JP3862344B2 - 静電レンズ - Google Patents
静電レンズ Download PDFInfo
- Publication number
- JP3862344B2 JP3862344B2 JP04189597A JP4189597A JP3862344B2 JP 3862344 B2 JP3862344 B2 JP 3862344B2 JP 04189597 A JP04189597 A JP 04189597A JP 4189597 A JP4189597 A JP 4189597A JP 3862344 B2 JP3862344 B2 JP 3862344B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- electrostatic lens
- lens
- acceleration
- ion beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、荷電粒子線の集束性を制御する静電レンズに関し、特に色収差の小さな静電レンズに関する。
【0002】
【従来の技術】
イオンや電子などの荷電粒子線の制御には電子レンズが使用される。電子レンズには、磁界の作用で荷電粒子線を集束する磁界レンズと、電界の作用で集束する静電レンズとがあり、イオンビームの制御には静電レンズが使われる。静電レンズは磁界レンズに比べて色収差が大きく、静電レンズを用いてイオンビームを細く絞る限界は、通常、その静電レンズの色収差の大きさに依存する。
【0003】
ビームを集束する目的の静電レンズには、通常、入口と出口の電位が等しい静電レンズが使われる。図4は、正電荷を有するイオンビームの集束に用いられる従来の静電レンズの構造を示す概略図である。この静電レンズ4は、入射側電極5、出射側電極7、及びそれらの中間に置かれた中間電極6の3個の電極で構成されている。入射側電極5と出射側電極7はイオンビーム照射試料(ターゲット)9と同じ電位に保たれる。
【0004】
静電レンズの特徴として、中間電極6の電位を、入・出射側電極5,7の電位より高くしても、低くしてもイオンビームを集束することができる。前者の集束は、静電レンズの中でイオンビームをレンズ入射前より更に加速して集束させるので加速モードの集束と呼ばれ、後者の集束は静電レンズの中でイオンビームをレンズ入射前より減速して集束させるので減速モードの集束と呼ばれる。
【0005】
最初に、図4の静電レンズを減速モードで動作させる例について説明する。イオンビーム加速用電源3によって例えば+30kVの電圧が印可されたイオン源1より引出されたイオンビーム2は、接地電位にされた加速電極25との間で30keVのエネルギーに加速され、静電レンズ4に入る。静電レンズ4の入射側電極5及び出射側電極7は接地され、中間電極6はレンズ電源8に接続されている。電極5,6,7は直径3mmの中心孔を有し、それぞれ2mmずつ離して配置されている。レンズ電源8により中間電極6に約+20kVの電圧を印可すると、静電レンズ4に入射したイオンビームは中間電極6により減速され、出射側電極7で再び30keVのエネルギーに戻されて静電レンズ4を出る。この時、静電レンズ4は焦点距離15mmの凸レンズとして作用し、イオンビームを静電レンズ4から約12mm離れたターゲット9上に集束する。
【0006】
もし静電レンズ4に収差がなければ、イオンビームはターゲット9上の一点Pを照射し、極めて細いビームが形成される。実際には、静電レンズ4の色収差のために、イオンビームは図のように広がった状態でターゲット9を照射する。色収差によるイオンビームの広がりdは、静電レンズ4の色収差係数Ccに比例する。イオンビームはなるべく細く絞りたいので、色収差係数Ccが小さい静電レンズほど優れたレンズである。図4に示した減速モード集束の条件では、色収差係数Ccは約50mmである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、加速モードでの色収差係数は、減速モードでの色収差係数の約1/3程度に小さいため、色収差を小さくするには従来の静電レンズを加速モードで動作させて使うのが有利である。
しかし、高エネルギーの荷電粒子線に対して静電レンズを加速モードで動作させて集束しようとすると、技術的及び経済的に困難な問題に遭遇する。例えば、30keVのエネルギーに加速したイオンビームを図1のレンズで焦点距離15mmで集束しようとするとき、加速モードで集束するには中間電極6にレンズ電源8から約−50kVの高電圧を印加する必要がある。この時の色収差係数Ccは20mmまで小さくなる。ところが静電レンズ4を構成する電極5,6,7間の間隔は2mmであるため、中間電極6にこのような高電圧を印加すると、電極5,6の間及び電極6,7の間には25kV/mmもの強い電界が作用し、放電によりレンズが破壊してしまう。放電を生じさせないための電界強度の許容値は、真空中でせいぜい10kV/mmである。
【0008】
そこで、この静電レンズを加速モードで動作させるためには、中間電極6と入/出射側電極5,7との間隔を5mmに増し、かつ電圧供給ケーブルも50kVの高電圧に対して絶縁破壊を起こさないように注意を払う必要がある。さらに、レンズ電源8も、20kV出力用電源と50kV出力用電源とでは経済性の点でも大幅に異なってくる。このような事情により、高エネルギーの荷電粒子線に対しては、静電レンズは色収差は大きくても、低い電圧印加で集束できる減速モードでの集束を行うことが多かった。
【0009】
本発明は、このような従来技術の問題点に鑑みてなされたもので、高エネルギーの荷電粒子線に対しても、従来の加速モードでの印加電圧に比べると低い印加電圧で集束でき、かつ、従来の減速モードでの集束に比べると小さい色収差で集束できる静電レンズを提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明においては、静電レンズの内部に複数個の電極を設け、静電レンズの内部で荷電粒子の加速と減速とを行うことにより前記目的を達成する。
すなわち、本発明の静電レンズは、静電レンズの内部に、入射した荷電粒子線を加速する加速用電極と減速する減速用電極とを設けたことを特徴とする。
【0011】
前記加速用電極と減速用電極は、レンズに入射した荷電粒子線が、まず減速され、次いで加速されるように配置してもよいし、レンズに入射した荷電粒子線が、まず加速され、次いで減速されるように配置してもよい。もちろん、加速と減速を交互に複数回繰り返すようにしてもよい。入射側電極と出射側電極が同電位あるいは接地されている静電レンズの場合、静電レンズ内の加速用電極は荷電粒子線を静電レンズ入射前のエネルギーより高いエネルギーに加速し、減速用電極は荷電粒子線を静電レンズ入射前のエネルギーより低いエネルギーに減速する。
【0012】
減速用電極に、荷電粒子線源から発生した荷電粒子線を所定のエネルギーに加速する荷電粒子線加速用電源の電圧を分圧して供給するようにして、静電レンズの減速用電極電源を荷電粒子加速用電源で兼用してもよい。
【0013】
本発明の静電レンズは、その像面を荷電粒子線照射用試料面に対応させた荷電粒子線集束用対物レンズとして荷電粒子線集束装置に使用することができ、また、その物面を荷電粒子線像投影用試料面に対応させた荷電粒子線像投影用対物レンズとして荷電粒子線投影装置に使用することができる。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。以下の図において、従来例を示す図4と同一の機能部分には図4と同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
【0015】
図1は、本発明による静電レンズの一例を説明する概略図である。この静電レンズ24は、静電レンズ24に入射したイオンビーム2を静電レンズ24の中で加速する2個の加速用電極(加速用第1電極10、加速用第2電極11)と、減速する減速用電極12とを含む合計5個の電極を備える。イオン源1にはイオンビーム加速用電源3から+30kVの電圧が印可され、イオンビーム加速電極25、静電レンズ24の入射側電極5及び出射側電極7は接地されている。静電レンズ24の入射側電極5と加速用第1電極10の間隔は3mm、加速用第1電極10及び加速用第2電極11と減速用電極12の間隔はそれぞれ5mm、加速用第2電極11と出射側電極7の間隔は3mmとした。
【0016】
加速用第1電極10及び加速用第2電極11に加速用レンズ電源13から−30kVの電圧を印加し、減速用電極12に減速用レンズ電源14から+20.2kVの電圧を印加すると、イオンビームは静電レンズ24から約7mm離れたターゲット9の上に集束する。このとき、静電レンズ24の色収差係数Ccは23.3mmであり、図4で説明した従来のの静電レンズの色収差係数Cc60mmの約1/2.5である。
【0017】
静電レンズの中で加速と減速とを行うことにより色収差係数Ccが小さくなる理由は、静電レンズ内部でのレンズ軸に沿った電位の変化を考えると理解することができる。すなわち、静電レンズの焦点距離をf、静電レンズの物面側電位をΦO 、静電レンズの像面側電位をΦI 、レンズ作用最大位置での軸上電位をΦm とするとき、色収差係数Ccは薄肉レンズの近似で次の〔数1〕の関係を有し(裏克己著「電子・イオンビーム光学」1994年、共立出版株式会社、第72頁)、Cc/fはレンズ作用最大位置での電位Φm が高いほど小さい。
【0018】
【数1】
Cc/f=2(ΦO ・ΦI )1/4 /Φm 1/2
減速モード動作においてレンズ作用が最大となる位置は、減速用電極の部分である。そこで、もし、この部分の左右(前後)の領域でのイオンビームのエネルギーを高くすると、必要な強さのレンズ作用にはより高い電位、すなわち高電位のΦm を必要とすることとなり、その結果、小さいCc/fのレンズ作用をするようになる。図1では、減速用電極12の前後に加速用電極10,11を設けて減速用電極部の電位が高い状態でイオンビームを集束するように構成されている。
【0019】
図2は、本発明による他の静電レンズを集束イオンビーム加工・観察装置に応用した例を示す概略図である。イオン源1より発射されたイオンビーム2は、コンデンサーレンズ18及び偏向器15を通過して、静電レンズ34に入る。この例に示した静電レンズ34は、接地された入射側電極5と出射側電極7の間に、減速用レンズ電源14から+10.5kVの電圧を印可される減速用電極12及び加速用レンズ電源13から−30.0kVの電圧を印可される加速用電極16を備える。
【0020】
この加工・観察装置は、観察視野をなるべく広くとる必要があり、なるべく大きな焦点距離fの状態で、かつ、収差も小さい対物レンズが必要とされる。そこで、図2に示した静電レンズ34では、入射イオンビーム2は、減速用電極12により、まず減速され、集束作用を受けて、次に加速用電極16で加速されるように設計されている。更に、このイオンビームは出射側電極7で静電レンズ入射前のエネルギーに戻されて静電レンズ34から出てゆくが、出射側電極7の位置でのイオンの運動エネルギー(30keV)は減速用電極12の位置でのイオンの運動エネルギー(約19.5keV)に比べて大きく、出射側電極7による集束作用は減速用電極12による集束作用に比べて極めて小さいので、集束作用の中心(レンズ主面)は減速用電極12の部分にある。そこで、後述するような加速の後に減速する方式の加減速レンズ(図3)によるよりも長い焦点距離の状態で加工・観察用試料17に焦点を結んでいる。
【0021】
この例では、入射側電極5と減速用電極12の間隔を2mm、減速用電極12と加速用電極16の間隔を5mm、加速用電極16と出射用電極7の間隔を4mmとした条件の下に、16.4mmの焦点距離f、及び33.3mmの色収差係数Ccを得た。イオンビーム2の偏向可能な角度をδとすると、この装置を走査型イオン顕微鏡として使用したときの観察視野は図2に図示されているようにほぼ2δ・fであり、焦点距離fが大きいほど視野を広く取ることができることは容易に理解される。
【0022】
図3は、本発明による他の静電レンズをイオンビーム像縮小投影装置に応用した例を示す概略図である。イオン源1から発射され30keVに加速されたイオンビーム2は、コンデンサーレンズ18によりほぼ平行なビームとされてイオン像投影用試料である転写マスク19を照射する。転写マスク19は、イオンビームに対して透明な部分と不透明な部分を有する金属板でできている。転写マスク19の透明な部分を透過したイオンビームは、静電レンズ44に入り、光学式縮小投影露光装置と同じ原理により、転写マスク19の縮小像がレチクル20に投影されるように集束する。
【0023】
このイオンビーム像縮小投影装置では、静電レンズ44は、収差低減の観点から、なるべく像面側焦点距離を短くして使いたい。そこで、静電レンズ44は、レンズに入ったイオンビームをまず加速し、次に減速して集束する構成になっている。すなわち、転写マスク19の1点から発射したイオンビームは、加速用レンズで電源13から−30kVの電圧が印加された加速用電極16により約60keVに加速され、次に16.7kVの電圧が印加された減速用電極12により減速されて、静電レンズ44より8mm離れたレチクル20の上に集束する。
【0024】
この条件で静電レンズ44の色収差係数Ccは25.2mm、焦点距離fは12.6mmである。Cc/fは図2で説明した静電レンズと同程度であるが、レンズ主面が減速用電極12の部分にあるので、焦点距離fが短くなっている。焦点距離fは図2に示した静電レンズの約2/3であり、レチクル20上にボケの少ない良質のイオンビーム投影像を得ることができる。
【0025】
図3に示した例では、減速用電極12に印加する電圧としてイオンビーム加速用電源3で発生した電圧を電気抵抗器21で分圧して使っている。荷電粒子線を減速するのに必要な電圧は荷電粒子源1に印加する加速電圧と同じ極性の電圧なので、イオンビーム加速用電源3で発生した電圧を分圧して使うことができる。この例では、静電レンズ44の焦点合わせを加速用レンズ電源13の出力電圧調節により行っていることは言うまでもない。
【0026】
【発明の効果】
本発明によると、従来の静電レンズを減速モードで使用した場合に比べて色収差係数がほぼ2/3以下に小さい静電レンズを実現することができ、この静電レンズを集束イオンビーム装置に使用することによってイオンビームをより細く絞ることが可能になる。また、本発明の静電レンズを、イオンビーム投影装置に使用すると、従来の静電レンズを使った場合に比べてよりシャープな像をレチクル上に投影することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による静電レンズの一例を説明する概略図。
【図2】本発明による他の静電レンズを集束イオンビーム加工・観察装置に応用した例を示す概略図。
【図3】本発明による他の静電レンズをイオンビーム像縮小投影装置に応用した例を示す概略図。
【図4】従来の静電レンズの構造を示す概略図。
【符号の説明】
1…イオン源、2…イオンビーム、3…イオンビーム加速用電源、4…静電レンズ、5…入射側電極、6…中間電極、7…出射側電極、8…レンズ電源、9…ターゲット、10…加速用第1電極、11…加速用第2電極、12…減速用電極、13…加速用レンズ電源、14…減速用レンズ電源、15…偏向器、16…加速用電極、17…加工・観察用試料、18…コンデンサーレンズ、19…転写マスク、20…レチクル、21…電気抵抗器、24…静電レンズ、25…加速電極、34…静電レンズ、44…静電レンズ
Claims (3)
- 入射した荷電粒子線の加速及び減速を行う静電レンズにおいて、接地される入射側電極及び出射側電極と、前記入射側電極と前記出射側電極との間に配置される第1電極、第2電極及び第3電極とを備え、前記入射側電極から前記出射側電極に向かって前記第1電極、前記第2電極及び前記第3電極の順に配置され、前記第1電極及び前記第3電極に負の電圧が印加され、前記第2電極に正の電圧が印加されることを特徴とする静電レンズ。
- 前記第3電極は負の電圧が印加される前記第1電極に電気的に接続されている請求項1記載の静電レンズ。
- 対物レンズとして請求項1又は請求項2記載の静電レンズを備えることを特徴とする荷電粒子線収束装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04189597A JP3862344B2 (ja) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | 静電レンズ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04189597A JP3862344B2 (ja) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | 静電レンズ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10241616A JPH10241616A (ja) | 1998-09-11 |
JP3862344B2 true JP3862344B2 (ja) | 2006-12-27 |
Family
ID=12621031
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP04189597A Expired - Fee Related JP3862344B2 (ja) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | 静電レンズ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3862344B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6534775B1 (en) * | 2000-09-01 | 2003-03-18 | Axcelis Technologies, Inc. | Electrostatic trap for particles entrained in an ion beam |
KR100973337B1 (ko) * | 2005-06-03 | 2010-07-30 | 전자빔기술센터 주식회사 | 단순 구조의 초소형 전자칼럼 |
JP4738822B2 (ja) * | 2005-01-26 | 2011-08-03 | キヤノン株式会社 | 静電レンズ装置およびその調整方法、荷電粒子線露光装置、ならびにデバイス製造方法 |
EP2013893A2 (en) * | 2006-04-26 | 2009-01-14 | Axcelis Technologies, Inc. | Methods and systems for trapping ion beam particles and focusing an ion beam |
JP4889105B2 (ja) * | 2006-08-23 | 2012-03-07 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | 荷電粒子ビーム装置 |
JP5306186B2 (ja) | 2008-03-26 | 2013-10-02 | 株式会社堀場製作所 | 荷電粒子線用静電レンズ |
US8742361B2 (en) | 2012-06-07 | 2014-06-03 | Fei Company | Focused charged particle column for operation at different beam energies at a target |
-
1997
- 1997-02-26 JP JP04189597A patent/JP3862344B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10241616A (ja) | 1998-09-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3268583B2 (ja) | 粒子線装置 | |
JPS6213789B2 (ja) | ||
JP4037533B2 (ja) | 粒子線装置 | |
JP3542140B2 (ja) | 投射型イオンビーム加工装置 | |
JPH06101318B2 (ja) | イオンマイクロビ−ム装置 | |
JP2821153B2 (ja) | 荷電粒子線応用装置 | |
JP2810797B2 (ja) | 反射電子顕微鏡 | |
US2928943A (en) | Electronic microscope for top illumination of surfaces | |
JP3862344B2 (ja) | 静電レンズ | |
US20030006377A1 (en) | Tandem acceleration electrostatic lens | |
JP2000228162A (ja) | 電子ビーム装置 | |
US4918358A (en) | Apparatus using charged-particle beam | |
JP2007103107A (ja) | 荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビームの照射方法 | |
JP2002025492A (ja) | 静電ミラーを含む荷電粒子ビーム画像化装置用低プロフィル電子検出器を使用して試料を画像化するための方法および装置 | |
JPH05152182A (ja) | イオン光学描写装置に利用のデユオプラズマトロン型イオン源 | |
JP3006581B2 (ja) | 荷電粒子線応用装置 | |
JPH0864163A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP3031378B2 (ja) | 荷電粒子線応用装置 | |
JP2993873B2 (ja) | 荷電粒子線応用装置及び電子線応用装置 | |
JP2993873B6 (ja) | 荷電粒子線応用装置及び電子線応用装置 | |
JP3139484B2 (ja) | 荷電粒子線顕微方法 | |
JPH0349142A (ja) | 走査形電子顕微鏡及びその類以装置 | |
JP3225961B2 (ja) | 荷電粒子線応用装置 | |
JPH11224635A (ja) | 荷電粒子線光学系 | |
JP2000011936A (ja) | 電子線光学系 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050428 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050510 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050708 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060905 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060926 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091006 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101006 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111006 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121006 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121006 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131006 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |