接する他の内部電極層7〜10と対向して静電容量部を形成する主面電極7a〜10aと、主面電極7a〜10aそれぞれを端子電極3〜6に向かって引き出す引出電極7b〜10bとを含んで構成される。主面電極7a〜10aは、略長方形状を呈しており、誘電体層12の略中央部に位置するように配置される。
Each of the
内部電極層7は、引出電極7bにより側面2eに引き出されて、端子電極3に電気的且つ機械的に接続される。内部電極層8は、引出電極8bにより側面2eに引き出されて、端子電極4に電気的且つ機械的に接続される。内部電極層9は、引出電極9bにより側面2fに引き出されて、端子電極5に電気的且つ機械的に接続される。内部電極層10は、引出電極10bにより側面2fに引き出されて、端子電極6に電気的且つ機械的に接続される。内部電極層7〜10は、例えば導電性ペーストの焼結体から構成される。内部電極層7〜10の厚みは、例えば0.5〜3μm程度である。
The
また、積層コンデンサ1は、図2〜図4に示されるように、誘電体層12上において内部電極層7〜10それぞれが形成されない非形成領域R1〜R4に第一段差吸収層13〜16を備えている。これら非形成領域R1〜R4は、各誘電体層12上において、各内部電極層7〜10を取り囲む領域である。第一段差吸収層13〜16は、例えば誘電体層12と同じ誘電体材料から構成される。第一段差吸収層13〜16の厚みは、内部電極層7〜10と略同一であり、例えば0.5〜3μm程度である。後述する他の段差吸収層の材料や厚みも同様である。
2 to 4, the
また、積層コンデンサ1は、第一段差吸収層13〜16に加え、内部電極層7〜10の主面電極7a〜10aそれぞれの周縁全体に第二段差吸収層17〜20を、内部電極層7〜10の引出電極7b〜10bそれぞれの非形成領域R1〜R4側の縁に一対の第三段差吸収層23〜26を備えている。第二段差吸収層17〜20は、非形成領域R1〜R4側の縁に沿って形成される第一の部分17a〜20aと、主面電極7a〜10aと引出電極7b〜10bとの連結部分に位置する第二の部分17b〜20bとから構成される。
In addition to the first step absorption layers 13 to 16, the
続いて、上述した構成を有する積層コンデンサ1の製造方法について説明する。
Then, the manufacturing method of the
積層コンデンサ1の製造にあたっては、まず、誘電体層12や各段差吸収層13〜16,17〜20,23〜26を形成するためのセラミックペーストP1と、各内部電極層7〜10を形成するための導電性ペーストP2とを準備する。
In manufacturing the
セラミックペーストP1は、誘電体層12等を構成する誘電体材料の原料に有機ビヒクルなどを混合・混練することによって得られるペーストである。誘電体材料として、例えば、BaTiO3系、(Ti,Zr)O3系、(Ba,Ca)TiO3系といった複合酸化物に含まれる各金属原子の酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物などの組み合わせが挙げられる。導電性ペーストP2は、例えばNi,Ag,Pdなどの金属粉末にバインダ樹脂や溶剤等を混合したペースト状の組成物である。
The ceramic paste P1 is a paste obtained by mixing and kneading an organic vehicle or the like with the raw material of the dielectric material constituting the
セラミックペーストP1及び導電性ペーストP2を準備した後、例えばドクターブレード法を用いることにより、PETなどからなるキャリアシート上にセラミックペーストP1を塗布し、誘電体層12の前駆体である複数のセラミックグリーンシート32を生成する。
After preparing the ceramic paste P1 and the conductive paste P2, the ceramic paste P1 is applied on a carrier sheet made of PET or the like by using, for example, a doctor blade method, and a plurality of ceramic greens that are precursors of the dielectric layer 12
続いて、例えばスクリーン印刷法により、図2に示されるように、各セラミックグリーンシート32の所定の位置に導電性ペーストP2を塗布し、各セラミックグリーンシート32上に内部電極層7〜10に対応する内部電極パターン37〜40をそれぞれ形成する。内部電極パターン37〜40を形成する工程により、セラミックグリーンシート32上に、主面電極7a〜10aに対応する部分(主面電極部分)及び引出電極7b〜10bに対応する部分(引出電極部分)が形成される。本実施形態では、内部電極層7〜10が1つの場合を例にとって説明するが、各セラミックグリーンシート32上に内部電極層7〜10に対応する部分が複数(例えば16個)形成されるようにしてもよい。
Subsequently, as shown in FIG. 2, for example, a conductive paste P <b> 2 is applied to a predetermined position of each ceramic
続いて、内部電極パターン37〜40それぞれが形成された各セラミックグリーンシート32上で内部電極パターン37〜40が形成されない非形成領域R1〜R4と、内部電極パターン37〜40の主面電極7a〜10aに対応する部分の周縁全体と、内部電極パターン37〜40の引出電極7b〜10bに対応する部分の非形成領域R1〜R4側の縁とに、例えばスクリーン印刷法により、セラミックペーストP1を塗布する。このセラミックペーストP1の塗布は略同時に行われ、これにより、第一段差吸収層13〜16と、第二段差吸収層17〜20と、第三段差吸収層23〜26とが生成される。
Subsequently, the non-formation regions R1 to R4 in which the
続いて、複数のセラミックグリーンシート32上に内部電極パターン37〜40それぞれと各段差吸収層13〜16,17〜20,23〜26とが形成されると、内部電極パターン37〜40等が形成された複数のグリーンシート32を図4に示す順に積層し、隣接する主面電極7a〜10aに対応する部分が積層方向において互いに略全面で対向するように、セラミックグリーンシート32の位置合わせを行う。
Subsequently, when the
図3は、内部電極層7〜10をこのように積層した際の段差吸収層の重なり具合を模式的に示す平面図である。同図に示されるように、各内部電極層7〜10の主面電極7a〜10aの周縁全体には、第二段差吸収層17〜20が積層方向の上方からみて同位置になるように配置されている。つまり、各第二段差吸収層17〜20が、積層方向において、主面電極7a〜10aの周縁部分の間に確実に位置するようになっている。なお、本実施形態では、例えば、積層方向に内部電極パターン37〜40が2〜5組程度となるように、セラミックグリーンシート32を積層し、最上部には、内部電極パターン37〜40を有しないセラミックグリーンシート32を積層配置する。
FIG. 3 is a plan view schematically showing how the step absorption layers overlap when the
続いて、セラミックグリーンシート32を上述したように積層してグリーン積層体45aが形成されると、図5(a)に示されるように、グリーン積層体45aを加圧して圧着し、図5(b)に示されるようなグリーン積層体45bを取得する。この積層体45bでは、例えば、第二段差吸収層17の第二の部分17bにより、図5(c)に示されるように、内部電極パターン37〜40の主面電極7a〜10aに対応する部分同士が接触しないようになっている。
Subsequently, when the green
続いて、このグリーン積層体45bを焼成し、これにより、コンデンサ素体2を得る。焼成はグリーン積層体45を例えば還元雰囲気下で1100〜1300℃程度に加熱することにより行われる。焼成処理に先立ち、グリーン積層体45bに脱バインダ処理を行ってもよい。脱バインダ処理は、グリーン積層体45bを空気中又はN2及びH2の混合ガス中などの還元雰囲気中に配置し、200〜600℃程度に加熱することにより行われる。なお、各セラミックグリーンシート32上に内部電極層7〜10に対応する部分を複数設けた場合には、焼成に先立ち、各チップに切断する処理を行う。
Subsequently, the green
続いて、焼成等が終了すると、コンデンサ素体2の側面2e,2fの引出電極7b〜10bが露出している箇所を覆うように導電性ペーストP3を塗布して焼き付けを行い、更にメッキを施すことにより、図1に示されるような端子電極3〜6が形成される。導電性ペーストP3は、例えばCuを主成分とする金属粉末に、ガラスフリット及び有機ビヒクルを混合したものを用いることができる。金属粉末は、Ni,Ag−PdあるいはAgを主成分とするものであってもよい。めっきは、Ni,Sn,Ni−Sn合金,Sn−Ag合金,Sn−Bi合金などの金属めっきが用いられる。また、金属めっきは、例えば、NiとSnとで二層以上形成した多層構造としてもよい。以上により、図1に示した積層コンデンサ1が完成する。
Subsequently, when the firing or the like is completed, the conductive paste P3 is applied and baked so as to cover the portions where the
以上のように、本実施形態に係る積層コンデンサ1の製造方法では、段差吸収層を形成する工程において、内部電極パターン37〜40の主面電極7a〜10aに対応する部分の周縁全体に第二段差吸収層17〜20を形成している。このため、例えば、図29に示されるように、従来は、主面電極207a〜210aと引出電極207b〜210bとの間の連結部付近に段差Sが形成されて応力集中が起こり、主面電極207a〜210a間における短絡が発生してしまう場合もあったが、本実施形態によれば、主面電極7a〜10aに対応する部分の周縁全体に形成された第二段差吸収層17〜20により、図5に示されるように、セラミックグリーンシート32を積層圧着したとしても、主面電極7a〜10aに対応する部分に段差部分(隙間)Sが形成されるのを防ぐことができる。その結果、段差部分Sに起因する応力集中を避け、グリーン積層体45bにおけるクラックなどの内部構造欠陥の発生を抑制でき、積層コンデンサ1において、例えば主面電極7a〜10a同士における接触や近接を回避することができる。
As described above, in the method for manufacturing the
また、本実施形態に係る積層コンデンサ1の製造方法では、内部電極パターンを形成する工程において、引出電極7b〜10bに対応する部分を含むように内部電極パターン37〜40をセラミックグリーンシート32上に形成している。そして、段差吸収層を形成する工程において、内部電極パターン37〜40の引出電極7b〜10bに対応する部分に第三段差吸収層23〜26を形成している。このため、セラミックグリーンシート32を積層圧着しても、引出電極7b〜10bに対応する部分に形成された第三段差吸収層23〜26により、引出電極7b〜10bに対応する部分に段差部分が形成されるのを防ぐことができ、段差部分に起因する応力集中を回避できる。その結果、グリーン積層体45bにおける内部構造欠陥の発生が更に抑制される。
In the method of manufacturing the
また、本実施形態における積層コンデンサ1の製造方法では、段差吸収層を形成する工程において、非形成領域R1〜R4と、主面電極7a〜10aに対応する部分の周縁全体と、引出電極7b〜10bに対応する一部とに、略同時に段差吸収層13〜16,17〜20,23〜26を形成するようにしている。このため、製造工程を簡略化することができる。
Further, in the method for manufacturing the
本実施形態における積層コンデンサ1は、複数の誘電体層12が積層されたコンデンサ素体2と、誘電体層12に挟まれるようにコンデンサ素体2内に配置され且つ主面電極7a〜10aを含む内部電極層7〜10と、誘電体層12上で内部電極層7〜10が配置されていない非形成領域R1〜R4と内部電極層7〜10の主面電極7a〜10aの周縁全体とに配置された第二段差吸収層17〜20と、を備えている。
The
そして、この積層コンデンサ1では、内部電極層7〜10の主面電極7a〜10aの周縁全体に段差吸収層17〜20が配置されている。このため、主面電極7a〜10a同士の間に第二段差吸収層17〜20が介在していることになり、主面電極7a〜10a同士を接触や近接しないようにすることができる(図5参照)。その結果、積層コンデンサ1を、内部構造欠陥の発生を抑制して所定の性能を発揮できる積層電子部品とすることができる。
In the
また、積層コンデンサ1では、内部電極層7〜10は、引出電極7b〜10bも含んでおり、第三段差吸収層23〜26が引出電極7b〜10b上に配置されている。このため、引出電極7b〜10b同士の間に第三段差吸収層23〜26が介在していることになる。従って、積層コンデンサ1では、引出電極7b〜10b付近においても、内部構造欠陥の発生を抑制できる。
In the
また、積層コンデンサ1では、内部電極層7〜10は、4種類であり、4種類の内部電極層7〜10それぞれに接続される端子電極3〜6を備えている。内部電極層が多数の種類から構成される場合、段差部分が内部電極層の面方向においてばらついて発生することにより、積層方向において多数層おきに段差部分が発生し、その結果、積層圧着時に多数層おきに発生した段差部分に応力が集中してしまい、内部構造欠陥が起こりやすくなる。ところが、本実施形態の構成を備えた積層コンデンサ1であれば、内部電極層7〜10が4種類といった多数の種類から構成される場合であっても、このように多数層おきに発生しかねない段差部分の発生を防止し、内部構造欠陥の発生を抑制することができる。
In the
また、上述した積層コンデンサ1では、引出電極7b〜10bの非形成領域R1〜R4側の縁にのみ第三段差吸収層23〜26を備えるように形成していた。しかし、図6に示されるように、引出電極7b〜10bの略全面を覆うように、第三段差吸収層23a〜26aを形成するようにしてもよい。この場合、第一〜第三段差吸収層13〜16,17〜20,23a〜26aを形成する際に、主面電極7a〜10aのうち段差吸収層17〜20が形成されない部分を閉口とした簡易な構造の製版を用いてスクリーン印刷等を行い、各段差吸収層13〜16,17〜20,23a〜26aを略同時に容易に形成することができ、製造工程を一層、簡略化することができる。
Further, in the
(第二実施形態)
次に、第二実施形態にかかる積層コンデンサ51の構成及びその製造方法について説明する。本実施形態では、第一実施形態と異なり、2端子構造の積層コンデンサ51となっており、端子電極の配置箇所や、内部電極層の形状が多少異なっている。以下、第一実施形態と異なる点を中心に説明する。
(Second embodiment)
Next, the configuration of the
まず、図7及び図8を参照して、積層コンデンサ51の構成について説明する。積層コンデンサ51は、コンデンサ素体52と、端子電極53,54と、内部電極層57,58とを備えて構成される。コンデンサ素体52は、複数の誘電体層12が積層されて略直方体形状に構成され、主面52a,52bと端面52c,52dと側面52e,52fとを有している。端子電極53,54は、コンデンサ素体52の端面52c,52dを覆うように配置される。
First, the configuration of the
内部電極層57,58は、コンデンサ素体2内において、少なくとも一層の誘電体層12を間に挟むようにして順に積層されるものである(図10参照)。内部電極層57,58は、隣接する他の内部電極層57,58と対向して静電容量部を形成する主面電極57a,58aと、主面電極57a,58aを端子電極53,54に向かって引き出す引出電極57b,58bとを含んで構成される。主面電極57a,58aは、略長方形状を呈しており、誘電体層12の略中央部に位置するように配置される。内部電極層57は、引出電極57bにより端面52cに引き出されて、端子電極53に接続される。内部電極層58は、引出電極58bにより端面52dに引き出されて、端子電極54に接続される。
The internal electrode layers 57 and 58 are sequentially stacked in the
また、積層コンデンサ51は、図8〜図10に示されるように、誘電体層12上において内部電極層57,58が形成されない非形成領域R51,R52に第一段差吸収層63,64を備えている。これら非形成領域R51,R52は、各内部電極層57,58を取り囲む領域である。また、積層コンデンサ51は、主面電極57a,58aの周縁全体に第二段差吸収層65,66を、引出電極57b,58bの非形成領域R51,R52側の縁に第三段差吸収層67,68をそれぞれ備えている。第二段差吸収層65,66は、非形成領域R51,R52側の縁に沿って形成される第一の部分65a,66aと、主面電極57a,58aと引出電極57b,58bとの連結部分に位置する第二の部分65b,66bとから構成される。
8 to 10, the
続いて、上述した構成を有する積層コンデンサ51の製造方法について説明する。積層コンデンサ51の製造にあたっては、第一実施形態と同様、まず、セラミックペーストP1と導電性ペーストP2とを準備する。その後、誘電体層12の前駆体である複数のセラミックグリーンシート32を生成する。
Next, a method for manufacturing the
続いて、例えばスクリーン印刷法により、図8に示されるように、各セラミックグリーンシート32の所定の位置に導電性ペーストP2を塗布し、各セラミックグリーンシート32上に内部電極層57,58に対応する内部電極パターン(符号は省略)をそれぞれ形成する。この内部電極パターンを形成する工程により、セラミックグリーンシート32上に、主面電極57a,58aに対応する部分及び引出電極57b,58bに対応する部分が形成される。
Subsequently, as shown in FIG. 8, for example, a conductive paste P <b> 2 is applied to a predetermined position of each ceramic
続いて、上述した内部電極パターンが形成された各セラミックグリーンシート32上で内部電極パターンが形成されない非形成領域R51,R52と、内部電極パターンの主面電極57a,58aに対応する部分の周縁全体と、内部電極パターンの引出電極57b,58bに対応する部分の非形成領域R51,R52側の縁とに、例えばスクリーン印刷法により、セラミックペーストP1を塗布する。このセラミックペーストP1の塗布は略同時に行われ、これにより、第一段差吸収層63,64と、第二段差吸収層65,66と、第三段差吸収層67,68とが生成される。
Subsequently, the non-formation regions R51 and R52 where the internal electrode pattern is not formed on each ceramic
続いて、内部電極パターン等が形成された複数のグリーンシート32を図10に示す順に積層し、隣接する主面電極57a,58aに対応する部分が積層方向において互いに略全面で対向するように(図9参照)、セラミックグリーンシート32の位置合わせを行う。なお、上述した内部電極パターンは、例えば積層方向に10組程度となるように、セラミックグリーンシート32を積層し、最上部には、内部電極パターンを有しないセラミックグリーンシート32を積層配置する。
Subsequently, a plurality of
続いて、セラミックグリーンシート32を上述したように積層してグリーン積層体が形成されると、第一実施形態と同様、グリーン積層体を加圧して圧着する。この積層体では、第二段差吸収層65,66(第二の部分65b,66b)により、内部電極パターンの主面電極57a,58aに対応する部分同士が接触しないようになっている。次に、このグリーン積層体を焼成し、コンデンサ素体52を得る。そして、焼成等が終了すると、コンデンサ素体52の端面52c,52dの引出電極57b,58bが露出している箇所を覆うように導電性ペーストP3を塗布して焼き付けを行い、更にメッキを施すことにより、図7に示されるような端子電極53,54が形成される。以上により、図7に示した積層コンデンサ51が完成する。
Subsequently, when the green laminate is formed by laminating the ceramic
以上のように、本実施形態に係る積層コンデンサ51の製造方法でも、第一実施形態と同様、段差吸収層を形成する工程において、内部電極パターンの主面電極57a,58aに対応する部分の周縁全体に第二段差吸収層65,66を形成している。このため、主面電極57a,58aに対応する部分の周縁全体に形成された第二段差吸収層65,66により、セラミックグリーンシート32を積層圧着したとしても、主面電極57a,58aに対応する部分に段差部分(隙間)が形成されるのを防ぐことができ、段差部分に起因する応力集中を回避することができる。その結果、グリーン積層体におけるクラックなどの内部構造欠陥の発生が抑制され、積層コンデンサ51において、例えば主面電極57a,58a同士における接触や近接を回避することができる。
As described above, in the method of manufacturing the
また、積層コンデンサ51でも、第一実施形態と同様、内部電極層57,58の主面電極57a,58aの周縁全体に段差吸収層65,66が配置されている。このため、主面電極57a,58a同士の間に第二段差吸収層65,66が介在していることになり、主面電極57a,58a同士を接触や近接しないようにすることができる。その結果、積層コンデンサ51を、内部構造欠陥の発生を抑制して所定の性能を発揮できる積層電子部品とすることができる。
Also in the
(第三実施形態)
次に、第三実施形態にかかる積層コンデンサ71の構成及びその製造方法について説明する。本実施形態では、第一及び第二実施形態と異なり、貫通コンデンサ構造の積層コンデンサ71となっており、端子電極の配置箇所や、内部電極層の形状が多少異なっている。以下、第一及び第二実施形態と異なる点を中心に説明する。
(Third embodiment)
Next, a configuration of the
まず、図11及び図12を参照して、積層コンデンサ71の構成について説明する。積層コンデンサ71は、コンデンサ素体72と、端子電極73〜76と、内部電極層77,78とを備えて構成される。コンデンサ素体72は、複数の誘電体層12が積層されて略直方体形状に構成され、主面72a,72bと端面72c,72dと側面72e,72fとを有している。端子電極73,74は、コンデンサ素体72の端面72c,72dを覆うように配置され、端子電極75,76は、コンデンサ素体72の側面72e,72fの略中央部に配置される。
First, the configuration of the
内部電極層77,78は、コンデンサ素体2内において、少なくとも一層の誘電体層12を間に挟むようにして順に積層されるものである(図14参照)。内部電極層77,78は、隣接する他の内部電極層77,78と対向して静電容量部を形成する主面電極77a,78aと、主面電極77a,78aを端子電極73〜76に向かって引き出す引出電極77b,78bとを含んで構成される。主面電極77a,78aは、略長方形状を呈しており、誘電体層12の略中央部に位置するように配置される。内部電極層77は、一対の引出電極77bにより端面72c,72dに引き出されて、端子電極73,74に接続される。内部電極層78は、一対の引出電極78bにより側面72e,72fに引き出されて、端子電極75,76に接続される。
The internal electrode layers 77 and 78 are sequentially stacked in the
また、積層コンデンサ71は、図12〜図14に示されるように、誘電体層12上において内部電極層77,78が形成されない非形成領域R71,R72に第一段差吸収層83,84を備えている。一対の非形成領域R71,R72は、各内部電極層77,78を間に挟む領域である。また、積層コンデンサ71は、主面電極77a,78aの周縁全体に第二段差吸収層85,86を、引出電極77b,78bの非形成領域R71,R72側の縁に第三段差吸収層87,88をそれぞれ備えている。第二段差吸収層85,86は、非形成領域R71,R72側の縁に沿って形成される第一の部分85a,86aと、主面電極77a,78aと引出電極77b,78bとの連結部分に位置する第二の部分85b,86bとから構成される。
The
続いて、上述した構成を有する積層コンデンサ71の製造方法について説明する。積層コンデンサ71の製造にあたっては、第一及び第二実施形態と同様、まず、セラミックペーストP1と導電性ペーストP2とを準備する。その後、誘電体層12の前駆体である複数のセラミックグリーンシート32を生成する。
Next, a method for manufacturing the
続いて、例えばスクリーン印刷法により、図12に示されるように、各セラミックグリーンシート32の所定の位置に導電性ペーストP2を塗布し、各セラミックグリーンシート32上に内部電極層77,78に対応する内部電極パターン(符号は省略)をそれぞれ形成する。この内部電極パターンを形成する工程により、セラミックグリーンシート32上に、主面電極77a,78aに対応する部分及び引出電極77b,78bに対応する部分が形成される。
Subsequently, the conductive paste P2 is applied to a predetermined position of each ceramic
続いて、上述した内部電極パターンが形成された各セラミックグリーンシート32上で内部電極パターンが形成されない非形成領域R71,R72と、内部電極パターンの主面電極77a,78aに対応する部分の周縁全体と、内部電極パターンの引出電極77b,78bに対応する部分の非形成領域R71,R72側の縁とにセラミックペーストP1を塗布する。このセラミックペーストP1の塗布は略同時に行われ、これにより、第一段差吸収層83,84と、第二段差吸収層85,86と、第三段差吸収層87,88とが生成される。
Subsequently, the non-formation regions R71 and R72 where the internal electrode pattern is not formed on each ceramic
続いて、内部電極パターン等が形成された複数のグリーンシート32を図14に示す順に積層し、隣接する主面電極77a,78aに対応する部分が積層方向において互いに略全面で対向するように(図13参照)、セラミックグリーンシート32の位置合わせを行う。なお、上述した内部電極パターンは、例えば積層方向に10組程度となるように、セラミックグリーンシート32を積層し、最上部には、内部電極パターンを有しないセラミックグリーンシート32を積層配置する。
Subsequently, a plurality of
続いて、セラミックグリーンシート32を上述したように積層してグリーン積層体が形成されると、第一及び第二実施形態と同様、グリーン積層体を加圧して圧着する。この積層体では、第二段差吸収層85,86(第二の部分85b,86b)により、内部電極パターンの主面電極77a,78aに対応する部分同士が接触しないようになっている。次に、このグリーン積層体を焼成し、コンデンサ素体72を得る。そして、焼成等が終了すると、コンデンサ素体72の端面72c,72d及び側面72e,72fの引出電極77b,78bが露出している箇所を覆うように導電性ペーストP3を塗布して焼き付けを行い、更にメッキを施すことにより、図11に示されるような端子電極73〜76が形成される。以上により、図11に示した積層コンデンサ71が完成する。
Subsequently, when the green laminate is formed by laminating the ceramic
以上のように、本実施形態に係る積層コンデンサ71の製造方法でも、第一及び第二実施形態と同様、段差吸収層を形成する工程において、内部電極パターンの主面電極77a,78aに対応する部分の周縁全体に第二段差吸収層85,86を形成している。このため、主面電極77a,78aに対応する部分の周縁全体に形成された第二段差吸収層85,86により、セラミックグリーンシート32を積層圧着したとしても、主面電極77a,78aに対応する部分に段差部分が形成されるのを防ぐことができ、段差部分に起因する応力集中を回避することができる。その結果、グリーン積層体におけるクラックなどの内部構造欠陥の発生が抑制され、積層コンデンサ71において、例えば主面電極77a,78a同士における接触や近接を回避することができる。
As described above, in the method of manufacturing the
また、積層コンデンサ71でも、第一及び第二実施形態と同様、内部電極層77,78の主面電極77a,78aの周縁全体に段差吸収層85,86が配置されている。このため、主面電極77a,78a同士の間に第二段差吸収層85,86が介在していることになり、主面電極77a,78a同士を接触や近接しないようにすることができる。その結果、積層コンデンサ71を、内部構造欠陥の発生を抑制して所定の性能を発揮できる積層電子部品とすることができる。
In the
(第四実施形態)
次に、第四実施形態にかかる積層コンデンサ91の構成及びその製造方法について説明する。本実施形態では、第一〜第三実施形態と異なり、アレイ構造の積層コンデンサ91となっており、端子電極の配置箇所や、内部電極層の形状が多少異なっている。以下、第一〜第三実施形態と異なる点を中心に説明する。
(Fourth embodiment)
Next, a configuration of the
まず、図15及び図16を参照して、積層コンデンサ91の構成について説明する。積層コンデンサ91は、コンデンサ素体92と、端子電極93〜96と、内部電極層97,98とを備えて構成される。コンデンサ素体92は、複数の誘電体層12が積層されて略直方体形状に構成され、主面92a,92bと端面92c,92dと側面92e,92fとを有している。端子電極93,94は、コンデンサ素体92の側面92eに並列して離間配置され、端子電極95,96は、コンデンサ素体92の側面92fに並列して離間配置される。
First, the configuration of the
内部電極層97,98は、コンデンサ素体2内において、少なくとも一層の誘電体層12を間に挟むようにして順に積層されるものである(図18参照)。内部電極層97,98は、隣接する他の内部電極層97,98と対向して静電容量部を形成する主面電極97a,98aと、主面電極97a,98aを端子電極93〜96に向かって引き出す引出電極97b,98bとを含んで構成される。主面電極97a,98aは、略長方形状を呈しており、側面92e,92fの対向方向における誘電体層12の略中央部に位置するように2個ずつ配置される。一対の内部電極層97は、引出電極97bにより側面92eに引き出されて、端子電極93,94に接続される。一対の内部電極層98は、引出電極98bにより側面92fに引き出されて、端子電極95,96に接続される。
The internal electrode layers 97 and 98 are sequentially stacked in the
また、積層コンデンサ91は、図16〜図18に示されるように、誘電体層12上において内部電極層97,98が形成されない非形成領域R91,R92に第一段差吸収層103,104を備えている。非形成領域R91,R92は、各内部電極層97,98を取り囲む領域である。また、積層コンデンサ91は、主面電極97a,98aの周縁全体に第二段差吸収層105,106を、引出電極97b,98bの非形成領域R91,R92側の縁に第三段差吸収層107,108をそれぞれ備えている。第二段差吸収層105,106は、非形成領域R91,R92側の縁に沿って形成される第一の部分105a,106aと、主面電極97a,98aと引出電極97b,98bとの連結部分に位置する第二の部分105b,106bとから構成される。
The
続いて、上述した構成を有する積層コンデンサ91の製造方法について説明する。積層コンデンサ91の製造にあたっては、第一〜第三実施形態と同様、まず、セラミックペーストP1と導電性ペーストP2とを準備する。その後、誘電体層12の前駆体である複数のセラミックグリーンシート32を生成する。
Next, a method for manufacturing the
続いて、例えばスクリーン印刷法により、図16に示されるように、各セラミックグリーンシート32の所定の位置に導電性ペーストP2を塗布し、各セラミックグリーンシート32上に2つの内部電極層97又は2つの内部電極層98に対応する内部電極パターン(符号は省略)をそれぞれ形成する。この内部電極パターンを形成する工程により、セラミックグリーンシート32上に、主面電極97a,98aに対応する部分及び引出電極97b,98bに対応する部分が形成される。
Subsequently, for example, by screen printing, as shown in FIG. 16, a conductive paste P2 is applied to a predetermined position of each ceramic
続いて、上述した内部電極パターンが形成された各セラミックグリーンシート32上で内部電極パターンが形成されない非形成領域R91,R92と、内部電極パターンの主面電極97a,98aに対応する部分の周縁全体と、内部電極パターンの引出電極97b,98bに対応する部分の非形成領域R91,R92側の縁とにセラミックペーストP1を塗布する。これにより、第一段差吸収層103,104と、第二段差吸収層105,106と、第三段差吸収層107,108とが生成される。
Subsequently, the non-formation regions R91 and R92 where the internal electrode pattern is not formed on each ceramic
続いて、内部電極パターン等が形成された複数のグリーンシート32を図18に示す順に積層し、隣接する主面電極97a,98aに対応する部分が積層方向において互いに略全面で対向するように(図17参照)、セラミックグリーンシート32の位置合わせを行う。なお、上述した内部電極パターンは、例えば積層方向に10組程度となるように、セラミックグリーンシート32を積層し、最上部には、内部電極パターンを有しないセラミックグリーンシート32を積層配置する。
Subsequently, a plurality of
続いて、セラミックグリーンシート32を上述したように積層してグリーン積層体が形成されると、第一〜第三実施形態と同様、グリーン積層体を加圧して圧着する。この積層体では、第二段差吸収層105,106(第二の部分105b,106b)により、内部電極パターンの主面電極97a,98aに対応する部分同士が接触しないようになっている。次に、このグリーン積層体を焼成し、コンデンサ素体92を得る。そして、焼成等が終了すると、コンデンサ素体92の側面92e,92fの引出電極97b,98bが露出している箇所を覆うように導電性ペーストP3を塗布して焼き付けを行い、更にメッキを施すことにより、図15に示されるような端子電極93〜96が形成される。以上により、図15に示した積層コンデンサ91が完成する。
Subsequently, when the green laminate is formed by laminating the ceramic
以上のように、本実施形態に係る積層コンデンサ91の製造方法でも、第一〜第三実施形態と同様、段差吸収層を形成する工程において、内部電極パターンの主面電極97a,98aに対応する部分の周縁全体に第二段差吸収層105,106を形成している。このため、主面電極97a,98aに対応する部分の周縁全体に形成された第二段差吸収層105,106により、セラミックグリーンシート32を積層圧着したとしても、主面電極97a,98aに対応する部分に段差部分が形成されるのを防ぐことができ、段差部分に起因する応力集中を回避することができる。その結果、グリーン積層体におけるクラックなどの内部構造欠陥の発生が抑制され、積層コンデンサ91において、例えば主面電極97a,98a同士における接触や近接を回避することができる。
As described above, in the method of manufacturing the
また、積層コンデンサ91でも、第一〜第三実施形態と同様、内部電極層97,98の主面電極97a,98aの周縁全体に段差吸収層105,106が配置されている。このため、主面電極97a,98a同士の間に第二段差吸収層105,106が介在していることになり、主面電極97a,98a同士を接触や近接しないようにすることができる。その結果、積層コンデンサ91を、内部構造欠陥の発生を抑制して所定の性能を発揮できる積層電子部品とすることができる。
In the
また、上述した積層コンデンサ91では、内部電極層97,98それぞれが同じ側面92e又は92fに引き出されるようになっていたが、図19に示されるように、同じ誘電体層12上に配置される二つの内部電極層97又は98が、それぞれ別の側面92e,92fに引き出されるようにしてもよい。この場合でもあって、図20に示されるように、主面電極97a,98aに対応する部分の周縁全体に形成された第二段差吸収層105,106(第二の部分105b,106b)により、主面電極97a,98aに対応する部分に段差部分が形成されるのを防ぐことができ、段差部分に起因する応力集中を回避することができる。その結果、グリーン積層体におけるクラックなどの内部構造欠陥の発生が抑制できる。
In the
(第五実施形態)
次に、第五実施形態にかかる積層コンデンサ111の構成及びその製造方法について説明する。本実施形態では、第一〜第四実施形態と異なり、ESR(等価直列抵抗)制御部を備えた積層コンデンサ111となっており、端子電極等の配置箇所や、内部電極層の形状が多少異なっている。以下、第一〜第四実施形態と異なる点を中心に説明する。
(Fifth embodiment)
Next, a configuration of the multilayer capacitor 111 according to the fifth embodiment and a manufacturing method thereof will be described. In the present embodiment, unlike the first to fourth embodiments, the multilayer capacitor 111 is provided with an ESR (equivalent series resistance) control unit. ing. Hereinafter, a description will be given focusing on differences from the first to fourth embodiments.
まず、図21及び図22を参照して、積層コンデンサ111の構成について説明する。積層コンデンサ111は、コンデンサ素体112と、端子電極113,114と、外部接続導体115,116と、内部電極層117〜120とを備えて構成される。コンデンサ素体112は、複数の誘電体層12が積層されて略直方体形状に構成され、主面112a,112bと端面112c,112dと側面112e,112fとを有している。端子電極113,114は、コンデンサ素体112の端面112c,112dを覆うように配置され、外部接続導体115,116は、コンデンサ素体112の側面112e,112fの略中央に配置される。外部接続導体115は、内部電極層117,119を接続するための導体であり、外部接続導体116は、内部電極層118,120を接続するための導体である。
First, the configuration of the multilayer capacitor 111 will be described with reference to FIGS. 21 and 22. The multilayer capacitor 111 includes a capacitor body 112, terminal electrodes 113 and 114, external connection conductors 115 and 116, and internal electrode layers 117 to 120. The capacitor body 112 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape by laminating a plurality of
内部電極層117〜120は、コンデンサ素体112内において、少なくとも一層の誘電体層12を間に挟むようにして順に積層されるものである(図24,図25参照)。内部電極層117〜120は、隣接する他の内部電極層117〜120と対向して静電容量部を形成する主面電極117a〜120aと、主面電極117a,118aを端子電極113,114に向かって引き出す引出電極117b,118bと、主面電極117a〜120aを外部接続導体115,116に向かって引き出す引出電極117c〜120cとを含んで構成される。主面電極117a〜120aは、略長方形状を呈しており、誘電体層12の略中央部に位置するように配置される。なお、本実施形態に係る積層コンデンサ111では、内部電極層117,118の積層数や内部電極層117〜120の積層位置等を調整することで、所望のESR値となるようにしている。つまり、内部電極層117,118等がESR制御部として機能する。
The internal electrode layers 117 to 120 are sequentially stacked in the capacitor body 112 with at least one
内部電極層117は、引出電極117bにより端面112dに引き出されて端子電極114に接続され、引出電極117cにより側面112eに引き出されて外部接続導体115に接続される。内部電極層118は、引出電極118bにより端面112cに引き出されて端子電極113に接続され、引出電極118cにより側面112fに引き出されて外部接続導体116に接続される。内部電極層119は、引出電極119cにより側面112eに引き出されて、外部接続導体115に接続される。内部電極層120は、引出電極120cにより側面112fに引き出されて、外部接続導体116に接続される。
The
また、積層コンデンサ111は、図22〜図25に示されるように、誘電体層12上において内部電極層117〜120が形成されない非形成領域R111〜R114に第一段差吸収層123〜126を備えている。非形成領域R111〜R114は、各内部電極層117〜120を取り囲む領域である。また、積層コンデンサ111は、主面電極117a〜120aの周縁全体に第二段差吸収層127〜130を、引出電極117b,118b及び引出電極117c〜120cの非形成領域R111〜R114側の縁に第三段差吸収層133〜136をそれぞれ備えている。第二段差吸収層127〜130は、非形成領域R111〜R114側の縁に沿って形成される第一の部分127a〜130aと、主面電極117a〜120aと引出電極117b,118b及び引出電極117c〜120cとの連結部分に位置する第二の部分127b〜130bとから構成される。
In addition, as shown in FIGS. 22 to 25, the multilayer capacitor 111 includes first step absorption layers 123 to 126 in the non-formation regions R111 to R114 where the internal electrode layers 117 to 120 are not formed on the
続いて、上述した構成を有する積層コンデンサ111の製造方法について説明する。積層コンデンサ111の製造にあたっては、第一〜第四実施形態と同様、まず、セラミックペーストP1と導電性ペーストP2とを準備する。その後、誘電体層12の前駆体である複数のセラミックグリーンシート32を生成する。
Next, a method for manufacturing the multilayer capacitor 111 having the above-described configuration will be described. In manufacturing the multilayer capacitor 111, as in the first to fourth embodiments, first, a ceramic paste P1 and a conductive paste P2 are prepared. Thereafter, a plurality of ceramic
続いて、例えばスクリーン印刷法により、図22に示されるように、各セラミックグリーンシート32の所定の位置に導電性ペーストP2を塗布し、各セラミックグリーンシート32上に内部電極層117〜120に対応する内部電極パターン(符号は省略)をそれぞれ形成する。この内部電極パターンを形成する工程により、セラミックグリーンシート32上に、主面電極117a〜120aに対応する部分と、引出電極117b,118b及び引出電極117c〜120cに対応する部分とが形成される。
Subsequently, as shown in FIG. 22, for example, by applying a conductive paste P <b> 2 to a predetermined position of each ceramic
続いて、上述した内部電極パターンが形成された各セラミックグリーンシート32上で内部電極パターンが形成されない非形成領域R111〜R114と、内部電極パターンの主面電極117a〜120aに対応する部分の周縁全体と、内部電極パターンの引出電極117b,118b及び引出電極117c〜120cに対応する部分の非形成領域R111〜R114側の縁とにセラミックペーストP1を塗布する。これにより、第一段差吸収層123〜126と、第二段差吸収層127〜130と、第三段差吸収層133〜136とが生成される。
Subsequently, the non-formation regions R111 to R114 where the internal electrode pattern is not formed on each ceramic
続いて、内部電極パターン等が形成された複数のグリーンシート32を図24,25に示す順に積層し、隣接する主面電極117a〜120aに対応する部分が積層方向において互いに略全面で対向するように(図23参照)、セラミックグリーンシート32の位置合わせを行う。なお、上述した内部電極パターンは、例えば積層方向に2〜5組程度となるように、セラミックグリーンシート32を積層し、最上部には、内部電極パターンを有しないセラミックグリーンシート32を積層配置する。
Subsequently, a plurality of
続いて、セラミックグリーンシート32を上述したように積層してグリーン積層体が形成されると、第一〜第四実施形態と同様、グリーン積層体を加圧して圧着する。この積層体では、第二段差吸収層127〜130(第二の部分127b〜130b)により、内部電極パターンの主面電極117a〜120aに対応する部分同士が接触しないようになっている。次に、このグリーン積層体を焼成し、コンデンサ素体112を得る。そして、焼成等が終了すると、コンデンサ素体112の端面112c,112dや側面112e,112fの所定箇所に導電性ペーストP3を塗布して焼き付けを行い、更にメッキを施すことにより、図21に示されるような端子電極113,114及び外部接続導体115,116が形成される。以上により、図21に示した積層コンデンサ111が完成する。
Subsequently, when the green laminate is formed by laminating the ceramic
以上のように、本実施形態に係る積層コンデンサ111の製造方法でも、第一〜第四実施形態と同様、段差吸収層を形成する工程において、内部電極パターンの主面電極117a〜120aに対応する部分の周縁全体に第二段差吸収層127〜130を形成している。このため、主面電極117a〜120aに対応する部分の周縁全体に形成された第二段差吸収層127〜130により、セラミックグリーンシート32を積層圧着したとしても、主面電極117a〜120aに対応する部分に段差部分が形成されるのを防ぐことができ、段差部分に起因する応力集中を回避することができる。その結果、グリーン積層体におけるクラックなどの内部構造欠陥の発生が抑制され、積層コンデンサ111において、例えば主面電極117a〜120a同士における接触や近接を回避することができる。
As described above, in the method of manufacturing the multilayer capacitor 111 according to this embodiment, as in the first to fourth embodiments, in the step of forming the step absorption layer, it corresponds to the
また、積層コンデンサ111でも、第一〜第四実施形態と同様、内部電極層117〜120の主面電極117a〜120aの周縁全体に段差吸収層127〜130が配置されている。このため、主面電極117a〜120a同士の間に第二段差吸収層127〜130が介在していることになり、主面電極117a〜120a同士を接触や近接しないようにすることができる。その結果、積層コンデンサ111を、内部構造欠陥の発生を抑制して所定の性能を発揮できる積層電子部品とすることができる。
In the multilayer capacitor 111 as well, step absorption layers 127 to 130 are disposed on the entire periphery of the
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態では、各内部電極層を2〜5組や10組、積層してコンデンサ素体としていたが、積層数(組数)はこれらに限定されるわけではなく、その他の積層数(組数)であってももちろんよい。 The preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, but the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible. For example, in the above embodiment, 2 to 5 or 10 sets of internal electrode layers are stacked to form a capacitor body. However, the number of stacked layers (number of sets) is not limited to these, and the number of other stacked layers Of course, it may be (number of sets).
また、上記実施形態では、第一段差吸収層、第二段差吸収層及び第三段差吸収層を略同時に形成する製造方法を説明したが、各段差吸収層を別々に製造してもよいし、第一及び第二段差吸収層を略同時に形成したり、第一及び第三段差吸収層を略同時に形成したり、第二及び第三段差吸収層を略同時に形成したりしてもよい。また、上記実施形態では、誘電体層と段差吸収層とを同じ誘電体材料から製造する方法で説明したが、段差吸収層が誘電体層と異なる誘電体材料から形成されるようにしてもよい。 In the above embodiment, the manufacturing method of forming the first step absorption layer, the second step absorption layer, and the third step absorption layer substantially simultaneously has been described, but each step absorption layer may be manufactured separately, The first and second step absorption layers may be formed substantially simultaneously, the first and third step absorption layers may be formed substantially simultaneously, or the second and third step absorption layers may be formed substantially simultaneously. In the above embodiment, the method of manufacturing the dielectric layer and the step absorption layer from the same dielectric material has been described. However, the step absorption layer may be formed from a dielectric material different from the dielectric layer. .
また、上記実施形態では、2種類又は4種類の内部電極層を備えた積層コンデンサについて説明したが、4種類よりも種類が多い内部電極層を備えた積層コンデンサに対して、上述した実施形態を適用してももちろんよい。内部電極層が4種類よりも多数の種類から構成される場合、段差部分が内部電極層の面方向において更にばらついて発生することになり、これにより、積層方向において更に多数層おきとなるように段差部分が発生し、その結果、積層圧着時にこれら段差部分に応力が一層集中して内部構造欠陥が起こりやすくなるが、本実施形態の構成を備えた積層コンデンサであれば、種類の異なる内部電極層の積層数が多くなった場合であっても、このように発生しかねない段差部分の発生を防止し、内部構造欠陥の発生を抑制することができる。また、上記実施形態では、積層電子部品として、積層コンデンサを例に取って説明したが、他の積層電子部品に本実施形態を適用してももちろんよい。 In the above-described embodiment, the multilayer capacitor having two or four types of internal electrode layers has been described. However, the above-described embodiment is applied to the multilayer capacitor having more than four types of internal electrode layers. Of course, it can be applied. When the internal electrode layer is composed of more than four types, the stepped portion will be further dispersed in the plane direction of the internal electrode layer, and thereby, every other layer in the stacking direction. As a result, stepped portions are generated, and as a result, stress is further concentrated on these stepped portions at the time of laminate crimping, and internal structural defects are likely to occur. However, if the multilayer capacitor has the configuration of the present embodiment, different types of internal electrodes are used. Even when the number of layers is increased, it is possible to prevent the occurrence of a step portion that may occur in this way, and to suppress the occurrence of internal structural defects. In the above embodiment, the multilayer capacitor is described as an example of the multilayer electronic component. However, the present embodiment may be applied to other multilayer electronic components.
1,51,71,91,111…積層貫通コンデンサ、2,52,72,92,112…コンデンサ素体、3〜6,53,54,73〜76,93〜96,113,114…端子電極、7〜10,57,58,77,78,97,98,117〜120…内部電極、7a〜10a,57a,58a,77a,78a,97a,98a,117a〜120a…主面電極、7b〜10b,57b,58b,77b,78b,97b,98b,117b,118b,117c〜120c…引出電極、13〜16,63,64,83,84,103,104,123〜126…第一段差吸収層、17〜20,65,66,85,86,105,106,127〜130…第二段差吸収層、17a〜20a,65a,66a,85a,86a,105a,106a,127a〜130a…第一の部分、17b〜20b,65b,66b,85b,86b,105b,106b、127b〜130b…第二の部分、23〜26,67,68,87,88,107,108,133〜136…第三段差吸収層。
1, 51, 71, 91, 111 ... multilayer feedthrough capacitor, 2, 52, 72, 92, 112 ... capacitor body, 3-6, 53, 54, 73-76, 93-96, 113, 114 ... terminal electrode 7-10, 57, 58, 77, 78, 97, 98, 117-120 ... internal electrodes, 7a-10a, 57a, 58a, 77a, 78a, 97a, 98a, 117a-120a ... main surface electrodes, 7b- 10b, 57b, 58b, 77b, 78b, 97b, 98b, 117b, 118b, 117c to 120c ... extraction electrode, 13 to 16, 63, 64, 83, 84, 103, 104, 123 to 126 ... first step absorption layer 17-20, 65, 66, 85, 86, 105, 106, 127-130 ... second step absorption layer, 17a-20a, 65a, 66a, 85a, 86a, 105a 106a, 127a-130a ... first part, 17b-20b, 65b, 66b, 85b, 86b, 105b, 106b, 127b-130b ... second part, 23-26, 67, 68, 87, 88, 107, 108, 133-136 ... third step absorption layer.
Claims (10)
前記セラミックグリーンシート上で前記内部電極パターンが形成されない非形成領域と前記内部電極パターンの前記主面電極部分の周縁全体とに段差吸収層を形成する工程と、
前記内部電極パターンと前記段差吸収層とが形成された前記セラミックグリーンシートを積層且つ圧着して、グリーン積層体を形成する工程と、を備え、
前記段差吸収層を形成する工程において、前記主面電極部分と前記引出電極部分との連結部分に前記段差吸収層を形成することを特徴とする積層電子部品の製造方法。 Forming an internal electrode pattern including at least a main surface electrode portion and an extraction electrode portion on the ceramic green sheet;
Forming a step-absorbing layer on a non-formation region where the internal electrode pattern is not formed on the ceramic green sheet and the entire periphery of the main surface electrode portion of the internal electrode pattern;
The internal electrode pattern and said the ceramic green sheet and the step absorption layer is formed by laminating and pressure bonding, e Bei forming a green laminate, and,
In the step of forming the step absorption layer, the step absorption layer is formed at a connection portion between the main surface electrode portion and the extraction electrode portion .
前記誘電体層に挟まれるように前記素体内に配置され且つ少なくとも主面電極と引出電極とを含む内部電極層と、
前記誘電体層上で前記内部電極層が配置されていない非形成領域と前記内部電極層の前記主面電極の周縁全体とに配置された段差吸収層と、を備え、
前記段差吸収層は、前記主面電極と前記引出電極との連結部分に形成されていることを特徴とする積層電子部品。 An element body in which a plurality of dielectric layers are laminated;
An internal electrode layer disposed in the element body so as to be sandwiched between the dielectric layers and including at least a main surface electrode and an extraction electrode ;
E Bei and a step absorption layer disposed on the entire the peripheral edge of the main surface electrodes of the internal electrode layer is not disposed non-formation region and the internal electrode layer by the dielectric layer,
The stepped absorption layer is formed at a connection portion between the main surface electrode and the extraction electrode .
前記4種類以上の内部電極それぞれに接続される端子電極を更に備えることを特徴とする請求項7又は8に記載の積層電子部品。 The internal electrode layers are at least four types,
The multilayer electronic component according to claim 7, further comprising a terminal electrode connected to each of the four or more types of internal electrodes.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010194371A JP5152278B2 (en) | 2010-08-31 | 2010-08-31 | Manufacturing method of laminated electronic component and laminated electronic component |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012054330A JP2012054330A (en) | 2012-03-15 |
JP5152278B2 true JP5152278B2 (en) | 2013-02-27 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010194371A Active JP5152278B2 (en) | 2010-08-31 | 2010-08-31 | Manufacturing method of laminated electronic component and laminated electronic component |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5152278B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101514514B1 (en) * | 2013-04-22 | 2015-04-22 | 삼성전기주식회사 | Multi-layered ceramic capacitor and board for mounting the same |
US9524828B2 (en) | 2013-04-22 | 2016-12-20 | Samsung Electro-Mechanics, Co., Ltd. | Multilayered ceramic capacitor and mounting the same |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101994708B1 (en) * | 2013-01-08 | 2019-07-01 | 삼성전기주식회사 | Multilayer ceramic electronic component |
KR102126420B1 (en) | 2013-06-10 | 2020-06-24 | 삼성전기주식회사 | Multi-layered ceramic capacitor and board for mounting the same |
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KR102016485B1 (en) * | 2014-07-28 | 2019-09-02 | 삼성전기주식회사 | Multi layer ceramic capacitor and board having the same mounted thereon |
JP7031574B2 (en) * | 2018-12-21 | 2022-03-08 | 株式会社村田製作所 | Electronic components and their manufacturing methods |
JP2021086972A (en) | 2019-11-29 | 2021-06-03 | 株式会社村田製作所 | Multilayer ceramic capacitor |
JP7160024B2 (en) * | 2019-12-20 | 2022-10-25 | 株式会社村田製作所 | electronic components |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4556999B2 (en) * | 2003-02-24 | 2010-10-06 | 株式会社村田製作所 | Method for manufacturing ceramic electronic component and gravure printing method |
JP4023622B2 (en) * | 2005-01-31 | 2007-12-19 | Tdk株式会社 | Manufacturing method of laminated electronic component |
JP2006253371A (en) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Tdk Corp | Multi-terminal multilayer capacitor and its manufacturing method |
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KR101514514B1 (en) * | 2013-04-22 | 2015-04-22 | 삼성전기주식회사 | Multi-layered ceramic capacitor and board for mounting the same |
US9524828B2 (en) | 2013-04-22 | 2016-12-20 | Samsung Electro-Mechanics, Co., Ltd. | Multilayered ceramic capacitor and mounting the same |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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