JP4011645B2 - 液晶表示装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶表示装置に係り、特にアレイ基板上に形成された着色層に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶表示装置は薄膜トランジスタ等のスイッチング素子や画素電極等を含むアレイ基板と、共通電極等を含む対向基板とに液晶が挟持されてなっている。
従来、着色層は対向基板に形成されていたが、基板の貼り合わせ精度のためのマージンによる開口率の低下を防ぐため、アレイ基板上に着色層を形成する技術が開発されている。
【0003】
また、さらに高い開口率を得るために走査線及び信号線等の配線と画素電極との層間に絶縁性の着色層を形成し、配線と画素電極とを立体的に分離し、配線に画素電極を重ねることで配線が遮光膜を兼ねる構造が開発されている。
【0004】
図7に着色層の形成されたアレイ基板の平面図を示す。図8は図7ののA−A’線による断面図である。図8(A)は隣り合う画素領域の着色層が重ならずに形成されている。この場合、信号線上に着色層が形成されない部分ができる。信号線は通常Al等の反射率の高い金属が用いられることが多く、信号線を遮光膜として利用する場合にはコントラストの低下を招く原因になっていた。
【0005】
また、図8(B)は隣り合う画素領域の着色層が重なって形成されている。この場合、信号線上は全て着色層が覆っているので信号線の反射によるコントラストの低下は問題にならない。しかしながら、重ね合わせ部で段差が生じ、配向処理を施す際に段差の後ろ側が影になり、配向処理が行われず表示不良の原因となっていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記問題点に鑑みなされたもので、着色層の重なりにより発生する配向処理の不良が表示に影響しない液晶表示装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は、第1の基板と、前記第1の基板上に形成された遮光部と、所定の画素領域に対応して形成された着色層と、前記基板上に形成された第1の電極と、前記第1の基板上に形成された第1の配向膜と、を有する第1の電極基板と、
第2の基板と、前記第2の基板上に形成された第2の電極と、前記第2の基板上に形成された第2の配向膜と、を有する第2の電極基板と、
前記第1の電極基板と前記第2の電極基板とに挟持された液晶と、を有する液晶表示装置において、
隣り合う画素領域で色の異なる着色層どうしは前記遮光部上に対応する領域で幅を持って重なり合い、重なり幅の中心が遮光部幅の中心より配向開始方向に近い画素領域側にずれていることを特徴とする液晶表示装置である。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。
(実施例1)
図1は本実施例の液晶表示装置を示す平面図である。図2(A)は図1におけるA−A’での断面図、図2(B)は図1におけるB−B’での断面図である。
【0009】
液晶表示装置の構成は、アレイ基板101と対向基板102とに液晶130が挟持されてなる。アレイ基板101の構成は、基板10上に走査線20が形成され、さらに走査線20と平行に補助容量線22が形成されている。この上に基板全面にゲート絶縁膜50を介して、走査線20と直交するように信号線23が形成されている。そして、走査線20と信号線23との交点部に薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)が形成されている。この薄膜トランジスタの構成は、走査線20から分岐されたゲート電極21、ゲート電極21上のゲート絶縁膜50、さらに半導体層30、エッチングストッパ層51が積層され、オーミックコンタクト層31、及びドレイン電極24、ソース電極25が積層されている。
【0010】
そして、このTFT上を覆うように着色層40が形成されている。この着色層40はR(赤)、G(緑)、B(青)の3色が信号線23に平行にストライプ状に形成されており、信号線23上で隣り合う画素領域の着色層40と重なっている。
【0011】
そして、この着色層40上に画素電極27が形成されており、着色層40の開口部を通して画素電極27とソース電極25が接続されている。
また、信号線23と同層で補助容量線22上にゲート絶縁膜50を介して補助電極26が形成されており、この補助電極26と画素電極27とも開口部を通して接続されている。
【0012】
そして全面に配向膜111が形成され、アレイ基板101となる。
また、対向基板102は基板11の一主面上に対向電極12と配向膜112が全面に形成されてなる。
【0013】
次に製造工程を追って順に説明する。
まず、アレイ基板101から説明する。ガラスからなる基板10の一主面上に例えばタンタルをスパッタ法により300nm成膜した後、所定形状にパターニングして走査線20、走査線の一部であるゲート電極21、及び補助容量線22を形成する。
【0014】
次にゲート絶縁膜50となる酸化シリコンを350nm、半導体層30となるa−Si層を50nm、エッチングストッパ層51となる窒化シリコンを150nmをそれぞれプラズマCVD法で基板全体に被覆する。その後、窒化シリコンのみをまずパターニングし、エッチングストッパ層51を形成する。そして、オーミックコンタクト層31となるn+型a−Si層を50nm被膜し、a−Si層と共にパターニングして半導体層30、及びオーミックコンタクト層31を形成する。そして、例えばアルミニウムをスパッタ法で500nm被膜し、パターニングして信号線23、ドレイン電極24、ソース電極25、補助電極26をそれぞれ形成する。本実施例では信号線23の幅は10μm程度である。
【0015】
次にアクリル樹脂からなる1.5μmの着色層40を全面に塗布しフォトエッチングにより所定の形状に、本実施例においてはR、G、Bの順番で順次形成する。
【0016】
このとき、着色層40を信号線23上で重ね合わせて形成することにより信号線23の反射を防ぐことができ、コントラストの低下を防ぐ効果がある。ただし、着色層40を重ね合わせることで段差が生じ、後に配向処理を施したときにこの段差による影の領域ができてしまい配向不良を起こすことがある。従ってこの影の領域を信号線23の線幅内に納めることで表示に悪影響を与えないようにする。本実施例では図2(A)に示すように、重なり合う部分が配線幅の中心よりも左側にずれて形成されている。この場合、左側にずれているというのは、図1に示した配向方向が左上側から行われているためである。ただし、本実施例は重なり部分が配線幅の中心から完全に配向開始方向に近い側(左側)に入っているが、重なり部分が配線幅の中心から出ていても、重なり幅の中心と配線幅の中心と位置を比較して、重なり幅の中心が配向開始方向に近い側にずれていればよい。
【0017】
次に、各々の着色層40には画素電極27とソース電極25、及び画素電極27と補助電極26を接続するための開口部60を形成する。
そして、たとえばITO(Indium Tin Oxide)をスパッタ法により100nm被膜し、パターニングして画素電極27を形成する。本実施例では、画素電極27は信号線23及び走査線20と重ね合わせることにより開口部を配線で規定しており、配線が遮光膜を兼ねる構造となっている。
【0018】
着色層40は画素電極と信号線23、走査線20との重なり部分に形成される寄生容量が表示に影響を与えないように、誘電率と厚さとの関係を決めるようにする。
【0019】
最後に、全面に低温キュア型のポリイミドからなる配向膜111を形成する。そして、この配向膜111の表面を所定方向に布等で擦ることにより配向処理がなされる。
【0020】
このようにして所望のアレイ基板101を得ることができる。
次に対向基板102について説明する。ガラスからなる基板11の一主面上に例えばITOからなる対向電極12を形成し、さらにアレイ基板101と同様の配向膜112を形成する。そして、この配向膜112をアレイ基板101の配向膜111になされた配向方向と90度ずれるような配向方向で配向処理を施す。こうして対向基板102が得られる。
【0021】
そして、アレイ基板101と対向基板102とをそれぞれの配向膜が形成された面を対向させるように配置し、注入口を除いてシール材により貼り合わせる。
さらにこの間隙に注入口から液晶130を注入し、注入口を封止する。
【0022】
そして、アレイ基板101、対向基板102のそれぞれ外側の面に偏光板121、122を被着する。このときアレイ基板101の偏光板121と対向基板102の偏光板122との偏光軸が90度ずれるように配置する。
【0023】
そして、アレイ基板101側にバックライトを配設して、液晶表示装置を得る。
(実施例2)
図3は本実施例の液晶表示装置の一画素分の平面図であり、図4は図3におけるA−A’での断面図である。
【0024】
本実施例の構造は実施例1のように画素電極27が走査線20及び信号線23に重ならないパターンである。画素電極27と信号線23との間隔は、補助容量線22と一体となったシールド電極22aにより遮光する。
【0025】
また、画素電極27と走査線20との間隔は、対向基板102上またはアレイ基板101上に設けられたストライプ状の遮光膜41により遮光する。
そして本実施例の場合、シールド電極22a上で隣り合う着色層40が重なり合っている。そして、重なり部分はシールド電極の幅の中心よりも配向開始方向に近い画素領域側に形成されている。その他の構成は実施例1と変わらない。
【0026】
本実施例によれば、走査線20、信号線23と画素電極27とが重なっておらず寄生容量の心配がないので、着色層40の誘電率や厚さを考慮することなく、適宜、所望の特性に合う材料や厚さで形成することができる。
(実施例3)
本実施例は隣り合う画素領域の着色層40どうしの重なり部分に、さらに残りの一色の着色層40を島状に設けて柱状スペーサを形成する構造である。
【0027】
例えば、R、G、Bの順で着色層を形成する場合、Rの画素領域とGの画素領域とが隣接している部分では、RとGとを重ねた後にBを形成する工程でこの部分にもBを島状に形成する。また、Gの画素領域とBの画素領域とが隣接している部分では、最初にRを形成する工程でこの部分にRを島状に形成し、その後、G、Bの順でこの部分に重ね合わせていく。また、Rの画素領域とBの画素領域とが隣接している部分では、Rを形成した後、Gを形成する工程でこの部分にGを島状に形成し、最後にBを重ね合わせる。
【0028】
本実施例の場合にも、実施例1、2と同様に3層の重なり幅の中心が、配線幅の中心よりも配向開始方向に近い画素領域側にずれて形成されている。
また、上記実施例はいずれも逆スタガ型であるが、本発明はこのほかにも、スタガ型、コプラナ型等、様々な変形例が考えられる。
【0029】
【発明の効果】
本発明によれば、隣接する画素領域の着色層が配線上で重なり合っており、その重なり部分が配線幅の中心より配向開始方向にずれて形成されているので重なりの段差による配向不良の領域が表示領域にまで及ばないようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1における液晶表示装置の一画素分を示す平面図である。
【図2】(A)は図1におけるA−A’での断面図であり、(B)は図1におけるB−B’での断面図である。
【図3】本発明の実施例2における液晶表示装置の一画素分を示す平面図である。
【図4】図3におけるA−A’での断面図である。
【図5】本発明の実施例3における液晶表示装置の一画素分を示す平面図である。
【図6】図5におけるA−A’での断面図である。
【図7】従来の液晶表示装置の一画素分を示す平面図である。
【図8】(A)、(B)はともに図7におけるA−A’での断面の例である。
【符号の説明】
10、11基板
20走査線
22補助容量線
22aシールド電極
23信号線
27画素電極
40着色層
101アレイ基板
102対向基板
130液晶
Claims (4)
- 互いに平行な複数の走査線と前記複数の走査線から絶縁膜を介して絶縁され前記複数の走査線と直交して互いに平行な複数の信号線とからなり隣接画素領域の境界に沿って伸びるように形成される遮光性配線、前記隣接画素領域にそれぞれ対応して形成され前記遮光性配線上で相互に重なることで前記隣接画素領域の境界に段差を生成する異なる色の着色層、前記隣接画素領域の各々において対応色の着色層上に形成される画素電極、前記画素電極に接続して前記走査線と前記信号線との交点部近傍に形成される薄膜トランジスタ、および前記隣接画素領域の各々内の画素電極を覆って形成される第1配向膜を含むアレイ基板と、
前記画素電極に対向して形成された対向電極、および前記対向電極を覆って形成される第2配向膜を含む対向基板と、
前記アレイ基板と前記対向基板とに挟持され前記第1および第2配向膜によって配向される液晶とを備え、
前記異なる色の着色層の重なり幅の中心は、前記隣接画素領域の境界に沿った前記段差と、前記段差の連続する方向に一致しない前記第1配向膜に対する配向処理の方向とに起因した前記第1配向膜の欠陥で生じる表示不良領域が前記遮光性配線に隠れるように配線幅の中心より配向開始方向に近い画素領域側にずれていることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記遮光性配線は金属からなることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記異なる色の着色層の重なり部分の一領域が前記アレイ基板と前記対向基板との間隔を保つスペーサを兼ねることを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の液晶表示装置。
- 前記異なる色の着色層の重なり部分は3層の積層領域を持つことを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12553496A JP4011645B2 (ja) | 1996-05-21 | 1996-05-21 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12553496A JP4011645B2 (ja) | 1996-05-21 | 1996-05-21 | 液晶表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09311327A JPH09311327A (ja) | 1997-12-02 |
JP4011645B2 true JP4011645B2 (ja) | 2007-11-21 |
Family
ID=14912578
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12553496A Expired - Fee Related JP4011645B2 (ja) | 1996-05-21 | 1996-05-21 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4011645B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100731025B1 (ko) * | 2000-10-25 | 2007-06-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정 디스플레이 패널 및 그 제조 방법 |
KR100806801B1 (ko) * | 2000-12-29 | 2008-02-27 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치용 어레이기판 및 그 제조방법 |
KR100884541B1 (ko) * | 2002-12-10 | 2009-02-18 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
KR100956342B1 (ko) * | 2003-06-09 | 2010-05-06 | 삼성전자주식회사 | 박막 트랜지스터 기판 |
JP2005249863A (ja) * | 2004-03-01 | 2005-09-15 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 液晶表示パネル |
JP2009134212A (ja) * | 2007-12-03 | 2009-06-18 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶表示装置 |
JP5595678B2 (ja) * | 2009-06-18 | 2014-09-24 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
-
1996
- 1996-05-21 JP JP12553496A patent/JP4011645B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09311327A (ja) | 1997-12-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040618 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040622 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040819 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041119 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050119 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20041222 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20050128 |
|
A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20050311 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070801 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070906 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100914 Year of fee payment: 3 |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100914 Year of fee payment: 3 |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120914 Year of fee payment: 5 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120914 Year of fee payment: 5 |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120914 Year of fee payment: 5 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120914 Year of fee payment: 5 |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130914 Year of fee payment: 6 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |