JP3899854B2 - 現像方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置の製造方法、特に半導体ウェハ(以下、単にウェハと記す)に対するフォトレジスト現像処理に使用する現像方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、半導体デバイスのデザインルールは微細化され、フォトレジスト現像処理工程において、従来問題とならなかった大きさの半導体装置表面上の欠陥も致命的な影響を与えるようになってきている。
【0003】
従来のフォトレジストの現像方法について、図面を参照しながら説明する。図7はフォトレジスト現像方法の工程を示すフロー図であり、図8は従来の現像方法のうち標準的に用いられる現像方法を示す概略図である。
【0004】
図7において、最初の工程は、現像液滴下工程11であり、図8(a)に示すように、ウェハ1の表面に膜状に形成されたレジスト2の上へ現像液吐出ノズル3から現像液4を滴下する。この時、ウェハ1はスピンチャック5によって吸着され、かつ回転している。このことによって、レジスト2の上へ供給された現像液4はウェハ1の中心部から周縁方向へ広げられる。
【0005】
次に、図7において、第2の工程は、現像工程12であり、図8(b)に示すように、ウェハ1の回転を停止して、ウェハ1全面に広がった現像液4を表面張力によりレジスト2の上で保持する。このことによって、現像液4によるレジスト2の現像反応を進行させる。
【0006】
次に、図7において、第3の工程は、リンス工程13であり、図8(c)に示すように、スピンチャック5によってウェハ1を回転させながら、リンス液吐出ノズル6からウェハ1上にリンス液7を滴下する。滴下されたリンス液7が現像液4を洗い流すことによって、ウェハ1を洗浄する。
【0007】
最後に、図7において、第4の工程は、リンス液振り切り工程14で、第5の工程は、乾燥工程15であり、図8(d)に示すように、ウェハ1を回転させてリンス液7を振り切ることによって、ウェハ1の表面にパターン形成されたレジスト2をスピン乾燥させる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような構成では、リンス工程13で、リンス液7によってウェハ表面上の現像液4を除去するが、この時、現像液4中にリンス液7が滴下されることにより現像液4の濃度が低下し、現像液4に溶解しているレジスト成分が析出し、ウェハ1の表面に薄膜状の異物が付着する。その異物がパターン上に付着すると、パターン欠陥となるという問題点を有していた。
【0009】
本発明は上記問題点に鑑み、レジスト成分の析出によるパターン欠陥を低減する現像方法を提供するものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明による現像方法は、ウェハ表面に塗布されたレジストの現像工程を実施し、その後現像液を洗い流すリンス工程前に現像液を振り切ることでレジストを含んでいる現像液をウェハから除去するものである。
【0011】
さらには、現像液を振り切った後、2回目の現像液をウェハに滴下することにより、現像液を振り切った後に残ったレジスト残りを溶解させ、リンス液にてレジスト残留成分を析出させることなく現像液を洗い流す構成を備えたものである。
【0012】
さらには、2回目の現像液をウェハに滴下する工程以降を繰り返すものである。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の一実施形態にかかるレジストの現像方法について、図面を用いて説明する。図1は、本発明のフォトレジスト現像方法の工程を示すフロー図であり、図2(a)〜(e)は、本発明の一実施形態によるレジストの現像方法を示すプロセス工程の概略図である。
【0014】
図1において、最初の工程は、現像液滴下工程21であり、図2(a)に示すように、ウェハ1の表面に膜状に形成されたレジスト2の上へ、現像液吐出ノズル3から現像液4を吐出する。この時、ウェハ1はスピンチャック5により吸着され、回転している。これにより、レジスト2の上に供給された現像液4はウェハ1の中心部から周辺方向へ広げられる。
【0015】
次に、図1において、第2の工程は、現像工程22であり、図2(b)に示すように、ウェハ1の回転を停止してウェハ1全面に広がった現像液4を表面張力によりレジスト2の上でパドル状態に保持する。このことによって、現像液4によるレジスト2の現像反応を進行させる。この時に現像液4がパドル状態に保持される時間は、現像液4がレジスト2の下のウェハ1上に達する時間(現像時エンドポイント)、つまりレジストパターン形成が可能となる現像時間が必要となる。これは、現像液4に溶解する露光部のレジスト2をほとんど溶解する時間である。この時のパドル時間は、レジストの種類によって異なる。
【0016】
次に、図1において、第3の工程は、現像液振り切り工程23であり、図2(c)に示すようにウェハ1を回転させ、現像液4と現像液4に溶解したレジスト2をウェハ1から振り切る。この時、残ったレジスト2が乾燥しない状態で次の工程を行う。
【0017】
次に、図1において、第4の工程は、リンス工程24で、第5の工程は、リンス液振り切り工程25であり、図2(d)に示すようにスピンチャック5によってウェハ1を回転させながら、リンス液吐出ノズル6からウェハ1上にリンス液7を吐出する。吐出されたリンス液7が残ったレジストを含んだ現像液4を洗い流すことによって、ウェハ1を洗浄する。ここでは、リンス液として、脱イオン水である純水を用いている。前の現像液振り切り工程23で、現像液4と現像液4に溶解したレジスト2が振り切られているので、リンス液7と現像液4が混合することで、現像液濃度が低下しても、残った現像液4に溶解したレジスト2事態が大幅に減少しているために析出するレジスト2の不溶化パーティクルの発生を大幅に減少させることができる。
【0018】
最後に、図1において、第6の工程は、乾燥工程26であり、図2(e)に示すようにウェハ1を回転させてリンス液7を振り切ることによって除去し、ウェハ1の表面にパターン形成されたレジスト2をスピン乾燥させる。
【0019】
図3は、本発明の現像方法と従来の現像方法で発生するパターンの欠陥数の関係を示す特性図であり、上記第1の実施形態に関わる実施形態1においては、従来に比べて、1ウェハあたりの欠陥数が大幅に減少していることがわかる。欠陥数の値については、ウェハの大きさ、現像液等で異なる。
【0020】
次に、本発明の第2の実施形態にかかるレジストの現像方法について図面を用いて説明する。図4は、本発明のフォトレジスト現像方法の工程を示すフロー図であり、図5(a)〜(g)は、本発明の一実施形態によるレジストの現像方法を示すプロセス工程の概略図である。
【0021】
図4において、最初の工程は、第1の現像液滴下工程31であり、図5(a)に示すように、ウェハ1の表面に膜状に形成されたレジスト2の上へ、現像液吐出ノズル3から現像液4を吐出する。この時、ウェハ1はスピンチャック5により吸着され、回転している。これにより、レジスト2の上に供給された現像液4はウェハ1の中心部から周辺方向へ広げられる。
【0022】
次に、図4において、第2の工程は、第1の現像工程32であり、図5(b)に示すように、ウェハ1の回転を停止してウェハ1全面に広がった現像液4を表面張力によりレジスト2の上でパドル状態に保持する。このことによって、現像液4によるレジスト2の現像反応を進行させる。この時に現像液4がパドル状態に保持される時間は、現像液4がレジスト2の下のウェハ1上に達する時間(現像時エンドポイント)、つまりレジストパターン形成が可能となる現像時間が必要となる。これは、現像液4に溶解する露光部のレジスト2をほとんど溶解する時間である。この時のパドル時間は、レジストの種類によって異なる。
【0023】
次に、図4において、第3の工程は、現像液振り切り工程33であり、図5(c)に示すようにウェハ1を回転させ、現像液4を振り切る。第1の現像工程32後、従来の技術のようにリンス液を滴下しないので、リンス液と現像液が混合することで析出するレジスト2の不溶化パーティクルの発生を抑えることができる。現像液振り切り工程33の時点で、現像後残ったレジスト2を乾燥させないようにし、連続して次の工程を実施する。
【0024】
次に、図4において、第4の工程は、第2の現像液滴下工程34であり、図5(d)に示すように図5(a)と同様に現像液吐出ノズル3から新しい現像液8を吐出する。この時、ウェハ1はスピンチャック5により吸着され、回転している。これにより、レジスト2の上に供給された現像液4はウェハ1の中心部から周辺方向へ広げられる。現像液4と現像液8は同じものでよい。
【0025】
次に、図4において、第5の工程は、第2の現像工程35であり、図5(e)に示すように図5(b)と同様にウェハ1の回転を停止してウェハ1全面に広がった現像液4をウェハ1の表面に膜状に形成されたレジスト2の上に新しい現像液8を保持する。このことによって、新しい現像液8によるレジスト2の現像反応を進行させる。
【0026】
次に、図4において、第6の工程は、リンス工程36で、第7の工程は、リンス液振り切り工程37であり、図5(f)に示すようにスピンチャック5によってウェハ1を回転させながら、リンス液吐出ノズル6からウェハ1上にリンス液7を吐出する。吐出されたリンス液7が新しい現像液8を洗い流すことによって、ウェハ1を洗浄する。ここでは、リンス液として、脱イオン水である純水を用いている。現像液8中では、溶解したレジスト2が大幅に減少しており、リンス液7と現像液8が混合することで析出するレジスト2の不溶化パーティクルの発生を抑えることができる。
【0027】
最後に、図4において、第8の工程は、乾燥工程38であり、図5(g)に示すようにウェハ1を回転させてリンス液7を振り切ることによって除去し、ウェハ1の表面にパターン形成されたレジスト2をスピン乾燥させる。
【0028】
本発明の第1の実施形態にかかるレジストの現像方法においては、現像液振り切り工程23の後、リンス工程24を行っても、レジストの不溶化物が残るため、これをさらに改善するために、本発明の第2の実施形態としては、現像液振り切り工程33の後、再度現像工程を行うことにより、残ったレジストをさらに溶解し、リンス工程34で洗浄除去したものである。
【0029】
図3に示すように、第2の実施形態に関わる実施形態2においては、従来に比べて、1ウェハあたりの欠陥数が大幅に減少していることがわかる。また、実施形態1より、欠陥数が減少していることがわかる。
【0030】
本発明の第3の実施形態にかかるレジストの現像方法においては、図4における現像液滴下工程34からリンス液振り切り工程37までを連続して、図5においては図5(d)〜(f)に示す工程を少なくとも2回以上繰り返し実行する。
【0031】
現像液8を滴下すると露光部のレジスト2が現像液中に溶解して現像反応が進行する。その後、従来方法ではリンス液7によってウェハ1表面上の現像液4を除去するが、この時、現像液中にリンス液7が滴下されることにより現像液濃度が低下し、現像液4に溶解していたレジスト成分が析出しウェハ表面に付着した。そのため、本発明の実施形態では、現像工程を少なくとも3回に分け、1回目の現像液4はリンス液7を用いないでウェハ1を回転させることで除去する。これは、パドル現像工程中にレジスト2が現像液4に溶解されており、溶解されたレジストの溶解液は、従来のようにその後のリンス工程を行うと沈殿してしまうため、第1の現像液滴下工程31後のリンス工程を省略することでパーティクルの発生を防止することができる。
【0032】
図3に示すように、第3の実施形態に関わる本発明で、現像液滴下工程34からリンス液振り切り工程37までの工程を実施する回数を2回とした実施形態3(1)と、3回とした実施形態3(2)においては、従来に比べて、1ウェハあたりの欠陥数が大幅に減少していることがわかる。また、実施形態3(1)、(2)より、欠陥数が減少し、繰り返し回数の増加とともに欠陥数が減少していることがわかる。つまり、現像工程を繰り返すことでリンス工程時に発生したレジストの不溶化物を再度溶解し、洗い流すことでパーティクルを除去することができる。
【0033】
図6は、現像工程22または現像工程32で、パドル時間と発生するパターン欠陥数の関係を示す特性図であり、今回使用したアニーリングタイプのKrFレジストの場合について、パドル時間が3秒、5秒、10秒と時間を長くするほど、欠陥数が減少していることがわかる。5秒以上で最適となることがわかる。
【0034】
以上のように本実施形態によれば、現像反応によってレジスト成分を含む現像液をリンス液を滴下せずに除去したことにより、リンス液によってウェハを洗浄した時にレジスト成分が析出するのを低減することができる。
【0035】
また、本発明の実施形態について、いくつか詳細に説明したが、本発明の技術的範囲は何ら限定されるものではない。本発明はポジ型レジストの現像方法について説明したが、同じ方法がネガ型レジストを使用する場合にも適用可能であることは言うまでもない。さらに、種々のタイプの溶剤・増感剤・添加剤を使用しているレジストもまた化学増幅型レジストも本発明で使用できる。また、使用されるパターンマスクのCr面積が少ない場合あるいは、多い場合とも本発明を使用することができる。
【0036】
【発明の効果】
以上のように本発明は、ウェハ表面に塗布されたレジストの現像工程を実施し、その後現像液を振り切ることで、溶解したレジストを含んでいる現像液をウェハから除去することになり、現像液を洗い流すリンス工程で、リンス液と現像液と混ざることにより発生するレジスト成分の析出を抑えることができ、パターン欠陥を大幅に低減することができる。
【0037】
また、現像工程と現像液振り切り工程後、リンス工程前に、第2の現像工程を行うことにより、さらに残ったレジストを溶解した後、リンス液による洗浄を行うため、さらにレジスト成分の析出を抑え、パターン欠陥を低減させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態による現像方法の工程を示すフロー図
【図2】本発明の第1の実施の形態による現像方法を示すプロセス工程の概略図
【図3】本発明の実施の形態における現像方法と従来の現像方法で発生するパターンの欠陥数を比較する特性図
【図4】本発明の第2の実施の形態による現像方法の工程を示すフロー図
【図5】本発明の第2の実施の形態による現像方法を示すプロセス工程の概略図
【図6】本発明の実施の形態におけるパドル時間と発生する欠陥数の関係を示す特性図
【図7】従来の現像方法の工程を示すフロー図
【図8】従来の現像方法を示すプロセス工程の概略図
【符号の説明】
1 ウェハ
2 レジスト
3 現像液吐出ノズル
4 現像液
5 スピンチャック
6 リンス液吐出ノズル
7 リンス液
8 現像液
Claims (4)
- 表面にレジストを塗布した半導体ウエハを回転させながら前記半導体ウエハ上へ現像液を供給する第1の現像液滴下工程と、前記現像液の供給を停止して前記半導体ウエハの表面において、前記現像液によるレジストの現像反応を進行させる第1の現像工程と、前記半導体ウエハを回転させて前記現像液と前記現像液に溶解された前記レジストを除去した後、前記半導体ウエハを回転させながら前記半導体ウエハの表面へ前記現像液を供給する第2の現像液滴下工程と、前記現像液の供給を停止して前記半導体ウエハの表面において前記現像液によるレジストの現像反応を進行させ、溶解しきれなかった前記レジストを溶解する第2の現像工程と、前記第2の現像工程に連続し、リンス液を使用して前記現像液と溶解された前記レジストを洗い流す工程とを備えたことを特徴とする現像方法。
- 第1の現像工程はパドルを形成し、現像時間は、前記現像液が前記レジストを溶解させ、前記半導体ウエハ上に達する時間以上であることを特徴とする請求項1記載の現像方法。
- レジストを除去する工程の後、第2の現像液滴下工程前に、現像後残った前記レジストを乾燥させないことを特徴とする請求項1記載の現像方法。
- 表面にレジストを塗布した半導体ウエハを回転させながら前記半導体ウエハ上へ現像液を供給する第1の現像液滴下工程と、前記現像液の供給を停止して前記半導体ウエハの表面において、前記現像液によるレジストの現像反応を進行させる第1の現像工程と、前記半導体ウエハを回転させて前記現像液と前記現像液に溶解された前記レジストを除去する工程と、前記半導体ウエハを回転させながら前記半導体ウエハの表面へ前記現像液を供給する第2の現像液滴下工程と、前記現像液の供給を停止して前記半導体ウエハの表面において前記現像液によるレジストの現像反応を進行させ、溶解しきれなかった前記レジストを溶解する第2の現像工程と、リンス液を使用して前記現像液と溶解された前記レジストを洗い流す工程とを備え、前記第2の現像液滴下工程、前記第2の現像工程および前記リンス液を使用して現像液と溶解されたレジストを洗い流す工程の組み合わせを少なくとも2回以上行うことを特徴とする現像方法。
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