JP5152278B2 - Manufacturing method of laminated electronic component and laminated electronic component - Google Patents

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本発明は、積層電子部品の製造方法及び積層電子部品に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a laminated electronic component and a laminated electronic component.

コンデンサなどの積層電子部品を製造するにあたり、セラミックグリーンシート上に内部電極パターンを形成し、内部電極パターンが形成されたセラミックグリーンシートを積層圧着してグリーン積層体を得ることが行われている。ところで、この製造方法では、内部電極パターンが形成されない非形成領域(空隙)がセラミックグリーンシート上にできてしまうことから、そのまま積層圧着してしまうと、非形成領域と内部電極パターンとの間の段差により、クラックなどの内部構造欠陥を発生させてしまう場合があった。   In manufacturing a laminated electronic component such as a capacitor, an internal electrode pattern is formed on a ceramic green sheet, and a green laminate is obtained by laminating and pressing the ceramic green sheet on which the internal electrode pattern is formed. By the way, in this manufacturing method, since the non-formation area | region (gap | interval) in which an internal electrode pattern is not formed will be formed on a ceramic green sheet, if it laminates and presses as it is, it will be between a non-formation area | region and an internal electrode pattern. In some cases, the steps cause internal structural defects such as cracks.

そこで、特許文献1に記載の製造方法では、セラミックグリーンシート上で内部電極パターンが形成されない非形成領域に、セラミックグリーンシートの材料と同じ誘電体材料を含むペーストを塗布して段差吸収層を設け、この段差吸収層により、かかる段差が生じないようにしている。そして、特許文献1に記載の製造方法では、かかる段差を解消した上でセラミックグリーンシートを積層圧着し、これにより、内部構造欠陥の発生を抑制しつつ、積層電子部品を製造している。   Therefore, in the manufacturing method described in Patent Document 1, a step absorption layer is provided by applying a paste containing the same dielectric material as the material of the ceramic green sheet to a non-formation region where the internal electrode pattern is not formed on the ceramic green sheet. The step absorption layer prevents such a step from occurring. And in the manufacturing method of patent document 1, after canceling | dissolving this level | step difference, a ceramic green sheet is laminated | stacked and crimped | bonded, thereby manufacturing a multilayer electronic component, suppressing generation | occurrence | production of an internal structural defect.

特開昭52−135051号公報JP-A-52-135051

しかしながら、コンデンサなどの積層電子部品に対する小型化要請がますます強くなってきていることから、これら電子部品の製造にあたり、非形成領域に対して段差吸収層がずれて形成されてしまい、段差吸収層と内部電極パターンとの間に隙間が形成されてしまう場合があった。このような隙間が形成されると、少なからず、内部構造欠陥の原因となってしまうおそれがある。そこで、図26の内部電極層等の平面図に示されるように、非形成領域R201〜R204に段差吸収層213〜216を形成する際、あえて内部電極パターン207〜210の外縁に段差吸収層の一部217〜220が重なるように製造を行い、これにより、非形成領域R201〜R204に形成される段差吸収層213〜216と内部電極パターン207〜210との間の隙間を完全になくし、内部構造欠陥の発生を抑制するようにしている。   However, since the demand for miniaturization of multilayer electronic components such as capacitors has become stronger, in manufacturing these electronic components, the step absorption layer is formed so as to be shifted from the non-formation region. In some cases, a gap is formed between the electrode pattern and the internal electrode pattern. If such a gap is formed, there is a risk of causing internal structural defects. Therefore, as shown in the plan view of the internal electrode layer and the like in FIG. 26, when the step absorption layers 213 to 216 are formed in the non-formation regions R201 to R204, the step absorption layer is intentionally formed on the outer edges of the internal electrode patterns 207 to 210. Manufacture is performed so that the portions 217 to 220 overlap each other, thereby completely eliminating the gap between the step absorption layers 213 to 216 formed in the non-forming regions R201 to R204 and the internal electrode patterns 207 to 210. The generation of structural defects is suppressed.

ところで、内部電極パターン207〜210の外縁に段差吸収層217〜220が重なるように構成された複数のセラミックグリーンシートを積層しようとした場合、図27や図28に示されるように、内部電極パターン上に段差吸収層がある場所とない場所とが併存してしまい、例えば、主面電極207a〜210aと引出電極207b〜210bとの連結箇所に段差部分(空隙)Sが形成されてしまう場合があった。このような段差部分Sを含む積層体をそのまま圧着すると(図29(a)参照)、この段差部分に応力が集中し、その結果、対向する主面電極部分同士が接触又は近接してしまうおそれがあった(図29(b)、(c)参照)。このように主面電極207a〜210a同士の接触等が生じてしまうと、積層電子部品は、意図した性能を十分に発揮することが難しくなってしまう。   By the way, when it is going to laminate | stack the some ceramic green sheet comprised so that the level | step difference absorption layers 217-220 may overlap with the outer edge of the internal electrode patterns 207-210, as shown in FIG. 27 and FIG. There may be a place where there is a step absorption layer and a place where there is no step absorption layer. For example, a step portion (gap) S may be formed at the connection portion between the main surface electrodes 207a to 210a and the extraction electrodes 207b to 210b. there were. When a laminated body including such a stepped portion S is pressure-bonded as it is (see FIG. 29A), stress concentrates on the stepped portion, and as a result, the opposing main surface electrode portions may come into contact with or be close to each other. (See FIGS. 29B and 29C). Thus, if contact etc. of main surface electrode 207a-210a will arise, it will become difficult for a multilayer electronic component to fully exhibit the intended performance.

本発明は、内部構造欠陥の発生を抑制した積層電子部品を製造することができる製造方法及びこの製造方法によって製造される積層電子部品を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the manufacturing method which can manufacture the multilayer electronic component which suppressed generation | occurrence | production of the internal structural defect, and the multilayer electronic component manufactured by this manufacturing method.

本発明に係る積層電子部品の製造方法は、少なくとも主面電極部分を含む内部電極パターンをセラミックグリーンシート上に形成する工程と、セラミックグリーンシート上で内部電極パターンが形成されない非形成領域と内部電極パターンの主面電極部分の周縁全体とに段差吸収層を形成する工程と、内部電極パターンと段差吸収層とが形成されたセラミックグリーンシートを積層且つ圧着して、グリーン積層体を形成する工程とを備えている。   The method for manufacturing a multilayer electronic component according to the present invention includes a step of forming an internal electrode pattern including at least a main surface electrode portion on a ceramic green sheet, a non-formation region where the internal electrode pattern is not formed on the ceramic green sheet, and an internal electrode Forming a step-absorbing layer on the entire periphery of the main surface electrode portion of the pattern; and laminating and pressing a ceramic green sheet on which the internal electrode pattern and the step-absorbing layer are formed; and forming a green laminate It has.

本発明に係る積層電子部品の製造方法では、段差吸収層を形成する工程において、内部電極パターンの主面電極部分の周縁全体に段差吸収層を形成している。この場合、主面電極部分の周縁全体に形成された段差吸収層により、セラミックグリーンシートを積層圧着したとしても、主面電極部分に段差部分が形成されることを防ぐことができ、段差部分に起因する応力集中を回避することができる。その結果、積層体におけるクラックなどの内部構造欠陥の発生が抑制され、例えば主面電極部分同士における接触や近接を回避できる。   In the method for manufacturing a laminated electronic component according to the present invention, in the step of forming the step absorption layer, the step absorption layer is formed over the entire periphery of the main surface electrode portion of the internal electrode pattern. In this case, even if the ceramic green sheet is laminated and pressure-bonded by the step absorption layer formed on the entire periphery of the main surface electrode portion, it is possible to prevent the step portion from being formed on the main surface electrode portion. The resulting stress concentration can be avoided. As a result, the occurrence of internal structural defects such as cracks in the laminate is suppressed, and for example, contact and proximity between main surface electrode portions can be avoided.

本発明に係る積層電子部品の製造方法において、内部電極パターンを形成する工程において、更に引出電極部分を含むように内部電極パターンをセラミックグリーンシート上に形成し、段差吸収層を形成する工程において、内部電極パターンの引出電極部分に段差吸収層を形成することが好ましい。この場合、セラミックグリーンシートを積層圧着しても、引出電極部分に形成された段差吸収層により、引出電極部分に段差部分が形成されることを防ぐことができ、段差部分に起因する応力集中を回避することができる。その結果、積層体における内部構造欠陥の発生が更に抑制される。   In the method for manufacturing a laminated electronic component according to the present invention, in the step of forming the internal electrode pattern, in the step of forming the internal electrode pattern on the ceramic green sheet so as to further include the extraction electrode portion, and forming the step absorption layer, It is preferable to form a step absorption layer in the extraction electrode portion of the internal electrode pattern. In this case, even if the ceramic green sheet is laminated and pressure-bonded, the step absorption layer formed in the extraction electrode portion can prevent the formation of the step portion in the extraction electrode portion, and stress concentration caused by the step portion can be reduced. It can be avoided. As a result, the occurrence of internal structural defects in the laminate is further suppressed.

なお、上述したように、引出電極部分に段差吸収層を形成する場合に、段差吸収層を形成する工程において、引出電極部分の非形成領域側の縁に段差吸収層を形成するようにしてもよいし、引出電極部分の全体に段差吸収層を形成するようにしてもよい。   As described above, when the step absorption layer is formed in the extraction electrode portion, the step absorption layer may be formed at the edge of the extraction electrode portion on the non-formation region side in the step of forming the step absorption layer. Alternatively, a step absorption layer may be formed on the entire extraction electrode portion.

本発明に係る積層電子部品の製造方法において、段差吸収層を形成する工程において、主面電極部分の周縁全体と引出電極部分とに略同時に段差吸収層が形成されるようにしてもよいし、また、非形成領域と主面電極部分の周縁全体とに略同時に段差吸収層が形成されるようにしてもよい。更に、段差吸収層を形成する工程において、非形成領域と主面電極部分の周縁全体と引出電極部分とに略同時に段差吸収層が形成されるようにしてもよい。各段差吸収層を略同時に形成することにより、製造工程を簡略化することができる。   In the method of manufacturing a laminated electronic component according to the present invention, in the step of forming the step absorption layer, the step absorption layer may be formed substantially simultaneously on the entire periphery of the main surface electrode portion and the extraction electrode portion. Further, the step absorption layer may be formed substantially simultaneously in the non-formation region and the entire periphery of the main surface electrode portion. Further, in the step of forming the step absorption layer, the step absorption layer may be formed almost simultaneously in the non-formation region, the entire periphery of the main surface electrode portion, and the extraction electrode portion. By forming each step absorption layer substantially simultaneously, the manufacturing process can be simplified.

本発明に係る積層電子部品は、複数の誘電体層が積層された素体と、誘電体層に挟まれるように素体内に配置され且つ少なくとも主面電極を含む内部電極層と、誘電体層上で内部電極層が配置されていない非形成領域と内部電極層の主面電極の周縁全体とに配置された段差吸収層と、を備えている。   A multilayer electronic component according to the present invention includes an element body in which a plurality of dielectric layers are laminated, an internal electrode layer disposed in the element body so as to be sandwiched between the dielectric layers, and including at least a main surface electrode, and a dielectric layer There is provided a non-formation region where no internal electrode layer is disposed above and a step absorption layer disposed on the entire periphery of the main surface electrode of the internal electrode layer.

本発明に係る積層電子部品では、内部電極層の主面電極の周縁全体に段差吸収層が配置されている。この場合、主面電極同士の間に段差吸収層が介在していることになり、主面電極同士が接触や近接しないようになる。このため、このような段差吸収層により、内部構造欠陥の発生を抑制して所定の性能を発揮できる積層電子部品とすることができる。   In the multilayer electronic component according to the present invention, the step absorption layer is disposed over the entire periphery of the main surface electrode of the internal electrode layer. In this case, the step absorption layer is interposed between the main surface electrodes, so that the main surface electrodes do not come into contact with or approach each other. For this reason, it can be set as a laminated electronic component which can exhibit a predetermined performance by suppressing generation | occurrence | production of an internal structural defect by such a level | step difference absorption layer.

本発明に係る積層電子部品において、内部電極層は、引出電極を更に含んでおり、段差吸収層は、引出電極上に更に配置されていることが好ましい。この場合、引出電極同士の間にも段差吸収層が介在していることになる。このため、このような段差吸収層により、引出電極付近においても、内部構造欠陥の発生を抑制できる。   In the multilayer electronic component according to the present invention, it is preferable that the internal electrode layer further includes an extraction electrode, and the step absorption layer is further disposed on the extraction electrode. In this case, a step absorption layer is also interposed between the extraction electrodes. For this reason, such a step absorption layer can suppress the occurrence of internal structure defects even in the vicinity of the extraction electrode.

本発明に係る積層電子部品において、内部電極層は、少なくとも4種類以上であり、4種類以上の内部電極それぞれに接続される端子電極を更に備えるようにしてもよい。内部電極層が多数の種類から構成される場合、段差部分が内部電極層の面方向においてばらついて発生することにより、積層方向において多数層おきに段差部分が発生し、その結果、積層圧着時に多数層おきに発生した段差部分に応力が集中してしまい、内部構造欠陥が起こりやすくなる。ところが、本発明の構成を備えた積層電子部品であれば、内部電極層が4種類以上の多数の種類から構成される場合であっても、このように多数層おきに発生しかねない段差部分の発生を防止し、かかる内部構造欠陥の発生を抑制することができる。   In the multilayer electronic component according to the present invention, the internal electrode layers may be at least four types or more, and may further include a terminal electrode connected to each of the four or more types of internal electrodes. When the internal electrode layer is composed of many types, the stepped portion varies in the surface direction of the internal electrode layer, resulting in a stepped portion every other multiple layers in the stacking direction. Stress concentrates on the stepped portions generated every other layer, and internal structural defects are likely to occur. However, in the case of the multilayer electronic component having the configuration of the present invention, even in the case where the internal electrode layer is composed of a large number of four or more types, the step portion that may occur every other multiple layers in this way. The occurrence of such internal structural defects can be suppressed.

本発明によれば、内部構造欠陥の発生を抑制した積層電子部品を製造することができる製造方法及びこの製造方法によって製造される積層電子部品を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method which can manufacture the multilayer electronic component which suppressed generation | occurrence | production of an internal structural defect, and the multilayer electronic component manufactured by this manufacturing method can be provided.

本発明の第一実施形態に係る積層コンデンサの斜視図である。1 is a perspective view of a multilayer capacitor according to a first embodiment of the present invention. 内部電極層及び誘電体層に段差吸収層が形成された状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state in which the level | step difference absorption layer was formed in the internal electrode layer and the dielectric material layer. 内部電極層等を積層した際の段差吸収層の重なり具合を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the overlapping condition of the level | step difference absorption layer at the time of laminating | stacking an internal electrode layer. 内部電極層等の積層順序を図3のVI-VI線に沿って模式的に示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing the stacking order of internal electrode layers and the like along the line VI-VI in FIG. 3. 第一実施形態に係る積層コンデンサにおいて内部電極層同士が接触しないことを示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows that internal electrode layers do not contact in the multilayer capacitor which concerns on 1st embodiment. 第一実施形態に係る積層コンデンサにおいて、段差吸収層の形成箇所を変更した変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification which changed the formation location of the level | step difference absorption layer in the multilayer capacitor which concerns on 1st embodiment. 本発明の第二実施形態に係る積層コンデンサの斜視図である。It is a perspective view of the multilayer capacitor concerning a second embodiment of the present invention. 内部電極層及び誘電体層に段差吸収層が形成された状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state in which the level | step difference absorption layer was formed in the internal electrode layer and the dielectric material layer. 内部電極層等を積層した際の段差吸収層の重なり具合を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the overlapping condition of the level | step difference absorption layer at the time of laminating | stacking an internal electrode layer. 内部電極層等の積層順序を図9のX-X線に沿って模式的に示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing the stacking order of internal electrode layers and the like along the line XX in FIG. 9. 本発明の第三実施形態に係る積層コンデンサの斜視図である。It is a perspective view of the multilayer capacitor concerning a third embodiment of the present invention. 内部電極層及び誘電体層に段差吸収層が形成された状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state in which the level | step difference absorption layer was formed in the internal electrode layer and the dielectric material layer. 内部電極層等を積層した際の段差吸収層の重なり具合を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the overlapping condition of the level | step difference absorption layer at the time of laminating | stacking an internal electrode layer. 内部電極層等の積層順序を図13のXIV-XIV線に沿って模式的に示す断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view schematically showing the stacking order of internal electrode layers and the like along the line XIV-XIV in FIG. 13. 本発明の第四実施形態に係る積層コンデンサの斜視図である。It is a perspective view of the multilayer capacitor which concerns on 4th embodiment of this invention. 内部電極層及び誘電体層に段差吸収層が形成された状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state in which the level | step difference absorption layer was formed in the internal electrode layer and the dielectric material layer. 内部電極層等を積層した際の段差吸収層の重なり具合を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the overlapping condition of the level | step difference absorption layer at the time of laminating | stacking an internal electrode layer. 内部電極層等の積層順序を図17のXVIII-XVIII線に沿って模式的に示す断面図である。FIG. 18 is a cross-sectional view schematically illustrating the stacking order of internal electrode layers and the like along the line XVIII-XVIII in FIG. 17. 第四実施形態に係る積層コンデンサにおいて、内部電極層の形状を変更した変形例を示す平面図である。In the multilayer capacitor in accordance with the fourth embodiment, it is a plan view showing a modification in which the shape of the internal electrode layer is changed. 内部電極層等の積層順序を図19のXX-XX線に沿って模式的に示す断面図である。FIG. 20 is a cross-sectional view schematically illustrating the stacking order of internal electrode layers and the like along the line XX-XX in FIG. 19. 本発明の第五実施形態に係る積層コンデンサの斜視図である。It is a perspective view of the multilayer capacitor concerning a fifth embodiment of the present invention. 内部電極層及び誘電体層に段差吸収層が形成された状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state in which the level | step difference absorption layer was formed in the internal electrode layer and the dielectric material layer. 内部電極層等を積層した際の段差吸収層の重なり具合を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the overlapping condition of the level | step difference absorption layer at the time of laminating | stacking an internal electrode layer. 内部電極層等の積層順序を図23のXXIV-XXIV線に沿って模式的に示す断面図である。FIG. 24 is a cross-sectional view schematically illustrating the stacking order of internal electrode layers and the like along the line XXIV-XXIV in FIG. 23. 内部電極層等の積層順序を図23のXXV-XXV線に沿って模式的に示す断面図である。FIG. 24 is a cross-sectional view schematically illustrating the stacking order of internal electrode layers and the like along the line XXV-XXV in FIG. 23. 従来の積層コンデンサの内部電極層及び誘電体層に段差吸収層が形成された状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state by which the level | step difference absorption layer was formed in the internal electrode layer and dielectric material layer of the conventional multilayer capacitor. 従来の積層コンデンサの内部電極層等を積層した際の段差吸収層の重なり具合を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the overlap condition of the level | step difference absorption layer at the time of laminating | stacking the internal electrode layer etc. of the conventional multilayer capacitor. 従来の積層コンデンサの内部電極層等の積層順序を図27のXXVIII-XXVIII線に沿って模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the lamination | stacking order of the internal electrode layers of a conventional multilayer capacitor along the line XXVIII-XXVIII in FIG. 従来の積層コンデンサにおいて内部電極層同士が接触してしまうことを示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows that internal electrode layers will contact in the conventional multilayer capacitor.

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description, the same reference numerals are used for the same elements or elements having the same function, and redundant description is omitted.

まず、図1及び図2を参照して、本実施形態に係る製造方法によって製造される積層コンデンサ1の構成について説明する。積層コンデンサ1は、略直方体形状のコンデンサ素体2と、コンデンサ素体2の外表面に配置される端子電極3〜6と、コンデンサ素体2内に配置される内部電極層7〜10とを備えて構成される。   First, with reference to FIG.1 and FIG.2, the structure of the multilayer capacitor 1 manufactured by the manufacturing method which concerns on this embodiment is demonstrated. The multilayer capacitor 1 includes a substantially rectangular parallelepiped capacitor element 2, terminal electrodes 3 to 6 disposed on the outer surface of the capacitor element 2, and internal electrode layers 7 to 10 disposed in the capacitor element 2. It is prepared for.

コンデンサ素体2は、複数の誘電体層12が積層されて構成され、略直方体形状を呈する。コンデンサ素体2は、互いに対向し且つ略長方形状の主面2a,2bと、互いに対向し且つ略長方形状の端面2c,2dと、互いに対向し且つ略長方形状の側面2e,2fとを有している。端面2c,2d及び側面2e,2fは、主面2a,2b間を連結するように伸びている。誘電体層12は、例えばBaTiO系、Ba(Ti,Zr)O系、(Ba,Ca)TiO系といった電歪特性を有する誘電体材料によって形成される。誘電体層12の厚みは、例えば0.5〜3μm程度である。 The capacitor body 2 is formed by laminating a plurality of dielectric layers 12 and has a substantially rectangular parallelepiped shape. Capacitor body 2 has main surfaces 2a and 2b that are opposed to each other and substantially rectangular, end surfaces 2c and 2d that are opposed to each other and substantially rectangular, and side surfaces 2e and 2f that are opposed to each other and are substantially rectangular. doing. The end surfaces 2c and 2d and the side surfaces 2e and 2f extend so as to connect the main surfaces 2a and 2b. The dielectric layer 12 is formed of a dielectric material having electrostrictive characteristics such as a BaTiO 3 system, a Ba (Ti, Zr) O 3 system, and a (Ba, Ca) TiO 3 system. The thickness of the dielectric layer 12 is, for example, about 0.5 to 3 μm.

端子電極3〜6は、コンデンサ素体2の側面2e,2fそれぞれに2個ずつ並列配置され、並列に離間配置された端子電極3,4と端子電極6,5とが、側面2e,2fの対向方向に互いに対向する。各端子電極3〜6は、例えば、導電性金属粉末及びガラスフリットを含む導電性ペーストをコンデンサ素体2の側面2e,2f等の所定箇所に塗布し、焼き付けることによって形成される。必要に応じて、焼き付けられた電極の上にめっき層を形成してもよい。   Two terminal electrodes 3 to 6 are arranged in parallel on each of the side surfaces 2e and 2f of the capacitor body 2, and the terminal electrodes 3 and 4 and the terminal electrodes 6 and 5 spaced apart in parallel are arranged on the side surfaces 2e and 2f. Opposing each other in the facing direction. Each of the terminal electrodes 3 to 6 is formed, for example, by applying a conductive paste containing conductive metal powder and glass frit to predetermined locations such as the side surfaces 2e and 2f of the capacitor body 2 and baking it. If necessary, a plating layer may be formed on the baked electrode.

内部電極層7〜10それぞれは、コンデンサ素体2内において、少なくとも一層の誘電体層12を間に挟むようにして順に積層されるものである(図4参照)。各内部電極層7〜10は、図2に示されるように、積層方向に隣接する他の内部電極層7〜10と対向して静電容量部を形成する主面電極7a〜10aと、主面電極7a〜10aそれぞれを端子電極3〜6に向かって引き出す引出電極7b〜10bとを含んで構成される。主面電極7a〜10aは、略長方形状を呈しており、誘電体層12の略中央部に位置するように配置される。   Each of the internal electrode layers 7 to 10 is sequentially laminated in the capacitor body 2 with at least one dielectric layer 12 interposed therebetween (see FIG. 4). As shown in FIG. 2, each of the internal electrode layers 7 to 10 has main surface electrodes 7 a to 10 a that form a capacitance portion facing the other internal electrode layers 7 to 10 adjacent in the stacking direction, The surface electrodes 7a to 10a are respectively configured to include extraction electrodes 7b to 10b that lead out toward the terminal electrodes 3 to 6, respectively. Main surface electrodes 7 a to 10 a have a substantially rectangular shape, and are arranged so as to be located at a substantially central portion of dielectric layer 12.

内部電極層7は、引出電極7bにより側面2eに引き出されて、端子電極3に電気的且つ機械的に接続される。内部電極層8は、引出電極8bにより側面2eに引き出されて、端子電極4に電気的且つ機械的に接続される。内部電極層9は、引出電極9bにより側面2fに引き出されて、端子電極5に電気的且つ機械的に接続される。内部電極層10は、引出電極10bにより側面2fに引き出されて、端子電極6に電気的且つ機械的に接続される。内部電極層7〜10は、例えば導電性ペーストの焼結体から構成される。内部電極層7〜10の厚みは、例えば0.5〜3μm程度である。   The internal electrode layer 7 is drawn to the side surface 2 e by the lead electrode 7 b and is electrically and mechanically connected to the terminal electrode 3. The internal electrode layer 8 is drawn to the side surface 2 e by the lead electrode 8 b and is electrically and mechanically connected to the terminal electrode 4. The internal electrode layer 9 is drawn to the side surface 2 f by the lead electrode 9 b and is electrically and mechanically connected to the terminal electrode 5. The internal electrode layer 10 is drawn to the side surface 2 f by the lead electrode 10 b and is electrically and mechanically connected to the terminal electrode 6. The internal electrode layers 7 to 10 are made of, for example, a sintered body of a conductive paste. The thickness of the internal electrode layers 7 to 10 is, for example, about 0.5 to 3 μm.

また、積層コンデンサ1は、図2〜図4に示されるように、誘電体層12上において内部電極層7〜10それぞれが形成されない非形成領域R1〜R4に第一段差吸収層13〜16を備えている。これら非形成領域R1〜R4は、各誘電体層12上において、各内部電極層7〜10を取り囲む領域である。第一段差吸収層13〜16は、例えば誘電体層12と同じ誘電体材料から構成される。第一段差吸収層13〜16の厚みは、内部電極層7〜10と略同一であり、例えば0.5〜3μm程度である。後述する他の段差吸収層の材料や厚みも同様である。   2 to 4, the multilayer capacitor 1 includes first step absorption layers 13 to 16 in the non-formation regions R1 to R4 where the internal electrode layers 7 to 10 are not formed on the dielectric layer 12, respectively. I have. These non-formation regions R1 to R4 are regions surrounding the internal electrode layers 7 to 10 on the dielectric layers 12. The first step absorption layers 13 to 16 are made of the same dielectric material as that of the dielectric layer 12, for example. The thickness of the first step absorption layers 13 to 16 is substantially the same as that of the internal electrode layers 7 to 10, for example, about 0.5 to 3 μm. The same applies to the materials and thicknesses of other step absorption layers described later.

また、積層コンデンサ1は、第一段差吸収層13〜16に加え、内部電極層7〜10の主面電極7a〜10aそれぞれの周縁全体に第二段差吸収層17〜20を、内部電極層7〜10の引出電極7b〜10bそれぞれの非形成領域R1〜R4側の縁に一対の第三段差吸収層23〜26を備えている。第二段差吸収層17〜20は、非形成領域R1〜R4側の縁に沿って形成される第一の部分17a〜20aと、主面電極7a〜10aと引出電極7b〜10bとの連結部分に位置する第二の部分17b〜20bとから構成される。   In addition to the first step absorption layers 13 to 16, the multilayer capacitor 1 includes the second step absorption layers 17 to 20 on the entire peripheral edges of the main surface electrodes 7 a to 10 a of the internal electrode layers 7 to 10. A pair of third step absorption layers 23 to 26 are provided at the edges of the 10 to 10 extraction electrodes 7b to 10b on the non-forming regions R1 to R4 side. The second step absorption layers 17 to 20 are connected to the first portions 17a to 20a formed along the edges on the non-forming regions R1 to R4 side, the main surface electrodes 7a to 10a, and the extraction electrodes 7b to 10b. It is comprised from the 2nd part 17b-20b located in.

続いて、上述した構成を有する積層コンデンサ1の製造方法について説明する。   Then, the manufacturing method of the multilayer capacitor 1 which has the structure mentioned above is demonstrated.

積層コンデンサ1の製造にあたっては、まず、誘電体層12や各段差吸収層13〜16,17〜20,23〜26を形成するためのセラミックペーストP1と、各内部電極層7〜10を形成するための導電性ペーストP2とを準備する。   In manufacturing the multilayer capacitor 1, first, the ceramic paste P <b> 1 for forming the dielectric layer 12 and the step absorption layers 13 to 16, 17 to 20, and 23 to 26, and the internal electrode layers 7 to 10 are formed. For this purpose, a conductive paste P2 is prepared.

セラミックペーストP1は、誘電体層12等を構成する誘電体材料の原料に有機ビヒクルなどを混合・混練することによって得られるペーストである。誘電体材料として、例えば、BaTiO系、(Ti,Zr)O系、(Ba,Ca)TiO系といった複合酸化物に含まれる各金属原子の酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物などの組み合わせが挙げられる。導電性ペーストP2は、例えばNi,Ag,Pdなどの金属粉末にバインダ樹脂や溶剤等を混合したペースト状の組成物である。 The ceramic paste P1 is a paste obtained by mixing and kneading an organic vehicle or the like with the raw material of the dielectric material constituting the dielectric layer 12 or the like. Examples of the dielectric material include oxides, carbonates, nitrates and hydroxides of metal atoms contained in complex oxides such as BaTiO 3 , (Ti, Zr) O 3 , and (Ba, Ca) TiO 3 , for example. And combinations of organometallic compounds. The conductive paste P2 is a paste-like composition obtained by mixing a binder resin, a solvent, or the like with a metal powder such as Ni, Ag, or Pd.

セラミックペーストP1及び導電性ペーストP2を準備した後、例えばドクターブレード法を用いることにより、PETなどからなるキャリアシート上にセラミックペーストP1を塗布し、誘電体層12の前駆体である複数のセラミックグリーンシート32を生成する。   After preparing the ceramic paste P1 and the conductive paste P2, the ceramic paste P1 is applied on a carrier sheet made of PET or the like by using, for example, a doctor blade method, and a plurality of ceramic greens that are precursors of the dielectric layer 12 A sheet 32 is generated.

続いて、例えばスクリーン印刷法により、図2に示されるように、各セラミックグリーンシート32の所定の位置に導電性ペーストP2を塗布し、各セラミックグリーンシート32上に内部電極層7〜10に対応する内部電極パターン37〜40をそれぞれ形成する。内部電極パターン37〜40を形成する工程により、セラミックグリーンシート32上に、主面電極7a〜10aに対応する部分(主面電極部分)及び引出電極7b〜10bに対応する部分(引出電極部分)が形成される。本実施形態では、内部電極層7〜10が1つの場合を例にとって説明するが、各セラミックグリーンシート32上に内部電極層7〜10に対応する部分が複数(例えば16個)形成されるようにしてもよい。   Subsequently, as shown in FIG. 2, for example, a conductive paste P <b> 2 is applied to a predetermined position of each ceramic green sheet 32 by screen printing, and the internal electrode layers 7 to 10 are applied on each ceramic green sheet 32. Internal electrode patterns 37 to 40 to be formed are respectively formed. By the process of forming the internal electrode patterns 37 to 40, on the ceramic green sheet 32, a portion corresponding to the main surface electrodes 7a to 10a (main surface electrode portion) and a portion corresponding to the extraction electrodes 7b to 10b (extraction electrode portion) Is formed. In this embodiment, a case where there is one internal electrode layer 7 to 10 will be described as an example. However, a plurality of (for example, 16) portions corresponding to the internal electrode layers 7 to 10 are formed on each ceramic green sheet 32. It may be.

続いて、内部電極パターン37〜40それぞれが形成された各セラミックグリーンシート32上で内部電極パターン37〜40が形成されない非形成領域R1〜R4と、内部電極パターン37〜40の主面電極7a〜10aに対応する部分の周縁全体と、内部電極パターン37〜40の引出電極7b〜10bに対応する部分の非形成領域R1〜R4側の縁とに、例えばスクリーン印刷法により、セラミックペーストP1を塗布する。このセラミックペーストP1の塗布は略同時に行われ、これにより、第一段差吸収層13〜16と、第二段差吸収層17〜20と、第三段差吸収層23〜26とが生成される。   Subsequently, the non-formation regions R1 to R4 in which the internal electrode patterns 37 to 40 are not formed on the ceramic green sheets 32 on which the internal electrode patterns 37 to 40 are respectively formed, and the main surface electrodes 7a to 7a of the internal electrode patterns 37 to 40. The ceramic paste P1 is applied to the entire periphery of the portion corresponding to 10a and the edges on the non-formation regions R1 to R4 side of the portions corresponding to the extraction electrodes 7b to 10b of the internal electrode patterns 37 to 40 by, for example, screen printing. To do. The application of the ceramic paste P1 is performed substantially simultaneously, whereby the first step absorption layers 13 to 16, the second step absorption layers 17 to 20, and the third step absorption layers 23 to 26 are generated.

続いて、複数のセラミックグリーンシート32上に内部電極パターン37〜40それぞれと各段差吸収層13〜16,17〜20,23〜26とが形成されると、内部電極パターン37〜40等が形成された複数のグリーンシート32を図4に示す順に積層し、隣接する主面電極7a〜10aに対応する部分が積層方向において互いに略全面で対向するように、セラミックグリーンシート32の位置合わせを行う。   Subsequently, when the internal electrode patterns 37 to 40 and the step absorption layers 13 to 16, 17 to 20, and 23 to 26 are formed on the plurality of ceramic green sheets 32, the internal electrode patterns 37 to 40 are formed. The plurality of green sheets 32 are stacked in the order shown in FIG. 4, and the ceramic green sheets 32 are aligned so that portions corresponding to the adjacent main surface electrodes 7a to 10a face each other substantially in the stacking direction. .

図3は、内部電極層7〜10をこのように積層した際の段差吸収層の重なり具合を模式的に示す平面図である。同図に示されるように、各内部電極層7〜10の主面電極7a〜10aの周縁全体には、第二段差吸収層17〜20が積層方向の上方からみて同位置になるように配置されている。つまり、各第二段差吸収層17〜20が、積層方向において、主面電極7a〜10aの周縁部分の間に確実に位置するようになっている。なお、本実施形態では、例えば、積層方向に内部電極パターン37〜40が2〜5組程度となるように、セラミックグリーンシート32を積層し、最上部には、内部電極パターン37〜40を有しないセラミックグリーンシート32を積層配置する。   FIG. 3 is a plan view schematically showing how the step absorption layers overlap when the internal electrode layers 7 to 10 are laminated in this manner. As shown in the figure, the second step absorption layers 17 to 20 are arranged at the same position when viewed from above in the stacking direction on the entire periphery of the main surface electrodes 7a to 10a of the internal electrode layers 7 to 10. Has been. That is, the second step absorption layers 17 to 20 are surely positioned between the peripheral portions of the main surface electrodes 7a to 10a in the stacking direction. In the present embodiment, for example, the ceramic green sheets 32 are laminated so that there are about 2 to 5 sets of internal electrode patterns 37 to 40 in the lamination direction, and the internal electrode patterns 37 to 40 are provided at the top. The ceramic green sheets 32 that are not to be laminated are arranged.

続いて、セラミックグリーンシート32を上述したように積層してグリーン積層体45aが形成されると、図5(a)に示されるように、グリーン積層体45aを加圧して圧着し、図5(b)に示されるようなグリーン積層体45bを取得する。この積層体45bでは、例えば、第二段差吸収層17の第二の部分17bにより、図5(c)に示されるように、内部電極パターン37〜40の主面電極7a〜10aに対応する部分同士が接触しないようになっている。   Subsequently, when the green laminated body 45a is formed by laminating the ceramic green sheets 32 as described above, the green laminated body 45a is pressed and pressure-bonded as shown in FIG. A green laminate 45b as shown in b) is obtained. In this laminated body 45b, for example, the second portion 17b of the second step absorption layer 17 corresponds to the main surface electrodes 7a to 10a of the internal electrode patterns 37 to 40 as shown in FIG. They are not in contact with each other.

続いて、このグリーン積層体45bを焼成し、これにより、コンデンサ素体2を得る。焼成はグリーン積層体45を例えば還元雰囲気下で1100〜1300℃程度に加熱することにより行われる。焼成処理に先立ち、グリーン積層体45bに脱バインダ処理を行ってもよい。脱バインダ処理は、グリーン積層体45bを空気中又はN及びHの混合ガス中などの還元雰囲気中に配置し、200〜600℃程度に加熱することにより行われる。なお、各セラミックグリーンシート32上に内部電極層7〜10に対応する部分を複数設けた場合には、焼成に先立ち、各チップに切断する処理を行う。 Subsequently, the green laminated body 45b is fired, whereby the capacitor body 2 is obtained. Firing is performed by heating the green laminate 45 to, for example, about 1100 to 1300 ° C. in a reducing atmosphere. Prior to the firing treatment, the green laminate 45b may be subjected to a binder removal treatment. The binder removal process is performed by placing the green laminated body 45b in a reducing atmosphere such as in the air or a mixed gas of N 2 and H 2 and heating to about 200 to 600 ° C. When a plurality of portions corresponding to the internal electrode layers 7 to 10 are provided on each ceramic green sheet 32, a process of cutting each chip is performed prior to firing.

続いて、焼成等が終了すると、コンデンサ素体2の側面2e,2fの引出電極7b〜10bが露出している箇所を覆うように導電性ペーストP3を塗布して焼き付けを行い、更にメッキを施すことにより、図1に示されるような端子電極3〜6が形成される。導電性ペーストP3は、例えばCuを主成分とする金属粉末に、ガラスフリット及び有機ビヒクルを混合したものを用いることができる。金属粉末は、Ni,Ag−PdあるいはAgを主成分とするものであってもよい。めっきは、Ni,Sn,Ni−Sn合金,Sn−Ag合金,Sn−Bi合金などの金属めっきが用いられる。また、金属めっきは、例えば、NiとSnとで二層以上形成した多層構造としてもよい。以上により、図1に示した積層コンデンサ1が完成する。   Subsequently, when the firing or the like is completed, the conductive paste P3 is applied and baked so as to cover the portions where the lead electrodes 7b to 10b of the side surfaces 2e and 2f of the capacitor body 2 are exposed, and further plated. Thereby, terminal electrodes 3 to 6 as shown in FIG. 1 are formed. As the conductive paste P3, for example, a metal powder mainly containing Cu mixed with glass frit and an organic vehicle can be used. The metal powder may contain Ni, Ag—Pd or Ag as a main component. For the plating, metal plating such as Ni, Sn, Ni—Sn alloy, Sn—Ag alloy, Sn—Bi alloy is used. Further, the metal plating may be a multi-layer structure in which two or more layers of Ni and Sn are formed, for example. Thus, the multilayer capacitor 1 shown in FIG. 1 is completed.

以上のように、本実施形態に係る積層コンデンサ1の製造方法では、段差吸収層を形成する工程において、内部電極パターン37〜40の主面電極7a〜10aに対応する部分の周縁全体に第二段差吸収層17〜20を形成している。このため、例えば、図29に示されるように、従来は、主面電極207a〜210aと引出電極207b〜210bとの間の連結部付近に段差Sが形成されて応力集中が起こり、主面電極207a〜210a間における短絡が発生してしまう場合もあったが、本実施形態によれば、主面電極7a〜10aに対応する部分の周縁全体に形成された第二段差吸収層17〜20により、図5に示されるように、セラミックグリーンシート32を積層圧着したとしても、主面電極7a〜10aに対応する部分に段差部分(隙間)Sが形成されるのを防ぐことができる。その結果、段差部分Sに起因する応力集中を避け、グリーン積層体45bにおけるクラックなどの内部構造欠陥の発生を抑制でき、積層コンデンサ1において、例えば主面電極7a〜10a同士における接触や近接を回避することができる。   As described above, in the method for manufacturing the multilayer capacitor 1 according to the present embodiment, in the step of forming the step absorption layer, the second portion is formed on the entire periphery of the portion corresponding to the main surface electrodes 7a to 10a of the internal electrode patterns 37 to 40. Step absorption layers 17 to 20 are formed. Therefore, for example, as shown in FIG. 29, conventionally, a step S is formed in the vicinity of the connecting portion between the main surface electrodes 207a to 210a and the extraction electrodes 207b to 210b, stress concentration occurs, and the main surface electrode Although a short circuit may occur between 207a to 210a, according to the present embodiment, the second step absorption layers 17 to 20 formed on the entire periphery of the portion corresponding to the main surface electrodes 7a to 10a. As shown in FIG. 5, even if the ceramic green sheet 32 is laminated and pressure-bonded, it is possible to prevent the stepped portion (gap) S from being formed in the portions corresponding to the main surface electrodes 7a to 10a. As a result, stress concentration caused by the stepped portion S can be avoided, generation of internal structural defects such as cracks in the green multilayer body 45b can be suppressed, and in the multilayer capacitor 1, for example, contact and proximity between the main surface electrodes 7a to 10a can be avoided. can do.

また、本実施形態に係る積層コンデンサ1の製造方法では、内部電極パターンを形成する工程において、引出電極7b〜10bに対応する部分を含むように内部電極パターン37〜40をセラミックグリーンシート32上に形成している。そして、段差吸収層を形成する工程において、内部電極パターン37〜40の引出電極7b〜10bに対応する部分に第三段差吸収層23〜26を形成している。このため、セラミックグリーンシート32を積層圧着しても、引出電極7b〜10bに対応する部分に形成された第三段差吸収層23〜26により、引出電極7b〜10bに対応する部分に段差部分が形成されるのを防ぐことができ、段差部分に起因する応力集中を回避できる。その結果、グリーン積層体45bにおける内部構造欠陥の発生が更に抑制される。   In the method of manufacturing the multilayer capacitor 1 according to this embodiment, in the step of forming the internal electrode pattern, the internal electrode patterns 37 to 40 are placed on the ceramic green sheet 32 so as to include portions corresponding to the lead electrodes 7b to 10b. Forming. In the step of forming the step absorption layer, third step absorption layers 23 to 26 are formed in portions corresponding to the extraction electrodes 7b to 10b of the internal electrode patterns 37 to 40. For this reason, even if the ceramic green sheet 32 is laminated and pressure-bonded, the step portions are formed in the portions corresponding to the extraction electrodes 7b to 10b by the third step absorption layers 23 to 26 formed in the portions corresponding to the extraction electrodes 7b to 10b. It can be prevented from being formed, and stress concentration caused by the step portion can be avoided. As a result, the occurrence of internal structural defects in the green laminate 45b is further suppressed.

また、本実施形態における積層コンデンサ1の製造方法では、段差吸収層を形成する工程において、非形成領域R1〜R4と、主面電極7a〜10aに対応する部分の周縁全体と、引出電極7b〜10bに対応する一部とに、略同時に段差吸収層13〜16,17〜20,23〜26を形成するようにしている。このため、製造工程を簡略化することができる。   Further, in the method for manufacturing the multilayer capacitor 1 in the present embodiment, in the step of forming the step absorption layer, the non-formation regions R1 to R4, the entire periphery of the portion corresponding to the main surface electrodes 7a to 10a, and the extraction electrodes 7b to Step absorption layers 13-16, 17-20, 23-26 are formed almost simultaneously with a part corresponding to 10b. For this reason, a manufacturing process can be simplified.

本実施形態における積層コンデンサ1は、複数の誘電体層12が積層されたコンデンサ素体2と、誘電体層12に挟まれるようにコンデンサ素体2内に配置され且つ主面電極7a〜10aを含む内部電極層7〜10と、誘電体層12上で内部電極層7〜10が配置されていない非形成領域R1〜R4と内部電極層7〜10の主面電極7a〜10aの周縁全体とに配置された第二段差吸収層17〜20と、を備えている。   The multilayer capacitor 1 according to this embodiment includes a capacitor body 2 in which a plurality of dielectric layers 12 are laminated, and a capacitor body 2 that is sandwiched between the dielectric layers 12 and includes main surface electrodes 7a to 10a. Including internal electrode layers 7 to 10, non-formation regions R <b> 1 to R <b> 4 where the internal electrode layers 7 to 10 are not disposed on the dielectric layer 12, and the entire periphery of the main surface electrodes 7 a to 10 a of the internal electrode layers 7 to 10 2nd level | step difference absorption layers 17-20 arrange | positioned.

そして、この積層コンデンサ1では、内部電極層7〜10の主面電極7a〜10aの周縁全体に段差吸収層17〜20が配置されている。このため、主面電極7a〜10a同士の間に第二段差吸収層17〜20が介在していることになり、主面電極7a〜10a同士を接触や近接しないようにすることができる(図5参照)。その結果、積層コンデンサ1を、内部構造欠陥の発生を抑制して所定の性能を発揮できる積層電子部品とすることができる。   In the multilayer capacitor 1, the step absorption layers 17 to 20 are disposed on the entire periphery of the main surface electrodes 7 a to 10 a of the internal electrode layers 7 to 10. For this reason, the second step absorption layers 17 to 20 are interposed between the main surface electrodes 7a to 10a, and the main surface electrodes 7a to 10a can be prevented from contacting or coming close to each other (FIG. 5). As a result, the multilayer capacitor 1 can be a multilayer electronic component that can exhibit predetermined performance while suppressing the occurrence of internal structural defects.

また、積層コンデンサ1では、内部電極層7〜10は、引出電極7b〜10bも含んでおり、第三段差吸収層23〜26が引出電極7b〜10b上に配置されている。このため、引出電極7b〜10b同士の間に第三段差吸収層23〜26が介在していることになる。従って、積層コンデンサ1では、引出電極7b〜10b付近においても、内部構造欠陥の発生を抑制できる。   In the multilayer capacitor 1, the internal electrode layers 7 to 10 also include the extraction electrodes 7 b to 10 b, and the third step absorption layers 23 to 26 are disposed on the extraction electrodes 7 b to 10 b. For this reason, the third step absorption layers 23 to 26 are interposed between the extraction electrodes 7 b to 10 b. Therefore, in the multilayer capacitor 1, the occurrence of internal structural defects can be suppressed even in the vicinity of the extraction electrodes 7b to 10b.

また、積層コンデンサ1では、内部電極層7〜10は、4種類であり、4種類の内部電極層7〜10それぞれに接続される端子電極3〜6を備えている。内部電極層が多数の種類から構成される場合、段差部分が内部電極層の面方向においてばらついて発生することにより、積層方向において多数層おきに段差部分が発生し、その結果、積層圧着時に多数層おきに発生した段差部分に応力が集中してしまい、内部構造欠陥が起こりやすくなる。ところが、本実施形態の構成を備えた積層コンデンサ1であれば、内部電極層7〜10が4種類といった多数の種類から構成される場合であっても、このように多数層おきに発生しかねない段差部分の発生を防止し、内部構造欠陥の発生を抑制することができる。   In the multilayer capacitor 1, there are four types of internal electrode layers 7 to 10, and terminal electrodes 3 to 6 are respectively connected to the four types of internal electrode layers 7 to 10. When the internal electrode layer is composed of many types, the stepped portion varies in the surface direction of the internal electrode layer, resulting in a stepped portion every other multiple layers in the stacking direction. Stress concentrates on the stepped portions generated every other layer, and internal structural defects are likely to occur. However, in the multilayer capacitor 1 having the configuration of the present embodiment, even if the internal electrode layers 7 to 10 are composed of many types such as four types, they may occur every other layer in this way. The generation | occurrence | production of the level | step difference part which is not present can be prevented, and generation | occurrence | production of an internal structural defect can be suppressed.

また、上述した積層コンデンサ1では、引出電極7b〜10bの非形成領域R1〜R4側の縁にのみ第三段差吸収層23〜26を備えるように形成していた。しかし、図6に示されるように、引出電極7b〜10bの略全面を覆うように、第三段差吸収層23a〜26aを形成するようにしてもよい。この場合、第一〜第三段差吸収層13〜16,17〜20,23a〜26aを形成する際に、主面電極7a〜10aのうち段差吸収層17〜20が形成されない部分を閉口とした簡易な構造の製版を用いてスクリーン印刷等を行い、各段差吸収層13〜16,17〜20,23a〜26aを略同時に容易に形成することができ、製造工程を一層、簡略化することができる。   Further, in the multilayer capacitor 1 described above, the third step absorption layers 23 to 26 are provided only at the edges on the non-formation regions R1 to R4 side of the extraction electrodes 7b to 10b. However, as shown in FIG. 6, the third step absorption layers 23a to 26a may be formed so as to cover substantially the entire surface of the extraction electrodes 7b to 10b. In this case, when the first to third step absorption layers 13 to 16, 17 to 20, and 23a to 26a are formed, a portion of the main surface electrodes 7a to 10a where the step absorption layers 17 to 20 are not formed is closed. Screen printing or the like can be performed using a plate making with a simple structure, and the step absorption layers 13-16, 17-20, 23a-26a can be easily formed substantially simultaneously, and the manufacturing process can be further simplified. it can.

(第二実施形態)
次に、第二実施形態にかかる積層コンデンサ51の構成及びその製造方法について説明する。本実施形態では、第一実施形態と異なり、2端子構造の積層コンデンサ51となっており、端子電極の配置箇所や、内部電極層の形状が多少異なっている。以下、第一実施形態と異なる点を中心に説明する。
(Second embodiment)
Next, the configuration of the multilayer capacitor 51 according to the second embodiment and the manufacturing method thereof will be described. In the present embodiment, unlike the first embodiment, the multilayer capacitor 51 has a two-terminal structure, and the location of the terminal electrodes and the shape of the internal electrode layers are somewhat different. Hereinafter, a description will be given focusing on differences from the first embodiment.

まず、図7及び図8を参照して、積層コンデンサ51の構成について説明する。積層コンデンサ51は、コンデンサ素体52と、端子電極53,54と、内部電極層57,58とを備えて構成される。コンデンサ素体52は、複数の誘電体層12が積層されて略直方体形状に構成され、主面52a,52bと端面52c,52dと側面52e,52fとを有している。端子電極53,54は、コンデンサ素体52の端面52c,52dを覆うように配置される。   First, the configuration of the multilayer capacitor 51 will be described with reference to FIGS. The multilayer capacitor 51 includes a capacitor body 52, terminal electrodes 53 and 54, and internal electrode layers 57 and 58. The capacitor body 52 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape by laminating a plurality of dielectric layers 12, and has main surfaces 52a and 52b, end surfaces 52c and 52d, and side surfaces 52e and 52f. The terminal electrodes 53 and 54 are disposed so as to cover the end faces 52 c and 52 d of the capacitor body 52.

内部電極層57,58は、コンデンサ素体2内において、少なくとも一層の誘電体層12を間に挟むようにして順に積層されるものである(図10参照)。内部電極層57,58は、隣接する他の内部電極層57,58と対向して静電容量部を形成する主面電極57a,58aと、主面電極57a,58aを端子電極53,54に向かって引き出す引出電極57b,58bとを含んで構成される。主面電極57a,58aは、略長方形状を呈しており、誘電体層12の略中央部に位置するように配置される。内部電極層57は、引出電極57bにより端面52cに引き出されて、端子電極53に接続される。内部電極層58は、引出電極58bにより端面52dに引き出されて、端子電極54に接続される。   The internal electrode layers 57 and 58 are sequentially stacked in the capacitor body 2 with at least one dielectric layer 12 interposed therebetween (see FIG. 10). The internal electrode layers 57, 58 are principal surface electrodes 57a, 58a that form a capacitance portion facing the other adjacent internal electrode layers 57, 58, and the principal surface electrodes 57a, 58a are used as terminal electrodes 53, 54. The lead-out electrodes 57b and 58b are drawn out. The main surface electrodes 57 a and 58 a have a substantially rectangular shape and are arranged so as to be positioned at a substantially central portion of the dielectric layer 12. The internal electrode layer 57 is drawn to the end face 52 c by the lead electrode 57 b and connected to the terminal electrode 53. The internal electrode layer 58 is drawn to the end face 52d by the lead electrode 58b and connected to the terminal electrode 54.

また、積層コンデンサ51は、図8〜図10に示されるように、誘電体層12上において内部電極層57,58が形成されない非形成領域R51,R52に第一段差吸収層63,64を備えている。これら非形成領域R51,R52は、各内部電極層57,58を取り囲む領域である。また、積層コンデンサ51は、主面電極57a,58aの周縁全体に第二段差吸収層65,66を、引出電極57b,58bの非形成領域R51,R52側の縁に第三段差吸収層67,68をそれぞれ備えている。第二段差吸収層65,66は、非形成領域R51,R52側の縁に沿って形成される第一の部分65a,66aと、主面電極57a,58aと引出電極57b,58bとの連結部分に位置する第二の部分65b,66bとから構成される。   8 to 10, the multilayer capacitor 51 includes first step absorption layers 63 and 64 in the non-formation regions R51 and R52 where the internal electrode layers 57 and 58 are not formed on the dielectric layer 12. ing. These non-formation regions R51 and R52 are regions surrounding the internal electrode layers 57 and 58, respectively. In the multilayer capacitor 51, the second step absorption layers 65 and 66 are disposed on the entire periphery of the main surface electrodes 57a and 58a, and the third step absorption layers 67 and 66 are disposed on the edges of the lead electrodes 57b and 58b on the non-formation regions R51 and R52 side. 68 respectively. The second step absorption layers 65, 66 are first portions 65a, 66a formed along the edges on the non-forming regions R51, R52 side, and connecting portions between the main surface electrodes 57a, 58a and the extraction electrodes 57b, 58b. It is comprised from the 2nd part 65b, 66b located in.

続いて、上述した構成を有する積層コンデンサ51の製造方法について説明する。積層コンデンサ51の製造にあたっては、第一実施形態と同様、まず、セラミックペーストP1と導電性ペーストP2とを準備する。その後、誘電体層12の前駆体である複数のセラミックグリーンシート32を生成する。   Next, a method for manufacturing the multilayer capacitor 51 having the above-described configuration will be described. In manufacturing the multilayer capacitor 51, as in the first embodiment, first, a ceramic paste P1 and a conductive paste P2 are prepared. Thereafter, a plurality of ceramic green sheets 32 that are precursors of the dielectric layer 12 are generated.

続いて、例えばスクリーン印刷法により、図8に示されるように、各セラミックグリーンシート32の所定の位置に導電性ペーストP2を塗布し、各セラミックグリーンシート32上に内部電極層57,58に対応する内部電極パターン(符号は省略)をそれぞれ形成する。この内部電極パターンを形成する工程により、セラミックグリーンシート32上に、主面電極57a,58aに対応する部分及び引出電極57b,58bに対応する部分が形成される。   Subsequently, as shown in FIG. 8, for example, a conductive paste P <b> 2 is applied to a predetermined position of each ceramic green sheet 32 by screen printing, and the internal electrode layers 57 and 58 are applied on each ceramic green sheet 32. Internal electrode patterns (reference numerals are omitted) are formed. By the step of forming the internal electrode pattern, portions corresponding to the main surface electrodes 57a and 58a and portions corresponding to the extraction electrodes 57b and 58b are formed on the ceramic green sheet 32.

続いて、上述した内部電極パターンが形成された各セラミックグリーンシート32上で内部電極パターンが形成されない非形成領域R51,R52と、内部電極パターンの主面電極57a,58aに対応する部分の周縁全体と、内部電極パターンの引出電極57b,58bに対応する部分の非形成領域R51,R52側の縁とに、例えばスクリーン印刷法により、セラミックペーストP1を塗布する。このセラミックペーストP1の塗布は略同時に行われ、これにより、第一段差吸収層63,64と、第二段差吸収層65,66と、第三段差吸収層67,68とが生成される。   Subsequently, the non-formation regions R51 and R52 where the internal electrode pattern is not formed on each ceramic green sheet 32 on which the internal electrode pattern is formed, and the entire peripheral edge of the portion corresponding to the main surface electrodes 57a and 58a of the internal electrode pattern And ceramic paste P1 is apply | coated to the edge by the side of the non-formation area | regions R51 and R52 of the part corresponding to the extraction electrodes 57b and 58b of an internal electrode pattern, for example by the screen printing method. The application of the ceramic paste P1 is performed substantially simultaneously, whereby the first step absorption layers 63 and 64, the second step absorption layers 65 and 66, and the third step absorption layers 67 and 68 are generated.

続いて、内部電極パターン等が形成された複数のグリーンシート32を図10に示す順に積層し、隣接する主面電極57a,58aに対応する部分が積層方向において互いに略全面で対向するように(図9参照)、セラミックグリーンシート32の位置合わせを行う。なお、上述した内部電極パターンは、例えば積層方向に10組程度となるように、セラミックグリーンシート32を積層し、最上部には、内部電極パターンを有しないセラミックグリーンシート32を積層配置する。   Subsequently, a plurality of green sheets 32 on which internal electrode patterns and the like are formed are stacked in the order shown in FIG. 10 so that the portions corresponding to the adjacent main surface electrodes 57a and 58a face each other substantially over the entire surface in the stacking direction ( 9), the ceramic green sheet 32 is aligned. The ceramic green sheets 32 are stacked so that the above-described internal electrode patterns are, for example, about 10 sets in the stacking direction, and the ceramic green sheets 32 having no internal electrode pattern are stacked on the top.

続いて、セラミックグリーンシート32を上述したように積層してグリーン積層体が形成されると、第一実施形態と同様、グリーン積層体を加圧して圧着する。この積層体では、第二段差吸収層65,66(第二の部分65b,66b)により、内部電極パターンの主面電極57a,58aに対応する部分同士が接触しないようになっている。次に、このグリーン積層体を焼成し、コンデンサ素体52を得る。そして、焼成等が終了すると、コンデンサ素体52の端面52c,52dの引出電極57b,58bが露出している箇所を覆うように導電性ペーストP3を塗布して焼き付けを行い、更にメッキを施すことにより、図7に示されるような端子電極53,54が形成される。以上により、図7に示した積層コンデンサ51が完成する。   Subsequently, when the green laminate is formed by laminating the ceramic green sheets 32 as described above, the green laminate is pressurized and pressure-bonded as in the first embodiment. In this laminated body, the second step absorption layers 65 and 66 (second portions 65b and 66b) prevent the portions corresponding to the main surface electrodes 57a and 58a of the internal electrode pattern from contacting each other. Next, this green laminate is fired to obtain a capacitor body 52. When the firing or the like is finished, the conductive paste P3 is applied and baked so as to cover the portions where the lead electrodes 57b and 58b of the end faces 52c and 52d of the capacitor body 52 are exposed, and further plated. As a result, terminal electrodes 53 and 54 as shown in FIG. 7 are formed. Thus, the multilayer capacitor 51 shown in FIG. 7 is completed.

以上のように、本実施形態に係る積層コンデンサ51の製造方法でも、第一実施形態と同様、段差吸収層を形成する工程において、内部電極パターンの主面電極57a,58aに対応する部分の周縁全体に第二段差吸収層65,66を形成している。このため、主面電極57a,58aに対応する部分の周縁全体に形成された第二段差吸収層65,66により、セラミックグリーンシート32を積層圧着したとしても、主面電極57a,58aに対応する部分に段差部分(隙間)が形成されるのを防ぐことができ、段差部分に起因する応力集中を回避することができる。その結果、グリーン積層体におけるクラックなどの内部構造欠陥の発生が抑制され、積層コンデンサ51において、例えば主面電極57a,58a同士における接触や近接を回避することができる。   As described above, in the method of manufacturing the multilayer capacitor 51 according to this embodiment, as in the first embodiment, in the step of forming the step absorption layer, the peripheral edge of the portion corresponding to the main surface electrodes 57a and 58a of the internal electrode pattern Second step absorption layers 65 and 66 are formed as a whole. Therefore, even if the ceramic green sheet 32 is laminated and pressure-bonded by the second step absorption layers 65 and 66 formed on the entire periphery of the portion corresponding to the main surface electrodes 57a and 58a, it corresponds to the main surface electrodes 57a and 58a. A step portion (gap) can be prevented from being formed in the portion, and stress concentration caused by the step portion can be avoided. As a result, the occurrence of internal structural defects such as cracks in the green multilayer body is suppressed, and in the multilayer capacitor 51, for example, contact and proximity between the main surface electrodes 57a and 58a can be avoided.

また、積層コンデンサ51でも、第一実施形態と同様、内部電極層57,58の主面電極57a,58aの周縁全体に段差吸収層65,66が配置されている。このため、主面電極57a,58a同士の間に第二段差吸収層65,66が介在していることになり、主面電極57a,58a同士を接触や近接しないようにすることができる。その結果、積層コンデンサ51を、内部構造欠陥の発生を抑制して所定の性能を発揮できる積層電子部品とすることができる。   Also in the multilayer capacitor 51, the step absorption layers 65 and 66 are disposed on the entire periphery of the main surface electrodes 57a and 58a of the internal electrode layers 57 and 58, as in the first embodiment. For this reason, the second step absorption layers 65 and 66 are interposed between the main surface electrodes 57a and 58a, so that the main surface electrodes 57a and 58a can be prevented from contacting or approaching each other. As a result, the multilayer capacitor 51 can be a multilayer electronic component capable of exhibiting predetermined performance while suppressing the occurrence of internal structural defects.

(第三実施形態)
次に、第三実施形態にかかる積層コンデンサ71の構成及びその製造方法について説明する。本実施形態では、第一及び第二実施形態と異なり、貫通コンデンサ構造の積層コンデンサ71となっており、端子電極の配置箇所や、内部電極層の形状が多少異なっている。以下、第一及び第二実施形態と異なる点を中心に説明する。
(Third embodiment)
Next, a configuration of the multilayer capacitor 71 according to the third embodiment and a manufacturing method thereof will be described. In the present embodiment, unlike the first and second embodiments, the multilayer capacitor 71 has a feedthrough capacitor structure, and the arrangement positions of the terminal electrodes and the shapes of the internal electrode layers are slightly different. Hereinafter, a description will be given focusing on differences from the first and second embodiments.

まず、図11及び図12を参照して、積層コンデンサ71の構成について説明する。積層コンデンサ71は、コンデンサ素体72と、端子電極73〜76と、内部電極層77,78とを備えて構成される。コンデンサ素体72は、複数の誘電体層12が積層されて略直方体形状に構成され、主面72a,72bと端面72c,72dと側面72e,72fとを有している。端子電極73,74は、コンデンサ素体72の端面72c,72dを覆うように配置され、端子電極75,76は、コンデンサ素体72の側面72e,72fの略中央部に配置される。   First, the configuration of the multilayer capacitor 71 will be described with reference to FIGS. 11 and 12. The multilayer capacitor 71 includes a capacitor body 72, terminal electrodes 73 to 76, and internal electrode layers 77 and 78. The capacitor body 72 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape by laminating a plurality of dielectric layers 12, and has main surfaces 72a and 72b, end surfaces 72c and 72d, and side surfaces 72e and 72f. The terminal electrodes 73 and 74 are disposed so as to cover the end faces 72 c and 72 d of the capacitor body 72, and the terminal electrodes 75 and 76 are disposed at substantially central portions of the side surfaces 72 e and 72 f of the capacitor body 72.

内部電極層77,78は、コンデンサ素体2内において、少なくとも一層の誘電体層12を間に挟むようにして順に積層されるものである(図14参照)。内部電極層77,78は、隣接する他の内部電極層77,78と対向して静電容量部を形成する主面電極77a,78aと、主面電極77a,78aを端子電極73〜76に向かって引き出す引出電極77b,78bとを含んで構成される。主面電極77a,78aは、略長方形状を呈しており、誘電体層12の略中央部に位置するように配置される。内部電極層77は、一対の引出電極77bにより端面72c,72dに引き出されて、端子電極73,74に接続される。内部電極層78は、一対の引出電極78bにより側面72e,72fに引き出されて、端子電極75,76に接続される。   The internal electrode layers 77 and 78 are sequentially stacked in the capacitor body 2 with at least one dielectric layer 12 interposed therebetween (see FIG. 14). The internal electrode layers 77 and 78 form main surface electrodes 77a and 78a that form a capacitance portion facing the other adjacent internal electrode layers 77 and 78, and the main surface electrodes 77a and 78a as terminal electrodes 73 to 76. The lead-out electrodes 77b and 78b are drawn out. Main surface electrodes 77a and 78a have a substantially rectangular shape, and are arranged so as to be located at a substantially central portion of dielectric layer 12. The internal electrode layer 77 is drawn out to the end faces 72c and 72d by a pair of lead electrodes 77b and connected to the terminal electrodes 73 and 74. The internal electrode layer 78 is drawn out to the side faces 72e and 72f by a pair of lead electrodes 78b and is connected to the terminal electrodes 75 and 76.

また、積層コンデンサ71は、図12〜図14に示されるように、誘電体層12上において内部電極層77,78が形成されない非形成領域R71,R72に第一段差吸収層83,84を備えている。一対の非形成領域R71,R72は、各内部電極層77,78を間に挟む領域である。また、積層コンデンサ71は、主面電極77a,78aの周縁全体に第二段差吸収層85,86を、引出電極77b,78bの非形成領域R71,R72側の縁に第三段差吸収層87,88をそれぞれ備えている。第二段差吸収層85,86は、非形成領域R71,R72側の縁に沿って形成される第一の部分85a,86aと、主面電極77a,78aと引出電極77b,78bとの連結部分に位置する第二の部分85b,86bとから構成される。   The multilayer capacitor 71 includes first step absorption layers 83 and 84 in the non-formation regions R71 and R72 where the internal electrode layers 77 and 78 are not formed on the dielectric layer 12, as shown in FIGS. ing. The pair of non-formation regions R71 and R72 are regions that sandwich the internal electrode layers 77 and 78 therebetween. The multilayer capacitor 71 has second step absorption layers 85 and 86 on the entire periphery of the main surface electrodes 77a and 78a, and third step absorption layers 87 and 86 on the edges of the lead electrodes 77b and 78b on the non-formation regions R71 and R72 side. 88 respectively. The second step absorption layers 85, 86 are first portions 85a, 86a formed along the edges on the non-forming regions R71, R72 side, and connecting portions between the main surface electrodes 77a, 78a and the extraction electrodes 77b, 78b. The second portions 85b and 86b are located on the left side.

続いて、上述した構成を有する積層コンデンサ71の製造方法について説明する。積層コンデンサ71の製造にあたっては、第一及び第二実施形態と同様、まず、セラミックペーストP1と導電性ペーストP2とを準備する。その後、誘電体層12の前駆体である複数のセラミックグリーンシート32を生成する。   Next, a method for manufacturing the multilayer capacitor 71 having the above-described configuration will be described. In manufacturing the multilayer capacitor 71, as in the first and second embodiments, first, a ceramic paste P1 and a conductive paste P2 are prepared. Thereafter, a plurality of ceramic green sheets 32 that are precursors of the dielectric layer 12 are generated.

続いて、例えばスクリーン印刷法により、図12に示されるように、各セラミックグリーンシート32の所定の位置に導電性ペーストP2を塗布し、各セラミックグリーンシート32上に内部電極層77,78に対応する内部電極パターン(符号は省略)をそれぞれ形成する。この内部電極パターンを形成する工程により、セラミックグリーンシート32上に、主面電極77a,78aに対応する部分及び引出電極77b,78bに対応する部分が形成される。   Subsequently, the conductive paste P2 is applied to a predetermined position of each ceramic green sheet 32 by, for example, screen printing, as shown in FIG. 12, and the internal electrode layers 77 and 78 are applied on each ceramic green sheet 32. Internal electrode patterns (reference numerals are omitted) are formed. By the step of forming the internal electrode pattern, portions corresponding to the main surface electrodes 77a and 78a and portions corresponding to the lead electrodes 77b and 78b are formed on the ceramic green sheet 32.

続いて、上述した内部電極パターンが形成された各セラミックグリーンシート32上で内部電極パターンが形成されない非形成領域R71,R72と、内部電極パターンの主面電極77a,78aに対応する部分の周縁全体と、内部電極パターンの引出電極77b,78bに対応する部分の非形成領域R71,R72側の縁とにセラミックペーストP1を塗布する。このセラミックペーストP1の塗布は略同時に行われ、これにより、第一段差吸収層83,84と、第二段差吸収層85,86と、第三段差吸収層87,88とが生成される。   Subsequently, the non-formation regions R71 and R72 where the internal electrode pattern is not formed on each ceramic green sheet 32 on which the internal electrode pattern is formed, and the entire peripheral edge of the portion corresponding to the main surface electrodes 77a and 78a of the internal electrode pattern The ceramic paste P1 is applied to the edges on the non-forming regions R71, R72 side of the portions corresponding to the extraction electrodes 77b, 78b of the internal electrode pattern. The application of the ceramic paste P1 is performed substantially simultaneously, whereby the first step absorption layers 83 and 84, the second step absorption layers 85 and 86, and the third step absorption layers 87 and 88 are generated.

続いて、内部電極パターン等が形成された複数のグリーンシート32を図14に示す順に積層し、隣接する主面電極77a,78aに対応する部分が積層方向において互いに略全面で対向するように(図13参照)、セラミックグリーンシート32の位置合わせを行う。なお、上述した内部電極パターンは、例えば積層方向に10組程度となるように、セラミックグリーンシート32を積層し、最上部には、内部電極パターンを有しないセラミックグリーンシート32を積層配置する。   Subsequently, a plurality of green sheets 32 on which internal electrode patterns and the like are formed are stacked in the order shown in FIG. 14 so that portions corresponding to adjacent main surface electrodes 77a and 78a face each other in substantially the entire surface in the stacking direction ( 13), the ceramic green sheet 32 is aligned. The ceramic green sheets 32 are stacked so that the above-described internal electrode patterns are, for example, about 10 sets in the stacking direction, and the ceramic green sheets 32 having no internal electrode pattern are stacked on the top.

続いて、セラミックグリーンシート32を上述したように積層してグリーン積層体が形成されると、第一及び第二実施形態と同様、グリーン積層体を加圧して圧着する。この積層体では、第二段差吸収層85,86(第二の部分85b,86b)により、内部電極パターンの主面電極77a,78aに対応する部分同士が接触しないようになっている。次に、このグリーン積層体を焼成し、コンデンサ素体72を得る。そして、焼成等が終了すると、コンデンサ素体72の端面72c,72d及び側面72e,72fの引出電極77b,78bが露出している箇所を覆うように導電性ペーストP3を塗布して焼き付けを行い、更にメッキを施すことにより、図11に示されるような端子電極73〜76が形成される。以上により、図11に示した積層コンデンサ71が完成する。   Subsequently, when the green laminate is formed by laminating the ceramic green sheets 32 as described above, the green laminate is pressurized and pressure-bonded as in the first and second embodiments. In this laminate, the second step absorption layers 85 and 86 (second portions 85b and 86b) prevent the portions corresponding to the principal surface electrodes 77a and 78a of the internal electrode pattern from contacting each other. Next, this green laminate is fired to obtain a capacitor body 72. Then, after the firing or the like is finished, the conductive paste P3 is applied and baked so as to cover the portions where the end electrodes 72c and 72d of the capacitor body 72 and the lead electrodes 77b and 78b of the side surfaces 72e and 72f are exposed, Further, terminal electrodes 73 to 76 as shown in FIG. 11 are formed by plating. Thus, the multilayer capacitor 71 shown in FIG. 11 is completed.

以上のように、本実施形態に係る積層コンデンサ71の製造方法でも、第一及び第二実施形態と同様、段差吸収層を形成する工程において、内部電極パターンの主面電極77a,78aに対応する部分の周縁全体に第二段差吸収層85,86を形成している。このため、主面電極77a,78aに対応する部分の周縁全体に形成された第二段差吸収層85,86により、セラミックグリーンシート32を積層圧着したとしても、主面電極77a,78aに対応する部分に段差部分が形成されるのを防ぐことができ、段差部分に起因する応力集中を回避することができる。その結果、グリーン積層体におけるクラックなどの内部構造欠陥の発生が抑制され、積層コンデンサ71において、例えば主面電極77a,78a同士における接触や近接を回避することができる。   As described above, in the method of manufacturing the multilayer capacitor 71 according to this embodiment, as in the first and second embodiments, in the step of forming the step absorption layer, it corresponds to the main surface electrodes 77a and 78a of the internal electrode pattern. Second step absorption layers 85 and 86 are formed on the entire periphery of the portion. For this reason, even if the ceramic green sheet 32 is laminated and pressure-bonded by the second step absorption layers 85 and 86 formed on the entire periphery of the portion corresponding to the main surface electrodes 77a and 78a, it corresponds to the main surface electrodes 77a and 78a. A step portion can be prevented from being formed in the portion, and stress concentration caused by the step portion can be avoided. As a result, the occurrence of internal structural defects such as cracks in the green multilayer body is suppressed, and in the multilayer capacitor 71, for example, contact and proximity between the principal surface electrodes 77a and 78a can be avoided.

また、積層コンデンサ71でも、第一及び第二実施形態と同様、内部電極層77,78の主面電極77a,78aの周縁全体に段差吸収層85,86が配置されている。このため、主面電極77a,78a同士の間に第二段差吸収層85,86が介在していることになり、主面電極77a,78a同士を接触や近接しないようにすることができる。その結果、積層コンデンサ71を、内部構造欠陥の発生を抑制して所定の性能を発揮できる積層電子部品とすることができる。   In the multilayer capacitor 71 as well, the step absorption layers 85 and 86 are disposed on the entire periphery of the main surface electrodes 77a and 78a of the internal electrode layers 77 and 78, as in the first and second embodiments. For this reason, the second step absorption layers 85 and 86 are interposed between the main surface electrodes 77a and 78a, so that the main surface electrodes 77a and 78a can be prevented from contacting or approaching each other. As a result, the multilayer capacitor 71 can be a multilayer electronic component capable of exhibiting predetermined performance while suppressing the occurrence of internal structural defects.

(第四実施形態)
次に、第四実施形態にかかる積層コンデンサ91の構成及びその製造方法について説明する。本実施形態では、第一〜第三実施形態と異なり、アレイ構造の積層コンデンサ91となっており、端子電極の配置箇所や、内部電極層の形状が多少異なっている。以下、第一〜第三実施形態と異なる点を中心に説明する。
(Fourth embodiment)
Next, a configuration of the multilayer capacitor 91 according to the fourth embodiment and a manufacturing method thereof will be described. In the present embodiment, unlike the first to third embodiments, the multilayer capacitor 91 has an array structure, and the arrangement positions of the terminal electrodes and the shapes of the internal electrode layers are slightly different. Hereinafter, a description will be given focusing on differences from the first to third embodiments.

まず、図15及び図16を参照して、積層コンデンサ91の構成について説明する。積層コンデンサ91は、コンデンサ素体92と、端子電極93〜96と、内部電極層97,98とを備えて構成される。コンデンサ素体92は、複数の誘電体層12が積層されて略直方体形状に構成され、主面92a,92bと端面92c,92dと側面92e,92fとを有している。端子電極93,94は、コンデンサ素体92の側面92eに並列して離間配置され、端子電極95,96は、コンデンサ素体92の側面92fに並列して離間配置される。   First, the configuration of the multilayer capacitor 91 will be described with reference to FIGS. 15 and 16. The multilayer capacitor 91 includes a capacitor body 92, terminal electrodes 93 to 96, and internal electrode layers 97 and 98. The capacitor body 92 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape by laminating a plurality of dielectric layers 12, and has main surfaces 92a and 92b, end surfaces 92c and 92d, and side surfaces 92e and 92f. The terminal electrodes 93 and 94 are spaced apart in parallel with the side surface 92e of the capacitor body 92, and the terminal electrodes 95 and 96 are spaced apart in parallel with the side surface 92f of the capacitor body 92.

内部電極層97,98は、コンデンサ素体2内において、少なくとも一層の誘電体層12を間に挟むようにして順に積層されるものである(図18参照)。内部電極層97,98は、隣接する他の内部電極層97,98と対向して静電容量部を形成する主面電極97a,98aと、主面電極97a,98aを端子電極93〜96に向かって引き出す引出電極97b,98bとを含んで構成される。主面電極97a,98aは、略長方形状を呈しており、側面92e,92fの対向方向における誘電体層12の略中央部に位置するように2個ずつ配置される。一対の内部電極層97は、引出電極97bにより側面92eに引き出されて、端子電極93,94に接続される。一対の内部電極層98は、引出電極98bにより側面92fに引き出されて、端子電極95,96に接続される。   The internal electrode layers 97 and 98 are sequentially stacked in the capacitor body 2 with at least one dielectric layer 12 interposed therebetween (see FIG. 18). The internal electrode layers 97, 98 are principal surface electrodes 97a, 98a that form a capacitance portion facing the other adjacent internal electrode layers 97, 98, and the principal surface electrodes 97a, 98a are terminal electrodes 93-96. The lead-out electrodes 97b and 98b are drawn out. The main surface electrodes 97a and 98a have a substantially rectangular shape, and two main surface electrodes 97a and 98a are arranged so as to be positioned at a substantially central portion of the dielectric layer 12 in the opposing direction of the side surfaces 92e and 92f. The pair of internal electrode layers 97 are drawn to the side surface 92 e by the lead electrode 97 b and connected to the terminal electrodes 93 and 94. The pair of internal electrode layers 98 are drawn to the side surface 92 f by the lead electrode 98 b and connected to the terminal electrodes 95 and 96.

また、積層コンデンサ91は、図16〜図18に示されるように、誘電体層12上において内部電極層97,98が形成されない非形成領域R91,R92に第一段差吸収層103,104を備えている。非形成領域R91,R92は、各内部電極層97,98を取り囲む領域である。また、積層コンデンサ91は、主面電極97a,98aの周縁全体に第二段差吸収層105,106を、引出電極97b,98bの非形成領域R91,R92側の縁に第三段差吸収層107,108をそれぞれ備えている。第二段差吸収層105,106は、非形成領域R91,R92側の縁に沿って形成される第一の部分105a,106aと、主面電極97a,98aと引出電極97b,98bとの連結部分に位置する第二の部分105b,106bとから構成される。   The multilayer capacitor 91 includes first step absorption layers 103 and 104 in the non-formation regions R91 and R92 where the internal electrode layers 97 and 98 are not formed on the dielectric layer 12, as shown in FIGS. ing. The non-formation regions R91 and R92 are regions that surround the internal electrode layers 97 and 98. The multilayer capacitor 91 includes the second step absorption layers 105 and 106 on the entire periphery of the main surface electrodes 97a and 98a, and the third step absorption layer 107 and the edge on the non-formation regions R91 and R92 side of the extraction electrodes 97b and 98b. 108 are provided. The second step absorption layers 105, 106 are first portions 105a, 106a formed along the edges on the non-forming regions R91, R92 side, and connecting portions between the main surface electrodes 97a, 98a and the extraction electrodes 97b, 98b. It is comprised from the 2nd part 105b and 106b located in.

続いて、上述した構成を有する積層コンデンサ91の製造方法について説明する。積層コンデンサ91の製造にあたっては、第一〜第三実施形態と同様、まず、セラミックペーストP1と導電性ペーストP2とを準備する。その後、誘電体層12の前駆体である複数のセラミックグリーンシート32を生成する。   Next, a method for manufacturing the multilayer capacitor 91 having the above-described configuration will be described. In manufacturing the multilayer capacitor 91, as in the first to third embodiments, first, a ceramic paste P1 and a conductive paste P2 are prepared. Thereafter, a plurality of ceramic green sheets 32 that are precursors of the dielectric layer 12 are generated.

続いて、例えばスクリーン印刷法により、図16に示されるように、各セラミックグリーンシート32の所定の位置に導電性ペーストP2を塗布し、各セラミックグリーンシート32上に2つの内部電極層97又は2つの内部電極層98に対応する内部電極パターン(符号は省略)をそれぞれ形成する。この内部電極パターンを形成する工程により、セラミックグリーンシート32上に、主面電極97a,98aに対応する部分及び引出電極97b,98bに対応する部分が形成される。   Subsequently, for example, by screen printing, as shown in FIG. 16, a conductive paste P2 is applied to a predetermined position of each ceramic green sheet 32, and two internal electrode layers 97 or 2 are applied on each ceramic green sheet 32. Internal electrode patterns (reference numerals are omitted) corresponding to the two internal electrode layers 98 are formed. By the step of forming the internal electrode pattern, portions corresponding to the main surface electrodes 97a and 98a and portions corresponding to the extraction electrodes 97b and 98b are formed on the ceramic green sheet 32.

続いて、上述した内部電極パターンが形成された各セラミックグリーンシート32上で内部電極パターンが形成されない非形成領域R91,R92と、内部電極パターンの主面電極97a,98aに対応する部分の周縁全体と、内部電極パターンの引出電極97b,98bに対応する部分の非形成領域R91,R92側の縁とにセラミックペーストP1を塗布する。これにより、第一段差吸収層103,104と、第二段差吸収層105,106と、第三段差吸収層107,108とが生成される。   Subsequently, the non-formation regions R91 and R92 where the internal electrode pattern is not formed on each ceramic green sheet 32 on which the internal electrode pattern is formed, and the entire peripheral edge of the portion corresponding to the main surface electrodes 97a and 98a of the internal electrode pattern Then, the ceramic paste P1 is applied to the edges on the non-forming regions R91, R92 side of the portions corresponding to the extraction electrodes 97b, 98b of the internal electrode pattern. Thus, the first step absorption layers 103 and 104, the second step absorption layers 105 and 106, and the third step absorption layers 107 and 108 are generated.

続いて、内部電極パターン等が形成された複数のグリーンシート32を図18に示す順に積層し、隣接する主面電極97a,98aに対応する部分が積層方向において互いに略全面で対向するように(図17参照)、セラミックグリーンシート32の位置合わせを行う。なお、上述した内部電極パターンは、例えば積層方向に10組程度となるように、セラミックグリーンシート32を積層し、最上部には、内部電極パターンを有しないセラミックグリーンシート32を積層配置する。   Subsequently, a plurality of green sheets 32 on which internal electrode patterns and the like are formed are stacked in the order shown in FIG. 18 so that portions corresponding to adjacent main surface electrodes 97a and 98a face each other in substantially the entire surface in the stacking direction ( 17), the ceramic green sheet 32 is aligned. The ceramic green sheets 32 are stacked so that the above-described internal electrode patterns are, for example, about 10 sets in the stacking direction, and the ceramic green sheets 32 having no internal electrode pattern are stacked on the top.

続いて、セラミックグリーンシート32を上述したように積層してグリーン積層体が形成されると、第一〜第三実施形態と同様、グリーン積層体を加圧して圧着する。この積層体では、第二段差吸収層105,106(第二の部分105b,106b)により、内部電極パターンの主面電極97a,98aに対応する部分同士が接触しないようになっている。次に、このグリーン積層体を焼成し、コンデンサ素体92を得る。そして、焼成等が終了すると、コンデンサ素体92の側面92e,92fの引出電極97b,98bが露出している箇所を覆うように導電性ペーストP3を塗布して焼き付けを行い、更にメッキを施すことにより、図15に示されるような端子電極93〜96が形成される。以上により、図15に示した積層コンデンサ91が完成する。   Subsequently, when the green laminate is formed by laminating the ceramic green sheets 32 as described above, the green laminate is pressurized and pressure-bonded as in the first to third embodiments. In this laminate, the second step absorption layers 105 and 106 (second portions 105b and 106b) prevent the portions corresponding to the main surface electrodes 97a and 98a of the internal electrode pattern from contacting each other. Next, this green laminate is fired to obtain a capacitor body 92. When the firing or the like is completed, the conductive paste P3 is applied and baked so as to cover the portions where the lead electrodes 97b and 98b of the side surfaces 92e and 92f of the capacitor body 92 are exposed, and further plated. As a result, terminal electrodes 93 to 96 as shown in FIG. 15 are formed. Thus, the multilayer capacitor 91 shown in FIG. 15 is completed.

以上のように、本実施形態に係る積層コンデンサ91の製造方法でも、第一〜第三実施形態と同様、段差吸収層を形成する工程において、内部電極パターンの主面電極97a,98aに対応する部分の周縁全体に第二段差吸収層105,106を形成している。このため、主面電極97a,98aに対応する部分の周縁全体に形成された第二段差吸収層105,106により、セラミックグリーンシート32を積層圧着したとしても、主面電極97a,98aに対応する部分に段差部分が形成されるのを防ぐことができ、段差部分に起因する応力集中を回避することができる。その結果、グリーン積層体におけるクラックなどの内部構造欠陥の発生が抑制され、積層コンデンサ91において、例えば主面電極97a,98a同士における接触や近接を回避することができる。   As described above, in the method of manufacturing the multilayer capacitor 91 according to this embodiment, as in the first to third embodiments, in the step of forming the step absorption layer, it corresponds to the main surface electrodes 97a and 98a of the internal electrode pattern. Second step absorption layers 105 and 106 are formed on the entire periphery of the portion. For this reason, even if the ceramic green sheet 32 is laminated and pressure-bonded by the second step absorption layers 105 and 106 formed on the entire periphery of the portion corresponding to the main surface electrodes 97a and 98a, it corresponds to the main surface electrodes 97a and 98a. A step portion can be prevented from being formed in the portion, and stress concentration caused by the step portion can be avoided. As a result, the occurrence of internal structural defects such as cracks in the green multilayer body is suppressed, and in the multilayer capacitor 91, for example, contact and proximity between the main surface electrodes 97a and 98a can be avoided.

また、積層コンデンサ91でも、第一〜第三実施形態と同様、内部電極層97,98の主面電極97a,98aの周縁全体に段差吸収層105,106が配置されている。このため、主面電極97a,98a同士の間に第二段差吸収層105,106が介在していることになり、主面電極97a,98a同士を接触や近接しないようにすることができる。その結果、積層コンデンサ91を、内部構造欠陥の発生を抑制して所定の性能を発揮できる積層電子部品とすることができる。   In the multilayer capacitor 91 as well, the step absorption layers 105 and 106 are disposed on the entire periphery of the main surface electrodes 97a and 98a of the internal electrode layers 97 and 98, as in the first to third embodiments. For this reason, the second step absorption layers 105 and 106 are interposed between the main surface electrodes 97a and 98a, and the main surface electrodes 97a and 98a can be prevented from contacting or approaching each other. As a result, the multilayer capacitor 91 can be a multilayer electronic component capable of exhibiting predetermined performance while suppressing the occurrence of internal structural defects.

また、上述した積層コンデンサ91では、内部電極層97,98それぞれが同じ側面92e又は92fに引き出されるようになっていたが、図19に示されるように、同じ誘電体層12上に配置される二つの内部電極層97又は98が、それぞれ別の側面92e,92fに引き出されるようにしてもよい。この場合でもあって、図20に示されるように、主面電極97a,98aに対応する部分の周縁全体に形成された第二段差吸収層105,106(第二の部分105b,106b)により、主面電極97a,98aに対応する部分に段差部分が形成されるのを防ぐことができ、段差部分に起因する応力集中を回避することができる。その結果、グリーン積層体におけるクラックなどの内部構造欠陥の発生が抑制できる。   In the multilayer capacitor 91 described above, each of the internal electrode layers 97 and 98 is drawn out to the same side surface 92e or 92f, but is disposed on the same dielectric layer 12 as shown in FIG. The two internal electrode layers 97 or 98 may be drawn out to different side surfaces 92e and 92f, respectively. Even in this case, as shown in FIG. 20, the second step absorption layers 105 and 106 (second portions 105b and 106b) formed on the entire periphery of the portions corresponding to the main surface electrodes 97a and 98a, It is possible to prevent the formation of a stepped portion in the portion corresponding to the main surface electrodes 97a and 98a, and to avoid stress concentration caused by the stepped portion. As a result, generation of internal structural defects such as cracks in the green laminate can be suppressed.

(第五実施形態)
次に、第五実施形態にかかる積層コンデンサ111の構成及びその製造方法について説明する。本実施形態では、第一〜第四実施形態と異なり、ESR(等価直列抵抗)制御部を備えた積層コンデンサ111となっており、端子電極等の配置箇所や、内部電極層の形状が多少異なっている。以下、第一〜第四実施形態と異なる点を中心に説明する。
(Fifth embodiment)
Next, a configuration of the multilayer capacitor 111 according to the fifth embodiment and a manufacturing method thereof will be described. In the present embodiment, unlike the first to fourth embodiments, the multilayer capacitor 111 is provided with an ESR (equivalent series resistance) control unit. ing. Hereinafter, a description will be given focusing on differences from the first to fourth embodiments.

まず、図21及び図22を参照して、積層コンデンサ111の構成について説明する。積層コンデンサ111は、コンデンサ素体112と、端子電極113,114と、外部接続導体115,116と、内部電極層117〜120とを備えて構成される。コンデンサ素体112は、複数の誘電体層12が積層されて略直方体形状に構成され、主面112a,112bと端面112c,112dと側面112e,112fとを有している。端子電極113,114は、コンデンサ素体112の端面112c,112dを覆うように配置され、外部接続導体115,116は、コンデンサ素体112の側面112e,112fの略中央に配置される。外部接続導体115は、内部電極層117,119を接続するための導体であり、外部接続導体116は、内部電極層118,120を接続するための導体である。   First, the configuration of the multilayer capacitor 111 will be described with reference to FIGS. 21 and 22. The multilayer capacitor 111 includes a capacitor body 112, terminal electrodes 113 and 114, external connection conductors 115 and 116, and internal electrode layers 117 to 120. The capacitor body 112 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape by laminating a plurality of dielectric layers 12, and has main surfaces 112a and 112b, end surfaces 112c and 112d, and side surfaces 112e and 112f. The terminal electrodes 113 and 114 are disposed so as to cover the end surfaces 112c and 112d of the capacitor body 112, and the external connection conductors 115 and 116 are disposed at substantially the center of the side surfaces 112e and 112f of the capacitor body 112. The external connection conductor 115 is a conductor for connecting the internal electrode layers 117 and 119, and the external connection conductor 116 is a conductor for connecting the internal electrode layers 118 and 120.

内部電極層117〜120は、コンデンサ素体112内において、少なくとも一層の誘電体層12を間に挟むようにして順に積層されるものである(図24,図25参照)。内部電極層117〜120は、隣接する他の内部電極層117〜120と対向して静電容量部を形成する主面電極117a〜120aと、主面電極117a,118aを端子電極113,114に向かって引き出す引出電極117b,118bと、主面電極117a〜120aを外部接続導体115,116に向かって引き出す引出電極117c〜120cとを含んで構成される。主面電極117a〜120aは、略長方形状を呈しており、誘電体層12の略中央部に位置するように配置される。なお、本実施形態に係る積層コンデンサ111では、内部電極層117,118の積層数や内部電極層117〜120の積層位置等を調整することで、所望のESR値となるようにしている。つまり、内部電極層117,118等がESR制御部として機能する。   The internal electrode layers 117 to 120 are sequentially stacked in the capacitor body 112 with at least one dielectric layer 12 interposed therebetween (see FIGS. 24 and 25). The internal electrode layers 117 to 120 have main surface electrodes 117a to 120a that form a capacitance portion facing the other adjacent internal electrode layers 117 to 120, and main surface electrodes 117a and 118a as terminal electrodes 113 and 114, respectively. Lead electrodes 117b and 118b that lead out toward the outside, and lead electrodes 117c to 120c that lead out the main surface electrodes 117a to 120a toward the external connection conductors 115 and 116, respectively. Main surface electrodes 117 a to 120 a have a substantially rectangular shape, and are arranged so as to be located at a substantially central portion of dielectric layer 12. In the multilayer capacitor 111 according to the present embodiment, a desired ESR value is obtained by adjusting the number of laminated internal electrode layers 117 and 118, the laminated position of the internal electrode layers 117 to 120, and the like. That is, the internal electrode layers 117, 118 and the like function as an ESR control unit.

内部電極層117は、引出電極117bにより端面112dに引き出されて端子電極114に接続され、引出電極117cにより側面112eに引き出されて外部接続導体115に接続される。内部電極層118は、引出電極118bにより端面112cに引き出されて端子電極113に接続され、引出電極118cにより側面112fに引き出されて外部接続導体116に接続される。内部電極層119は、引出電極119cにより側面112eに引き出されて、外部接続導体115に接続される。内部電極層120は、引出電極120cにより側面112fに引き出されて、外部接続導体116に接続される。   The internal electrode layer 117 is drawn to the end face 112d by the lead electrode 117b and connected to the terminal electrode 114, and is drawn to the side face 112e by the lead electrode 117c and connected to the external connection conductor 115. The internal electrode layer 118 is drawn to the end face 112c by the lead electrode 118b and connected to the terminal electrode 113, and is drawn to the side face 112f by the lead electrode 118c and connected to the external connection conductor 116. The internal electrode layer 119 is extracted to the side surface 112e by the extraction electrode 119c and connected to the external connection conductor 115. The internal electrode layer 120 is drawn to the side surface 112f by the lead electrode 120c and connected to the external connection conductor 116.

また、積層コンデンサ111は、図22〜図25に示されるように、誘電体層12上において内部電極層117〜120が形成されない非形成領域R111〜R114に第一段差吸収層123〜126を備えている。非形成領域R111〜R114は、各内部電極層117〜120を取り囲む領域である。また、積層コンデンサ111は、主面電極117a〜120aの周縁全体に第二段差吸収層127〜130を、引出電極117b,118b及び引出電極117c〜120cの非形成領域R111〜R114側の縁に第三段差吸収層133〜136をそれぞれ備えている。第二段差吸収層127〜130は、非形成領域R111〜R114側の縁に沿って形成される第一の部分127a〜130aと、主面電極117a〜120aと引出電極117b,118b及び引出電極117c〜120cとの連結部分に位置する第二の部分127b〜130bとから構成される。   In addition, as shown in FIGS. 22 to 25, the multilayer capacitor 111 includes first step absorption layers 123 to 126 in the non-formation regions R111 to R114 where the internal electrode layers 117 to 120 are not formed on the dielectric layer 12. ing. The non-formation regions R111 to R114 are regions that surround the internal electrode layers 117 to 120. The multilayer capacitor 111 includes second step absorption layers 127 to 130 on the entire periphery of the main surface electrodes 117a to 120a, and the second step absorption layers 127 to 130 on the edges of the extraction electrodes 117b and 118b and the extraction electrodes 117c to 120c on the non-forming region R111 to R114 side. Three step absorption layers 133 to 136 are provided. The second step absorption layers 127 to 130 include first portions 127a to 130a formed along the edges on the non-forming regions R111 to R114 side, main surface electrodes 117a to 120a, extraction electrodes 117b and 118b, and extraction electrodes 117c. It is comprised from 2nd part 127b-130b located in a connection part with -120c.

続いて、上述した構成を有する積層コンデンサ111の製造方法について説明する。積層コンデンサ111の製造にあたっては、第一〜第四実施形態と同様、まず、セラミックペーストP1と導電性ペーストP2とを準備する。その後、誘電体層12の前駆体である複数のセラミックグリーンシート32を生成する。   Next, a method for manufacturing the multilayer capacitor 111 having the above-described configuration will be described. In manufacturing the multilayer capacitor 111, as in the first to fourth embodiments, first, a ceramic paste P1 and a conductive paste P2 are prepared. Thereafter, a plurality of ceramic green sheets 32 that are precursors of the dielectric layer 12 are generated.

続いて、例えばスクリーン印刷法により、図22に示されるように、各セラミックグリーンシート32の所定の位置に導電性ペーストP2を塗布し、各セラミックグリーンシート32上に内部電極層117〜120に対応する内部電極パターン(符号は省略)をそれぞれ形成する。この内部電極パターンを形成する工程により、セラミックグリーンシート32上に、主面電極117a〜120aに対応する部分と、引出電極117b,118b及び引出電極117c〜120cに対応する部分とが形成される。   Subsequently, as shown in FIG. 22, for example, by applying a conductive paste P <b> 2 to a predetermined position of each ceramic green sheet 32 by screen printing, and corresponding to the internal electrode layers 117 to 120 on each ceramic green sheet 32. Internal electrode patterns (reference numerals are omitted) are formed. By the step of forming the internal electrode pattern, portions corresponding to the main surface electrodes 117a to 120a and portions corresponding to the extraction electrodes 117b and 118b and the extraction electrodes 117c to 120c are formed on the ceramic green sheet 32.

続いて、上述した内部電極パターンが形成された各セラミックグリーンシート32上で内部電極パターンが形成されない非形成領域R111〜R114と、内部電極パターンの主面電極117a〜120aに対応する部分の周縁全体と、内部電極パターンの引出電極117b,118b及び引出電極117c〜120cに対応する部分の非形成領域R111〜R114側の縁とにセラミックペーストP1を塗布する。これにより、第一段差吸収層123〜126と、第二段差吸収層127〜130と、第三段差吸収層133〜136とが生成される。   Subsequently, the non-formation regions R111 to R114 where the internal electrode pattern is not formed on each ceramic green sheet 32 on which the internal electrode pattern described above is formed, and the entire periphery of the portion corresponding to the main surface electrodes 117a to 120a of the internal electrode pattern The ceramic paste P1 is applied to the edges on the non-forming regions R111 to R114 side of the portions corresponding to the extraction electrodes 117b and 118b and the extraction electrodes 117c to 120c of the internal electrode pattern. Thereby, the 1st level | step difference absorption layers 123-126, the 2nd level | step difference absorption layers 127-130, and the 3rd level | step difference absorption layers 133-136 are produced | generated.

続いて、内部電極パターン等が形成された複数のグリーンシート32を図24,25に示す順に積層し、隣接する主面電極117a〜120aに対応する部分が積層方向において互いに略全面で対向するように(図23参照)、セラミックグリーンシート32の位置合わせを行う。なお、上述した内部電極パターンは、例えば積層方向に2〜5組程度となるように、セラミックグリーンシート32を積層し、最上部には、内部電極パターンを有しないセラミックグリーンシート32を積層配置する。   Subsequently, a plurality of green sheets 32 on which internal electrode patterns and the like are formed are stacked in the order shown in FIGS. 24 and 25 so that the portions corresponding to the adjacent main surface electrodes 117a to 120a face each other on substantially the entire surface in the stacking direction. (Refer to FIG. 23), the ceramic green sheet 32 is aligned. The above-mentioned internal electrode patterns are laminated with ceramic green sheets 32 so that there are, for example, about 2 to 5 sets in the laminating direction, and the ceramic green sheets 32 having no internal electrode pattern are laminated on the top. .

続いて、セラミックグリーンシート32を上述したように積層してグリーン積層体が形成されると、第一〜第四実施形態と同様、グリーン積層体を加圧して圧着する。この積層体では、第二段差吸収層127〜130(第二の部分127b〜130b)により、内部電極パターンの主面電極117a〜120aに対応する部分同士が接触しないようになっている。次に、このグリーン積層体を焼成し、コンデンサ素体112を得る。そして、焼成等が終了すると、コンデンサ素体112の端面112c,112dや側面112e,112fの所定箇所に導電性ペーストP3を塗布して焼き付けを行い、更にメッキを施すことにより、図21に示されるような端子電極113,114及び外部接続導体115,116が形成される。以上により、図21に示した積層コンデンサ111が完成する。   Subsequently, when the green laminate is formed by laminating the ceramic green sheets 32 as described above, the green laminate is pressurized and pressure-bonded as in the first to fourth embodiments. In this laminate, the second step absorption layers 127 to 130 (second portions 127b to 130b) prevent the portions corresponding to the principal surface electrodes 117a to 120a of the internal electrode pattern from contacting each other. Next, this green laminate is fired to obtain a capacitor body 112. When the firing or the like is finished, the conductive paste P3 is applied and baked on predetermined portions of the end surfaces 112c and 112d and the side surfaces 112e and 112f of the capacitor body 112, and further plated, as shown in FIG. Such terminal electrodes 113 and 114 and external connection conductors 115 and 116 are formed. Thus, the multilayer capacitor 111 shown in FIG. 21 is completed.

以上のように、本実施形態に係る積層コンデンサ111の製造方法でも、第一〜第四実施形態と同様、段差吸収層を形成する工程において、内部電極パターンの主面電極117a〜120aに対応する部分の周縁全体に第二段差吸収層127〜130を形成している。このため、主面電極117a〜120aに対応する部分の周縁全体に形成された第二段差吸収層127〜130により、セラミックグリーンシート32を積層圧着したとしても、主面電極117a〜120aに対応する部分に段差部分が形成されるのを防ぐことができ、段差部分に起因する応力集中を回避することができる。その結果、グリーン積層体におけるクラックなどの内部構造欠陥の発生が抑制され、積層コンデンサ111において、例えば主面電極117a〜120a同士における接触や近接を回避することができる。   As described above, in the method of manufacturing the multilayer capacitor 111 according to this embodiment, as in the first to fourth embodiments, in the step of forming the step absorption layer, it corresponds to the main surface electrodes 117a to 120a of the internal electrode pattern. Second step absorption layers 127 to 130 are formed on the entire periphery of the portion. Therefore, even if the ceramic green sheet 32 is laminated and pressure-bonded by the second step absorption layers 127 to 130 formed on the entire periphery of the portion corresponding to the main surface electrodes 117a to 120a, it corresponds to the main surface electrodes 117a to 120a. A step portion can be prevented from being formed in the portion, and stress concentration caused by the step portion can be avoided. As a result, the occurrence of internal structural defects such as cracks in the green multilayer body is suppressed, and in the multilayer capacitor 111, for example, contact and proximity between the principal surface electrodes 117a to 120a can be avoided.

また、積層コンデンサ111でも、第一〜第四実施形態と同様、内部電極層117〜120の主面電極117a〜120aの周縁全体に段差吸収層127〜130が配置されている。このため、主面電極117a〜120a同士の間に第二段差吸収層127〜130が介在していることになり、主面電極117a〜120a同士を接触や近接しないようにすることができる。その結果、積層コンデンサ111を、内部構造欠陥の発生を抑制して所定の性能を発揮できる積層電子部品とすることができる。   In the multilayer capacitor 111 as well, step absorption layers 127 to 130 are disposed on the entire periphery of the main surface electrodes 117a to 120a of the internal electrode layers 117 to 120, as in the first to fourth embodiments. For this reason, the second step absorption layers 127 to 130 are interposed between the main surface electrodes 117a to 120a, and the main surface electrodes 117a to 120a can be prevented from contacting or coming close to each other. As a result, the multilayer capacitor 111 can be a multilayer electronic component capable of exhibiting predetermined performance while suppressing the occurrence of internal structural defects.

以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態では、各内部電極層を2〜5組や10組、積層してコンデンサ素体としていたが、積層数(組数)はこれらに限定されるわけではなく、その他の積層数(組数)であってももちろんよい。   The preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, but the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible. For example, in the above embodiment, 2 to 5 or 10 sets of internal electrode layers are stacked to form a capacitor body. However, the number of stacked layers (number of sets) is not limited to these, and the number of other stacked layers Of course, it may be (number of sets).

また、上記実施形態では、第一段差吸収層、第二段差吸収層及び第三段差吸収層を略同時に形成する製造方法を説明したが、各段差吸収層を別々に製造してもよいし、第一及び第二段差吸収層を略同時に形成したり、第一及び第三段差吸収層を略同時に形成したり、第二及び第三段差吸収層を略同時に形成したりしてもよい。また、上記実施形態では、誘電体層と段差吸収層とを同じ誘電体材料から製造する方法で説明したが、段差吸収層が誘電体層と異なる誘電体材料から形成されるようにしてもよい。   In the above embodiment, the manufacturing method of forming the first step absorption layer, the second step absorption layer, and the third step absorption layer substantially simultaneously has been described, but each step absorption layer may be manufactured separately, The first and second step absorption layers may be formed substantially simultaneously, the first and third step absorption layers may be formed substantially simultaneously, or the second and third step absorption layers may be formed substantially simultaneously. In the above embodiment, the method of manufacturing the dielectric layer and the step absorption layer from the same dielectric material has been described. However, the step absorption layer may be formed from a dielectric material different from the dielectric layer. .

また、上記実施形態では、2種類又は4種類の内部電極層を備えた積層コンデンサについて説明したが、4種類よりも種類が多い内部電極層を備えた積層コンデンサに対して、上述した実施形態を適用してももちろんよい。内部電極層が4種類よりも多数の種類から構成される場合、段差部分が内部電極層の面方向において更にばらついて発生することになり、これにより、積層方向において更に多数層おきとなるように段差部分が発生し、その結果、積層圧着時にこれら段差部分に応力が一層集中して内部構造欠陥が起こりやすくなるが、本実施形態の構成を備えた積層コンデンサであれば、種類の異なる内部電極層の積層数が多くなった場合であっても、このように発生しかねない段差部分の発生を防止し、内部構造欠陥の発生を抑制することができる。また、上記実施形態では、積層電子部品として、積層コンデンサを例に取って説明したが、他の積層電子部品に本実施形態を適用してももちろんよい。   In the above-described embodiment, the multilayer capacitor having two or four types of internal electrode layers has been described. However, the above-described embodiment is applied to the multilayer capacitor having more than four types of internal electrode layers. Of course, it can be applied. When the internal electrode layer is composed of more than four types, the stepped portion will be further dispersed in the plane direction of the internal electrode layer, and thereby, every other layer in the stacking direction. As a result, stepped portions are generated, and as a result, stress is further concentrated on these stepped portions at the time of laminate crimping, and internal structural defects are likely to occur. However, if the multilayer capacitor has the configuration of the present embodiment, different types of internal electrodes are used. Even when the number of layers is increased, it is possible to prevent the occurrence of a step portion that may occur in this way, and to suppress the occurrence of internal structural defects. In the above embodiment, the multilayer capacitor is described as an example of the multilayer electronic component. However, the present embodiment may be applied to other multilayer electronic components.

1,51,71,91,111…積層貫通コンデンサ、2,52,72,92,112…コンデンサ素体、3〜6,53,54,73〜76,93〜96,113,114…端子電極、7〜10,57,58,77,78,97,98,117〜120…内部電極、7a〜10a,57a,58a,77a,78a,97a,98a,117a〜120a…主面電極、7b〜10b,57b,58b,77b,78b,97b,98b,117b,118b,117c〜120c…引出電極、13〜16,63,64,83,84,103,104,123〜126…第一段差吸収層、17〜20,65,66,85,86,105,106,127〜130…第二段差吸収層、17a〜20a,65a,66a,85a,86a,105a,106a,127a〜130a…第一の部分、17b〜20b,65b,66b,85b,86b,105b,106b、127b〜130b…第二の部分、23〜26,67,68,87,88,107,108,133〜136…第三段差吸収層。
1, 51, 71, 91, 111 ... multilayer feedthrough capacitor, 2, 52, 72, 92, 112 ... capacitor body, 3-6, 53, 54, 73-76, 93-96, 113, 114 ... terminal electrode 7-10, 57, 58, 77, 78, 97, 98, 117-120 ... internal electrodes, 7a-10a, 57a, 58a, 77a, 78a, 97a, 98a, 117a-120a ... main surface electrodes, 7b- 10b, 57b, 58b, 77b, 78b, 97b, 98b, 117b, 118b, 117c to 120c ... extraction electrode, 13 to 16, 63, 64, 83, 84, 103, 104, 123 to 126 ... first step absorption layer 17-20, 65, 66, 85, 86, 105, 106, 127-130 ... second step absorption layer, 17a-20a, 65a, 66a, 85a, 86a, 105a 106a, 127a-130a ... first part, 17b-20b, 65b, 66b, 85b, 86b, 105b, 106b, 127b-130b ... second part, 23-26, 67, 68, 87, 88, 107, 108, 133-136 ... third step absorption layer.

Claims (10)

少なくとも主面電極部分と引出電極部分とを含む内部電極パターンをセラミックグリーンシート上に形成する工程と、
前記セラミックグリーンシート上で前記内部電極パターンが形成されない非形成領域と前記内部電極パターンの前記主面電極部分の周縁全体とに段差吸収層を形成する工程と、
前記内部電極パターンと前記段差吸収層とが形成された前記セラミックグリーンシートを積層且つ圧着して、グリーン積層体を形成する工程と、を備え、
前記段差吸収層を形成する工程において、前記主面電極部分と前記引出電極部分との連結部分に前記段差吸収層を形成することを特徴とする積層電子部品の製造方法。
Forming an internal electrode pattern including at least a main surface electrode portion and an extraction electrode portion on the ceramic green sheet;
Forming a step-absorbing layer on a non-formation region where the internal electrode pattern is not formed on the ceramic green sheet and the entire periphery of the main surface electrode portion of the internal electrode pattern;
The internal electrode pattern and said the ceramic green sheet and the step absorption layer is formed by laminating and pressure bonding, e Bei forming a green laminate, and,
In the step of forming the step absorption layer, the step absorption layer is formed at a connection portion between the main surface electrode portion and the extraction electrode portion .
記段差吸収層を形成する工程において、前記内部電極パターンの前記引出電極部分に前記段差吸収層を形成することを特徴とする請求項1に記載の積層電子部品の製造方法。 In the step of forming the pre-Symbol step absorption layer, manufacturing method of a multilayer electronic component according to claim 1, characterized by forming the step absorption layer to the lead electrode portion of the internal electrode pattern. 前記段差吸収層を形成する工程において、前記引出電極部分の前記非形成領域側の縁に前記段差吸収層を形成することを特徴とする請求項2に記載の積層電子部品の製造方法。   3. The method for manufacturing a laminated electronic component according to claim 2, wherein in the step of forming the step absorption layer, the step absorption layer is formed at an edge of the extraction electrode portion on the non-formation region side. 前記段差吸収層を形成する工程において、前記引出電極部分の全体に前記段差吸収層を形成することを特徴とする請求項2に記載の積層電子部品の製造方法。   3. The method for manufacturing a laminated electronic component according to claim 2, wherein in the step of forming the step absorption layer, the step absorption layer is formed over the entire extraction electrode portion. 前記段差吸収層を形成する工程において、前記主面電極部分の周縁全体と前記引出電極部分とに略同時に前記段差吸収層が形成されることを特徴とする請求項2〜4の何れか一項に記載の積層電子部品の製造方法。   5. The step absorption layer is formed in the step of forming the step absorption layer substantially simultaneously with the entire periphery of the main surface electrode portion and the extraction electrode portion. The manufacturing method of the multilayer electronic component as described in any one of. 前記段差吸収層を形成する工程において、前記非形成領域と前記主面電極部分の周縁全体とに略同時に前記段差吸収層が形成されることを特徴とする請求項1〜5の何れか一項に記載の積層電子部品の製造方法。   6. The step absorbing layer is formed in the step of forming the step absorbing layer substantially simultaneously with the non-forming region and the entire periphery of the main surface electrode portion. The manufacturing method of the multilayer electronic component as described in any one of. 複数の誘電体層が積層された素体と、
前記誘電体層に挟まれるように前記素体内に配置され且つ少なくとも主面電極と引出電極とを含む内部電極層と、
前記誘電体層上で前記内部電極層が配置されていない非形成領域と前記内部電極層の前記主面電極の周縁全体とに配置された段差吸収層と、を備え、
前記段差吸収層は、前記主面電極と前記引出電極との連結部分に形成されていることを特徴とする積層電子部品。
An element body in which a plurality of dielectric layers are laminated;
An internal electrode layer disposed in the element body so as to be sandwiched between the dielectric layers and including at least a main surface electrode and an extraction electrode ;
E Bei and a step absorption layer disposed on the entire the peripheral edge of the main surface electrodes of the internal electrode layer is not disposed non-formation region and the internal electrode layer by the dielectric layer,
The stepped absorption layer is formed at a connection portion between the main surface electrode and the extraction electrode .
記段差吸収層は、前記引出電極上に更に配置されていることを特徴とする請求項7に記載の積層電子部品。 Prior Symbol step absorption layer, laminated electronic component according to claim 7, characterized in that it is further disposed on the lead electrodes. 前記内部電極層は、少なくとも4種類以上であり、
前記4種類以上の内部電極それぞれに接続される端子電極を更に備えることを特徴とする請求項7又は8に記載の積層電子部品。
The internal electrode layers are at least four types,
The multilayer electronic component according to claim 7, further comprising a terminal electrode connected to each of the four or more types of internal electrodes.
前記主面電極と前記引出電極との前記連結部分と、前記主面電極と前記引出電極とを含む前記内部電極層と積層方向に隣接する別の内部電極層の周縁部とが、前記積層方向において同じ向きに屈曲していることを特徴とする請求項7〜9の何れか一項に記載の積層電子部品。The connecting portion between the main surface electrode and the extraction electrode, the internal electrode layer including the main surface electrode and the extraction electrode, and a peripheral portion of another internal electrode layer adjacent in the stacking direction are in the stacking direction. The multilayer electronic component according to claim 7, wherein the multilayer electronic component is bent in the same direction.
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