JP4016629B2 - 階調表示方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は画像出力装置における階調表示方法に関し、特に、表示する画像を微小面積の画素に分割し、その画素をさらに微小な面積の微画素に分割し、前記画素内における全微画素の面積に対する着色微画素の着色面積の割合によって階調を表現するようにした階調表示方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、印刷機、プリンタまたはデジタル式複写機等の画像出力装置において、階調を有する画像を表示する際、擬似的に階調を表示する方法が採用されている。
前記擬似的な階調表示方法では、階調は、画像を微小な単位画素に分割し、その単位画素内における微小要素(たとえば、点または線)の中の着色された微小要素の占める面積の大小により、濃淡を連続調に類似させて表示される。
そして、前記単位画素内の着色された微小要素が形成する大小の網点により階調を表示する方法が多く採用されている。
前記網点を用いる方法として、濃度パターン法(すなわち、面積階調法)が知られている。この濃度パターン法は、原画の1画素に対応する表示側(画像出力装置側)の1画素を複数の微画素に分割し、その微画素の中から画素の階調に対応する所定数の微画素を選択し、その選択した微画素を所定の色(たとえば、黒色)に着色して表示する方法である。この方法では、前記階調に対応する所定数の着色微画素から網点が形成される。
【0003】
前記濃度パターン法では、前記表示側の1画素を形成する微画素数に応じた段階の階調表示を行うことができる。
図27は、前記1画素Sを形成する微画素Siの数を、4×8=32とし、各微画素Si(i=1〜32)で2値表示を行う場合における着色微画素の従来技術の説明図で、図27Aは第4階調の着色微画素S1〜S4を示す図、図27Bは第8階調の着色微画素S1〜S8を示す図である。
図28A〜図30Bはそれぞれ、第12階調、第16階調、第20階調、第24階調、第28階調、第32階調の着色微画素S1〜S12、S1〜S16、S1〜S20、S1〜S24、S1〜S28、S1〜S32の説明図である。
【0004】
前記図27〜図30Bに示す画素Sは、水平なライン方向に対して前記画素Sの中心を結ぶ直線がなす角度であるスクリーン角度(すなわち、着色微画素のスクリーン角度)θはθ=45°である。
そして、第1階調〜第32階調の着色微画素の成長方向(着色微画素の増加方向、すなわち、成長核の成長方向)は、前記スクリーン角度と同じ方向に設定されている。
前記図27〜図30Bに示す画素Sは、ライン成長型であり、スクリーン角度に沿って着色微画素が成長している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
画像を形成する際、細線や文字等に対して前記階調表示を行う場合、かすれやとぎれが発生し易い。特に、この問題点はスクリーン角度やスクリーン角度に近い角度での線で目立ち易い。この問題点を回避する方法として、次の方法(J01)〜(J03)が従来公知である。
(J01)スクリーン線数を高くする方法。
この(J01)の方法では、前記問題点は改善するが、2次障害としてIOTディフェクト(ノイズ強調、濃度の面内均一性)が悪化する。
【0006】
(J02)特公平7−105888号公報記載の技術
この公報記載の技術は、細線を認識し、それを微小ブロックに分け、ブロック毎に異なる網点形状(スクリーンパターン)を発生させて、線のかすれやとぎれを防止している。
しかしながら、この(J02)の技術では、処理が複雑になり、処理回路がコストアップする。また、処理が膨大で処理速度の低下を招く。
(J03)特開平8−156329号公報記載の技術
この公報記載の技術は、画像信号が線画像か自然画像かを認識し、識別結果に応じて2つ以上設けた濃度信号変換手段を切り換えている。
この(J03)の技術は画像信号が線画像か自然画像かを認識する識別手段や、2つ以上設けた濃度信号変換手段等が必要となり、コストアップを招く。
【0007】
本発明は前記問題点に鑑み、次の記載内容(O01)を技術的課題とする。
(O01)画素のスクリーン角度に沿った細線のかすれやとぎれの発生を簡単な方法で防止すること。
【0008】
【課題を解決するための手段】
次に、前記課題を解決するために案出した本発明を説明するが、本発明の要素には、後述の実施例の要素との対応を容易にするため、実施例の要素の符号をカッコで囲んだものを付記する。
また、本発明を後述の実施例の符号と対応させて説明する理由は、本発明の理解を容易にするためであり、本発明の範囲を実施例に限定するためではない。
【0009】
前記課題を解決するために、本発明の階調表示方法は、画像を微小面積の画素に分割し、その画素をさらに微小な面積の微画素(Si)に分割し、前記画素内の全微画素(Si)に対する着色微画素(Si)の割合によって階調を表示するとともに、前記着色微画素(Si)は、並べて配置された画素に渡ってできる1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第1の成長核および別の1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第2の成長核により形成され、且つ、前記着色微画素は、低階調レベルでは1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第1の成長核のみにより形成されるとともに、中間階調から高階調レベルでは別の1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第2の成長核および前記第1の成長核により形成されることを特徴とする。
【0010】
前記構成を備えた本発明の階調表示方法では、1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第1の成長核および別の1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第2の成長核により形成されるので、細線のかすれやとぎれの発生が少なくなり、画質が向上する。
また、前記構成を備えた本発明の階調表示方法では、低階調レベルでは1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第1の成長核のみにより形成するとともに、中間階調レベルでは別の1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第2の成長核および前記第1の成長核により形成するので、細線のかすれやとぎれの発生が少なくなり、画質が向上する。
【0011】
また、本発明の階調表示方法は、帯電した感光体(15)表面に形成する画像を微小面積の画素に分割し、その画素をさらに微小な面積の微画素(Si)に分割し、表示する階調に応じて前記感光体(15)表面に設定された微画素(Si)を光ビーム(14)で照射して静電潜像を形成し、前記静電潜像をトナー像に現像することにより前記微画素(Si)を着色し、前記画素内における着色微画素の着色面積の全微画素の面積に対する割合によって階調を表示するとともに、前記着色微画素は、並べて配置された画素に渡ってできる1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第1の成長核および別の1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第2の成長核により形成され、且つ、前記着色微画素は、低階調レベルでは1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第1の成長核のみにより形成されるとともに、中間階調から高階調レベルでは別の1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第2の成長核および前記第1の成長核により形成されることを特徴とする。
【0012】
また、前記本発明の階調表示方法では、nを正の整数とした場合に、1個の微画素の面積を1/nに分割して、分割した単位面積毎に着色することにより前記1個の微画素を多値表示することが可能である。
また、前記本発明の階調表示方法では、前記第1の成長核と第2の成長核とは常に大きさが異なるようにすることが好ましい。この場合には、画素のスクリーン角度に沿った細線のかすれやとぎれの発生を良好に防止することができる。
また、前記本発明の階調表示方法では、第2の成長核の大きさは常に第1の成長核の大きさよりも小さくすることが可能である。また、第2の成長核の大きさは、低階調レベルでは常に第1の成長核の大きさ以下であるが、中間階調以上では常に第1の成長核の大きさよりも大きくすることも可能である。
さらに、前記本発明の階調表示方法では、前記第2成長核の位置は前記第1成長核間の略中央に設けることが可能である。この場合、細線のかすれ、とぎれを軽減することができる。
【0014】
また、本発明の階調表示方法は、中間階調から高階調レベルでは第1の成長核および第2の成長核の両方を成長させることが可能であり、また、中間階調から高階調レベルでは第1の成長核および第2の成長核を交互に成長させることも可能である。この場合、濃度ジャンプの発生を軽減することができる。
さらに、低階調レベルでは第1の成長核のみを成長させ、中間階調以上では第2の成長核を設けて第2の成長核のみを成長させることも可能である。 また、本発明の階調表示方法は、カラー画像の階調表示方法として使用することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
次に図面を参照しながら、本発明の現像装置の実施の形態の具体例(実施例1)を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
以下、図面により本発明の階調表示装置の実施例を説明する。
図1は、前記1画素Sを形成する微画素Siの数を、4×8=32とし、各微画素Si(i=1〜32)で2値表示を行う実施例1における着色微画素を示す図で、図1Aは第4階調の着色微画素S1〜S4を示す図、図1Bは第8階調の表示を行う場合の着色微画素S1〜S8を示す図である。
図2A〜図4Bはそれぞれ、第12,16,20,24,28,32階調の着色微画素S1〜S12,S1〜S16,S1〜S20,S1〜S24,S1〜S28,S1〜S32を示す図である。
前記各画素Sの隣接するものの中心を結ぶ直線が水平なライン方向となす角度であるスクリーン角度θはθ=45°であり、各画素S中の着色微画素Siの増加する方向はスクリーン角度θの方向に設定されている。
【0016】
図1Aにおいて、第4階調を表示する着色微画素は4個の微画素Si(i=1〜4)である。なお、図示していないが、第0階調では総ての微画素Si(i=1〜32)が無着色であり、第1階調では1個の微画素Si(i=1)が着色される。
図1A〜図4Bにおいて、図2Bの第16階調を表示するまでは、着色微画素の固まりは1つであり、着色微画素の成長する方向(成長核の成長方向)はスクリーン角θ=45°と同じである。
【0017】
次に、前述の第1図に示す表示を行う階調表示装置の構成について説明する。
図5は本発明を適用したデジタル複写機Fの全体説明図である。
デジタル複写機Fは、機械本体部F1 とこの機械本体部F1 の上面にヒンジ連結されたカバーF2 とから構成されている。
前記機械本体部F1 は、その上面に透明ガラスから構成されたプラテン(原稿置き台)1を備えている。このプラテン1の下方には、露光用光学系2が配設されている。この露光用光学系2は、移動可能なランプユニット3を有しており、このランプユニット3は、原稿照明用のランプ4と第1ミラー5とが一体化されて構成されている。また、前記露光用光学系2は、前記ランプユニット3の移動速度の1/2の速度で移動する移動ミラーユニット6を有している。この移動ミラーユニット6は、第2ミラー7および第3ミラー8から構成されている。また、前記露光用光学系2は、レンズ9も有している。そして、前記ランプユニット3が原稿に対して平行に前後方向に移動し、前記移動ミラーユニット6が前記ランプユニット3の移動速度の1/2の速度で1/2の距離だけ移動すると、原稿とレンズ9との間の距離は一定に保たれるので、その間、前記ランプ4によって照明された原稿の反射光は、前記露光用光学系2を通って画像読取部CCD(固体撮像素子)に収束されるように構成されている。
【0018】
画像読取部CCDでは、前記原稿の各画素における反射光量を電気信号に変換する。この電気信号は画像データ(濃度データ)として画像処理部12に送信される。画像処理部12では、濃度データを着色微画素の面積率に変換するとともに、後述のレーザスキャナ13でラスタ画像として出力できるように各走査線毎の2値のシリアルデータに変換する。このシリアルデータに従ってレーザスキャナ13から出射されるレーザ光線(すなわち、光ビーム)14がオンまたはオフされることにより画像がドラム状の感光体15に書き込まれる。
【0019】
前記感光体15の周囲には、その感光体15の回転方向に沿って帯電用チャージロール16、現像装置17、転写用チャージロール18およびクリーナユニット19等が配設されている。また、前記機械本体部F1 には、転写用紙収納トレイ20と、この転写用紙収納トレイ20内の転写用紙を前記感光体15と前記転写用チャージャ18との間に供給する給紙機構21が配設されるとともに、前記感光体15と転写用チャージャ18との間を通過して転写の終了した転写終了紙を感光体15から剥離させて搬送する搬送機構22も配設されている。さらに、機械本体部F1 には、前記搬送機構22によって搬送された転写終了紙を定着する定着ユニット23と、この定着ユニット23から排出された転写終了紙を受け取る排紙トレイ24が配設されている。
【0020】
図6は本発明の実施例1における前記画像処理部の構成の説明図である。
図6に示した画像処理部12は、閾値型の着色微画素ジェネレータから構成されており、前記画像読取部CCDから画像データ(濃度データ)B′が入力される。この画像データB′は、前記画像読取部CCDにおいて、CCD等のセンサによって得られたアナログ出力信号をデジタル−アナログ変換して得られた値であり、「00000000」(=0)から「11111111」(=255)までの8ビットのデジタルデータである。この画像データB′は、画像処理部12のコントローラ120によって読出し、書込みが制御されるラインバッファ121に記憶される。ラインバッファ121はシフトレジスタ、メモリ等により構成されており、1ライン分の画像データB′を記憶する容量を有している。
【0021】
図7はLUT(ルックアップテーブル)の入力データおよび出力データの関係を示す図である。
前記ラインバッファ121に記憶された8ビットの画像データB′は、ルックアップテーブルLUTに入力される。ルックアップテーブルLUTは、入力された「00000000」(=0)から「11111111」(=255)までの8ビットの画像データ(濃度データ)B′を図7に示すように、「000000」(=0)から「100000」(=32)までの5ビットの階調データBに変換して出力する。
【0022】
前記コントローラ120はカウンタ等で構成されており、前記レーザ光14(図5参照)が各微画素を走査するタイミングと同期したXクロック信号、レーザ光14が各画素(8微画素)を走査する毎に発生するXリセット信号、前記レーザ光が感光体15上を1ライン走査する毎に発生するYクロック信号、4ライン(すなわち、副走査方向に並んだ4微画素(1画素分の微画素)を含むライン)走査する毎に発生するYリセット信号、1ページのプリントの先頭に発生するページクリア信号、各ライン走査の先頭に発生するラインクリア信号、により動作する。これらの各信号の発生タイミングは図8、図9に示されている。
【0023】
図8は前記図6に示された作動信号のタイミングチャートである。
図9は前記図6に示された作動信号のタイミングチャートである。
図8、図9において、前記コントローラ120に入力される信号に応じてXリングカウンタ123から4ビットのXアドレス信号「X3 X2 X1 X0 」(図8参照)が出力され、また、Yリングカウンタ124から4ビットのYアドレス信号「Y3 Y2 Y1 Y0 」(図9参照)が出力される。前記Xアドレス「X3 X2 X1 X0 」は、図8に示すように、それぞれ「0000」(=0)〜「0111」(=7)の値であり、Yアドレス「Y3 Y2 Y1 Y0 」は、図9に示すように、それぞれ「0000」(=0)〜「0011」(=3)の値である。
【0024】
図10、図11は前記Xアドレス信号「0000」〜「0100」およびYアドレス信号「0000」〜「0111」が入力される閾値テーブル125(図6参照)の説明図である。図10図は、1画素Sを構成する8×4のマトリックス状に配置された微画素S1〜S32と、前記X,Yアドレス信号との関係を示す図である。この図10図から分かるように前記X,Yアドレス信号により、前記微画素S1〜S32のどれかの微画素が特定される。
図11は前記各微画素S1〜S32に設定された閾値データを表した図であり、この閾値データは図11にA(閾値データ)として示すようにバイナリコードで記憶されている。
【0025】
前記閾値テーブル125に記憶された閾値データAは前記X,Yリングカウンタ123,124の出力するX,Yアドレス信号に応じて読み出され、比較器126に出力される。
比較器126には、前記閾値データAおよび前記LUT(ルックアップテーブル)122からの画像データBが入力されており、B≧Aのときに「1」を出力し、B<Aのときに「0」を出力するように構成されている。
そして、レーザスキャナ13は、この実施例では「1」が入力されたときにレーザ光を出射し、「0」が入力されたときレーザ光を出射しないように作動する。
【0026】
(実施例1の作用)
次に、前述の構成を備えた本発明の実施例1の作用を、主として図6〜図11により説明する。
最初の画素の行(微画素にして4行分)を走査する際、図9に示すページクリア信号によりYアドレス「0000」によって指定される行の走査(微画素の第1行分の走査すなわち副走査方向の第1行の走査)が開始される。そして、図8に示すラインクリア信号により主走査方向の走査が開始される。
いま、たとえば階調データBが「00100」(=4)である1個の画素(微画素32個から構成される画素)を走査する場合について説明すると、前記比較器126にはB=「000100」=(4)が入力されている。
【0027】
そして、X,Yアドレスが(「0000」,「0000」)の微画素S1を走査する場合、閾値テーブル125から読み出されて比較器126に入力される閾値データAは図10,図11に示すように「000000」(=0)である。この場合、B≧Aであるから、比較器126からは「1」が出力される。したがって、微画素S1にはレーザ光が照射される。次に微画素S5を走査する場合はA>Bであるので、微画素S5にはレーザ光が照射されない。同様に図10に示す微画素S9、S13,S25,S17,S21,S29を走査する場合はA>Bであるので、それらの微画素にはレーザ光が照射されない。
このようにして、1行目の微画素S1〜S29の走査が終了すると、図8のXリセット信号により主走査方向の隣に並んだ他の画素の微画素の走査を行う。このようにして、主走査方向に並んだ全ての微画素1ライン分の走査が終了すると、図9のYクロック信号により、Yアドレス信号「Y3 Y2 Y1 Y0」が「0001」となり、(微画素の第2行分の走査すなわち副走査方向の第2行の走査)が開始される。そして、図8に示すラインクリア信号により主走査方向の走査が開始される。
【0028】
そして、再び前記階調データB=「000100」=(4)が比較器126に入力される。X,Yアドレスが(「0000」,「0001」)の微画素S6を走査する場合、閾値テーブル125から読み出されて比較器126に入力される閾値データAは図10B,図11に示すようにA=「000110」(=6)である。この場合、A>Bであるから、比較器126からは「0」が出力される。したがって、微画素S6にはレーザ光が照射されない。同様に微画素S10,S14,S30,S18,S22,S26を走査する場合もA>Bであるので、それらの微画素にはレーザ光が照射されない。ところが、微画素S2を走査する場合、閾値テーブル125から読み出されて比較器126に入力される閾値データAは図11に示すように「000010」(=2)である。この場合、B≧Aであるから、比較器126からは「1」が出力される。したがって、微画素S23にはレーザ光が照射される。
【0029】
Yアドレスが「0010」の第3行および「0011」の第4行の微画素についても同様の走査が行われ、微画素S3およびS4の場合はB≧Aとなってレーザ光が照射されるが、他の微画素にはレーザ光が照射されない。
したがって、レーザ光でイメージ露光を行うことにより図1A〜図4Bに示すような着色微画素を記録することができる。
図1A〜図4Bから分かるように、第0〜第16階調までは着色微画素の固まりである成長核は、1個の画素に対応して1個の割合で配置されているが、第17階調以上では1個の画素に対応して2個の割合で配置されている。このように成長核を2個配置することにより、中〜高階調(第17階調以上)では、擬似的にスクリーン線数が高くなる。これによって、中〜高階調のスクリーン角度に沿った細線や文字であっても、線のかすれや途切れは目立たなくなる。したがって、画素のスクリーン角度に沿った細線のかすれやとぎれの発生を簡単な方法で防止することができる。
また、本実施例1では、第2成長核の面積は、常に第1成長核の面積以下となるように設定されているため、低〜中階調(第16階調以下)でスクリーン線数が高くなることはなく、これによるIOTディフェクトの悪化を防止することができる。
【0030】
(実施例2)
図12は、前記1画素Sを形成する微画素Siの数を、4×8=32とし、各微画素Si(i=1〜32)で2値表示を行う実施例2における着色微画素を示す図で、図12Aは第4階調の着色微画素S1〜S4を示す図、図1Bは第8階調の表示を行う場合の着色微画素S1〜S8を示す図である。
図13A〜図15Bはそれぞれ、第12,16,20,24,28,32階調の着色微画素S1〜S12,S1〜S16,S1〜S20,S1〜S24,S1〜S28,S1〜S32を示す図である。
この実施例2も画素のスクリーン角度は45°である。この実施例2は、図12A〜図15Bから分かるように、第0〜第12階調までは着色微画素の固まりである成長核は、1個の画素に対応して1個の割合で配置されているが、第13階調以上では1個の画素に対応して2個の割合で配置されている。この実施例2も、成長核を2個配置することにより、画素のスクリーン角度に沿った細線のかすれやとぎれの発生を簡単な方法で防止することができる。
また、本実施例2では、前記実施例1と比較して、より低階調(第13階調)で第2成長核を成長させているが、着色される微画素が離散的であるため、低〜中階調(第12階調以下)でスクリーン線数が高くなるのが抑えられる。したがって、IOTディフェクトの悪化を防止できる。
【0031】
(実施例3)
図16は前記1画素Sを形成する微画素Siの数を、6×6=36とし、各微画素Si(i=1〜36)で2値表示を行う実施例3における着色微画素の説明図である。
この実施例3は画素のスクリーン角度は90°である。この実施例3は、図16から分かるように、第0〜第18階調までは着色微画素の固まりである成長核は、1個の画素に対応して1個の割合で配置されているが、第19階調以上では1個の画素に対応して2個の割合で配置されている。この実施例3も、成長核を2個配置することにより、画素のスクリーン角度に沿った細線のかすれやとぎれの発生を簡単な方法で防止することができる。
【0032】
(実施例4)
図17は前記1画素Sを形成する微画素Siの数を、6×6=36とし、各微画素Si(i=1〜36)で2値表示を行う実施例4における着色微画素の説明図である。
この実施例4も画素のスクリーン角度は90°である。この実施例4は、図17から分かるように、第0〜第12階調までは着色微画素の固まりである成長核は、1個の画素に対応して1個の割合で配置されているが、第13階調以上では1個の画素に対応して2個の割合で配置されている。この実施例4も、成長核を2個配置することにより、画素のスクリーン角度に沿った細線のかすれやとぎれの発生を簡単な方法で防止することができる。
【0033】
(実施例5)
図18は前記1画素Sを形成する微画素Siの数を、2×10=20とし、各微画素Si(i=1〜20)で2値表示を行う実施例5における着色微画素の説明図である。
この実施例5は画素のスクリーン角度は27°である。この実施例5は、図18から分かるように、第0〜第10階調までは着色微画素の固まりである成長核は、1個の画素に対応して1個の割合で配置されているが、第11階調以上では1個の画素に対応して2個の割合で配置されている。この実施例5も、成長核を2個配置することにより、画素のスクリーン角度に沿った細線のかすれやとぎれの発生を簡単な方法で防止することができる。
【0034】
(実施例6)
図19は前記1画素Sを形成する微画素Siの数を、2×10=20とし、各微画素Si(i=1〜20)で2値表示を行う実施例6における着色微画素の説明図である。
この実施例6も画素のスクリーン角度は27°である。この実施例6は、図17から分かるように、第0〜第6階調までは着色微画素の固まりである成長核は、1個の画素に対応して1個の割合で配置されているが、第7階調以上では1個の画素に対応して2個の割合で配置されている。この実施例6も、成長核を2個配置することにより、画素のスクリーン角度に沿った細線のかすれやとぎれの発生を簡単な方法で防止することができる。
【0035】
(実施例7)
図20は、前記1画素Sを形成する微画素の数を、4×8=32とし、各微画素(i=1〜32)を1/4分割した微微画素Si(i=1〜128)により前記各微画素を4値表示する実施例7における画素と微微画素を示す図である。
図21〜図26はそれぞれ、第32,40,56,64,80,96階調の着色微画素S1〜S32,S1〜S40,S1〜S56,S1〜S64,S1〜S80,S1〜S96を示す図である。
前記各画素Sの隣接するものの中心を結ぶ直線が水平なライン方向となす角度であるスクリーン角度θはθ=45°であり、各画素S中の着色微微画素Siの増加する方向はスクリーン角度θの方向に設定されている。
【0036】
図21において、第32階調を表示する着色微画素は32個の微微画素Si(i=1〜32)である。なお、図示していないが、第0階調では総ての微微画素Si(i=1〜128)が無着色であり、第1階調では1個の微画素微Si(i=1)に対応する部分が着色微微画素としてレーザ照射(イメージ露光)されて静電潜像が形成される。図21の第32階調を表示するまでは着色微画素の固まりは、隣接する画素を考慮すれば1つであり、着色微画素の成長する方向(成長核の成長方向)はスクリーン角θ=45°と同じである。すなわち、第32階調を表示するまでは第1成長核のみが成長する。
【0037】
図22において、第33〜40階調を表示する場合、第1の成長核を形成する微微画素33,35,37,39と、第2の成長核を形成する微微画素34,36,38,40とが交互にレーザ照射されて静電潜像が形成される。このとき、微微画素33,35,37,39は第1の成長核の着色微微画素に接続しているため着色されるが、第2の成長核の微微画素34,36,38,40は他の着色微微画素と離れて単独に静電潜像が形成されているため着色されない場合がある。すなわち、この場合の第2の成長核は静電潜像が成長するだけで、着色されない場合がある。例えば、画像形成装置の現像装置17の特性が微微画素4個が連続して形成された場合に着色する場合には、4個の微微画素の静電潜像が連続して形成された場合に、4個の微微画素が同時に着色する。以下、本実施例7の現像装置17はこのような特性を有するものとする。
【0038】
図23において、第40〜56階調を表示する場合、第1の成長核を形成する微微画素41,43,…,55と、第2の成長核を形成する微微画素42,44,…,56とが交互にレーザ照射されて静電潜像が形成される。このとき、微微画素41,43,…,55は第1の成長核の着色微微画素に接続しているため着色されるが、第2の成長核の微微画素42,44,…,56はそれぞれ4個の微微画素が連続した状態ではないので、着色されない。
図24において、第57〜64階調を表示する場合、第1の成長核を形成する微微画素57,59,…,63と、第2の成長核を形成する微微画素58,60,…,64とが交互にレーザ照射されて静電潜像が形成される。このとき、微微画素57,59,…,63は第1の成長核の着色微微画素に接続しているため着色される。また、第2の成長核の微微画素58,60,…,64はそれぞれ4個の微微画素が連続した状態となるので、4個接続した微微画素が一度に着色される。
【0039】
図25において、第65〜80階調を表示する場合、第1の成長核を形成する微微画素65,67,…,79と、第2の成長核を形成する微微画素66,68,…,80とが交互にレーザ照射されて静電潜像が形成される。このとき、各微微画素はそれぞれ第1の成長核または第2の成長核の着色微微画素に接続しているため着色される。
図26において、第81〜96階調を表示する場合、各微微画素81〜96はそれぞれ第1の成長核または第2の成長核の着色微微画素に接続しているため着色される。第97階調〜第128階調においても同様である。
【0040】
この実施例7は、画像処理部12、レーザスキャナ13および現像装置17などにより構成される画像出力装置の画像再現精度が低い場合に、第2成長核の着色面積が増加しなくても、第1成長核の着色面積が増加するので、濃度ジャンプの発生を軽減する効果がある。
【0041】
(変更例)
以上、本発明の実施例を詳述したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内で、種々の変更を行うことが可能である。以下に変更例を説明する。
(H01)本発明はモノクロの複写機以外に、プリンタ、FAXやフルカラーの画像形成装置等に適用することができる。
(H02)中間階調表示を行う場合、閾値テーブルを使用する代わりに各階調における着色微画素を記憶したフォントメモリを使用することが可能である。
(H03)画素の形状および1画素中の微画素の個数等は他の種々の形状および個数を採用することが可能である。
(H04)本発明は前記微画素を多値表示(例えば、1個の微画素を4分割して、その微画素の面積の(1/4)、(2/4)、(3/4)、(4/4)を着色する4値表示)を行うことも可能である。
【0042】
【発明の効果】
前述の本発明の階調表示方法は、下記の効果(E01)を奏することができる。
(E01)1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第1の成長核および別の1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第2の成長核により形成されるので、細線のかすれやとぎれの発生が少なくなり、画質が向上する。特に、画素のスクリーン角度に沿った細線のかすれやとぎれの発生を簡単な方法で防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は、前記1画素Sを形成する微画素Siの数を、4×8=32とし、各微画素Si(i=1〜32)で2値表示を行う実施例1における着色微画素を示す図で、図1Aは第4階調の着色微画素S1〜S4を示す図、図1Bは第8階調の表示を行う場合の着色微画素S1〜S8を示す図である。
【図2】 図2は各微画素Si(i=1〜32)で2値表示を行う実施例1における着色微画素を示す図で、図2Aは第12階調の着色微画素S1〜S12を示す図、図2Bは第16階調の表示を行う場合の着色微画素S1〜S16を示す図である。
【図3】 図3は各微画素Si(i=1〜32)で2値表示を行う実施例1における着色微画素を示す図で、図3Aは第20階調の着色微画素S1〜S20を示す図、図3Bは第24階調の表示を行う場合の着色微画素S1〜S24を示す図である。
【図4】 図4は各微画素Si(i=1〜32)で2値表示を行う実施例1における着色微画素を示す図で、図4Aは第28階調の着色微画素S1〜S28を示す図、図4Bは第32階調の表示を行う場合の着色微画素S1〜S32を示す図である。
【図5】 図5は本発明を適用したデジタル複写機Fの全体説明図である。
【図6】 図6は本発明の実施例1における前記画像処理部の構成の説明図である。
【図7】 図7はLUT(ルックアップテーブル)の入力データおよび出力データの関係を示す図である。
【図8】 図8は前記図6に示された作動信号のタイミングチャートである。
【図9】 図9は前記図6に示された作動信号のタイミングチャートである。
【図10】 図10は前記Xアドレス信号「0000」〜「0100」およびYアドレス信号「0000」〜「0111」が入力される閾値テーブル125(図6参照)の説明図で、1画素Sを構成する8×4のマトリックス状に配置された微画素S1〜S32と、前記X,Yアドレス信号との関係を示す図である。
【図11】 図11は前記Xアドレス信号「0000」〜「0100」およびYアドレス信号「0000」〜「0111」が入力される閾値テーブル125(図6参照)の説明図で、前記各微画素S1〜S32に設定された閾値データを表した図である。
【図12】 図12は、前記1画素Sを形成する微画素Siの数を、4×8=32とし、各微画素Si(i=1〜32)で2値表示を行う実施例2における着色微画素を示す図で、図12Aは第4階調の着色微画素S1〜S4を示す図、図1Bは第8階調の表示を行う場合の着色微画素S1〜S8を示す図である。
【図13】 図13は各微画素Si(i=1〜32)で2値表示を行う実施例2における着色微画素を示す図で、図13Aは第12階調の着色微画素S1〜S12を示す図、図13Bは第16階調の表示を行う場合の着色微画素S1〜S16を示す図である。
【図14】 図14は各微画素Si(i=1〜32)で2値表示を行う実施例2における着色微画素を示す図で、図14Aは第20階調の着色微画素S1〜S20を示す図、図14Bは第24階調の表示を行う場合の着色微画素S1〜S24を示す図である。
【図15】 図15は各微画素Si(i=1〜32)で2値表示を行う実施例2における着色微画素を示す図で、図15Aは第28階調の着色微画素S1〜S28を示す図、図15Bは第32階調の表示を行う場合の着色微画素S1〜S32を示す図である。
【図16】 図16は前記1画素Sを形成する微画素Siの数を、6×6=36とし、各微画素Si(i=1〜36)で2値表示を行う実施例3における着色微画素の説明図である。
【図17】 図17は前記1画素Sを形成する微画素Siの数を、6×6=36とし、各微画素Si(i=1〜36)で2値表示を行う実施例4における着色微画素の説明図である。
【図18】 図18は前記1画素Sを形成する微画素Siの数を、2×10=20とし、各微画素Si(i=1〜20)で2値表示を行う実施例5における着色微画素の説明図である。
【図19】 図19は前記1画素Sを形成する微画素Siの数を、2×10=20とし、各微画素Si(i=1〜20)で2値表示を行う実施例6における着色微画素の説明図である。
【図20】 図20は、前記1画素Sを形成する微画素の数を、4×8=32とし、各微画素(i=1〜32)を1/4分割した微微画素Si(i=1〜128)により前記各微画素を4値表示する実施例7における画素と微微画素を示す図である。
【図21】 図21は第32階調の着色微画素S1〜S32を示す図である。
【図22】 図22は第40階調の着色微画素S1〜S40を示す図である。
【図23】 図23は第56階調の着色微画素S1〜S56を示す図である。
【図24】 図24は第64階調の着色微画素S1〜S64を示す図である。
【図25】 図25は第80階調の着色微画素S1〜S80を示す図である。
【図26】 図26は第96階調の着色微画素S1〜S96を示す図である。
【図27】 図27 は、前記1画素Sを形成する微画素Siの数を、4×8=32とし、各微画素Si(i=1〜32)で2値表示を行う場合における従来技術の着色微画素の説明図で、図27Aは第4階調の着色微画素S1〜S4を示す図、図27Bは第8階調の着色微画素S1〜S8を示す図である。
【図28】 図28は各微画素Si(i=1〜32)で2値表示を行う従来技術における着色微画素を示す図で、図28Aは第12階調の着色微画素S1〜S12を示す図、図28Bは第16階調の表示を行う場合の着色微画素S1〜S16を示す図である。
【図29】 図29は各微画素Si(i=1〜32)で2値表示を行う従来技術における着色微画素を示す図で、図29Aは第20階調の着色微画素S1〜S20を示す図、図29Bは第24階調の表示を行う場合の着色微画素S1〜S24を示す図である。
【図30】 図30は各微画素Si(i=1〜32)で2値表示を行う従来技術における着色微画素を示す図で、図30Aは第28階調の着色微画素S1〜S28を示す図、図30Bは第32階調の表示を行う場合の着色微画素S1〜S32を示す図である。
【符号の説明】
Si…微画素、θ…スクリーン角度。
Claims (10)
- 画像を微小面積の画素に分割し、その画素をさらに微小な面積の微画素に分割し、前記画素内の全微画素に対する着色微画素の着色面積の割合によって階調を表示するとともに、前記着色微画素は、並べて配置された画素に渡ってできる1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第1の成長核および別の1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第2の成長核により形成され、且つ、前記着色微画素は、低階調レベルでは1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第1の成長核のみにより形成されるとともに、中間階調から高階調レベルでは別の1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第2の成長核および前記第1の成長核により形成されることを特徴とする階調表示方法。
- 帯電した感光体表面に形成する画像を微小面積の画素に分割し、その画素をさらに微小な面積の微画素に分割し、表示する階調に応じて前記感光体表面に設定された微画素を光ビームで照射して静電潜像を形成し、前記静電潜像をトナー像に現像することにより前記微画素を着色し、前記画素内における着色微画素の着色面積の全微画素の面積に対する割合によって階調を表示するとともに、前記着色微画素は、並べて配置された画素に渡ってできる1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第1の成長核および別の1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第2の成長核により形成され、且つ、前記着色微画素は、低階調レベルでは1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第1の成長核のみにより形成されるとともに、中間階調から高階調レベルでは別の1固まりの着色微画素数を増加させて形成する第2の成長核および前記第1の成長核により形成されることを特徴とする階調表示方法。
- nを正の整数とした場合に、1個の微画素の面積を1/nに分割して、分割した単位面積毎に着色することにより前記1個の微画素を多値表示することを特徴とする請求項1または2に記載の階調表示方法。
- 前記第1の成長核と第2の成長核とは常に大きさが異なることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか記載の階調表示方法。
- 第2の成長核の大きさは常に第1の成長核の大きさよりも小さいことを特徴とする請求項4記載の階調表示方法。
- 前記第2成長核の位置は前記第1成長核間の略中央に設けたことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか記載の階調表示方法。
- 中間階調から高階調レベルでは第1の成長核および第2の成長核の両方を成長させることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか記載の階調表示方法。
- 中間階調から高階調レベルでは第1の成長核および第2の成長核を交互に成長させることを特徴とする請求項7記載の階調表示方法。
- 低階調レベルでは第1の成長核のみを成長させ、中間階調以上では第2の成長核を設けて第2の成長核のみを成長させることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか記載の階調表示方法。
- 請求項1ないし9のいずれかに記載の階調表示方法を使用するカラー画像の階調表示方法。
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