JP4003413B2 - 13族窒化物結晶の製造方法 - Google Patents
13族窒化物結晶の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4003413B2 JP4003413B2 JP2001195510A JP2001195510A JP4003413B2 JP 4003413 B2 JP4003413 B2 JP 4003413B2 JP 2001195510 A JP2001195510 A JP 2001195510A JP 2001195510 A JP2001195510 A JP 2001195510A JP 4003413 B2 JP4003413 B2 JP 4003413B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- nitride crystal
- producing
- alkali metal
- amide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
【産業上の利用分野】
本発明は、13族窒化物結晶の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
現在、13族窒化物結晶の製造法は、GaNを例とするとGa2O3とアンモニアガスの反応による固相合成法とMOCVD、HVPE等の気相成長法が主流である。しかしながら、これらの方法で合成したGaNは実用上必ずしも十分な性質を備えているとは言えない。例えば、純度が低い、結晶性が悪い、欠陥が多いという問題がある。
【0003】
一般に、溶液合成法には固相合成法や気相成長法に比べて高品質な結晶を得やすいという特徴がある。GaNの溶液合成法はS.Porowski(文献1)、R.Dwilinski(文献2)らによって報告されている。
【0004】
文献1の方法では6〜10mmのGaN単結晶が得られている。
【0005】
また、文献2では、結晶性が良く高輝度のGaN粉末結晶が得られたと報告されている。
【0006】
文献1:Journal of Cryst Growth 178(1997)174-188"Thermodynamical properties of III-V nitrides and crystal growth of GaN at high N2 pressure" S.Porowski
文献2:Acta Physica Polonica A 88(1995)833-836"GaN SYNTHESIS BY AMMONOTHERMAL METHOD" R.Dwilinski
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、文献1の方法は2000MPa、文献2の方法は100〜500MPaという高圧が必要であり危険を伴う。また、工業生産を考えると高圧装置のため非常に高価な設備が必要となる。
【0008】
本発明は、上記課題を解決するためなされたもので、危険性の少ない圧力で13族窒化物結晶の合成、特に溶液合成を可能とすることを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、以下の(1)〜(8)の本発明の構成によって達成することができる。
(1)少なくとも1種類の13族元素を含む金属及び/又は化合物とアルカリ金属アミドとをアンモニア雰囲気下で加熱処理する13族窒化物結晶の製造方法であって、アルカリ金属アミドは13族元素を含む金属及び/又は化合物の5倍モル以上であり、溶融したアルカリ金属アミドに13族元素を含む金属及び/又は化合物を接触させることを特徴とする13族窒化物結晶の製造方法。
(2)少なくとも1種類の13族元素を含む金属及び/又は化合物とアルカリ金属アミドとをアンモニア雰囲気下で加熱処理する13族窒化物結晶の製造方法であって、アルカリ金属アミドは13族元素を含む金属及び/又は化合物の5倍モル以上であり、溶融したアルカリ金属アミドに13族元素を含む金属及び/又は化合物を溶解させることを特徴とする13族窒化物結晶の製造方法。
(3)前記13族元素を含む化合物は13族元素のアミド又はイミド化合物であることを特徴とする(1)又は(2)に記載の13族窒化物結晶の製造方法。
(4)前記アルカリ金属アミドはリチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミド又はこれらの混合物であることを特徴とする(1)又は(2)に記載の13族窒化物結晶の製造方法。
(5)(1)又は(2)に記載の13族窒化物結晶の製造方法において、アンモニアの圧力が50〜0.1MPaでることを特徴とする13族窒化物結晶の製造方法。
(6)(1)又は(2)に記載の13族窒化物結晶の製造方法において、原料に不純物を添加し、不純物は2族から12族及び14族から17族の元素よりなる群から選択される少なくとも一種の元素を含む物質から成ることを特徴とする不純物元素を含む13族窒化物結晶の製造方法。
(7)(1)又は(2)に記載の13族窒化物結晶の製造方法において、アルカリ金属アミド融液中に種結晶又は基板を配し、13族窒化物結晶を種結晶又は基板の上に成長させることを特徴とする13族窒化物結晶の製造方法。
(8)(7)に記載の13族窒化物結晶の製造方法において、アルカリ金属アミド融液中に温度勾配を設け、前記種結晶又は基板は、温度勾配を設けた溶融溶液中の低温部に配することを特徴とする13族窒化物結晶の製造方法。
【0010】
つまり、本発明の13族窒化物結晶は、上記課題を解決するために、少なくとも1種類の13族元素を含む原料とアルカリ金属アミドをアンモニア雰囲気下で加熱処理する13族窒化物結晶の製造方法において、アルカリ金属アミドが13族原料よりも大過剰であり、溶融したアルカリ金属アミドに13族元素を含む原料を接触または溶解させるものである。本発明においてアルカリ金属アミドは13族窒化物結晶の生成を促進するとともに13族原料を溶解する役割を担う。
上記文献2に示す方法は13族元素を含む原料、アルカリ金属アミド、アンモニアからなる系で13族窒化物結晶を製造する方法であるが、この方法は高温高圧のアンモニアを反応場とし、アンモニアに13族原料とアルカリ金属アミドを溶解するものである。
これに対し、本発明は溶融したアルカリ金属アミドを反応場とし、これに13族元素を含む原料を接触又は溶解することを特徴とする方法である。13族原料とアルカリ金属アミド融液の接触面積を大きくする目的と13族原料を溶解する目的とからアルカリ金属アミドは大過剰に加えられる。
また、本発明においてアンモニア雰囲気にするのはアルカリ金属アミドの分解を防ぐためであり、アルカリ金属アミドが分解しない条件であれば、文献2の方法のように超臨界まで昇圧する必要はなく、本発明は常圧下でも可能である。
【0011】
また、本発明は溶液から13族窒化物結晶を製造することを目的の1つとしているが、単に13族元素を含む原料を金属アミド融液に接触させる固相反応でも13族窒化物結晶を製造することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施形態について説明する。
【0013】
13族元素としては、B、Al、Ga、In等が挙げられるが、本発明における13族原料には13族金属及び13族元素を含む化合物が用いられる。13族元素を含む化合物としては、13族アミド、13族イミドであって、好ましくはアルミニウムアミド、アルミニウムイミド、ガリウムアミド、ガリウムイミド、インジウムアミド、インジウムイミドが用いられる。また、13族窒化物結晶の改質、薄膜及びバルク単結晶の合成を目的とする場合には、13族窒化物を原料として用いることが可能であり、AlN、GaN、InN及びこれらの混晶が好ましく用いられる。
【0014】
また、前記13族金属アミド又はイミドに不純物を加えてもよく、不純物としては、2族から12族及び14族から17族の元素よりなる群から選択される少なくとも一種の元素を含む物質が用いられるが、好ましくはアルカリ土類金属、希土類、12族、14族の元素を含む物質が用いられ、より好ましくはアルカリ土類金属元素としてBe、Mg、Ca、Sr、Ba、希土類元素としてPr、Nd、Sm、Eu、Dy、Ho、Er、Tm、12族元素としてZn、Cd、14族元素としてSi、Ge、Sn等の元素を含む金属やアミド、イミド、窒化物等の化合物が用いられる。
【0015】
アルカリ金属アミドの具体例としてはリチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミドおよびこれらの混合物が挙げられる。添加量は13族原料の5〜10000倍モルであり、好ましくは10〜10000倍モルである。
【0016】
バルク単結晶を成長させる手法として、種結晶を加え、種結晶を核として結晶を成長させることが一般に行われている。また、薄膜結晶を成長させる場合は薄膜の土台として基板を使用するのが一般的である。本発明においても種結晶又は基板を使用することができる。種結晶又は基板としては反応条件下で安定であり、結晶構造、格子定数、熱膨張係数が目的とする13族窒化物に類似した材料からなることが好ましく、目的とする13族窒化物と同じ材質であることがより好ましい。具体例としてはAlN、GaN等が挙げられる。また、サファイアやSiCなど異種基板上に13族窒化物結晶を成長させたものも用いることができる。種結晶又は基板の大きさは反応容器の大きさ及び目的とする13族窒化物結晶の大きさに応じて選ぶことができる。
【0017】
本発明において、反応温度はアルカリ金属アミドの融点以上である必要があり、210℃〜1000℃の範囲、好ましくは210℃〜600℃である。
【0018】
圧力条件については、50〜0.1MPa、さらに好ましくは20〜0.1MPa、より好ましくは11.28〜0.1MPaである。
【0019】
反応時間としては、5時間以上が好ましく、より好ましくは24時間以上である。
【0020】
本発明の一実施形態して、図1に示す装置を用いて、13族窒化物結晶の製造工程を以下に示す。
【0021】
(第1の工程)
圧力容器1に窒素雰囲気下で13族原料とアルカリ金属アミド及び必要に応じて種結晶を入れ密閉する。ここで圧力容器1とは反応条件下において耐熱性、耐圧性及び13族原料、アルカリ金属アミド、アンモニアに対して安定である性質を有するものである。
【0022】
(第2の工程)
次に別途圧力容器12に保持した液体アンモニアをバルブ9より圧力容器に注ぐか、又はバルブ8よりアンモニアガスを導入する。
【0023】
(第3の工程)
その後、容器を密閉した後、ヒーター2で所定の温度まで加熱する。また、必要に応じて攪拌機7で撹拌する。
【0024】
(第4の工程)
次に、所定時間保持した後、室温まで冷却する。
【0025】
冷却後、容器内の残留ガス(具体例としてアンモニア)を排気し、内部を窒素置換した後、内容物を取り出す。
本発明における目的物である13族窒化物結晶はアルカリ金属アミドに沈んだ状態で2層に分かれた状態で得られるため両者の分離は容易であり、またアルカリ金属アミドを再利用することができる。
【0026】
分離した段階では13族窒化物結晶にアルカリ金属アミドが付着しているため、塩酸で処理してアルカリ金属アミドを溶解し、その後、不溶物を濾別し、水洗し、乾燥することにより13族窒化物結晶を得る。
尚、図1に示した装置では加熱されない配管部分でアンモニアが液化するため、目的とする圧力を得るためには圧力容器1の内容積から計算される量よりも過剰のアンモニアが必要である。
【0027】
【実施例】
[実施例1]内容積283mlの圧力容器にGa(NH2)3粉末を1.65g、LiNH2粉末を12.77g、および液体アンモニアを23.82gとり、容器を密閉した。400℃で24時間保持した結果、圧力は16.4MPaまで上昇した。
【0028】
容器を室温まで冷却後、内容物を塩酸で処理し、さらに不溶物を濾過し、水洗して灰白色粉末0.81g(収率69%)を得た。得られた粉末のX線回折を図2に示す。
【0029】
[実施例2]内容積283mlの圧力容器にGa(NH2)3を16.2g、LiNH2を23.83g、および液体アンモニアを16.42gとり、容器を密閉した。400℃で24時間保持した結果、圧力は10.9MPaまで上昇した。
【0030】
室温まで冷却後、内容物を塩酸で処理し、さらに不溶物を濾過し、水洗して灰白色粉末0.84g(収率72%)を得た。得られた粉末のX線回折を図3に示す。
【0031】
[実施例3]Zn(NH2)2を1100ppm添加したGa(NH2)3を1.65g、LiNH2を23.92g、および液体アンモニア23.82gを内容積283mlの圧力容器にとり、密閉した。
400℃で24時間保持した結果、圧力は17.3MPaまで上昇した。
【0032】
室温まで冷却後、内容物を塩酸で処理し、不溶物を濾過し、
水洗して灰白色粉末0.98g(収率85%)を得た。
得られた粉末のX線回折を図4に示す。
【0033】
[実施例4]内容積283mlの圧力容器の底から20mmの位置に2.5×1.5×0.2mmのGaN種結晶をワイヤーで固定した。容器にGa(NH2)3を0.83g、LiNH2を72.62g、および液体アンモニアを16.34gとり、密閉した。
400℃で24時間保持した結果、圧力は9.8MPaまで上昇した。
【0034】
室温まで冷却後、種結晶を取り出し、水で洗浄した。
種結晶の表面には六角形の結晶が島状に成長していた。
成長した結晶の光学顕微鏡像を図5に示す。
【0035】
[実施例5]Mg(NH2)2を1400ppm添加したGa(NH2)3を1.67g、LiNH2を24.11g、および液体アンモニアを23.93gとり、内容積283mlの圧力容器にとり、密閉し、400℃で24時間保持する。
【0036】
室温まで冷却後、内容物を塩酸で処理し、さらに不溶物を濾過し、水洗するとMgが添加されたGaN結晶を得ることが出来る。
【0037】
[実施例6]内容積283mlの圧力容器にAl(NH2)3粉末を1.05g、LiNH2粉末を24.11g、および液体アンモニアを23.93gとり、容器を密
閉し、400℃で32時間保持する。
【0038】
容器を室温まで冷却後、内容物を塩酸で処理し、さらに不溶物を濾過し、水洗するとAlN結晶を得ることが出来る。
【0039】
【発明の効果】
本発明の13族窒化物結晶の製造方法によれば、危険度の少ない圧力条件で溶液からの窒化物結晶の製造が可能となる。そのため、結晶性の良い13族窒化物結晶を安全かつ安価に製造するすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例における13族窒化物結晶の製造装置の断面模式図である。
【図2】実施例1で得たGaN結晶の粉末X線回折図である。
【図3】実施例2で得たGaN結晶の粉末X線回折図である。
【図4】実施例3で得たGaN結晶の粉末X線回折図である。
【図5】実施例4で種結晶上に成長したGaN結晶の光学顕微鏡像である。
【符号の説明】
1・・・ハステロイ製圧力容器
2・・・加熱ヒータ
3・・・蓋
4・・・パッキン
5・・・締付ボトル
6・・・熱電対
7・・・攪拌機
8・・・バルブ
9・・・バルブ
10・・・安全弁
11・・・圧力計
12・・・ガラス製圧力容器
Claims (8)
- 少なくとも1種類の13族元素を含む金属及び/又は化合物とアルカリ金属アミドとをアンモニア雰囲気下で加熱処理する13族窒化物結晶の製造方法であって、アルカリ金属アミドは13族元素を含む金属及び/又は化合物の5倍モル以上であり、溶融したアルカリ金属アミドに13族元素を含む金属及び/又は化合物を接触させることを特徴とする13族窒化物結晶の製造方法。
- 少なくとも1種類の13族元素を含む金属及び/又は化合物とアルカリ金属アミドとをアンモニア雰囲気下で加熱処理する13族窒化物結晶の製造方法であって、アルカリ金属アミドは13族元素を含む金属及び/又は化合物の5倍モル以上であり、溶融したアルカリ金属アミドに13族元素を含む金属及び/又は化合物を溶解させることを特徴とする13族窒化物結晶の製造方法。
- 前記13族元素を含む化合物は13族元素のアミド又はイミド化合物であることを特徴とする請求項1又は2に記載の13族窒化物結晶の製造方法。
- 前記アルカリ金属アミドはリチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミド又はこれらの混合物であることを特徴とする請求項1又は2に記載の13族窒化物結晶の製造方法。
- 請求項1又は2に記載の13族窒化物結晶の製造方法において、アンモニアの圧力が50〜0.1MPaであることを特徴とする13族窒化物結晶の製造方法。
- 請求項1又は2に記載の13族窒化物結晶の製造方法において、原料に不純物を添加し、不純物は2族から12族及び14族から17族の元素よりなる群から選択される少なくとも一種の元素を含む物質から成ることを特徴とする不純物元素を含む13族窒化物結晶の製造方法。
- 請求項1又は2に記載の13族窒化物結晶の製造方法において、アルカリ金属アミド融液中に種結晶又は基板を配し、13族窒化物結晶を種結晶又は基板の上に成長させることを特徴とする13族窒化物結晶の製造方法。
- 請求項7に記載の13族窒化物結晶の製造方法において、アルカリ金属アミド融液中に温度勾配を設け、前記種結晶又は基板は、温度勾配を設けた溶融溶液中の低温部に配することを特徴とする13族窒化物結晶の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001195510A JP4003413B2 (ja) | 2000-12-11 | 2001-06-27 | 13族窒化物結晶の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000376412 | 2000-12-11 | ||
JP2000-376412 | 2000-12-11 | ||
JP2001195510A JP4003413B2 (ja) | 2000-12-11 | 2001-06-27 | 13族窒化物結晶の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002241112A JP2002241112A (ja) | 2002-08-28 |
JP4003413B2 true JP4003413B2 (ja) | 2007-11-07 |
Family
ID=26605618
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001195510A Expired - Fee Related JP4003413B2 (ja) | 2000-12-11 | 2001-06-27 | 13族窒化物結晶の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4003413B2 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002220213A (ja) * | 2001-01-18 | 2002-08-09 | Sony Corp | Iiib族窒素化合物の合成方法 |
US7252712B2 (en) | 2001-06-06 | 2007-08-07 | Ammono Sp. Z O.O. | Process and apparatus for obtaining bulk monocrystalline gallium-containing nitride |
US7057211B2 (en) | 2001-10-26 | 2006-06-06 | Ammono Sp. Zo.O | Nitride semiconductor laser device and manufacturing method thereof |
US20060138431A1 (en) | 2002-05-17 | 2006-06-29 | Robert Dwilinski | Light emitting device structure having nitride bulk single crystal layer |
WO2003098757A1 (fr) * | 2002-05-17 | 2003-11-27 | Ammono Sp.Zo.O. | Structure d'element electroluminescent comprenant une couche de monocristaux de nitrure en vrac |
EP1590509B1 (en) | 2002-12-11 | 2014-02-12 | Ammono S.A. | Process for obtaining bulk monocrystalline gallium-containing nitride |
DE60329713D1 (de) | 2002-12-11 | 2009-11-26 | Ammono Sp Zoo | Schabloneartiges substrat und verfahren zu seiner herstellung |
JP2005183947A (ja) * | 2003-11-26 | 2005-07-07 | Ricoh Co Ltd | Iii族窒化物の結晶成長方法およびiii族窒化物結晶およびiii族窒化物半導体デバイスおよび発光デバイス |
WO2005095681A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Iii族元素窒化物結晶の製造方法、それに用いる製造装置、およびそれらにより得られた半導体素子 |
WO2005103341A1 (ja) * | 2004-04-27 | 2005-11-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Iii族元素窒化物結晶製造装置およびiii族元素窒化物結晶製造方法 |
JP5015417B2 (ja) | 2004-06-09 | 2012-08-29 | 住友電気工業株式会社 | GaN結晶の製造方法 |
JP5014804B2 (ja) | 2004-06-11 | 2012-08-29 | アンモノ・スプウカ・ジ・オグラニチョノン・オドポヴィエドニアウノシツィオン | バルク単結晶ガリウム含有窒化物およびその用途 |
KR101077323B1 (ko) | 2004-07-07 | 2011-10-26 | 스미토모덴키고교가부시키가이샤 | 질화물단결정 및 그 제조방법 |
PL371405A1 (pl) | 2004-11-26 | 2006-05-29 | Ammono Sp.Z O.O. | Sposób wytwarzania objętościowych monokryształów metodą wzrostu na zarodku |
JP2008285383A (ja) * | 2007-05-21 | 2008-11-27 | Lucelabo:Kk | Iii族窒化物の製造方法及び遷移金属窒化物の製造方法 |
JP2009114057A (ja) * | 2008-12-17 | 2009-05-28 | Mitsubishi Chemicals Corp | 窒化物結晶の製造方法 |
JP2010132552A (ja) * | 2010-01-27 | 2010-06-17 | Lucelabo:Kk | 遷移金属窒化物の製造方法 |
-
2001
- 2001-06-27 JP JP2001195510A patent/JP4003413B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002241112A (ja) | 2002-08-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4003413B2 (ja) | 13族窒化物結晶の製造方法 | |
EP2078105B1 (en) | Method for forming nitride crystals | |
Avrutin et al. | Growth of bulk GaN and AlN: Progress and challenges | |
JP4513264B2 (ja) | 窒化物単結晶の製造方法 | |
US6177057B1 (en) | Process for preparing bulk cubic gallium nitride | |
US7803344B2 (en) | Method for growing group III-nitride crystals in a mixture of supercritical ammonia and nitrogen, and group III-nitride crystals grown thereby | |
Dwiliński et al. | Excellent crystallinity of truly bulk ammonothermal GaN | |
Ehrentraut et al. | Advances in bulk crystal growth of AlN and GaN | |
JP4229624B2 (ja) | 窒化物単結晶の製造方法 | |
US6398867B1 (en) | Crystalline gallium nitride and method for forming crystalline gallium nitride | |
EP1490537B1 (en) | High pressure high temperature growth of crystalline group iii metal nitrides | |
Wang et al. | Ammonothermal growth of GaN crystals in alkaline solutions | |
US8852341B2 (en) | Methods for producing GaN nutrient for ammonothermal growth | |
KR100322374B1 (ko) | 질화물결정의제조방법,혼합물,액상성장방법,질화물결정,질화물결정분말및기상성장방법 | |
TWI530594B (zh) | A method for producing a nitride crystal of Group 13 element, and a melt composition | |
US20060048701A1 (en) | Method of growing group III nitride crystals | |
JP4016615B2 (ja) | 13族窒化物結晶の製造方法 | |
JP2005112718A (ja) | 13族窒化物結晶の製造方法 | |
US8679248B2 (en) | GaN whiskers and methods of growing them from solution | |
US20090223440A1 (en) | Method of growing GaN crystals from solution | |
US8449672B2 (en) | Method of growing group III nitride crystals | |
JP3719341B2 (ja) | SiC結晶の液相エピタキシャル成長方法 | |
JP2887978B2 (ja) | Iii−v族化合物半導体組成物の合成方法 | |
KR101077323B1 (ko) | 질화물단결정 및 그 제조방법 | |
Wang et al. | Bulk GaN single crystals: a reinvestigation of growth mechanism using Li 3 N flux |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041021 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070426 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070508 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070703 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070731 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070813 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4003413 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100831 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100831 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100831 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110831 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110831 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120831 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120831 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120831 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130831 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |