JP3858042B2 - 紫外発光素子およびInAlGaN発光層の製造方法 - Google Patents
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Description
なお、本願出願人が特許出願のときに知っている先行技術は、文献公知発明に係る発明ではないため、記載すべき先行技術文献情報はない。
12 RF加熱コイル
14 結晶成長反応炉
14a ガス導入孔
14b ガス排出孔
16 半導体ウエハー
18 サセプター
20 RF電源
22 RF制御装置
Claims (3)
- 結晶成長において830℃乃至950℃の成長温度で結晶成長されたInAlGaN発光層であって、Alの導入によりInを誘発的に結晶に導入してInの結晶への含有率を誘発的に増加させ、Inの組成比が2%乃至20%であり、かつ、Alの組成比が10%乃至90%であって、InとAlとGaとの組成比の合計が100%となり、発光強度のピークが波長280nm乃至波長360nmの深紫外域の短波長域においてシングルピークをもって室温で高効率発光するInAlGaN発光層を用いた
ことを特徴とする紫外発光素子。 - 結晶成長において材料ガスを同時供給して830℃乃至950℃の成長温度で結晶成長させ、Alの導入によりInを誘発的に結晶に導入してInの結晶への含有率を誘発的に増加させ、Inの組成比が2%乃至20%であり、かつ、Alの組成比が10%乃至90%であり、InとAlとGaとの組成比の合計が100%である、発光強度のピークが波長280nm乃至波長360nmの深紫外域の短波長域においてシングルピークをもって室温で高効率発光するInAlGaN発光層を製造する
ことを特徴とするInAlGaN発光層の製造方法。 - 結晶成長において830℃乃至950℃の成長温度で結晶成長されたInAlGaN発光層であって、Alの導入によりInを誘発的に結晶に導入してInの結晶への含有率を誘発的に増加させ、Inの組成比が2%乃至20%であり、かつ、Alの組成比が10%乃至90%であって、InとAlとGaとの組成比の合計が100%となり、発光強度のピークが波長280nm乃至波長360nmの深紫外域の短波長域においてシングルピークをもって室温で高効率発光する第1のInAlGaN発光層と、
結晶成長において830℃乃至950℃の成長温度で結晶成長されたInAlGaN発光層であって、Alの導入によりInを誘発的に結晶に導入してInの結晶への含有率を誘発的に増加させ、Inの組成比が2%乃至20%であり、かつ、Alの組成比が10%乃至90%であって、InとAlとGaとの組成比の合計が100%となり、かつ、前記第1のInAlGaN発光層とは組成比の異なる、発光強度のピークが波長280nm乃至波長360nmの深紫外域の短波長域においてシングルピークをもって室温で高効率発光する第2のInAlGaN発光層と
を有し、
前記第1のInAlGaN発光層と前記第2のInAlGaN発光層とを交互に複数層積層して量子井戸構造を形成し、
波長360nm以下の紫外域の短波長域において室温で高効率発光する
ことを特徴とする紫外発光素子。
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