JP3953498B2 - 超小型製品用の円筒形状又は円盤形状の焼結希土類磁石 - Google Patents

Description

本発明は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系希土類磁石、特に、超小型モータなどの超小型製品用の微
小、高性能希土類磁石に関する。

Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系の希土類焼結磁石は、永久磁石の中でも最も高性能磁石として知られ
ており、ハードデスクドライブのボイスコイルモータ（ＶＣＭ）や磁気断層撮影装置（Ｍ
ＲＩ）用の磁気回路などに幅広く使用されている。また、この磁石は内部組織がＮｄ_２Ｆ
ｅ_１４Ｂ主相の周りを薄いＮｄリッチ副相が取り囲んだミクロ組織を持つことによって保
磁力を発生させ、高い磁気エネルギー積を示すことが知られている。

一方、焼結磁石を実際のモータ等に使用する場合には、研削加工によって最終的な寸法
と同心度などを得ることが実際行われているが、この際に微小な研削クラックや酸化など
によって磁石表面層のＮｄリッチ相が損傷を受け、その結果として磁石表面部分の磁気特
性が磁石内部の数分の１にまで低下してしまう。

この現象は、特に、体積に対する表面積比率が大きな微小磁石において著しく、例えば
、（ＢＨ）ｍａｘが３６０ｋＪ／ｍ^３である一辺が１０ｍｍの角ブロック磁石を１×１×
２ｍｍに切断・研削した場合、（ＢＨ）ｍａｘは２４０ｋＪ／ｍ^３程度に低下し、Ｎｄ−
Ｆｅ−Ｂ系希土類磁石本来の磁気特性が得られない。

Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石のこのような欠点を改善するため、機械加工によって生じた
変質層を、機械的研磨や化学的研磨で除去する方法が提案されている（例えば、特許文献
１）。また、研削加工した磁石表面に希土類金属を被着して拡散熱処理をする方法が提案
されている（例えば、特許文献２）。また、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石表面にＳｍＣｏ膜を形
成する方法が見られる（例えば、特許文献３）。

特開平９−２７０３１０号公報 特開昭６２−７４０４８号（特公平６−６３０８６号）公報 特開２００１−９３７１５号公報

近年、例えば、携帯電話用振動モータには外径約２ｍｍのＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系円筒状焼結
磁石が多く使用されているが、その磁気特性を実測すると（ＢＨ）ｍａｘは２３０ｋＪ／
ｍ^３前後であるため、振動強度を低下させずにさらに小型化することが困難である。さら
に、今後マイクロロボットや体内診断用マイクロモータに要求される高出力・超小型アク
チュエータへの適用は一層難しい状況にある。

本発明では、上記のような従来技術の問題を解決し、高性能な希土類磁石を得ることを
目的とし、特に、小体積の希土類磁石を提供することを目的とする。

本発明者らは、焼結磁石ブロックを切断、穴あけ、研削、研磨等により機械加工した微
小磁石を製造する際の加工損傷による磁気特性の劣化について鋭意調査と対策実験を重ね
た結果、希土類磁石本来の磁気特性を回復させた超小型製品用の微小、高性能希土類磁石
の開発に成功した。

すなわち、本発明は、（１）結晶粒径６〜１０μｍのＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石ブロッ
ク素材の切断、穴あけ、表面研削により最終的な寸法に形成された、穴のあいた内表面を
有する円筒形状又は円盤形状の焼結希土類磁石であって、最終的な寸法は、表面積／体積
の比が３ｍｍ^−１以上で、かつ体積が２０ｍｍ^３以下であり、該磁石は、研削加工の際に
磁石表面層のＮｄリッチ相が損傷を受けることにより磁気特性が低下した変質損傷部が改
質されることによって（ＢＨ）ｍａｘを２８０ｋＪ／ｍ^３以上、Ｈｃｊ（ＭＡ／ｍ）が１
．２５以上で、Ｈｋ／Ｈｃｊ（％）が５４以上に回復させたものであり、該改質は、該磁
石の最表面に露出している結晶粒子の半径に相当する深さ３μｍ以上に該磁石内部にＲ金
属（但し、Ｒは、Ｎｄ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｔｂから選ばれる希土類元素の１種又は２種以上）
を拡散浸透し、Ｎｄ₂Ｆｅ₁₄Ｂ主相のＮｄ元素をＲ金属で置換することによってなされて
いることを特徴とする、超小型製品用の円筒形状又は円盤形状の焼結希土類磁石、である
。

また、本発明は、（２）内径０．３ｍｍの穴を開けた円筒状のモータ用磁石であること
を特徴とする上記（１）の焼結希土類磁石、である。

また、本発明は、（３）内径１．９〜３ｍｍの穴を開けた円盤形状のモータ用磁石であ
ることを特徴とする上記（１）の焼結希土類磁石、である。

磁石ブロックを切断、穴あけ、研削、研磨等により機械加工すると、磁石表面部は変質
損傷し、磁気特性が低下する。この変質損傷した表面層を有する磁石表面にＹ及びＮｄを
始めとしてＤｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｔｂから選ばれる希土類金属の一種以上の単独又は各金属
を相当量含有する合金を成膜して磁石内部に拡散させると、例えば、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系希
土類磁石についてみると、これらの希土類金属はＮｄ_２Ｆｅ_１４Ｂ主相及びＮｄリッチ粒
界相のＮｄと同種の希土類金属であるためにＮｄと親和性が良く、Ｎｄリッチ相と主に反
応して機械加工によって変質損傷した表面層部分を容易に修復し磁気特性を回復する機能
を果たす。

また、これらの希土類金属の一部が拡散によってＮｄ_２Ｆｅ_１４Ｂ主相に入り込んでＮ
ｄ元素と置換した場合には、いずれの希土類金属も主相の結晶磁気異方性を増加させ、保
磁力が増加して磁気特性を回復させる働きを有している。特に、Ｔｂが主相のＮｄ元素を
全て置換したＴｂ_２Ｆｅ_１４Ｂの室温における結晶磁気異方性は、Ｎｄ_２Ｆｅ_１４Ｂの約
３倍であるために大きな保磁力が得られ易い。Ｐｒ−Ｆｅ−Ｂ系磁石についても同様な回
復機能が得られる。

希土類金属が拡散処理によって浸透する深さは、該磁石の最表面に露出している結晶粒
子の半径に相当する深さ以上とする。例えば、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の結晶粒径はお
よそ６〜１０μｍであるので、磁石最表面に露出している結晶粒子の半径に相当する３μ
ｍ以上が最低限必要である。これ未満では結晶粒子を包むＮｄリッチ相との反応が不充分
となり、磁気特性の回復がわずかなものとなる。３μｍ以上深くなると保磁力が緩やかに
増加し、Ｎｄ_２Ｆｅ_１４Ｂ主相のＮｄと置換して保磁力をさらに高める効果があるが、過
度に深く拡散すると残留磁化を下げる場合があるため、拡散処理条件を調整して所望の磁
気特性とする深さが望ましい。

本発明において、表面改質による磁気特性の回復は、体積が小さい磁石ほど、また、体
積に対する表面積比の大きい磁石ほど顕著な効果を示す。本発明者らのＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系
焼結磁石のサイズと磁気特性についてのこれまでの研究によれば、磁石サイズがおよそ２
ｍｍ角ブロック以下になると、減磁曲線の角型性が悪くなって保磁力の低下を生じること
が明らかになっている。

このサイズにおいては、磁石体積が８ｍｍ^３で表面積／体積比が３ｍｍ^−１であること
が簡単に計算される。また、円筒形状磁石の場合には、表面積／体積比がさらに増加する
ことになり角型性や保磁力の低下が著しくなる。例として、市販の携帯電話用振動モータ
に搭載されている磁石の外径、内径、長さはそれぞれ２．５ｍｍ、１ｍｍ、４ｍｍ程度で
あり、その体積は約１６．５ｍｍ^３に相当する。

したがって、表面積／体積比が２ｍｍ^−１以上で、より好ましくは３ｍｍ^−１以上で、
かつ体積がおよそ１００ｍｍ^３以下、さらには２０ｍｍ^３以下の小型磁石においては、特
に表面層改質による効果が著しく、市販の振動モータに搭載されているＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系
磁石の（ＢＨ）ｍａｘがおよそ２４０ｋＪ／ｍ^３に対して、本発明においては、２８０ｋ
Ｊ／ｍ^３以上、例えば３００〜３６０ｋＪ／ｍ^３の高い値が得られる。また、本発明の円
筒状又は円盤形状の焼結磁石は、実施例に示されるように、Ｈｃｊ（ＭＡ／ｍ）が１．２
５以上で、Ｈｋ／Ｈｃｊ（％）が５４以上である。

従来、焼結磁石ブロック素材の機械加工により製造した微小磁石は、（ＢＨ）ｍａｘは
２４０ｋＪ／ｍ^３程度に低下し、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系希土類磁石本来の磁気特性が得られな
かった。本発明は、表面積／体積の比が３ｍｍ^−１以上で、かつ体積が２０ｍｍ^３以下の
円筒形状又は円盤形状の焼結希土類磁石で（ＢＨ）ｍａｘが２８０ｋＪ／ｍ^３以上の微小
磁石を実現した。

以下、本発明の微小、高性能希土類磁石の製造方法を製作工程にしたがって更に詳しく
説明する。本発明で対象とする希土類磁石ブロック素材は、原料粉末の焼結法や原料粉末
をホットプレスした後に熱間塑性加工法によって製作されたものである。これらの希土類
磁石ブロック素材を切断、穴あけ、研削、研磨等により機械加工して穴のあいた内表面を
有する円筒形状又は円盤形状の微小磁石を製作する。これにより、表面積／体積の比が３
ｍｍ^−１以上で、かつ体積が２０ｍｍ^３以下の微小磁石を製作する。機械加工により形成
する磁石の形状は、好ましくは、実施例に記載するように、例えば、内径０．３ｍｍの微
小な穴を開けた円筒状の磁石や、内径１．９〜３ｍｍの微小な穴を開けた円盤形状の磁石
である。

微小磁石として好適な合金系としては、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系やＰｒ−Ｆｅ−Ｂ系などが代
表的なものとして例示される。なかでも、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石は最も磁気特性が高
いにもかかわらず機械加工による特性低下が大きいものである。

変質損傷した表面層を有する磁石表面に成膜する金属は、磁石を構成するＮｄ等の希土
類金属リッチ相の修復強化を目的とするために、Ｙ及びＮｄを始めとしてＤｙ、Ｐｒ、Ｈ
ｏ、Ｔｂから選ばれる希土類金属の一種以上の単独又はＹ、Ｎｄ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｔ
ｂなどの希土類金属を相当量含有する合金、例えば、Ｎｄ−Ｆｅ合金やＤｙ−Ｃｏ合金等
を用いる。

磁石表面への成膜法については特に限定されるものではなく、蒸着、スパッタリング、
イオンプレーティング、レーザーデポジション等の物理的成膜法や、ＣＶＤやＭＯ−ＣＶ
Ｄ等の化学的気相蒸着法、及びメッキ法などの適用が可能である。但し、成膜ならびに加
熱拡散の各処理においては、１０^−７Ｔｏｒｒ以下ならびに酸素、水蒸気等の大気由来ガ
スが数十ｐｐｍ以下の清浄雰囲気内で行うことが望ましい。

Ｒ金属を加熱により磁石表面から拡散浸透させる際の雰囲気が、通常入手される高純度
アルゴンガス程度の純度の場合は、アルゴンガス内に含まれる大気由来ガス、すなわち、
酸素、水蒸気、二酸化炭素、窒素等により、該磁石加熱時に表面に被着させたＲ金属が、
酸化物、炭化物、窒化物となり、効率よく内部組織相まで拡散到達しないことがある。従
って、Ｒ金属の加熱拡散時の雰囲気に含まれる大気由来不純物ガス濃度を５０ｐｐｍ程度
以下、望ましくは１０ｐｐｍ程度以下とするのが望ましい。

円筒や円盤などの形状をした微小磁石の表面の全部に極力均一な膜を形成するには、複
数のターゲットから磁石表面に３次元的に金属成分を成膜させるスパッタリング法、又は
金属成分をイオン化させて、静電気的な吸引強被着特性を利用して成膜させるイオンプレ
ーティング法が特に有効である。

また、スパッタリング作業における希土類磁石のプラズマ空間内の保持については、一
個あるいは複数個の磁石を線材や板材で回転自在に保持する方法や、複数個の磁石を金網
製の籠に装填して転動自在に保持する方法を採用することができる。このような保持方法
により三次元的に微小磁石の表面全体に均一な膜を形成することができる。

上記の成膜用希土類金属は、磁石表面に単に被覆されているだけでは磁気特性の回復が
認められないため、成膜した希土類金属成分の少なくとも一部が磁石内部に拡散してＮｄ
などの希土類金属リッチ相と反応していることが必須である。このため、通常は成膜した
後に、好ましくは、各実施例に示すように７００〜８５０℃におい１０分間程度の短時間
の熱処理を行って成膜金属を拡散させる。また、この熱処理に次いで、各実施例に示すよ
うに２段目として、時効熱処理を兼ねて６００℃〜５５０℃程度の低い温度で３０〜６０
分間程度熱処理する。スパッタリングの場合には、スパッタリング時のＲＦ及びＤＣ出力
を上げて成膜することにより成膜中の磁石を上記温度範囲、例えば８００℃位にまで上昇
させることができるため、実質的に成膜させながら同時に拡散を行うこともできる。

図４に、本発明の磁石を得るための製造方法を実施するのに好適な３次元スパッタ装置
の概念を示す。図４において、輪状をした成膜金属からなるターゲット１およびターゲッ
ト２を対向させて配置し、その間に水冷式の銅製高周波コイル３を配置する。円筒形状磁
石４の筒内部には、電極線５が挿入されており、該電極線５はモータ６の回転軸に固定さ
れて円筒形状磁石４を回転できるように保持している。

ここで、円筒形状磁石４の筒内部と電極線５との回転時の滑り防止のために、電極線５
は微細な波形にねじられて筒内部に接触している。微小磁石の重さは数十ｍｇ程度なので
電極線５と円筒形状磁石４との回転時の滑りはほとんど起きない。

さらに、陰極切り替えスイッチ（Ａ）により円筒形状磁石４の逆スパッタが実施可能な
機構を有している。逆スパッタ時は電極線５を通じて磁石４を負電位にして、磁石４の表
面のエッチングをする。通常スパッタ作業時はスイッチ（Ｂ）に切り替えて行う。通常ス
パッタ時は電極線５に電位を与えずにスパッタ成膜をするのが一般的であるが、成膜する
金属の種類や膜質制御のため、場合によっては電極線５を通じて磁石４に正のバイアス電
位を与えてスパッタ成膜をすることもある。通常スパッタ中は、Ａｒイオンとターゲット
１、２から発生する金属粒子、及び金属イオンが混在したプラズマ空間７を形成して、円
筒形状磁石４の表面の上下左右前後から３次元的に金属粒子が飛来して成膜される。

このような方法で成膜した磁石は、成膜しながら拡散させていない場合は、スパッタ装
置内を大気圧に戻した後にスパッタ装置に連結したグローブボックスに大気に触れずに移
送して、同じく該グローブボックス内に設置した小型電気炉に装填して膜を磁石内部に拡
散させるために熱処理を行う。

なお、一般に希土類金属は酸化され易いため、成膜後の磁石表面にＮｉやＡｌなどの耐
食性金属や撥水性のシラン系被膜を形成して実用に供することが望ましい。また、改質表
面金属がＤｙやＴｂの場合にはＮｄと比較して空気中での酸化進行が著しく遅いため、磁
石の用途によっては耐食性被膜を設けることを省略することも可能である。

以下、本発明を実施例にしたがって詳細に説明する。
Ｎｄ_１２．５Ｆｅ_７８．５Ｃｏ_１Ｂ_８組成の合金インゴットからストリップキャスト法
によって厚さ０．２〜０．３ｍｍの合金薄片を製作した。次に、この薄片を容器内に充填
し、５００ｋＰａの水素ガスを室温で吸蔵させた後に放出させることにより、大きさ約０
．１５〜０．２ｍｍの不定形粉末を得て、引き続きジェットミル粉砕をして粒径約３μｍ
の微粉末を製作した。この微粉末にステアリン酸カルシウムを０．０５ｗｔ％添加混合し
た後に磁界中プレス成形をし、真空炉に装填して１０８０℃で１時間焼結をして、１８ｍ
ｍ角の立方体磁石ブロック素材を得た。

次いで、この立方体磁石ブロック素材に砥石切断と外径研削、及び超音波穴あけ加工を
して外径１ｍｍ、内径０．３ｍｍ、長さ３ｍｍの円筒形状磁石を製作した。この状態のま
まのものを比較例試料（１）とした。体積２．１４ｍｍ^３ 、表面積１３．６７ｍｍ^２、
表面積／体積の比は６．４ｍｍ^−１である。

次に、図４に示す３次元スパッタ装置を用い、この円筒形状磁石表面へ金属膜を成膜し
た。ターゲットとして、ディスプロシウム（Ｄｙ）金属を用いた。円筒形状磁石の筒内部
には、電極線として直径０．２ｍｍのタングステン線を挿入させた。用いた輪状ターゲッ
トの大きさは、外径８０ｍｍ、内径３０ｍｍ、厚さ２０ｍｍとした。

実際の成膜作業は以下の手順で行った。上記円筒形状磁石の筒内部にタングステン線を
挿入してセットし、スパッタ装置内を５×１０^−５Ｐａまで真空排気した後、高純度Ａｒ
ガスを導入して装置内を３Ｐａに維持した。次に、陰極切り替えスイッチを（Ａ）側にし
て、ＲＦ出力２０ＷとＤＣ出力２Ｗを加えて１０分間の逆スパッタを行って磁石表面の酸
化膜を除去した。続いて、切り替えスイッチを（Ｂ）側にして、ＲＦ出力８０ＷとＤＣ出
力１２０Ｗを加えて６分間の通常スパッタを行った。

得られた成膜磁石は、装置内を大気圧に戻した後にスパッタ装置に連結したグローブボ
ックスに大気に触れずに移送して、同じく該グローブボックス内に設置した小型電気炉に
装填して初段目を７００〜８５０℃で１０分間、２段目を６００℃で３０分間の拡散熱処
理を行った。これらを本発明試料（１）〜（４）とした。なお、熱処理における磁石の酸
化を防止するため、グローブボックス内は精製Ａｒガスを循環させ、酸素濃度を２ｐｐｍ
以下に、露点を−７５℃以下に維持した。

各試料の磁気特性は、４．８ＭＡ／ｍのパルス着磁を印加した後に振動試料型磁力計を
用いて測定した。表１に、各試料の磁気特性値を、図１に、比較例試料（１）及び本発明
試料（１）と（３）の減磁曲線を抜粋して示す。

表１から明らかなように、Ｄｙ金属成膜とその後の拡散熱処理によって本発明試料はい
ずれも比較例試料より高い最大エネルギー積（ＢＨ） _ｍａｘを示し、特に、試料（３）に
おいては比較例試料（１）と比較して３８％の回復が認められた。この理由は、機械加工
によって損傷を受けたＮｄリッチ層が修復強化されたことによると推察され、その結果と
して、図１の減磁曲線の形状から明らかなように、未処理の比較例試料と比較して表面改
質された本発明試料の角型性（Ｈｋ／Ｈｃｊ）が著しく改善されている。ここで、Ｈｋは
、減磁曲線上において磁化の値が残留磁化の９０％に相当するときの磁界を意味する。

上記測定後の試料についてＤｙ膜の観察を行った。まず、本発明試料（１）について、
樹脂に埋め込み研磨した後に硝酸アルコールで軽くエッチングをし、５００倍の光学顕微
鏡で観察した。その結果、約２μｍの皮膜が試料の外周全面に均一に形成されていること
がわかった。

また、本発明試料（２）については、分析型走査型電子顕微鏡を用いて磁石の内部構造
を観察した。その結果、図２（ａ）の反射電子像に示すように、試料表面部はＤｙ成膜と
その後の熱処理によって内部と異なった構造を呈していた。また、図２（ｂ）のＤｙ元素
像によれば、表面層に高濃度のＤｙが存在すると同時に、試料内部にもＤｙ元素が拡散浸
透していることがわかり、拡散深さはおよそ１０μｍであることがわかった。なお、像中
央部に見られるＤｙ高濃度箇所は研磨時に剥がれた表層が一部転写したためと推測される
。

実施例１において製作した外径１ｍｍ、内径０．３ｍｍ、長さ３ｍｍの円筒形状磁石に
、Ｎｄ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｔｂ、及びＡｌの各金属をそれぞれ成膜した。ここでＮｄとＡｌの
ターゲット寸法は、実施例１のＤｙと同じく外径８０ｍｍ、内径３０ｍｍ、厚さ２０ｍｍ
とし、ＰｒとＴｂターゲットは、上記Ａｌターゲットの試料に対向する面にのみ厚さ２ｍ
ｍの各金属を貼付固定して製作した。

Ｎｄ金属ターゲットを３次元スパッタ装置に取り付けた後、円筒形状磁石をタングステ
ン電極線に２個セットし、Ｎｄ金属を磁石表面に成膜した。同様に他の金属を成膜した。
成膜作業は、装置内にＡｒガスを導入して装置内圧力を３Ｐａに維持し、ＲＦ出力２０Ｗ
とＤＣ出力２Ｗを加えて１０分間の逆スパッタを行い、続いてＲＦ出力１００ＷとＤＣ出
力２００Ｗを加えて５分間スパッタを行った。

各金属皮膜の厚さは、磁石２個の内１個を樹脂に埋め込んで顕微鏡観察した結果、Ａｌ
が３．５μｍ、希土類金属は２．５〜３μｍの範囲であった。一方、他の磁石はグローブ
ボックス内の小型電気炉に装填し、初段目を８００℃で１０分間と２段目を６００℃で３
０分間の拡散熱処理を行って本発明試料（５）から（８）、及び比較例試料（２）とした
。

なお、比較例試料（１）は表１より再掲載し、比較例試料（３）はＮｄを成膜したまま
熱処理を施さない試料である。得られた磁石試料の磁気特性を表２に示す。表２から明ら
かなように、成膜金属がＡｌの場合には金属膜のない比較例試料（１）とほぼ同等の磁気
特性であり、表面改質の効果が見られない。また、比較例試料（３）は拡散熱処理を実施
しないために拡散層が形成されず、磁気特性の回復はみられない。一方、本発明試料はい
ずれも保磁力Ｈｃｊと最大エネルギー積（ＢＨ） _ｍａｘが大幅に回復した。

Ｎｄ_１２．５Ｆｅ_７８．５Ｃｏ_１Ｂ_８組成の合金から、実施例１と同様の工程で外径５
．２ｍｍ、内径１．９ｍｍ、厚さ３ｍｍの円盤形状をした焼結磁石を製作した。この磁石
に外径研削と内径研削加工を施した後、平面研削盤を使用して外径５ｍｍ、内径２ｍｍ、
厚さが０．１ｍｍ，０．２ｍｍ，０．５ｍｍ，０．８ｍｍ，１．２ｍｍ，１．８ｍｍの各
種寸法の円盤状磁石を得た。体積は約２ｍｍ^３〜３０ｍｍ^３、表面積／体積の比は約２１
ｍｍ^−１〜２ｍｍ^−１の範囲である。

これらの磁石をステンレス鋼電極線に通して保持し、神港精機製のアーク放電型イオン
プレーティング装置に取り付けた。そして、装置内を１×１０^−４Ｐａまで真空排気した
後に高純度Ａｒガスを導入して装置内を２Ｐａに維持した。上記ステンレス鋼線に−６０
０Ｖの電圧を印加して２０ｒｐｍで回転させながら、電子銃によって溶解蒸発させ、かつ
熱電子放射電極とイオン化電極によってイオン化したＤｙ粒子を、１５分間磁石表面に堆
積させて膜厚２μｍの磁石試料を製作した。

次に、この試料をグローブボックス内の小型電気炉に装填して、初段目を８５０℃で１
０分間、２段目を５５０℃で６０分間の拡散熱処理を行って、試料厚さ０．１ｍｍの本発
明試料（１４）から厚さ１．２ｍｍの本発明試料（１８）とした。なお、研削加工後の磁
石を厚さ順に比較例試料（７）〜（１１）とした。

図３に、これら試料の厚さ寸法、表面積／体積、体積をパラメータにしたときの磁気特
性（ＢＨ）ｍａｘの結果を示す。図３より、Ｄｙ金属を成膜して拡散熱処理をした本発明
試料（１４）〜（１８）は、未処理の比較例試料（７）〜（１１）に対していずれの寸法
においても（ＢＨ）ｍａｘの回復が見られた。特に、磁石試料の体積が２０ｍｍ^３より小
さく、かつ表面積に対する体積比が３ｍｍ^−１より大きい場合、さらには体積が１０ｍｍ
^３より小さく、かつ表面積に対する体積比が５ｍｍ^−１より大きい場合において、表面改
質による磁気特性の回復効果が著しいことが判った。

本発明は、（ＢＨ）ｍａｘが２８０ｋＪ／ｍ^３以上の、表面積／体積の比が３ｍｍ^−１
以上で、かつ体積が２０ｍｍ^３以下の円筒形状又は円盤形状の焼結希土類磁石を超小型製
品用に提供することができる。また、その結果として、微小で、高性能磁石を用いた超小
型・高出力モータなどの実現に貢献するものである。さらに、従来適用が難しい状況にあ
ったマイクロロボットや体内診断用マイクロモータに要求される高出力・超小型アクチュ
エータへの適用を可能にする。

本発明試料（１）と（３）、及び比較例試料（１）の減磁曲線を示すグラフである。 Ｄｙ成膜後に熱処理した本発明試料（２）のＳＥＭ像（ａ：反射電子像、ｂ；Ｄｙ元素像）を示す図面代用写真である。 本発明及び比較例試料の、磁石試料寸法と（ＢＨ）ｍａｘの関係図である。 本発明の磁石を得るための製造方法に好適に使用できる３次元スパッタ装置のターゲット周辺の模式図である。

符号の説明

１、２：金属ターゲット
３ ：水冷式高周波コイル
４ ：円筒形状磁石
５ ：電極線
６ ：モータ
７ ：プラズマ空間

Claims (3)

1. 結晶粒径６〜１０μｍのＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石ブロック素材の切断、穴あけ、表面研
   削により最終的な寸法に形成された、穴のあいた内表面を有する円筒形状又は円盤形状の
   焼結希土類磁石であって、最終的な寸法は、表面積／体積の比が３ｍｍ^−１以上で、かつ
   体積が２０ｍｍ^３以下であり、該磁石は、研削加工の際に磁石表面層のＮｄリッチ相が損
   傷を受けることにより磁気特性が低下した変質損傷部が改質されることによって（ＢＨ）
   ｍａｘを２８０ｋＪ／ｍ^３以上、Ｈｃｊ（ＭＡ／ｍ）が１．２５以上で、Ｈｋ／Ｈｃｊ（
   ％）が５４以上に回復させたものであり、該改質は、該磁石の最表面に露出している結晶
   粒子の半径に相当する深さ３μｍ以上に該磁石内部にＲ金属（但し、Ｒは、Ｎｄ、Ｄｙ、
   Ｐｒ、Ｔｂから選ばれる希土類元素の１種又は２種以上）を拡散浸透し、Ｎｄ₂Ｆｅ₁₄Ｂ
   主相のＮｄ元素をＲ金属で置換することによってなされていることを特徴とする、超小型
   製品用の円筒形状又は円盤形状の焼結希土類磁石。
2. 内径０．３ｍｍの穴を開けた円筒状のモータ用磁石であることを特徴とする請求項１記載
   の焼結希土類磁石。
3. 内径１．９〜３ｍｍの穴を開けた円盤形状のモータ用磁石であることを特徴とする請求項
   １記載の焼結希土類磁石。

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