JP3962804B2 - 洗浄装置 - Google Patents
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Description
半導体基板の表面を洗浄する方法としては、その製造段階において、純水を注ぎながら超音波で半導体基板の表面に付着した微粒子を除去することが実施されている。また、純水洗浄の前段階として、高濃度の酸、アルカリや洗剤などによる薬品洗浄工程を行う場合があり、薬品としてアンモニア過酸化水素洗浄液等が利用されている。
特開2000−354729号公報には、電子部品部材類の洗浄に際し、汚染微粒子の再付着を防止すると共に、還元性機能水の性能を損なうことのない静電気帯電防止能を有する洗浄用機能水の製造方法及び製造装置が開示されており、純水に水素ガスを溶解する水素ガス溶解槽、炭酸ガス又はアンモニアガスを溶解して所定の比抵抗に調整する比抵抗調整槽、及び洗浄槽を備えている。
(1)電気伝導度10.0μS/cm(0.1MΩ・cm)の場合、水浸した携帯電話機50台のうち、39台が再使用可能になった。
(2)電気伝導度0.1μs/cm(10.0MΩ・cm)の場合、水浸した携帯電話機50台のうち、49台が再使用可能になった。
上述した結果から、電気伝導度が低い洗浄水(純度の高い純水)であるほど、洗浄効果が高いという結果が得られた。尚、使用不能になった携帯電話機は、井戸水もしくは水道水(200μS/cm)に水浸させたもので、これを乾燥させた結果、その機能が回復しなかったものである。
携帯電話機による実験によれば、本洗浄方式により、5台のうち4台が再使用可能になった。
風呂またはトイレに落下浸漬した電子機器の場合は、1次洗浄槽にpH2.9〜3.5の酸性洗浄液を注入して洗浄すると効果的である。
携帯電話機による実験によれば、本洗浄方式により、5台のうち5台が再使用可能になった。
10 1次洗浄槽
11 洗浄水(純水)
12 洗浄槽本体
13 超音波発生器
14 ポンプ
15 プレフィルタ
16 中空子膜
17 イオン交換樹脂
20 2次洗浄槽
30 操作パネル
31、34 インディケータ
32、35 ランプ
33、36 オンオフスイッチ
38 全体のオンオフスイッチ
40 下部槽カバー
41 下部槽本体
131 振動子
A 被洗浄物
Claims (1)
- 水濡れ汚染により使用不能になった電子機器の機能を一時的に回復させることにより、内部データのバックアップ記録を可能にする洗浄装置であって、
高純度の純水を貯水するように形成した第1再生処理槽と、
前記再生処理層内の純水を循環させる循環手段と、
前記再生処理槽内の純水の純度が保たれるようにした純度保持手段と、
酸性水もしくはアルカリ水を貯水するように形成した第2再生処理槽と、を備えたことを特徴とする洗浄装置。
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