JP4003705B2

JP4003705B2 - Method for manufacturing soldering terminal

Info

Publication number: JP4003705B2
Application number: JP2003185748A
Authority: JP
Inventors: 泰典三木; 博岩野; 俊一中山; 浩柳田
Original assignee: Matsushita Electric Works Ltd
Current assignee: Panasonic Electric Works Co Ltd
Priority date: 2003-06-27
Filing date: 2003-06-27
Publication date: 2007-11-07
Anticipated expiration: 2023-06-27
Also published as: JP2005019334A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半田付けに備えて表面処理がなされた半田付け用端子（例えば、コネクタ端子）を製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図７はコネクタ（ソケット）Ａの一例を示すものであり、コネクタ基台１０に多数本のコネクタ端子１′を平行に２列取り付けることによって形成されている。コネクタ端子１′は一端部に端子部２′を、他端部に接点部３′を設けるように折り曲げ加工して形成されており、端子部２′がコネクタ基台１０の下面に配置されるように取り付けてある。またコネクタ端子１′の表面には一般に、ニッケルめっきの下地めっきを施した上に、金めっきが施してある。
【０００３】
そしてこのようなコネクタ端子１′を組み込んで形成したコネクタＡは、図８に示すようにプリント配線板１１に実装して使用されるものであり、プリント配線板１１の上にコネクタＡを配置して、コネクタ端子１′の端子部２′をプリント配線板１１に半田付けすることによって、コネクタＡの実装を行うようになっている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
上記のようにプリント配線板１１の上にコネクタＡを配置して、コネクタ端子１′の端子部２′を半田付けするにあたって、コネクタ端子１′の表面の全面には金めっきが施してあるので、金に対する半田の濡れ易さなどから、半田が端子部２′から接点部３′へとコネクタ端子１′の金めっきを施した表面に沿って這い上がり、この結果、端子部２′に十分な量の半田が残らず、プリント配線板１１との半田接合強度が不足するおそれがあるという問題がある。また、半田が端子部２′から金めっきの表面を這い上がって接点部３′に到達した場合、メス側となるコネクタＡに、オス側となるヘッダ（図示省略）を差し込んだとき、コネクタＡがヘッダを十分に保持することができなくなるという問題もある。
【０００５】
そこで、コネクタ端子１′のうち、表面を金めっきで被覆することが必要な端子部２′と接点部３′のみに金めっきを施し、端子部２′と接点部３′の間の部分には金めっきが施されないように、部分金めっきを行うことが検討されている（例えば、特許文献２、３参照。）。このように端子部２′と接点部３′の間に金めっきを施さず、ニッケルの下地めっきを露出させたままにしておくことによって、ニッケルに対する半田の濡れ難さなどから、端子部２′から接点部３′へと半田が這い上がることを遮断して防ぐことができるのである。
【０００６】
【特許文献１】
特開２００２−８７５３号公報（段落番号［００２８］）
【０００７】
【特許文献２】
特開平２−１５６６２号公報（特許請求の範囲、第３頁）
【０００８】
【特許文献３】
特開平６−２０４３７７号公報（特許請求の範囲、第３頁）
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、コネクタ端子１′は図６に示すように長尺の金属帯板１２（銅素材など）にその長手方向の側端縁に沿って多数本突設して形成されているものであり、これをフープ材１３の態様にして、フープ材１３を長手方向に送りながら金めっき浴に浸漬することによって、コネクタ端子１′に金めっきを施すようにしてある。従ってコネクタ端子１′は全体が金めっき浴に浸漬されるので、コネクタ端子１′に部分的に金めっきを施すようにすることは難しく、敢えてコネクタ端子１′に部分的に金めっきを施すようにすればフープ材１３の送り速度を数分の一程度に減速せざるを得なくなり、生産性に問題が生じることになるものであった。
【００１０】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、半田付けする半田付け部（コネクタ端子においては端子部）から半田付けしない非半田付け部（コネクタ端子においては接点部）へと半田が這い上がることを防ぐことができる半田付け用端子の製造方法を提供することを目的とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１に係る半田付け用端子の製造方法は、半田付けする半田付け部２と半田付けしない非半田付け部３とを設けて形成され、下地めっき９であるニッケルめっき７の表面に、半田が這い上がる金−ニッケル合金めっき８を施した半田付け用端子を製造するにあたって、半田付け部２と非半田付け部３との間の部分に電磁波Ｌを照射し、この部分の金−ニッケル合金のニッケルを表面へ拡散させ、金−ニッケル合金めっき８より半田濡れ性が劣る拡散層８ａを形成することを特徴とするものである。
【００１２】
本発明の請求項２に係る半田付け用端子の製造方法は、半田付けする半田付け部２と半田付けしない非半田付け部３とを設けて形成され、下地めっき９であるニッケルめっき７の表面にパラジウム−ニッケル合金めっき６を介して、半田が這い上がる金−ニッケル合金めっき８を施した半田付け用端子を製造するにあたって、半田付け部２と非半田付け部３との間の部分に電磁波Ｌを照射し、この部分の金−ニッケル合金のニッケルを表面へ拡散させ、金−ニッケル合金めっき８より半田濡れ性が劣る拡散層８ａを形成することを特徴とするものである。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を説明する。
【００１４】
本発明の請求項１に係る半田付け用端子の製造方法は、半田付けする半田付け部２と半田付けしない非半田付け部３とを設けて形成され、下地めっき９であるニッケル（Ｎｉ）めっき７の表面に金−ニッケル（Ａｕ−Ｎｉ）合金めっき８を施した半田付け用端子１を製造する方法に関するものであり、一方、本発明の請求項２に係る半田付け用端子の製造方法は、半田付けする半田付け部２と半田付けしない非半田付け部３とを設けて形成され、下地めっき９であるニッケル（Ｎｉ）めっき７の表面にパラジウム−ニッケル（Ｐｄ−Ｎｉ）合金めっき６を介して金−ニッケル（Ａｕ−Ｎｉ）合金めっき８を施した半田付け用端子１を製造する方法に関するものである。
【００１５】
上記半田付け用端子１の中には、コネクタ端子１′のほか、表面実装型半導体装置のパッケージに設けられたリード等が含まれるものである。すなわち、表面実装型半導体装置のパッケージも、コネクタ端子１′と同様にプリント配線板に実装して使用されるものであり（例えば、特開平７−２６３６１０号公報参照。）、プリント配線板の上方に上記パッケージを配置して、このパッケージに設けられたリードの先端部をプリント配線板に半田付けすることによって、上記パッケージの実装を行うものである。そしてこの場合には、リードの先端部が半田付け部２に相当し、リードの基部（根もと）が非半田付け部３に相当する。
【００１６】
以下においては、半田付け用端子１の具体例であるコネクタ端子１′の製造方法について説明するが、その他の半田付け用端子１もコネクタ端子１′と同様に製造することができる。なお、コネクタ端子１′において、端子部２′が半田付け部２に相当し、接点部３′が非半田付け部３に相当する。
【００１７】
まず請求項１の発明について説明する。コネクタ端子１′は既述のように、一端部に端子部２′を、他端部に接点部３′を設けるように折り曲げ加工して形成されているものであり、長尺の金属帯板１２（銅素材など）をプレス加工することによって、既述の図６のように金属帯板１２の長手方向の一側端縁に沿って多数本を平行に配列して、金属帯板１２と一体に形成してある。そして多数本のコネクタ端子１′を一体に設けた金属帯板１２をフープ材１３の態様にして長手方向に送ることによって、多数本の各コネクタ端子１′に生産性高く加工を行うことができるようにしてある。すなわち、フープ材１３を長手方向に送りながらニッケルめっき浴に浸漬することによって、まずコネクタ端子１′の表面の全面にニッケルの下地めっき９を施し、さらにフープ材１３を長手方向に送りながら金−ニッケル合金めっき浴に浸漬することによって、下地めっき９の上から、コネクタ端子１′の表面の全面に金−ニッケル合金めっき８を施すことができるものである。
【００１８】
ここで、ニッケルめっき浴としては、特に限定されるものではないが、電流密度を上げやすく生産性を高めることができることから、スルファミン酸ニッケルめっき浴を用いるのが好ましい。ニッケルめっき７は、膜厚が０．３〜１０μｍとなるように施すのが好ましい。また、金−ニッケル合金めっき浴としては、特に限定されるものではないが、共析比率が金：ニッケル＝７０：３０〜９９．９〜０．１であるものを用いるのが好ましい。金−ニッケル合金めっき浴の具体例としては、日鉱メタルプレーティング株式会社の製品を挙げることができる。金−ニッケル合金めっき８は、膜厚が０．０１〜０．５μｍとなるように施すのが好ましい。
【００１９】
そして、図１に示すように、コネクタ端子１′の表面に端子部２′と接点部３′を含む全面に金−ニッケル合金めっき８を施した後、端子部２′と接点部３′の間の部分に電磁波Ｌ（レーザー）を照射することによって、この部分の半田濡れ性を他の部分の半田濡れ性よりも低下させるようにしてある。このような電磁波Ｌによる加工によれば、微小スポットに集光でき、かつエネルギー条件を選べば、パワー密度を自由に制御できるので、上記のように半田濡れ性の低い部分を精度良くしかも短時間で形成することができるものである。なお、電磁波Ｌを照射する箇所は端子部２′と接点部３′との間であればどの箇所であってもよく、端子部２′に近い箇所に電磁波Ｌを照射するようにするのが望ましい。
【００２０】
このように端子部２′と接点部３′の間の部分の半田濡れ性を低下させた後、コネクタ端子１′を金属帯板１２から切り離し、コネクタ端子１′をコネクタ基台１０の両側部にそれぞれ複数本ずつ平行に取り付けることによって、既述の図７のようなコネクタＡを作製することができるものである。そして、このようにコネクタ端子１′を組み込んで形成したコネクタＡをプリント配線板１１に実装するにあたって、既述の図８のようにプリント配線板１１の上にコネクタＡを配置し、コネクタ端子１′の端子部２′をプリント配線板１１に半田付けする際に、半田が端子部２′から金−ニッケル合金めっき８の表面を這い上がってきても、金−ニッケル合金めっき８より半田濡れ性を低下させた箇所で半田の這い上がりは停止し、それ以上半田は這い上がらなくなる。従って、半田が接点部３′にまで這い上がって端子部２′に十分な量の半田が残らなくなることを防ぐことができ、プリント配線板１１への端子部２′の半田接合強度を高く保つことができるものである。
【００２１】
また、従来の技術においては、耐食性を確保するため封孔処理が必要であるが、請求項１の発明によれば、封孔処理をしなくても耐食性を十分に確保することができるため、リレーやプリント基板等のように封孔処理ができない商品にも応用することができるものである。
【００２２】
上記のようにコネクタ端子１′の端子部２′と接点部３′の間の部分の半田濡れ性を低下させるにあたって、請求項１の発明では、端子部２′と接点部３′との間の部分において、金−ニッケル合金めっき８を剥離する電磁波よりも小さなエネルギーを有する電磁波Ｌを図１に示すように照射し、図２に示すように上記の部分の金−ニッケル合金のニッケルを表面へ拡散させることによって、この部分に拡散層８ａを形成するようにしている。この拡散層８ａはニッケルめっき７と同様に金−ニッケル合金めっき８に比べて半田濡れ性が劣っているので、この拡散層８ａを端子部２′と接点部３′の間の部分に形成しておくと、半田が端子部２′から金−ニッケル合金めっき８の表面を這い上がってきても、拡散層８ａと金−ニッケル合金めっき８との境界の箇所で半田の這い上がりが停止し、それ以上半田は這い上がらなくなる。従って、半田が接点部３′にまで這い上がって端子部２′に十分な量の半田が残らなくなることを防ぐことができ、プリント配線板１１への端子部２′の半田接合強度を高く保つことができるものである。また、半田が端子部２′から金−ニッケル合金めっき８の表面を這い上がって接点部３′に到達することを防ぐことができるので、メス側となるコネクタＡに、オス側となるヘッダ（図示省略）を差し込んだとき、コネクタＡがヘッダを十分に保持することができるものである。
【００２３】
ここで、金−ニッケル合金めっき８を剥離してニッケルめっき７を露出させておくと、このニッケルめっき７と金−ニッケル合金めっき８との境界の箇所において局部電池が形成されることによって、耐食性が低下するおそれがあるが、請求項１の発明では、金−ニッケル合金のニッケルを拡散させることによって、金−ニッケル合金めっき８を剥離しないでニッケルめっき７を露出させないようにしているので、耐食性を向上させることができるものである。なお、金−ニッケル合金めっき８に電磁波Ｌを照射して拡散層８ａを形成する箇所は端子部２′と接点部３′との間であればどの箇所であってもよいが、端子部２′に近い箇所であることが望ましい。
【００２４】
ここで、電磁波Ｌとしては、１パルス当りのエネルギーが３ｍＪ／pulse以下（実質上の下限は１２００ｍＪ／pulse）、かつ、単位面積当りのエネルギーが１２００ｍＪ／ｍｍ^２以下（実質上の下限は５０ｍＪ／ｍｍ^２）であるものを用いるのが好ましい。１パルス当りのエネルギーが３ｍＪ／pulseを超えるような電磁波Ｌや、単位面積当りのエネルギーが１２００ｍＪ／ｍｍ^２を超えるような電磁波Ｌを用いると、金−ニッケル合金めっき８の下の下地めっき９であるニッケルめっき７も除去したり、コネクタ端子１′の金属（銅など）を溶融させたりするおそれがある。例えば、コネクタ端子１′の金属が銅である場合において、過剰なエネルギーを有する電磁波Ｌを照射するとニッケルめっき７の下の銅が露出されることとなるが、銅は半田濡れ性が良好であるため、半田の這い上がりを防止することができなくなるものであり、しかも耐食性も低下するものである。なお、請求項１の発明において電磁波Ｌとしては、１パルス当りのエネルギーが１〜５ｍＪ／pulse、単位面積当りのエネルギーが４００〜２０００ｍＪ／ｍｍ^２であるものを用いるのが好ましい。
【００２５】
次に、請求項２の発明について説明する。コネクタ端子１′は既述のように、一端部に端子部２′を、他端部に接点部３′を設けるように折り曲げ加工して形成されているものであり、長尺の金属帯板１２（銅素材など）をプレス加工することによって、既述の図６のように金属帯板１２の長手方向の一側端縁に沿って多数本を平行に配列して、金属帯板１２と一体に形成してある。そして多数本のコネクタ端子１′を一体に設けた金属帯板１２をフープ材１３の態様にして長手方向に送ることによって、多数本の各コネクタ端子１′に生産性高く加工を行うことができるようにしてある。すなわち、フープ材１３を長手方向に送りながらニッケルめっき浴に浸漬することによって、まずコネクタ端子１′の表面の全面にニッケルの下地めっき９を施し、次にフープ材１３を長手方向に送りながらパラジウム−ニッケル合金めっき浴に浸漬することによって、下地めっき９の上から、コネクタ端子１′の表面の全面にパラジウム−ニッケル合金めっき６を施し、さらにフープ材１３を長手方向に送りながら金−ニッケル合金めっき浴に浸漬することによって、パラジウム−ニッケル合金めっき６の上から、コネクタ端子１′の表面の全面に金−ニッケル合金めっき８を施すことができるものである。
【００２６】
ここで、ニッケルめっき浴としては、特に限定されるものではないが、電流密度を上げやすく生産性を高めることができることから、スルファミン酸ニッケルめっき浴を用いるのが好ましい。ニッケルめっき７は、膜厚が０．３〜１０μｍとなるように施すのが好ましい。また、パラジウム−ニッケル合金めっき浴としては、電流密度を上げやすく生産性を高めることができるものを用いるのが好ましいが、特に限定されるものではない。パラジウム−ニッケル合金めっき６は、膜厚が０．０１〜１．０μｍとなるように施すのが好ましい。さらに、金−ニッケル合金めっき浴としては、特に限定されるものではないが、共析比率が金：ニッケル＝７０：３０〜９９．９〜０．１であるものを用いるのが好ましい。金−ニッケル合金めっき浴の具体例としては、日鉱メタルプレーティング株式会社の製品を挙げることができる。また、金−ニッケル合金めっき８は、膜厚が０．０１〜０．５μｍとなるように施すのが好ましい。
【００２７】
そして、図３に示すように、コネクタ端子１′の表面に端子部２′と接点部３′を含む全面に金−ニッケル合金めっき８を施した後、端子部２′と接点部３′の間の部分に電磁波Ｌ（レーザー）を照射することによって、この部分の半田濡れ性を他の部分の半田濡れ性よりも低下させるようにしてある。このような電磁波Ｌによる加工によれば、微小スポットに集光でき、かつエネルギー条件を選べば、パワー密度を自由に制御できるので、上記のように半田濡れ性の低い部分を精度良くしかも短時間で形成することができるものである。なお、電磁波Ｌを照射する箇所は端子部２′と接点部３′との間であればどの箇所であってもよく、端子部２′に近い箇所に電磁波Ｌを照射するようにするのが望ましい。
【００２８】
このように端子部２′と接点部３′の間の部分の半田濡れ性を低下させた後、コネクタ端子１′を金属帯板１２から切り離し、コネクタ端子１′をコネクタ基台１０の両側部にそれぞれ複数本ずつ平行に取り付けることによって、既述の図７のようなコネクタＡを作製することができるものである。そして、このようにコネクタ端子１′を組み込んで形成したコネクタＡをプリント配線板１１に実装するにあたって、既述の図８のようにプリント配線板１１の上にコネクタＡを配置し、コネクタ端子１′の端子部２′をプリント配線板１１に半田付けする際に、半田が端子部２′から金−ニッケル合金めっき８の表面を這い上がってきても、金−ニッケル合金めっき８より半田濡れ性を低下させた箇所で半田の這い上がりは停止し、それ以上半田は這い上がらなくなる。従って、半田が接点部３′にまで這い上がって端子部２′に十分な量の半田が残らなくなることを防ぐことができ、プリント配線板１１への端子部２′の半田接合強度を高く保つことができるものである。
【００２９】
また、従来の技術においては、耐食性を確保するため封孔処理が必要であるが、請求項２の発明によれば、封孔処理をしなくても耐食性を十分に確保することができるため、リレーやプリント基板等のように封孔処理ができない商品にも応用することができるものである。
【００３０】
上記のようにコネクタ端子１′の端子部２′と接点部３′の間の部分の半田濡れ性を低下させるにあたって、請求項２の発明では、端子部２′と接点部３′との間の部分において、金−ニッケル合金めっき８を剥離する電磁波よりも小さなエネルギーを有する電磁波Ｌを図３に示すように照射し、図４に示すように上記の部分の金−ニッケル合金のニッケルを表面へ拡散させることによって、この部分に拡散層８ａを形成するようにしている。この拡散層８ａはニッケルめっき７と同様に金−ニッケル合金めっき８に比べて半田濡れ性が劣っているので、この拡散層８ａを端子部２′と接点部３′の間の部分に形成しておくと、半田が端子部２′から金−ニッケル合金めっき８の表面を這い上がってきても、拡散層８ａと金−ニッケル合金めっき８との境界の箇所で半田の這い上がりが停止し、それ以上半田は這い上がらなくなる。従って、半田が接点部３′にまで這い上がって端子部２′に十分な量の半田が残らなくなることを防ぐことができ、プリント配線板１１への端子部２′の半田接合強度を高く保つことができるものである。また、半田が端子部２′から金−ニッケル合金めっき８の表面を這い上がって接点部３′に到達することを防ぐことができるので、メス側となるコネクタＡに、オス側となるヘッダ（図示省略）を差し込んだとき、コネクタＡがヘッダを十分に保持することができるものである。しかもパラジウム−ニッケル合金めっき６は、下地めっき９であるニッケルめっき７に比べて耐食性が優れているので、腐食を進行させにくくすることができるものである。なお、金−ニッケル合金めっき８に電磁波Ｌを照射して拡散層８ａを形成する箇所は端子部２′と接点部３′との間であればどの箇所であってもよいが、端子部２′に近い箇所であることが望ましい。
【００３１】
ここで、電磁波Ｌとしては、１パルス当りのエネルギーが３ｍＪ／pulse以下（実質上の下限は１２００ｍＪ／pulse）、かつ、単位面積当りのエネルギーが１２００ｍＪ／ｍｍ^２以下（実質上の下限は５０ｍＪ／ｍｍ^２）であるものを用いるのが好ましい。１パルス当りのエネルギーが３ｍＪ／pulseを超えるような電磁波Ｌや、単位面積当りのエネルギーが１２００ｍＪ／ｍｍ^２を超えるような電磁波Ｌを用いると、金−ニッケル合金めっき８の下のパラジウム−ニッケル合金めっき６も除去したり、下地めっき９であるニッケルめっき７も除去したり、コネクタ端子１′の金属（銅など）を溶融させたりするおそれがある。例えば、コネクタ端子１′の金属が銅である場合において、過剰なエネルギーを有する電磁波Ｌを照射するとニッケルめっき７の下の銅が露出されることとなるが、銅は半田濡れ性が良好であるため、半田の這い上がりを防止することができなくなるものであり、しかも耐食性も低下するものである。なお、請求項２の発明において電磁波Ｌとしては、１パルス当りのエネルギーが１〜５ｍＪ／pulse、単位面積当りのエネルギーが４００〜２０００ｍＪ／ｍｍ^２であるものを用いるのが好ましい。
【００３２】
【発明の効果】
上記のように本発明の請求項１に係る半田付け用端子の製造方法によれば、例えば、半田付け用端子としてコネクタ端子を製造する場合において、端子部と接点部との間の部分において金−ニッケルめっきの層のニッケルが拡散した拡散層は半田の濡れ性が低くなり、コネクタ端子の端子部をプリント配線板などに半田付けする際に、半田が端子部から金−ニッケルめっきの表面を這い上がってきても、ニッケルが拡散した拡散層で半田の這い上がりが停止し、半田が接点部にまで這い上がって端子部に十分な量の半田が残らなくなることを防ぐことができるものであり、プリント配線板への端子部の半田接合強度を高く保つことができるものである。
【００３３】
また、封孔処理をしなくても耐食性を十分に確保することができるため、封孔処理ができない商品にも応用することができるものである。
【００３４】
本発明の請求項２に係る半田付け用端子の製造方法によれば、例えば、半田付け用端子としてコネクタ端子を製造する場合において、端子部と接点部との間の部分において金−ニッケルめっきの層のニッケルが拡散した拡散層は半田の濡れ性が低くなり、コネクタ端子の端子部をプリント配線板などに半田付けする際に、半田が端子部から金−ニッケルめっきの表面を這い上がってきても、ニッケルが拡散した拡散層で半田の這い上がりが停止し、半田が接点部にまで這い上がって端子部に十分な量の半田が残らなくなることを防ぐことができるものであり、プリント配線板への端子部の半田接合強度を高く保つことができるものである。
【００３５】
また、封孔処理をしなくても耐食性を十分に確保することができるため、封孔処理ができない商品にも応用することができるものである。
【００３６】
しかもパラジウム−ニッケル合金めっきは、下地めっきであるニッケルめっきに比べて耐食性が優れているので、腐食を進行させにくくすることができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の一例を示すものであり、コネクタ端子の一部を拡大した断面図である。
【図２】同上の他例を示すものであり、コネクタ端子の一部を拡大した断面図である。
【図３】同上の他例を示すものであり、コネクタ端子の一部を拡大した断面図である。
【図４】同上の他例を示すものであり、コネクタ端子の一部を拡大した断面図である。
【図５】本発明の実施の形態の一例を示すものであり、コネクタ端子の正面図である。
【図６】金属帯板にコネクタ端子を一体に設けて形成されるフープ材を示すものであり、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は側面図である。
【図７】コネクタのソケットを示すものであり、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は側面図である。
【図８】コネクタのソケットをプリント配線板に実装する状態を示す断面図である。
【符号の説明】
１半田付け用端子
１′ コネクタ端子
２半田付け部
２′ 端子部
３非半田付け部
３′ 接点部
６パラジウム−ニッケル合金めっき
７ニッケルめっき
８金−ニッケル合金めっき
９下地めっき
Ｌ電磁波[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method of manufacturing a soldering terminal (for example, a connector terminal) subjected to surface treatment in preparation for soldering.
[0002]
[Prior art]
FIG. 7 shows an example of a connector (socket) A, which is formed by attaching a large number of connector terminals 1 ′ to the connector base 10 in two rows in parallel. The connector terminal 1 ′ is formed by bending so that a terminal portion 2 ′ is provided at one end and a contact portion 3 ′ is provided at the other end, and the terminal portion 2 ′ is disposed on the lower surface of the connector base 10. It is attached as follows. Further, the surface of the connector terminal 1 'is generally plated with gold and then plated with nickel.
[0003]
The connector A formed by incorporating such a connector terminal 1 ′ is used by being mounted on the printed wiring board 11 as shown in FIG. 8. The connector A is disposed on the printed wiring board 11. The connector A is mounted by soldering the terminal portion 2 'of the connector terminal 1' to the printed wiring board 11 (see, for example, Patent Document 1).
[0004]
When the connector A is disposed on the printed wiring board 11 as described above and the terminal portion 2 'of the connector terminal 1' is soldered, the entire surface of the connector terminal 1 'is plated with gold. The solder crawls up along the gold-plated surface of the connector terminal 1 'from the terminal portion 2' to the contact portion 3 'due to the ease of solder wetting with gold. There is a problem that a sufficient amount of solder does not remain and the solder joint strength with the printed wiring board 11 may be insufficient. Further, when the solder crawls up the gold plating surface from the terminal portion 2 'and reaches the contact portion 3', when a male header (not shown) is inserted into the female connector A, the connector A However, there is also a problem that the header cannot be retained sufficiently.
[0005]
Therefore, of the connector terminal 1 ', only the terminal portion 2' and the contact portion 3 'whose surfaces need to be coated with gold are plated with gold, and the portion between the terminal portion 2' and the contact portion 3 'is applied. Has been studied to perform partial gold plating so that gold plating is not performed (see, for example, Patent Documents 2 and 3). In this way, the gold plating is not applied between the terminal portion 2 'and the contact portion 3', and the nickel base plating is left exposed, so that the terminal portion 2 'can be prevented from being wetted by solder with respect to nickel. Therefore, it is possible to prevent the solder from creeping up to the contact portion 3 ′ by blocking.
[0006]
[Patent Document 1]
JP 20028753 A (paragraph number [0028])
[0007]
[Patent Document 2]
JP-A-2-15662 (Claims, page 3)
[0008]
[Patent Document 3]
JP-A-6-204377 (Claims, page 3)
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
However, as shown in FIG. 6 , the connector terminal 1 ′ is formed by protruding a plurality of long metal strips 12 (copper material or the like) along the side edges in the longitudinal direction, This is used as a form of the hoop material 13, and the connector terminal 1 'is plated with gold by immersing it in a gold plating bath while feeding the hoop material 13 in the longitudinal direction. Accordingly, since the entire connector terminal 1 ′ is immersed in a gold plating bath, it is difficult to partially apply gold plating to the connector terminal 1 ′. Dare to apply gold plating to the connector terminal 1 ′. If this is the case, the feed speed of the hoop material 13 has to be reduced to a fraction of a few, resulting in a problem in productivity.
[0010]
The present invention has been made in view of the above-described points, and the solder crawls from the soldered portion to be soldered (terminal portion in the connector terminal) to the non-soldered portion (contact portion in the connector terminal) not to be soldered. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a soldering terminal capable of preventing an increase.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
The method of manufacturing a soldering terminal according to claim 1 of the present invention is formed by providing a soldering part 2 to be soldered and a non-soldering part 3 to be soldered, and a surface of a nickel plating 7 which is a base plating 9 In addition, when manufacturing a soldering terminal with the gold-nickel alloy plating 8 on which the solder crawls up , an electromagnetic wave L is irradiated to a portion between the soldering portion 2 and the non-soldering portion 3, and this portion of the gold - a nickel alloy nickel is diffused into the surface, gold - in which characterized that you form a diffusion layer 8a solder wettability poorer than nickel alloy plating 8.
[0012]
The method of manufacturing a soldering terminal according to claim 2 of the present invention is formed by providing a soldering part 2 to be soldered and a non-soldering part 3 to be soldered, and a surface of a nickel plating 7 which is a base plating 9 In manufacturing a soldering terminal having gold-nickel alloy plating 8 on which solder crawls up through palladium-nickel alloy plating 6, an electromagnetic wave is generated between the soldering portion 2 and the non-soldering portion 3. irradiating L, and the gold of this part - the nickel alloy nickel is diffused into the surface, gold - in which characterized that you form a diffusion layer 8a solder wettability poorer than nickel alloy plating 8.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below.
[0014]
The method for manufacturing a soldering terminal according to claim 1 of the present invention is a nickel (Ni) plating which is formed by providing a soldering part 2 to be soldered and a non-soldering part 3 to be soldered and is a base plating 9. 7 is related to a method of manufacturing a soldering terminal 1 having gold-nickel (Au—Ni) alloy plating 8 applied to the surface thereof, while a method of manufacturing a soldering terminal according to claim 2 of the present invention is provided. A palladium-nickel (Pd—Ni) alloy plating 6 is formed on the surface of a nickel (Ni) plating 7 which is a base plating 9 formed by providing a soldering portion 2 to be soldered and a non-soldering portion 3 to be soldered. The present invention relates to a method of manufacturing a soldering terminal 1 to which a gold-nickel (Au—Ni) alloy plating 8 is applied.
[0015]
The soldering terminals 1 include leads and the like provided in the package of the surface mount semiconductor device in addition to the connector terminal 1 ′. That is, the package of the surface mount type semiconductor device is also used by being mounted on a printed wiring board in the same manner as the connector terminal 1 '(see, for example, JP-A-7-263610), and above the printed wiring board. The package is mounted by arranging the package and soldering the tip of the lead provided in the package to a printed wiring board. In this case, the leading end portion of the lead corresponds to the soldering portion 2, and the base portion (root) of the lead corresponds to the non-soldering portion 3.
[0016]
In the following, a method of manufacturing a connector terminal 1 ′, which is a specific example of the soldering terminal 1, will be described. However, other soldering terminals 1 can be manufactured in the same manner as the connector terminal 1 ′. In the connector terminal 1 ′, the terminal portion 2 ′ corresponds to the soldering portion 2, and the contact portion 3 ′ corresponds to the non-soldering portion 3.
[0017]
The invention of claim 1 will be described first. As described above, the connector terminal 1 'is formed by bending so that the terminal portion 2' is provided at one end and the contact portion 3 'is provided at the other end. 12 by processing (copper material etc.) press, are arranged in parallel a number present in the longitudinal direction of the one side end edge of the metal strip 12 as shown in FIG. 6 described above, the metal strip 12 It is integrally formed. Then, by feeding the metal strip 12 integrally provided with a large number of connector terminals 1 ′ in the longitudinal direction in the form of the hoop material 13, it is possible to process the large number of connector terminals 1 ′ with high productivity. It is like that. That is, by immersing the hoop material 13 in the nickel plating bath while feeding it in the longitudinal direction, first, the nickel base plating 9 is applied to the entire surface of the connector terminal 1 ′, and further, the gold − By immersing in a nickel alloy plating bath, the gold-nickel alloy plating 8 can be applied to the entire surface of the connector terminal 1 ′ from above the base plating 9.
[0018]
Here, the nickel plating bath is not particularly limited, but a nickel sulfamate plating bath is preferably used because the current density can be easily increased and the productivity can be increased. The nickel plating 7 is preferably applied so that the film thickness is 0.3 to 10 μm. Further, the gold-nickel alloy plating bath is not particularly limited, but it is preferable to use one having a eutectoid ratio of gold: nickel = 70: 30 to 99.9 to 0.1. Specific examples of the gold-nickel alloy plating bath include products manufactured by Nikko Metal Plating Co., Ltd. The gold-nickel alloy plating 8 is preferably applied so that the film thickness is 0.01 to 0.5 μm.
[0019]
Then, as shown in FIG. 1, after the gold-nickel alloy plating 8 is applied to the entire surface including the terminal portion 2 'and the contact portion 3' on the surface of the connector terminal 1 ', the terminal portion 2' and the contact portion 3 ' By irradiating an electromagnetic wave L (laser) to the intermediate part, the solder wettability of this part is made lower than the solder wettability of the other part. According to such processing by the electromagnetic wave L, the power density can be controlled freely if it can be focused on a minute spot and an energy condition is selected. Can be formed. The location where the electromagnetic wave L is irradiated may be any location between the terminal portion 2 'and the contact portion 3', and the location near the terminal portion 2 'is irradiated with the electromagnetic wave L. desirable.
[0020]
After reducing the solder wettability of the portion between the terminal portion 2 ′ and the contact portion 3 ′ in this way, the connector terminal 1 ′ is cut off from the metal strip 12, and the connector terminal 1 ′ is connected to both sides of the connector base 10. By attaching a plurality of them in parallel to each other, the connector A as shown in FIG. 7 can be manufactured. Then, when implementing such a connector the connector to form incorporates terminal 1 'A on the printed wiring board 11, the connector A is arranged on the printed wiring board 11 as described above in FIG. 8, the connector terminal 1 When soldering the terminal portion 2 ′ of the 'to the printed wiring board 11, even if the solder crawls up the surface of the gold-nickel alloy plating 8 from the terminal portion 2 ′, the solder wettability from the gold-nickel alloy plating 8 Solder scooping stops at the point where the soldering is lowered, and the solder can no longer scoop up. Accordingly, it is possible to prevent the solder from creeping up to the contact portion 3 ′ so that a sufficient amount of solder does not remain in the terminal portion 2 ′, and the solder joint strength of the terminal portion 2 ′ to the printed wiring board 11 is kept high. It is something that can be done.
[0021]
Further, in the prior art, sealing treatment is necessary to ensure corrosion resistance, but according to the invention of claim 1, corrosion resistance can be sufficiently ensured without performing sealing treatment. The present invention can also be applied to products that cannot be sealed, such as relays and printed boards.
[0022]
'When reducing the portion of the solder wettability during, in the first aspect of the present invention, the terminal portion 2' the connector terminal 1 and the contact portion 3 'terminal portion 2 of the' like between the contact portion 3 ' in part, the gold - an electromagnetic wave L having a smaller energy than the electromagnetic wave of separating the nickel alloy plating 8 is irradiated as shown in FIG. 1, the gold of the parts, as shown in FIG. 2 - the surface nickel of nickel alloys The diffusion layer 8a is formed in this portion by diffusing into the region. Since this diffusion layer 8a is inferior in solder wettability as compared with the gold-nickel alloy plating 8 like the nickel plating 7, this diffusion layer 8a is formed in a portion between the terminal portion 2 'and the contact portion 3'. If the solder crawls up the surface of the gold-nickel alloy plating 8 from the terminal portion 2 ', the solder crawl stops at the boundary between the diffusion layer 8a and the gold-nickel alloy plating 8, No more solder will crawl up. Accordingly, it is possible to prevent the solder from creeping up to the contact portion 3 ′ so that a sufficient amount of solder does not remain in the terminal portion 2 ′, and the solder joint strength of the terminal portion 2 ′ to the printed wiring board 11 is kept high. It is something that can be done. Further, since solder can be prevented from scooping up the surface of the gold-nickel alloy plating 8 from the terminal portion 2 ′ and reaching the contact portion 3 ′, the connector A on the female side is connected to the header ( When the connector (not shown) is inserted, the connector A can sufficiently hold the header.
[0023]
Here, if the gold-nickel alloy plating 8 is peeled and the nickel plating 7 is exposed, a local battery is formed at the boundary between the nickel plating 7 and the gold-nickel alloy plating 8, thereby providing corrosion resistance. However, in the invention of claim 1 , since nickel of the gold-nickel alloy is diffused so that the gold-nickel alloy plating 8 is not peeled and the nickel plating 7 is not exposed, the corrosion resistance is increased. Can be improved. The location where the gold-nickel alloy plating 8 is irradiated with the electromagnetic wave L to form the diffusion layer 8a may be anywhere between the terminal portion 2 'and the contact portion 3'. It is desirable that the position is close to ′.
[0024]
Here, as the electromagnetic wave L, energy per pulse is 3 mJ / pulse or less (substantially lower limit is 1200 mJ / pulse), and energy per unit area is 1200 mJ / mm ² or less (substantially lower limit is 50 mJ / pulse). It is preferable to use one that is mm ² ). When the electromagnetic wave L whose energy per pulse exceeds 3 mJ / pulse or the electromagnetic wave L whose energy per unit area exceeds 1200 mJ / mm ² , the base plating 9 under the gold-nickel alloy plating 8 is used. There is a risk that some nickel plating 7 may be removed or the metal (copper or the like) of the connector terminal 1 'may be melted. For example, when the metal of the connector terminal 1 ′ is copper, when the electromagnetic wave L having excessive energy is irradiated, the copper under the nickel plating 7 is exposed, but the copper has good solder wettability. Therefore, it is impossible to prevent the solder from creeping up, and the corrosion resistance is also lowered. In the invention of claim 1 , it is preferable to use the electromagnetic wave L having an energy per pulse of 1 to 5 mJ / pulse and an energy per unit area of 400 to 2000 mJ / mm ² .
[0025]
Next, the invention of claim 2 will be described. As described above, the connector terminal 1 'is formed by bending so that the terminal portion 2' is provided at one end and the contact portion 3 'is provided at the other end. 12 by processing (copper material etc.) press, are arranged in parallel a number present in the longitudinal direction of the one side end edge of the metal strip 12 as shown in FIG. 6 described above, the metal strip 12 It is integrally formed. Then, by feeding the metal strip 12 integrally provided with a large number of connector terminals 1 ′ in the longitudinal direction in the form of the hoop material 13, it is possible to process the large number of connector terminals 1 ′ with high productivity. It is like that. That is, by immersing the hoop material 13 in the nickel plating bath while feeding the hoop material 13 in the longitudinal direction, first the nickel base plating 9 is applied to the entire surface of the connector terminal 1 ′, and then palladium is fed while feeding the hoop material 13 in the longitudinal direction. -By immersing in a nickel alloy plating bath, a palladium-nickel alloy plating 6 is applied to the entire surface of the connector terminal 1 'from above the base plating 9, and further a gold-nickel alloy while feeding the hoop material 13 in the longitudinal direction. By dipping in the plating bath, the gold-nickel alloy plating 8 can be applied to the entire surface of the connector terminal 1 ′ from the palladium-nickel alloy plating 6.
[0026]
Here, the nickel plating bath is not particularly limited, but a nickel sulfamate plating bath is preferably used because the current density can be easily increased and the productivity can be increased. The nickel plating 7 is preferably applied so that the film thickness is 0.3 to 10 μm. Moreover, as the palladium-nickel alloy plating bath, it is preferable to use a bath that can easily increase the current density and increase the productivity, but is not particularly limited. The palladium-nickel alloy plating 6 is preferably applied so that the film thickness is 0.01 to 1.0 μm. Furthermore, although it does not specifically limit as a gold-nickel alloy plating bath, It is preferable to use what a eutectoid ratio is gold: nickel = 70: 30-99.9-0.1. Specific examples of the gold-nickel alloy plating bath include products manufactured by Nikko Metal Plating Co., Ltd. The gold-nickel alloy plating 8 is preferably applied so that the film thickness is 0.01 to 0.5 μm.
[0027]
As shown in FIG. 3 , after the gold-nickel alloy plating 8 is applied to the entire surface including the terminal portion 2 'and the contact portion 3' on the surface of the connector terminal 1 ', the terminal portion 2' and the contact portion 3 ' By irradiating an electromagnetic wave L (laser) to the intermediate part, the solder wettability of this part is made lower than the solder wettability of the other part. According to such processing by the electromagnetic wave L, the power density can be controlled freely if it can be focused on a minute spot and an energy condition is selected. Can be formed. The location where the electromagnetic wave L is irradiated may be any location between the terminal portion 2 'and the contact portion 3', and the location near the terminal portion 2 'is irradiated with the electromagnetic wave L. desirable.
[0028]
After reducing the solder wettability of the portion between the terminal portion 2 ′ and the contact portion 3 ′ in this way, the connector terminal 1 ′ is cut off from the metal strip 12, and the connector terminal 1 ′ is connected to both sides of the connector base 10. By attaching a plurality of them in parallel to each other, the connector A as shown in FIG. 7 can be manufactured. Then, when implementing such a connector the connector to form incorporates terminal 1 'A on the printed wiring board 11, the connector A is arranged on the printed wiring board 11 as described above in FIG. 8, the connector terminal 1 When soldering the terminal portion 2 ′ of the 'to the printed wiring board 11, even if the solder crawls up the surface of the gold-nickel alloy plating 8 from the terminal portion 2 ′, the solder wettability from the gold-nickel alloy plating 8 Solder scooping stops at the point where the soldering is lowered, and the solder can no longer scoop up. Accordingly, it is possible to prevent the solder from creeping up to the contact portion 3 ′ so that a sufficient amount of solder does not remain in the terminal portion 2 ′, and the solder joint strength of the terminal portion 2 ′ to the printed wiring board 11 is kept high. It is something that can be done.
[0029]
Further, in the prior art, a sealing treatment is necessary to ensure corrosion resistance, but according to the invention of claim 2, since corrosion resistance can be sufficiently ensured without performing the sealing treatment, The present invention can also be applied to products that cannot be sealed, such as relays and printed boards.
[0030]
In reducing the solder wettability of the portion between the terminal portion 2 'and the contact portion 3' of the connector terminal 1 'as described above, in the invention of claim 2 , the connection between the terminal portion 2' and the contact portion 3 'is performed. in part, the gold - an electromagnetic wave L having a smaller energy than the electromagnetic wave of separating the nickel alloy plating 8 is irradiated as shown in FIG. 3, a gold of the parts, as shown in FIG. 4 - the surface nickel nickel alloys The diffusion layer 8a is formed in this portion by diffusing into the region. Since this diffusion layer 8a is inferior in solder wettability as compared with the gold-nickel alloy plating 8 like the nickel plating 7, this diffusion layer 8a is formed in a portion between the terminal portion 2 'and the contact portion 3'. If the solder crawls up the surface of the gold-nickel alloy plating 8 from the terminal portion 2 ', the solder crawl stops at the boundary between the diffusion layer 8a and the gold-nickel alloy plating 8, No more solder will crawl up. Accordingly, it is possible to prevent the solder from creeping up to the contact portion 3 ′ so that a sufficient amount of solder does not remain in the terminal portion 2 ′, and the solder joint strength of the terminal portion 2 ′ to the printed wiring board 11 is kept high. It is something that can be done. Further, since solder can be prevented from scooping up the surface of the gold-nickel alloy plating 8 from the terminal portion 2 ′ and reaching the contact portion 3 ′, the connector A on the female side is connected to the header ( When the connector (not shown) is inserted, the connector A can sufficiently hold the header. Moreover palladium - nickel alloy plating 6, since the corrosion resistance as compared with the nickel plating 7 is a lower plating 9 is superior, but that can be hard to proceed corrosion. The location where the gold-nickel alloy plating 8 is irradiated with the electromagnetic wave L to form the diffusion layer 8a may be anywhere between the terminal portion 2 'and the contact portion 3'. It is desirable that the position is close to ′.
[0031]
Here, as the electromagnetic wave L, energy per pulse is 3 mJ / pulse or less (substantially lower limit is 1200 mJ / pulse), and energy per unit area is 1200 mJ / mm ² or less (substantially lower limit is 50 mJ / pulse). It is preferable to use one that is mm ² ). When an electromagnetic wave L whose energy per pulse exceeds 3 mJ / pulse or an electromagnetic wave L whose energy per unit area exceeds 1200 mJ / mm ² is used, a palladium-nickel alloy under the gold-nickel alloy plating 8 The plating 6 may be removed, the nickel plating 7 as the base plating 9 may be removed, or the metal (copper or the like) of the connector terminal 1 ′ may be melted. For example, when the metal of the connector terminal 1 ′ is copper, when the electromagnetic wave L having excessive energy is irradiated, the copper under the nickel plating 7 is exposed, but the copper has good solder wettability. Therefore, it is impossible to prevent the solder from creeping up, and the corrosion resistance is also lowered. In the invention of claim ^2, it is preferable to use the electromagnetic wave L having an energy per pulse of 1 to 5 mJ / pulse and an energy per unit area of 400 to 2000 mJ / mm ² .
[0032]
【The invention's effect】
As described above, according to the method for manufacturing a soldering terminal according to the first aspect of the present invention, for example, when a connector terminal is manufactured as a soldering terminal, a gold is formed at a portion between the terminal portion and the contact portion. -The diffusion layer in which nickel in the nickel plating layer diffuses has low wettability of solder, and when soldering the terminal part of the connector terminal to a printed wiring board, the solder will remove the gold-nickel plating surface from the terminal part. Even if it crawls up, it can prevent the solder crawl-up from stopping at the diffusion layer where nickel has diffused, so that the solder crawls up to the contact part and a sufficient amount of solder does not remain in the terminal part. The solder joint strength of the terminal portion to the printed wiring board can be kept high.
[0033]
Further, since corrosion resistance can be sufficiently ensured without performing the sealing treatment, it can be applied to products that cannot be sealed.
[0034]
According to the method for manufacturing a soldering terminal according to claim 2 of the present invention, for example, when a connector terminal is manufactured as a soldering terminal, gold-nickel plating is performed at a portion between the terminal portion and the contact portion. The diffusion layer in which the nickel layer diffuses reduces the wettability of the solder, and when the terminal part of the connector terminal is soldered to a printed wiring board or the like, the solder crawls up the gold-nickel plating surface from the terminal part. However, it is possible to prevent the solder from creeping up at the diffusion layer where nickel has diffused and preventing the solder from creeping up to the contact portion and leaving a sufficient amount of solder in the terminal portion. The solder joint strength of the terminal part can be kept high.
[0035]
Further, since corrosion resistance can be sufficiently ensured without performing the sealing treatment, it can be applied to products that cannot be sealed.
[0036]
Moreover palladium - nickel alloy plating, since corrosion resistance as compared with the nickel plating serving as an underlying plating is excellent, but that can be hard to proceed corrosion.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1, showing an example of an embodiment of the present invention, is an enlarged cross-sectional view of a part of a connector terminal.
FIG. 2 is a sectional view showing another example of the above and enlarging a part of the connector terminal.
FIG. 3 is a sectional view showing another example of the above, in which a part of the connector terminal is enlarged.
FIG. 4 is a sectional view showing another example of the above and enlarging a part of the connector terminal.
FIG. 5 shows an example of an embodiment of the present invention and is a front view of a connector terminal.
FIG. 6 shows a hoop material formed by integrally providing a connector terminal on a metal strip , (a) is a front view, (b) is a plan view, and (c) is a side view .
7A and 7B show a socket of a connector, wherein FIG. 7A is a front view, FIG. 7B is a plan view, and FIG. 7C is a side view .
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a state in which a socket of a connector is mounted on a printed wiring board .
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Soldering terminal 1 'Connector terminal 2 Soldering part 2' Terminal part 3 Non-soldering part 3 'Contact part 6 Palladium-nickel alloy plating 7 Nickel plating 8 Gold-nickel alloy plating 9 Base plating L Electromagnetic wave

Claims

Produces a soldering terminal in which a soldering part to be soldered and a non-soldering part not to be soldered are provided, and a gold-nickel alloy plating on which the solder crawls is applied to the surface of the nickel plating as the base plating. In this case, the portion between the soldered portion and the non-soldered portion is irradiated with electromagnetic waves, and the nickel of the gold-nickel alloy in this portion is diffused to the surface, and a diffusion layer having poor solder wettability than the gold-nickel alloy plating is formed. forming to a manufacturing method of the soldering terminals, characterized in Rukoto.

Gold-nickel alloy plating where solder rises is formed on the surface of the nickel plating, which is the base plating, via palladium-nickel alloy plating, and is formed by providing a soldered portion to be soldered and a non-soldered portion to be soldered. in producing the soldering terminals, the soldering portion and is partially irradiated with electromagnetic waves between the non-soldering portion, the gold of the parts - the nickel alloy nickel is diffused into the surface, the gold - nickel alloy plating method of manufacturing a soldering terminal characterized that you form a diffusion layer of solder wettability is poor.