JP3893914B2 - 水蒸気の発生装置および水蒸気の発生量調整方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、熱処理炉内の雰囲気ガスを加湿するために用いる水蒸気の発生装置および水蒸気の発生量調整方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
熱処理設備においては、普通、熱処理炉で雰囲気ガスを使用して鋼板等の被処理材を処理している。例えば、鋼板の種類によっては、所望の品質を得るために露点を調整された雰囲気ガス中で脱炭処理を行う場合がある。
脱炭は、雰囲気ガス中の水蒸気と鋼板中の炭素分との間で、
H2 O + C → H2 +CO
の反応を行わせ、鋼板中の炭素分を減少させる処理である。また、露点は、雰囲気ガス中の水蒸気が結露し始める温度であり、一般に、熱処理炉内の水蒸気量の管理は、露点を調整することにより行っている。
【0003】
したがって、雰囲気ガスの露点制御を精度よく行うためには、熱処理炉内の水蒸気量を高精度にコントロールすることが重要である。
例えば、特開平1-263216号公報には、図7に示す熱処理設備が開示されている。図中、17は熱処理炉、Sは被処理材である鋼板である。また、21は液相の水の供給配管、22は乾燥した雰囲気ガスの供給配管である。31、32は流量制御弁、33、34は流量計であり、51、52、53は加熱装置、54はファンである。61、62、63は温度計、64は圧力計である。
【0004】
この熱処理設備では、まず、熱処理炉17において、必要な加湿雰囲気ガスの量および露点が決まり、次いで、21に供給する水の量および22に供給する乾燥雰囲気ガスの必要量が決定される。そして、供給配管21に供給された水は、流量制御弁31、流量計33を経て、加熱装置51において、その出口を通過する水蒸気が乾燥雰囲気ガスの圧力に対応する飽和蒸気温度以上の過熱蒸気となるように加熱制御装置41を介して加熱される。一方、供給配管22に供給された乾燥雰囲気ガスは、流量制御弁32、流量計34を経て、加熱装置52において、その出口における温度および流量により露点温度以上となるように加熱制御装置42を介して加熱される。次いで、過熱蒸気と乾燥雰囲気ガスとが混合されてなる加湿雰囲気ガスが加熱装置53において、その露点以上に加熱されて熱処理炉17に供給される。
【0005】
ここで、雰囲気ガスを、例えばH2 とN2 との混合ガスとすると、熱処理炉17において、鋼板Sの脱炭を行うことができるのである。
しかしながら、水蒸気の発生装置である加熱装置51には、次のような問題があった。
すなわち、従来の水蒸気の発生装置は、図8に示すように、パン100の底板をヒータ200で加熱し、加熱された底板に分岐管21Aから水滴を滴下し、滴下した水滴を蒸発させて水蒸気Vを発生させる構造であり、加熱されて高温となっている底板に噴霧ノズルを用いず、水滴を滴下しているため、繰り返し局部的に大きい熱応力が発生し、底板の変形が徐々に大きくなってしまう欠点があった。このため、変形した底板の凹部に水たまりが生じて、単位時間当たりの水蒸気の発生量が変化してしまうという不安定さがあった。
【0006】
また、上述した局部的な熱応力によるクラックの発生や熱変形の増大により、水蒸気の発生装置の寿命が短いという問題もあった。
なお、図中、21は水蒸気Vとするための液相の水Wの供給配管であり、蒸発した水蒸気Vは、接続管4を介して蒸気供給配管5に送り出される。
また、特開昭54-045605 号公報には、熱処理設備において、雰囲気ガスを温水と接触させるとともに、熱処理炉内の雰囲気ガスに含まれる水蒸気量を制御するために、温水の温度を調整する方法が開示されている。
【0007】
しかしながら、この雰囲気ガスを温水と接触させ、かつ温水の温度を調整する方法は、単位時間当たりの水蒸気の発生量が少なく、必要な水蒸気量を確保するには長時間を要し、そのうえ、単位時間当たりの水蒸気の発生量の調整範囲が狭いので、例えば、脱炭処理を行う熱処理炉内の水蒸気量を精度よく管理できないという問題があった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解消することにあり、装置を長寿命とすることができるとともに、単位時間当たりの水蒸気発生量の調整範囲が広く、かつ精度がよい水蒸気の発生装置および水蒸気の発生量調整方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、鋭意検討した結果、水を微粒化し、かつ均一に噴射することができる噴霧ノズルを用いることにより、上記の課題を解決することができるとの知見を得て、本発明を完成させた。
また、本発明の水蒸気の発生装置は、加熱可能とされた蒸発板上に供給された、供給水を蒸発して水蒸気を発生させ、該水蒸気を蒸気通路を介して送り出すように構成されている水蒸気発生用容器と、前記蒸発板を加熱するための加熱手段と、前記供給水の水量を調整可能に構成されている水供給手段とを備えた水蒸気の発生装置において、前記供給水を粒子状の噴霧水として噴射可能な噴霧ノズルを前記水供給手段に取り付け、前記噴霧水が蒸発板上に供給されるよう蒸発板にノズル口を向けて噴霧ノズルを配置してなることを特徴とする。その際、前記噴霧ノズルを水滴の平均粒径が1000μm 以下の噴霧水を噴射可能なものとすることが好ましく、さらに、前記水供給手段には、前記供給水を飽和温度以下に加熱可能な加熱手段を設けてあることがより好ましい。
【0010】
本発明の水蒸気の発生量調整方法は、上記のいずれかに記載の水蒸気の発生装置を用い、水蒸気の発生時に、必要な水蒸気発生量に応じて、前記蒸発板を前記加熱手段により加熱するとともに、前記噴霧水の水量を増減して、単位時間当たりの水蒸気発生量を調整することを特徴とするを特徴とする。その際、前記供給水を噴射する前に60〜95℃に加熱しておくことが好ましい。
【0011】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の方法に用いる一例の水蒸気の発生装置を示す一部断面を含む模式図であって、図2は、図1に示す装置の要部断面図である。
図1中の1は、水蒸気発生用容器であり、この水蒸気発生用容器1は、加熱可能とされた蒸発板を有し、該蒸発板に供給される供給水Wを蒸発することにより水蒸気Vを発生させ、該水蒸気Vを蒸気通路を介して送り出すように構成されている。水供給手段6は、給水配管6A、6B、ポンプ6C、流量計6Dおよび流量調整弁6Eからなり、流量計6Dを通過する水Wの量を流量調整弁6Eにフィードバックし、各水蒸気発生用容器1に供給される供給水量を調整可能に構成されているが、本発明では、この構成に限定されず、種々の構成とすることができる。5Aはドレン抜きである。
【0012】
ここで、各水蒸気発生用容器1は、天板と底板と側板とで囲まれた空間を有し、開口は接続管4への連絡口と噴霧ノズル7のノズル口(図2参照)だけである。この場合、図2に示すように蒸発板は、水蒸気発生用容器1の底板1Aであり、底板1Aの下部に加熱手段であるヒータ2が設けてある。
本発明の一例の水蒸気の発生装置において、図8に示した従来の水蒸気の発生装置と異なる点は、噴霧ノズル7を配置したことである。噴霧ノズル7は、給水配管6A、6Bのそれぞれの一端部に複数個取り付けてあり、蒸発板である底板1Aにノズル口を向けて配置(図1、図2参照)してある。
【0013】
噴霧ノズル7は、公知のノズルを使用することにより、供給水Wを微粒化し、噴霧水として噴射することが可能であり、噴霧水の水滴の平均粒子径を1000μm 以下として噴射できる噴霧ノズル7を用いるのが、蒸発板における噴霧水の水量分布を均一にできるので好適である。
次いで、水蒸気の発生量調整方法について説明する。
【0014】
本発明の水蒸気の発生量調整方法は、上述した水蒸気の発生装置を用い、必要な水蒸気発生量に応じて、蒸発板を加熱手段であるヒータ2により加熱するとともに、噴霧水の水量を増減して、単位時間当たりの水蒸気発生量(kg/h)を調整する。その場合、上述した水供給手段6により、供給水Wの水量(kg/h)を調節し、かつ必要な水蒸気発生量に応じてヒータ2のパワーを調節する。
【0015】
その際、本発明の水蒸気の発生装置においては、水量分布の均一な噴霧水を噴射するので、底板1Aの熱負荷が均一化され、装置を長期間使用しても、装置の熱変形量やクラックの進展を抑制することができる。その結果、装置を長寿命とすることができる。
そのうえ、本発明においては、熱変形量が抑制された底板1Aに噴霧水を供給するので、単位時間当たりの水蒸気発生量(kg/h)の調整範囲を広くした場合でも、底板1Aの凹部に水たまりが生じることもなく、単位時間当たりの水蒸気発生量(kg/h)を高精度に調節することができるのである。
【0016】
ところで、次に述べる実験結果から、本発明の水蒸気の発生装置においては、単位時間当たりの水蒸気発生量(kg/h)、すなわち、水蒸気発生速度Xは、噴霧水の水滴の平均粒子径Dによっても変化することがわかった。
噴霧水の水滴の平均粒子径D(μm )と水蒸気発生速度X(kg/h)の関係は、上述した装置を用い、噴霧ノズル7を変更することにより、噴霧水の水滴の平均粒径Dを変えて調べた。
【0017】
その結果を図3に示す。
ここで、水蒸気発生速度の比X/X0 (−)は、平均粒径D(μm )の場合の水蒸気発生速度X(kg/h)を平均粒径Dが200μm の場合の水蒸気発生速度X0 (kg/h)で除した値であり、水蒸気発生速度X、X0 は、本発明の装置において、(噴霧水を所定時間t0 (s)だけ噴射し、噴霧開始時t=0(秒)から時刻t(秒)=t0 の間に発生した水蒸気の質量M(kg)を測定し、M/t0 により算出したものである。発生した水蒸気は水蒸気供給配管5の出口で測定した。なお、ヒータ2のパワーは一定とし、噴霧水の温度は20℃、噴霧水の水量はFmax =60(kg/h)仕様最大)、噴射時間t0 =1800秒とした。
【0018】
図3に示す結果から、本発明の装置では、噴霧水の水滴の平均粒径Dを800μm 以下とすることにより、水蒸気発生速度を平均粒径Dが200μm の場合の1/4以上にすることができ、さらに、噴霧水の水滴の平均粒径Dを400μm 以下とすることにより、水蒸気発生速度を平均粒径Dが200μm の場合の1/2以上にすることができることがわかった。すなわち、噴霧水の水滴の平均粒径Dが200〜1000μm の範囲では、平均粒径Dを小さくすることにより、単位重量当たりの表面積を大きくでき、熱の伝達がよくなって、水蒸気発生速度、すなわち、単位時間当たりの水蒸気発生量を増大きることがわかる。
【0019】
しかしながら、本発明の装置では、単位時間当たりの水蒸気発生量の調整を噴霧ノズル7を変更し、噴霧水の水滴の平均粒径Dを変えることにより行うのは現実的でないので、上述したように、本発明の水蒸気の発生量調整方法では、必要な水蒸気発生量に応じて、蒸発板を加熱手段であるヒータ2により加熱するとともに、噴霧水の水量を増減して、単位時間当たりの水蒸気発生量(kg/h)を調整するようにしている。
【0020】
また、本発明の方法に用いる水蒸気の発生装置においては、図4に示すように、供給水Wを飽和温度(沸点)以下に加熱可能な加熱手段を設けて、水蒸気の発生時に、供給水Wの温度を予め60〜95℃に加熱しておくことが好ましい。
供給水Wの温度を予め60〜95℃に加熱しておくことが好ましい理由は、供給水Wの温度が60℃未満の場合、水蒸気発生速度である単位時間当たりの水蒸気発生量(kg/h)を増大する効果が不十分であり、供給水Wの温度が95℃を超える場合、配管内で水蒸気が多量に発生して、噴霧水の水量分布にムラが発生することがあるからである。
【0021】
図5には、図4に示した装置を用いて、上述したようにして水蒸気発生速度の比X/X0 を調べた結果を示した。
なお、加熱手段8は、図4に示す配置位置に代えて、給水配管6A、6Bに分岐する前の配管と流量調整弁6Eとの間に設けるようにしてもよい。加熱手段8としては、配管の周囲に巻いたヒータとすることができる。
【0022】
以上の説明において、水蒸気の発生装置としては、蒸発板を底板とした水蒸気発生用容器1を用いているが、本発明の装置はこれに限定されず、図6に示すような蒸発板を側板とした水蒸気発生用容器1’としてもよい。
この水蒸気発生用容器1’は、上に向かうほど開口面積が広くなるように傾けた側板、天板および底板とで空間を囲んだ外形が倒立円錐台状であり、ヒータ2は、側板の周囲を加熱可能なように設けてある。噴霧ノズル7は、ノズル口の中央から噴射される噴霧水の軌跡が側板の法線Nに対してαだけ傾斜するように、給水配管6A’に取り付けてある。図6に示した例では、ノズルから噴霧される噴霧水の噴射方向と水蒸気の発生方向とが対向することがないので、水蒸気発生量をさらに精度よく制御することができる。この場合、噴霧ノズル7としては、ホロコーンノズルを用いることができる。
【0023】
【実施例】
図1、図2に示した水蒸気の発生装置を、図7に示した熱処理炉17を有するプロセスラインに適用し、熱処理炉17内の水蒸気量をコントロールして発明例1とし、図6に示した水蒸気の発生装置を適用して水蒸気量をコントロールして発明例2とした。
【0024】
その際、水蒸気の発生装置で発生させた水蒸気と雰囲気ガスとを混合させ、混合した水蒸気を含む雰囲気ガスを熱処理炉17に供給可能に構成した。また、熱処理炉17内の必要な水蒸気の量(kg)に応じて単位時間当たりの水蒸気発生量(kg/h)を求め、噴霧水の水量(kg/h)を演算し、かつ水供給手段を制御する演算・制御装置を追加して配置し、熱処理炉17内の水蒸気量をコントロールするように構成した。
【0025】
なお、熱処理炉17において、炉温を800℃、雰囲気ガスをH2 とN2 との混合ガスとし、目標露点を40℃として鋼板Sの脱炭を行った。
その結果、発明例1においては、熱処理炉17内での雰囲気ガスの露点のばらつきは定常状態で±1℃以内であり、また、発明例2においては±0.8℃以内であり、従来よりばらつきが減少した。また、発明例1および2の水蒸気の発生装置の水蒸気発生用容器における最大温度差はともに50℃であり、水蒸気の発生装置の寿命が10年と推定でき、長寿命とすることができた。
【0026】
なお、従来の水蒸気の発生装置を用い場合、熱処理炉17内での雰囲気ガスの露点のばらつきは±3℃であり、水蒸気発生用容器における最大温度差は150℃であり、水蒸気の発生装置の寿命は1年であった。
【0027】
【発明の効果】
本発明によれば、装置を長寿命とすることができるとともに、単位時間当たりの水蒸気発生量の調整範囲を広くし、かつ精度を良好にすることができる。
その結果、本発明を熱処理設備に適用した場合、熱処理炉内での雰囲気ガスの露点を高精度に調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一例の水蒸気の発生装置を示す模式図である。
【図2】図1に示す装置の要部断面図である。
【図3】図1に示す装置の作用を示すグラフである。
【図4】本発明の好適な水蒸気の発生装置を示す模式図である。
【図5】図4に示す装置の作用を示すグラフである。
【図6】本発明の他の水蒸気の発生装置を示す模式図である。
【図7】従来の水蒸気の発生装置を熱処理炉に適用した場合の構成図である。
【図8】従来の水蒸気の発生装置を示す模式図である。
【符号の説明】
W 供給水
V 水蒸気
1、1’ 水蒸気発生用容器
1A 底板(蒸発板)
2、8 ヒータ(加熱手段)
4 接続管
5 水蒸気供給配管
5A ドレン抜き
6 水供給手段
6A、6B、6A’給水配管
6C ポンプ
6D 流量計
6E 流量調整弁
7 噴霧ノズル
21、22 供給配管
21A 分岐管
31、32 流量制御弁
33、34 流量計
51、52、53 加熱装置
54 ファン
61、62、63 温度計
64 圧力計
S 鋼板
17 熱処理炉
100 パン
200 ヒータ
Claims (5)
- 加熱可能とされた蒸発板上に供給された、供給水を蒸発して水蒸気を発生させ、該水蒸気を蒸気通路を介して送り出すように構成されている水蒸気発生用容器と、前記蒸発板を加熱するための加熱手段と、前記供給水の水量を調整可能に構成されている水供給手段とを備えた水蒸気の発生装置において、前記供給水を粒子状の噴霧水として噴射可能な噴霧ノズルを前記水供給手段に取り付け、前記噴霧水が蒸発板上に供給されるよう蒸発板にノズル口を向けて噴霧ノズルを配置してなることを特徴とする水蒸気の発生装置。
- 前記噴霧ノズルを水滴の平均粒径が1000μm 以下の噴霧水を噴射可能なものとすることを特徴とする請求項1に記載の水蒸気の発生装置。
- 前記水供給手段に前記供給水を飽和温度以下に加熱可能な加熱手段を設けてあることを特徴とする請求項1または2に記載の水蒸気の発生装置。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の水蒸気の発生装置を用い、水蒸気の発生時に、必要な水蒸気発生量に応じて、前記蒸発板を前記加熱手段により加熱するとともに、前記噴霧水の水量を増減して、単位時間当たりの水蒸気発生量を調整することを特徴とする水蒸気の発生量調整方法。
- 前記供給水を噴射する前に60〜95℃に加熱しておくことを特徴とする請求項4に記載の水蒸気の発生量調整方法。
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