JP3926838B2 - 光導波路素子 - Google Patents
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Description
J.D.Joannopouls他著"Photonic crystals",Princeton University Press, 1995. Chutinan et.al., Physical Review B, vol. 62, No.7, p.4488,2000
まず、図3(a)から(c)を参照しつつ本発明による光導波路素子の第1の実施形態を説明する。
図3(a)から(c)に示す光導波路素子について、屈折率補償領域303の配置や屈折率と光の透過率との関係を検討した。以下、その検討結果を説明する。
次に、図8を参照しながら、本発明による光導波路素子の第2の実施形態を説明する。
以下、図10を参照しながら、本発明による光導波路素子の第3の実施形態を説明する。
図12(a)は、屈折率補償領域1103を金(Au)で形成した場合における屈折率補償領域の位置シフト量と透過特性との関係を示すグラフであり、図12(b)は、屈折率補償領域の位置シフトを示す平面図である。図12(a)のグラフの横軸は、屈折率補償領域の位置シフト量である。位置シフト量は、光導波路を挟んで対向する2つの空気穴の中心1304,1305を結んだ線分の中点の位置1306に対して、屈折率補償領域の重心1307がどの方向にどれたけシフトしているかを示す。光導波方向の反対側に位置がシフトしているときは、位置シフト量の前に「−」符号を付加している。
102 空気穴
103 光導波路
201 基板
202 空気穴
203 空気穴
204 低等価屈折率部
205 高等価屈折率部
301 基板
302 光導波路
303 屈折率補償領域
304 穴部
305 フォトニック結晶領域
306 空隙
401 ベース部分
402 光導波部分
403 マスクパターン
404 凹部
405 レジストパターン
406 凹部
503 屈折率補償領域(低屈折率)
602 酸化ニオブとニオブ酸リチウムとの屈折率差を示す矢印
603 窒化アルミニウムとニオブ酸リチウムとの屈折率差を示す矢印
604 穴部(空気穴)の中心
605 穴部(空気穴)の中心
606 中心604と中心605とを結んだ線分の中点
607 屈折率補償領域303の重心
801 穴部
802 穴部
803 ポインティングベクトル
901 基板
902 板状部材
903 屈折率補償領域
904 穴部
905 フォトニック結晶領域
906 空隙
1001 ベース部分
1002 板状部分
1003 マスクパターン
1004 凹部
1005 フォトニック結晶領域
1006 フォトレジスト
1007 電子ビーム描画用レジスト
1008 金属
1101 基板(SOI基板)
1102 光導波路
1103 屈折率補償領域
1104 穴部
1105 フォトニック結晶領域
1201 シリコン層
1202 SiO2層
1203 シリコン層
1204 パターン
1205 空気穴
1206 空隙
1207 フォトレジスト
1208 電子ビーム描画用レジスト
1304 空気穴の中心
1305 空気穴の中心
1306 点1304と点1305を結んだ線分の中点
1307 屈折率補償領域1103の重心
Claims (13)
- 穴部が周期的に配列された複数のフォトニック結晶領域と、前記複数のフォトニック結晶領域の間に形成された光導波路を備え、
前記フォトニック結晶領域に含まれる複数の穴部のうち、前記光導波路の両側において前記光導波路に隣接する複数の穴部は、前記光導波路の導波方向に沿って延びる中心軸に関して対称に配列されており、
前記光導波路の内部に、前記中心軸に関して対称の関係にある各対の穴部に挟まれた部分の等価屈折率が他の部分の等価屈折率よりも高い材料からなる複数の高屈折率部分が導波方向に沿って周期的に配列されており、
前記穴部の半径をrとしたとき、前記各高屈折率部分の重心位置は、いずれも、当該高屈折率部分を挟む前記対の穴部の中心を結ぶ直線の中点から導波方向に沿ってシフトしており、しかも、前記中点から導波方向に0.45r離れた位置と前記中点から導波方向とは反対の方向に0.25r離れた位置との間にある、光導波路素子。 - 前記高屈折率部分の配列周期は、前記フォトニック結晶領域における前記穴部の配列周期に等しい請求項1に記載の光導波路素子。
- 前記複数のフォトニック結晶領域および前記光導波路は基板に形成されている、請求項1に記載の光導波路素子。
- 前記基板の少なくとも表面領域は第1の材料から形成され、
前記高屈折率部分は、前記第1の材料の屈折率とは異なる屈折率を有する第2の材料から形成されている、請求項1に記載の光導波路素子。 - 前記高屈折率部分を構成する前記第2の材料は、前記基板に形成された穴を埋めている、請求項4に記載の光導波路素子。
- 前記第2の材料は、Ga、Si、Al、Ga、Nb、Ta、Ti,Zn、Au、Pt、Ni、およびGeからなる群から選択された少なくとも1種の金属の単体もしくは合金、または前記金属の化合物を含有する、請求項5に記載の光導波路素子。
- 前記金属の化合物は、リン、窒素、酸素、およびヒ素からなる群から選択された少なくとも1種の元素と前記金属との化合物である、請求項6に記載の光導波路素子。
- 前記基板はLiNbO3から形成されており、
前記高屈折率部分はAlNから形成されている、請求項5に記載の光導波路素子。 - 前記基板はLiNbO3から形成されており、
前記高屈折率部分はNb2O5から形成されている、請求項5に記載の光導波路素子。 - 前記高屈折率部分は、前記基板の改質された部分から形成されている、請求項1に記載の光導波路素子。
- 前記基板の改質された部分は、前記基板のうち金属の元素が拡散した部分である、請求項10に記載の光導波路素子。
- 前記基板は、前記複数のフォトニック結晶領域および前記光導波路を含む板状部材と、前記板状部材を支持するベース部材とを備え、
前記穴部は、前記板状部材を貫通する孔から構成されている、請求項1に記載の光導波路素子。 - 前記板状部材と前記ベース部材との間にはエアギャップが設けられている、請求項10に記載の光導波路素子。
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