JP4015798B2 - 半導体積層工程の合わせずれ測定方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体積層工程における、上層と下層の露光合わせずれを測定する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
通常、半導体ウエーハ上に成膜、露光、エッチングを繰り返し、半導体素子を形成するが、その際、断線、リーク等不具合を発生することのない様に正確に位置決めを行なう必要がある。そこで、各積層工程において、ウエーハの半導体素子の形成されない領域に、一露光分につき最低1から2個のマークを形成し、露光時にそのマークを合わせることにより、位置決めをおこなっている。このとき、最初に流すウエーハにおいて測定したマークのパターンを基本パターンとして登録しておき、被測定マークにおける測定パターンのピーク位置でマークを認識し、基本パターンに合わせずれを測定するという方法が用いられている。
【0003】
しかしながら、例えばプロセスが微変動することにより、マークの形状が非対称になると、それに伴い測定パターン形状も非対称となるが、そのため位置決めが正しく行なわれているにもかかわらず、ピーク位置がずれるために、合わせずれを検出してしまう、というように、合わせずれの測定に誤差を生じてしまうといった問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
この様に、従来の半導体積層工程の合わせずれ測定方法においては、合わせずれの測定誤差を生じてしまうという問題があった。
【0005】
従って本発明は、このような従来の半導体積層工程の合わせずれ測定方法の欠点を取り除き、プロセスの変動等による測定パターンの変化に因らず、正確に合わせずれを測定することが可能になる半導体積層工程の合わせずれ測定方法を提供することを目的とするものである。
【0006】
【発明を解決するための手段】
本発明の半導体積層工程の合わせずれ測定方法は、半導体積層工程において、半導体ウエーハ上に形成された複数の加工パターン層の一部に形成された下層合わせマークと、それぞれ前記加工パターン層の上層に形成されたレジストパターン層の前記下層合わせマークに対応する部分に形成された上層合わせマークの画像信号の強度変化より、前記下層合わせマークおよび上層合わせマークの測定パターンを形成し、前記測定パターンを基本パターンと比較することにより、それぞれの加工パターン層における合わせずれ値を測定するとともに、それぞれの前記測定パターンと前記基本パターンとの相関値を、形状変化値として検出することを特徴とするものである。
【0007】
また、本発明の半導体積層工程の合わせずれ測定方法においては、前記形状変化が所定の範囲を超えたとき、警告することを特徴とするものである。
また、本発明の半導体積層工程の合わせずれ測定方法においては、前記測定パターンの形状変化に従い、前記基本パターンを補正することを特徴とするものである。
【0008】
さらに、本発明の半導体積層工程の合わせずれ測定方法においては、前記測定パターンの非対称値を算出し、この非対称値により、前記合わせずれ値を補正することを特徴とするものである。
【0009】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態について、図1乃至図6を参照して説明する。
(実施形態1)
図1に本発明が適用される合わせずれ測定方法を示す。図1(1)に合わせずれマーク画像を示すように、下層のエッチングマーク1(エッチングにより形成されたマーク上に上層膜が形成されている状態)と、上層のレジストマーク2(レジストにパターンを記録させた状態)において、所定の測定エリア3に照明光を当てて、その拡大像をカメラに写し、その画像信号をディジタル化する。そしてこのエリア内でのピクセル強度をY方向に積算することにより上層、下層の測定パターン4を形成し、図1(2)に示すように、これと予め同様に形成、記憶させておいた上層、下層における各基本パターン5、5'とをマッチングさせる。まず上層A−A'でパターンマッチングを行ない、そのセンターを(a)とする。次いで同様に、下層B−B'でパターンマッチングを行ない、そのセンター(b)とのずれΔxを合わせずれ値とする。
【0010】
このようにして合わせずれ値を測定するが、このとき、図2に示すように、基本パターン6に対して、測定パターン7、8の合わせずれはないにもかかわらず、測定パターン8については、そのパターン形状が変化しているため、誤った合わせずれ値9を検出してしまう。そこで相関値を基本パターン6に対する測定パターンの差異である形状変化値として算出し、記憶、モニタする。そして、相関値の高い測定パターン7については、問題ないとする一方、相関値が低く規格値を外れた測定パターン8については警告を出す。
【0011】
このようにして形状変化値が規格値を外れると警告することにより、測定の前工程での大きなプロセスエラーを検知することができるだけでなく、徐々にプロセスが変化したときにおいても、記憶された形状変化値により形状変化のトレンドを把握することができる。この形状変化値としては、相関値の他、非対称度、面積値等を用いることができる。
(実施形態2)
実施形態1と同様に合わせずれ値を測定する。このとき、測定パターンを記憶し、統計的に処理する。そして、図3に示すように測定パターンの平均(平均的なパターン)を、例えばそのピーク幅、ピーク値やピーク位置等より統計的に求め、これを新しい基本パターン10とする補正を行なう。
【0012】
即ち、測定パターンというのはx軸を画像の横軸(または縦軸)にとってy軸を明るさにとったグラフになり、これをn枚のウエーハで取ると、同じx軸のxの値に対してウエーハ毎の明るさのポイントyi(x)がnあり、その平均値を求める。
【0013】
平均値yy(x)=(y1(x)+y2(x)+...+yn(x))/n, (nはウエーハ枚数)
通常の測定は、基本波形として登録したy0(X)とそれぞれのyi(x)との相関を取るが、だんだんyi(x)がy0(x)と似なくなると騙されがおきるため、y0(x)をyy(x)に置き換える。
【0014】
このように基本パターンの補正を行なうことにより、測定パターンにある程度ばらつきが生じていても、合わせずれの測定誤差や、アライメント時のエラーを最小とすることができる。
【0015】
この方法は、プロセス変更等でマークの形状が変化したとき等に有効である。また、多くの記憶した測定パターンより基本パターンを作成することができるので、よりプロセス変化に柔軟に対応できる測定が可能となる。
【0016】
(実施形態3)
実施形態1と同様に合わせずれ値を測定する。
【0017】
このとき、図4に示すように測定パターンから非対称値を算出する。非対称値は、測定パターンのピークから左右の閾値までの面積比S1/S2若しくはピーク幅比Δx1/Δx2により求められる。そして、その非対称値に基づき、実験またはシミュレーションで得られた較正曲線より補正値を算出し、測定パターンに補正をかける。尚、算出された非対称値により警告を発することも有効である。
【0018】
図5に非対称値による補正の1例を示す。図に示すように、マークが同じ位置に形成されていても、マークのパターン自体の非対称性により、測定パターンが11や12のように非対称に歪んでしまう場合がある。そこで、基本パターンとのマッチング位置に夫々ΔX1、ΔX2等の補正値を掛けることにより、測定された合わせずれ値を補正することができる。
【0019】
(実施形態4)
この実施形態においては、位置合わせマークのエッジ部あるいはマークの近傍に荒れがある場合の測定方法について説明する。すなわち、たとえば、図6(1)に示されるように、レジストマーク2´のエッジ部が図1に示すような直線でなく、波型に変化しているような場合、図6(2)のパターン4’のように測定パターンが乱れることがある。このような場合においては、エリア内のピクセル強度を積算するときに、あわせて標準偏差を計算することにより、図6(2)に示されるようなパターン4”が得られる。このパターン4”のピーク面積やピーク幅をモニターして、これらの値があらかじめ設定された値を超える場合に警告を出すことにより、上述したような、マークのエッジ荒れや近傍の荒れによって測定が騙されることを防止することができる。
【0020】
尚、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、また、液晶・プラズマディスプレー等、露光プロセスを多層で持つものにも応用することができる。
【0021】
【発明の効果】
本発明によれば、測定パターンの変化に因らず正確に合わせずれ値を測定することが可能になる半導体積層工程の合わせずれ測定方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明が適用される合わせずれ測定法を示す図。
【図2】本発明の合わせずれ測定法において基本パターンと測定パターンとの相関値により警告する方法を示す図。
【図3】本発明の合わせずれ測定法において測定パターンの統計的処理により基本パターンを補正する方法を示す図。
【図4】本発明の合わせずれ測定法において測定パターンから非対称値を算出する方法を示す図。
【図5】本発明の合わせずれ測定法における非対称値による補正の1例を示す図。
【図6】本発明が適用される合わせずれ測定法の他の実施形態を示す図。
【符号の説明】
1 下層エッチングマーク
2 上層レジストマーク
3 測定エリア
4 上層、下層測定パターン
5 上層基本パターン
5' 下層基本パターン
6 基本パターン
7 相関値の高い測定パターン
8 相関値の低い測定パターン
9 誤った合わせずれ値(だまされ量)
10 新しい基本パターン
11、12 非対称に歪んだ測定パターン
Claims (4)
- 半導体積層工程において、半導体ウエーハ上に形成された複数の加工パターン層の一部に形成された下層合わせマークと、それぞれ前記加工パターン層の上層に形成されたレジストパターン層の前記下層合わせマークに対応する部分に形成された上層合わせマークの画像信号の強度変化より、前記下層合わせマークおよび上層合わせマークの測定パターンを形成し、
前記測定パターンを基本パターンと比較することにより、それぞれの加工パターン層における合わせずれ値を測定するとともに、
それぞれの前記測定パターンと前記基本パターンとの相関値を、形状変化値として検出することを特徴とする半導体積層工程の合わせずれ測定方法。 - 前記形状変化が所定の範囲を超えたとき、警告することを特徴とする請求項1に記載の半導体積層工程の合わせずれ測定方法。
- 前記測定パターンの形状変化に従い、前記基本パターンを補正することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体積層工程の合わせずれ測定方法。
- 前記測定パターンの非対称値を算出し、この非対称値により、前記合わせずれ値を補正することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の半導体積層工程の合わせずれ測定方法。
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