JP3988217B2 - 大口径蛍石の製造装置および製造方法 - Google Patents

大口径蛍石の製造装置および製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP3988217B2
JP3988217B2 JP24422597A JP24422597A JP3988217B2 JP 3988217 B2 JP3988217 B2 JP 3988217B2 JP 24422597 A JP24422597 A JP 24422597A JP 24422597 A JP24422597 A JP 24422597A JP 3988217 B2 JP3988217 B2 JP 3988217B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heater
temperature
fluorite
diameter
crucible
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP24422597A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH1179880A (ja
Inventor
繁 佐久間
勉 水垣
修一 高野
秀美 西川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP24422597A priority Critical patent/JP3988217B2/ja
Publication of JPH1179880A publication Critical patent/JPH1179880A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3988217B2 publication Critical patent/JP3988217B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、KrFやArFエキシマレーザーを用いた各種機器、たとえばステッパー、CVD装置、核融合装置などのレンズ、窓材等の光学系に使用される蛍石の製造装置及び製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年におけるVLSIは、高集積化、高機能化が進行し、ウェハ上の微細加工技術が要求されている。その加工方法として、光リソグラフィーによる方法が一般的に行われている。このVLSIの中で、DRAMを例にあげれば近年256M以上の容量も現実のものとなっている。加工線幅も0.25μm以下と微細になっているため、光リソグラフィー技術の主流になっているステッパーの投影レンズには高い結像性能(解像度と焦点深度)が要求されている。この要求を満たすために、露光波長もしだいに短波長となり、KrFエキシマレーザー光(波長248nm)を光源とするステッパーも市場に登場している。248nm以下の波長で光リソグラフィー用として使える光学材料は非常に少なく、合成石英ガラスが主として使われているが、蛍石も光源がArFエキシマレーザー光(波長193nm)になると有力な材料と考えられている。
【0003】
従来、KrF、ArFエキシマレーザーを用いた光リソグラフィー用の蛍石は、ブリッジマン法で製造されており、その製造装置(炉)は、例えば図3に示すような「るつぼ降下」型の製造装置である。図3の装置は、炉室を形成するベルジャー(炉本体)31、炉室内に配置されたヒーター33(ヒーターは、例えば天井ヒーター、側部ヒーター、底部ヒーターからなる)、炉室を鉛直方向に2室に分離するための熱遮蔽板(断熱板)35、ベルジャーの底部を貫いて炉室内に形成されたるつぼを支持するための支持棒36、とからなる。
【0004】
原料を満たしたるつぼを支持棒の先端部にセットし、上部の炉室内でヒーターにより加熱し、真空中で原料を溶融する。原料溶融後、一定時間保持した後、独立に調節可能なヒーターにより温度調節された炉内で支持棒を引き下げることによりるつぼを降下させ(場合によっては回転させながら降下させる)、結晶成長させる。
【0005】
また、たとえば特開平4-39198号に記載されているように、炉室を2室として、側面ヒーター、天井ヒーター、底部ヒーターとを独立に制御することにより、炉内に温度分布の均一な部分を形成し、炉内で高温アニールを行うことにより、耐エキシマ性に優れた蛍石の製造が可能である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このようなブリッジマン法による製造装置において、より大きな蛍石単結晶を得るためにφ300程度のインゴット外径の大きな蛍石を製造したところ、単結晶となることはほとんどなく、大抵の場合多結晶となってしまった。これではφ200を越えるようなレンズ素材を取ることはできない。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明者らはまず、従来のブリッジマン法による引き下げによる結晶化に代えて、るつぼを固定して炉温を低下させる方法を採用することにした。この方法自体は、例えば「結晶成長ハンドブック」に示されているように、古くから知られている方法(タンマン法、垂直温度勾配凝固法)である。垂直温度勾配凝固法は、発熱体(ヒーター)や断熱材の構成を工夫することにより結晶成長に適した温度分布を形成する方法であるが、炉内の温度分布の制御がブリッジマン法に比較して複雑になると考えられてきた。
【0008】
そこで、本発明者らは、特に直径250mmを超える大口径蛍石単結晶を得るための製造装置として炉内の温度分布を制御する方法を種々検討した結果、次のような結晶成長方法によって、直径250mmを超える大口径蛍石単結晶を得ることに成功した。
本発明は第1に、炉室を形成する炉本体と、該炉室内に配置され独立に制御可能な天井ヒーター及び底部ヒーターと、前記炉室内にるつぼを保持するための支持棒と、を有し、前記天井ヒーターが、内周部と外周部の2分割構造を有するヒーターであることを特徴とする、直径250mmを超える大口径蛍石の製造装置を提供する。
【0009】
また、本発明は第2に、天井ヒーターと底部ヒーターとを有し、前記天井ヒーターが、内周部と外周部の2分割構造を有するヒーターである真空電気炉内にるつぼを配置し、るつぼ内部の融液の半径方向の温度がほぼ均一になるようにし、単結晶成長方向に温度勾配を持たせて結晶成長を行い、蛍石単結晶のインゴットを得ることを特徴とする直径250mmを超える大口径蛍石の製造方法を提供する。
【0010】
直径250mmを越える大口径蛍石単結晶を得るためには、インゴットの外径で280mm以上は必要である。従って直径280mm以上の単結晶インゴットを得ることと本発明は同等である。
【0011】
【発明の実施の形態】
従来の垂直ブリッジマン法では、鉛直方向に温度勾配がついた電気炉の中を、融液を含んだルツボが降下することにより、ルツボ先端から結晶が成長する。融点近傍の温度勾配と引き下げの速度を調節することにより単結晶を成長させることができる。結晶化による固化熱(潜熱)を充分早く奪うことが重要な点であり、固化熱が固化した結晶を伝わって逃げるとすると、温度勾配と固液界面の移動速度との間に次の関係が必要となる。
【0012】
fmax=ks Gs/L
ここで、fmaxは界面の移動速度の最大値、Gsは固体中の温度勾配、Lは固化熱である。ハンドブックのデータから、L=1.21 [kJ/cm3]、ks=1[W/m K](1600K)を代入すると、
fmax=0.030Gs 、 fmax:cm/H Gs:K/cm
であり、生産効率から引き下げ速度は 0.1cm/H程度が限界のため、Gsは3.3K/cm以上が必要になる。インゴット外径が小さい時には、側面のヒーターの設定や側面の熱遮蔽板などの工夫、さらにはルツボを支持する棒の冷却方法で融点近傍の温度勾配を大きく設定することが容易にできた。しかし、外径が大きくなり、高さも高くなってくるとルツボの中心付近や、ルツボの先端から離れた位置では大きな温度勾配を作ることが次第に困難となる。このために固化熱が移動できず、過冷却状態となり、多結晶となってしまうのである。
【0013】
そこで、本発明においてはこのルツボ中心部分でも充分な温度勾配を持たせるために、引き下げによる結晶化を止め、天井部分と底部分のヒーターをルツボの近くに配することで成長方向の温度勾配が半径方向において同一になるようにし、単結晶化を実現させた。
なお、本発明においては、インゴットの高さはあまり高すぎると、固化した部分が熱応力で割れてしまうため、200mmとしてある。このため、側面ヒーターがなくとも、天井ヒーターおよび底部ヒーターの温度制御により、結晶成長の際の温度制御が可能となる。しかしながら、より精密な温度制御のためには、側面ヒーターを設け、天井ヒーターを内周部と外周部の2分割構造を有するヒーターとすることも可能である。このようなヒーターの構成とした場合には、インゴットの半径方向の温度制御が可能である。
【0014】
【実施例】
1. 図1のように真空電気炉の内部にルツボ、天井ヒーター、底部ヒーターを配置した電気炉を製作した。ルツボは先端部を円錐形状(150度)とし、その先端から結晶成長が開始するようにした。熱電対を各ヒーターの近傍におき、きわめて早い応答で制御できるよう注意する。インゴットの高さはあまり高すぎると、固化した部分が熱応力で割れてしまうため、200mmとしてある。天井ヒーターの温度を1550℃、底部ヒーターの温度を1390℃とすることで、温度勾配が8K/cmとできる。この温度差160℃を維持しながら、1時間あたり1℃下げながら、結晶を成長させていく。天井ヒーターの温度が1350℃になるまで、温度を下げたところで、両ヒーターの温度が1300℃に等しくなるように50時間かけて調節し、インゴットが割れないように徐々に冷却する。こうして、φ300×200の単結晶を成長させることができた。
【0015】
2. 天井ヒーターを2分割とし、図2のような形状とした。インゴットの半径方向で成長速度に差が生じないように、内周部と外周部で温度設定を変えることができる構造とした。単結晶を成長させるために必要な、わずかに上凸の固液界面を実現させるためには、中心部分を少し温度が下がるようにすることがポイントである。成長初期にはルツボ支持棒があるためこの環境が実現しやすいが、成長の後半ではこの効果が期待できないため、天井ヒーターによる調節ができるようにした。底部ヒーターも2分割とすることも効果的であるが、天井ヒーターの効果の方が大きい。
【0016】
【発明の効果】
本発明によれば、従来のブリッジマン法では単結晶化がきわめて困難であった、φ300の蛍石単結晶が得られ、最大φ270のレンズ素材の提供が可能となった。ステッパーの投影レンズとしてこのサイズが可能になったことで、光学設計に選択肢が広がった効果は、使用可能な素材が限定されるこの分野においては大変画期的である。さらに、引き下げを行わない成長方法であるため、装置の高さが低くなり、装置の製作費用を従来の70%まで抑えることができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の蛍石単結晶の製造装置の模式図
【図2】 天井ヒーターを2分割とした本発明の蛍石単結晶の製造装置の模式図
【図3】従来の蛍石単結晶の製造装置の模式図
【符号の説明】
11 ベルジャー
12 断熱材
13 ヒーター
14 ルツボ
15 支持棒
21 ベルジャー
22 断熱材
23 ヒーター
24 ルツボ
25 支持棒
31 ベルジャー
32 断熱材
33 ヒーター
34 ルツボ
35 熱遮蔽板
36 支持棒(引き下げ棒)

Claims (6)

  1. 炉室を形成する炉本体と、該炉室内に配置され独立に制御可能な天井ヒーター及び底部ヒーターと、前記炉室内にるつぼを保持するための支持棒と、を有し、前記天井ヒーターが、内周部と外周部の2分割構造を有するヒーターであることを特徴とする、直径250mmを超える大口径蛍石の製造装置。
  2. 直径250mmを超える大口径蛍石の製造方法において、
    天井ヒーターと底部ヒーターとを有し、前記天井ヒーターが、内周部と外周部の2分割構造を有するヒーターである真空電気炉内にるつぼを配置し、るつぼ内部の融液の半径方向の温度がほぼ均一になるようにし、単結晶成長方向に温度勾配を持たせて結晶成長を行い、蛍石単結晶のインゴットを得ることを特徴とする大口径蛍石の製造方法。
  3. 請求項2に記載の大口径蛍石の製造方法において、前記天井ヒーターの内周部の温度が外周部よりも低くなるように温度設定をして結晶成長を行うことを特徴とする直径250mmを超える大口径蛍石の製造方法。
  4. 請求項2または請求項3に記載の大口径蛍石の製造方法において、前記インゴットの高さが200mm以下であることを特徴とする直径250mmを超える大口径蛍石の製造方法。
  5. 請求項2〜4のいずれかに記載の大口径蛍石の製造方法において、以下の工程からなる。
    第1工程:原料を満たしたるつぼを支持棒の先端部にセットする工程
    第2工程:ヒーターによりるつぼを加熱し、真空中で原料を溶融する工程
    第3工程:前記原料溶融後、一定時間、一定温度で保持した後、独立に調節可能な天井ヒーター及び底部ヒーターにより温度調節された炉室内で支持棒を回転させながら結晶成長させる工程
  6. 請求項5に記載の大口径蛍石の製造方法において、
    前記第3工程は、さらに以下の工程からなる。
    第3−1工程:天井ヒーター及び底部ヒーターの温度差を一定に保持しながら、一定温度ずつ降温して結晶成長させる工程。
    第3−2工程:前記結晶成長終了後、天井ヒーター及び底部ヒーターの温度が融点以下でかつ等しくなるようにヒーターの温度を調節する工程
    第3−3工程:前記工程終了後、インゴットが割れない程度の速さで一定温度ずつ降温する工程
JP24422597A 1997-09-09 1997-09-09 大口径蛍石の製造装置および製造方法 Expired - Lifetime JP3988217B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24422597A JP3988217B2 (ja) 1997-09-09 1997-09-09 大口径蛍石の製造装置および製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24422597A JP3988217B2 (ja) 1997-09-09 1997-09-09 大口径蛍石の製造装置および製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1179880A JPH1179880A (ja) 1999-03-23
JP3988217B2 true JP3988217B2 (ja) 2007-10-10

Family

ID=17115612

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24422597A Expired - Lifetime JP3988217B2 (ja) 1997-09-09 1997-09-09 大口径蛍石の製造装置および製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3988217B2 (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10010484A1 (de) * 2000-03-03 2001-09-13 Schott Glas Verfahren und Vorrichtung zur Züchtung von großvolumigen orientierten Einkristallen
DE19912484A1 (de) * 1999-03-19 2000-09-28 Freiberger Compound Mat Gmbh Vorrichtung zur Herstellung von Einkristallen
US6350310B1 (en) 1999-06-07 2002-02-26 Sandia Corporation Crystal growth and annealing for minimized residual stress
US6309461B1 (en) * 1999-06-07 2001-10-30 Sandia Corporation Crystal growth and annealing method and apparatus
FR2813616B1 (fr) * 2000-09-05 2003-10-24 Sorem Procede de cristallogenese et installation pour sa mise en oeuvre, et cristaux obtenus
EP1475464A1 (en) * 2003-05-06 2004-11-10 Corning Incorporated Method for producing an optical fluoride crystal
JP2009149452A (ja) * 2007-12-18 2009-07-09 Hitachi Cable Ltd 半導体結晶成長方法
TW200928018A (en) * 2007-12-21 2009-07-01 Green Energy Technology Inc Crystal-growing furnace with convectional cooling structure
KR101136143B1 (ko) * 2009-09-05 2012-04-17 주식회사 크리스텍 사파이어 단결정 성장방법과 그 장치
CN102766901B (zh) * 2012-08-20 2015-09-30 元亮科技有限公司 实时可调温度梯度法生长大尺寸高温晶体的装置及方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH1179880A (ja) 1999-03-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003501339A (ja) 結晶成長およびアニーリング方法および装置
US6969502B2 (en) Method and device for growing large-volume oriented monocrystals
JP3988217B2 (ja) 大口径蛍石の製造装置および製造方法
US20040099205A1 (en) Method of growing oriented calcium fluoride single crystals
JP2008508187A (ja) 溶融物から単結晶を成長させる方法
JPH0769775A (ja) 粒状物質から製造された融解物の結晶化により凝固時に膨張する半導体材料からの棒またはインゴットの製造方法ならびにその実施装置
TW200902774A (en) Method for manufacturing silicon single crystal
JP3006148B2 (ja) 耐エキシマ性に優れた蛍石の製造装置
JP2973917B2 (ja) 単結晶引き上げ方法
JP4147595B2 (ja) 蛍石単結晶の製造方法
JP3006147B2 (ja) 大口径の蛍石単結晶の製造装置
JP2006219352A (ja) 単結晶製造装置及び単結晶製造方法
JPH09175889A (ja) 単結晶引き上げ装置
US6736893B2 (en) Process for growing calcium fluoride monocrystals
JPH04104988A (ja) 単結晶成長方法
JP3725280B2 (ja) 蛍石単結晶の製造装置及び製造方法
US5968260A (en) Method for fabricating a single-crystal semiconductor
JP2005035824A (ja) フッ化物結晶育成装置
JPH11292696A (ja) 蛍石の製造装置
US20040221793A1 (en) Method for producing an optical fluoride crystal without annealing
JP2004010461A (ja) 結晶製造装置および結晶製造方法
KR102443802B1 (ko) 반도체 링 제조장치 및 그를 이용한 반도체 링 제조방법
JP2019043788A (ja) 単結晶育成方法及び単結晶育成装置
JP3542444B2 (ja) 結晶製造装置及び方法
JPS5964591A (ja) 単結晶引上装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040901

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20040901

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061114

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070206

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070329

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20070516

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070626

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070709

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100727

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100727

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130727

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130727

Year of fee payment: 6

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130727

Year of fee payment: 6

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130727

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term