JP3851633B2 - Laminated body and display device using the same - Google Patents

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Description

本発明は、たとえばプラズマディスプレイ(PDP)、ブラウン管(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、有機ELディスプレイ(OELD)、フィールドエミッションディスプレイ等のディスプレイの画面上に設置した場合、機械的強度の補強、破損に対する保護、電磁波の遮蔽、近赤外線の遮蔽、色調の変更などの機能を付与できる積層体およびこれを用いた表示装置に関する。  The present invention, for example, when it is installed on the screen of a display such as a plasma display (PDP), a cathode ray tube (CRT), a liquid crystal display (LCD), an organic EL display (OELD), a field emission display, etc. It is related with the laminated body which can provide functions, such as protection with respect to an electromagnetic wave, shielding of electromagnetic waves, shielding of near infrared rays, and a change of color tone, and a display apparatus using the same.

近年、社会が高度化するに従って、光エレクトロニクス関連部品、機器は著しく進歩している。その中で、画像を表示するディスプレイは、従来のテレビジョン装置用に加えて、コンピュータモニタ装置および情報端末装置用途にめざましく普及しつつある。その中でディスプレイの大型かつ薄型化、または携帯用途を目的とした小型かつ軽量化に対する市場の要求は高まる一方である。  In recent years, with the advancement of society, optoelectronic-related parts and devices have made remarkable progress. Among them, displays that display images are becoming increasingly popular for use in computer monitor devices and information terminal devices in addition to conventional television devices. Among them, the market demand for a large and thin display or a small and lightweight display for portable use is increasing.

ディスプレイの大型化および携帯用途を目的とした小型化を推し進めることにより安全性に対する問題が浮上する。  The problem of safety emerges by increasing the size of the display and reducing the size for portable use.

ディスプレイの視認面は通常ガラス板でできている。ガラス板はその面積が大きくなればなるほど外部からの衝撃を受けて割れやすくなる。また携帯して外部で持ち歩くことが多くなるほど外部からの衝撃を受ける機会が増加し、割れ易くなる。  The viewing surface of the display is usually made of a glass plate. The larger the area of the glass plate, the easier it is to break due to external impact. Also, the more you carry and carry it outside, the more you will be exposed to external impacts and the easier it will break.

外部からの衝撃に対するディスプレイの安全性については、以下の通り、電気用品取締り法によって規制されている。  The safety of displays against external impacts is regulated by the Electrical Appliance and Material Control Law as follows.

例えば、ブラウン管の保護に関しては、最大部直径(角型の場合は、対角線長)の公称寸法が160mmを超えるブラウン管を有するものにあっては、ブラウン管をキャビネットに正常に取りつけた状態で、プラウン管の前面に、直径が50mm、重量が500gの剛球を高さ1400mmから振り子状に落としたときに、以下に適合する必要がある。すなわち(1)保護板が貼り合せガラスまたは合成樹脂のものにあっては、前面に破片が飛び散らないこと、(2)保護板が補強ガラスのものにあっては、ひび、割れその他の異常を生じないこと、(3)保護板を有しないものにあっては、前面に破片が飛び散らないこと、である。  For example, for protection of a cathode ray tube, if it has a cathode ray tube with a nominal maximum diameter (diagonal length in the case of a square shape) exceeding 160 mm, the prawn tube is properly attached to the cabinet. When a hard sphere having a diameter of 50 mm and a weight of 500 g is dropped from a height of 1400 mm into a pendulum shape on the front surface, the following must be met. That is, (1) If the protective plate is made of laminated glass or synthetic resin, no debris will scatter on the front surface. (2) If the protective plate is made of reinforced glass, cracks, cracks and other abnormalities will occur. It does not occur, and (3) in the case of having no protective plate, no debris is scattered on the front surface.

ブラウン管の機械的強度に関しては、最大部直径(角型の場合は、対角線長)の公称寸法が160mmを超えるブラウン管を有するものにあっては、ブラウン管(保護板を有するものにあっては、保護板を含む。)を機械的方法または熱衝撃法により破壊したとき、ブラウン管の前方900mmおよび1500mmに設けた障壁間に飛散したガラスの破片の重量は、単片で15g以下、総重量で45g以下であり、かつ、重量が1gを越える破片は、ブラウン管前方1500mmに設けた障壁を超えて飛ばないこと、である。  Regarding the mechanical strength of the cathode ray tube, if the cathode ray tube has a nominal dimension of the maximum diameter (diagonal length in the case of a square shape) exceeding 160 mm, the cathode ray tube (protection if it has a protective plate) When the glass plate is broken by a mechanical method or a thermal shock method, the weight of the glass pieces scattered between the barriers provided at the front 900 mm and 1500 mm of the CRT is 15 g or less for a single piece and 45 g or less for the total weight. In addition, debris exceeding 1 g in weight does not fly beyond the barrier provided at 1500 mm in front of the cathode ray tube.

機械的強度の加え方に関しては、例えばUL(Underwriters Laboratories Inc.)規格の中により具体的に規定されている。一例としては落下試験が挙げられる。この試験では表示素子を板の上に750mmの高さから落下させる。板は、厚み20mmの堅木の板である。厚み20mmの板を2枚併せて得られた、合せ板をコンクリート上に設置し、その上に該板を設置する。  The method of adding mechanical strength is specifically defined in, for example, the UL (Underwriters Laboratories Inc.) standard. An example is a drop test. In this test, the display element is dropped on a plate from a height of 750 mm. The plate is a hardwood plate having a thickness of 20 mm. A laminated board obtained by combining two boards having a thickness of 20 mm is placed on concrete, and the board is placed thereon.

大型かつ薄型化を実現することができるディスプレイとしては、従来から存在する液晶ディスプレイ(LCD)に加え、最近ではプラズマディスプレイパネル(PDP)が注目を集めており、次世代の大型ディスプレイとして期待されている。  In addition to the existing liquid crystal display (LCD), plasma display panels (PDP) have recently attracted attention as a display that can be made large and thin. Yes.

PDPは、通常、その視認面に光学フィルタを備えている。この光学フィルタは、PDP本体から発生する電磁波および近赤外線を遮断する目的で用いられる。また、その光学フィルタはPDP本体の発光色を好ましい色調に変更する機能を併せ持つ場合が多い。  A PDP usually includes an optical filter on its viewing surface. This optical filter is used for the purpose of blocking electromagnetic waves and near infrared rays generated from the PDP main body. Further, the optical filter often has a function of changing the emission color of the PDP main body to a preferable color tone.

光学フィルタは、ガラス板または樹脂板からなる透明支持基体に機能を付与したものである。これまでのPDPは、光学フィルタの透明支持基体が前面保護板としての機能を有しているので、電気取締り法で定められている安全性基準を容易に達成できる。  The optical filter is a transparent support substrate made of a glass plate or a resin plate and having a function. In conventional PDPs, since the transparent support base of the optical filter has a function as a front protective plate, it is possible to easily achieve the safety standard defined by the Electric Control Law.

しかし、PDPを市場に普及させるために、製造コストを大幅に低下させる必要性がある。その光学フィルタについてもコスト低減が要求され、透明支持基体の材料コスト、枚葉方式による製造コストなどが検討事項となる。  However, in order to popularize the PDP in the market, there is a need to significantly reduce manufacturing costs. The optical filter is also required to reduce the cost, and the material cost of the transparent support base, the manufacturing cost by the single wafer method, and the like are considerations.

一方、液晶ディスプレイ(LCD)は、通常、視認面に偏光板、位相差板および反射防止機能を有するフィルム等を備えている。これらが実質的にディスプレイ保護機能を有するので、これまでのLCDは電気取締り法で定められている安全基準を容易に達成できる。  On the other hand, a liquid crystal display (LCD) usually includes a polarizing plate, a retardation plate, a film having an antireflection function, and the like on a viewing surface. Since these substantially have a display protection function, conventional LCDs can easily achieve the safety standards defined by the Electric Regulatory Law.

LCDの画面サイズは20インチまでが一般的であるが、ディスプレイの大型化に対する市場要求が急拡大しているため、LCDのさらなる大型化が図られている。しかし、基板となるガラスのサイズが大きくなればなるほど割れ易くなり、これまでの手法のままでは、ディスプレイが電気取締り法等で規定される安全性基準を満たすことが困難となってきている。  The screen size of the LCD is generally up to 20 inches, but since the market demand for the enlargement of the display is rapidly expanding, the LCD is further enlarged. However, the larger the size of the glass that becomes the substrate, the easier it is to break, and it is difficult for the display to meet the safety standards stipulated by the Electric Control Law and the like with the conventional methods.

小型携帯端末用途のLCDは、頻繁に持ち歩くことを想定しているため、落としたり、ぶつけたりすることによって外部から衝撃を受ける機会が多い。これらは、視認面に設けられた偏光板および反射防止機能フィルムが有する保護機能によって、ある一定の大きさの衝撃に対する耐久性は有しているが、不十分である。実際、携帯端末メーカーが、ユーザーから受ける苦情の大部分は、LCDが割れるという現象に起因している。  Since LCDs for small portable terminals are supposed to be carried frequently, there are many opportunities to receive impact from the outside by dropping or hitting them. These have insufficient durability against an impact of a certain magnitude due to the protective function of the polarizing plate and the antireflection functional film provided on the viewing surface, but are insufficient. In fact, most of the complaints received by mobile terminal manufacturers from users are due to the phenomenon that the LCD breaks.

有機ELディスプレイ(OELD)およびフィールドエミッションディスプレイ(FED)に関しても、LCDの場合と同様、大型化を図るとガラス基板が割れ易くなるため、電気取締り法に規定された安全基準を満たすことが難しい。小型携帯端末用途においても衝撃による破損や割れが問題になる。特にOELD、FEDの場合は、LCDが有していた偏光板および位相差板を持たないため、実質的保護部材が減少しており、LCDに比べてガラス基板が割れ易い。  Regarding the organic EL display (OELD) and the field emission display (FED), as in the case of the LCD, since the glass substrate is easily broken when the size is increased, it is difficult to satisfy the safety standard defined in the Electric Control Law. Even in small portable terminal applications, damage and cracking due to impact become a problem. In particular, in the case of OELD and FED, since the polarizing plate and the retardation film that the LCD has are not provided, the number of protective members is substantially reduced, and the glass substrate is more easily broken than the LCD.

本発明の目的は、コスト低減を図りつつ、たとえばディスプレイ視認面に設置した場合、耐衝撃性などの安全基準を容易に達成できる積層体およびこれを用いた表示装置を提供することである。  The objective of this invention is providing the laminated body which can achieve safety standards, such as impact resistance, easily, and a display apparatus using the same, when it installs in a display visual recognition surface, for example, aiming at cost reduction.

本発明者らは上記の課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、
特定の衝撃試験で得られるパラメータが特定の範囲を有する積層体、および
透明粘着層と透明樹脂層と必要に応じて衝撃吸収層からなる積層体で、
透明粘着層のヤング率が特定の範囲にある、
透明樹脂層のヤング率が特定の範囲にある、
衝撃吸収層の針入度が特定の範囲にある、
のうちの少なくとも1つの要件を満たす積層体、
が、本発明における課題を解決することができるとの知見を得、本発明を完成した。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have
In a laminate having a specific range of parameters obtained by a specific impact test, and a laminate comprising a transparent adhesive layer and a transparent resin layer and, if necessary, a shock absorbing layer,
The Young's modulus of the transparent adhesive layer is in a specific range,
The Young's modulus of the transparent resin layer is in a specific range,
The penetration of the shock absorbing layer is in a specific range,
A laminate that satisfies at least one of the requirements,
However, the inventors have obtained knowledge that the problems in the present invention can be solved, and have completed the present invention.

すなわち、本発明の課題は以下に示される事項により特定される発明によって解決することができる。  That is, the subject of this invention can be solved by the invention specified by the matter shown below.

本発明は、1層以上の透明粘着層と、
1層以上の透明樹脂層と
シリコーン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン、およびアクリルから選ばれる1種以上のゲルを含み、少なくとも1層の針入度が50〜200である衝撃吸収層とを備えることを特徴とする積層体である。
また本発明は、1層以上の透明粘着層と、
1層以上の透明樹脂層であって、ポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリウレタン、および透明性を有するエラストマから選ばれる1種以上を含み、少なくとも1層のヤング率が1×10 〜1×10 Pa、厚みが10〜3000μmである透明樹脂層と、
シリコーン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン、およびアクリルから選ばれる1種以上のゲルを含み、少なくとも1層の針入度が50〜200である衝撃吸収層とを備え、
透明樹脂層と衝撃吸収層とのJIS−A硬度の比が1.1以上の関係にある2層が存在することを特徴とする積層体である。
The present invention comprises one or more transparent adhesive layers;
One or more transparent resin layers ;
A laminate comprising one or more kinds of gels selected from silicone, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyurethane, and acrylic, and an impact absorbing layer having a penetration of 50 to 200 of at least one layer. is there.
The present invention also includes one or more transparent adhesive layers;
One or more transparent resin layers, including at least one layer selected from polyester resin, polypropylene resin, ethylene vinyl acetate copolymer, polyethylene, polystyrene, polyurethane, and transparent elastomer, and at least one layer of Young A transparent resin layer having a rate of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa and a thickness of 10 to 3000 μm;
Including one or more kinds of gels selected from silicone, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyurethane, and acrylic, and an impact absorbing layer having a penetration of 50 to 200 of at least one layer,
The laminate is characterized in that there are two layers having a JIS-A hardness ratio of 1.1 or more between the transparent resin layer and the shock absorbing layer .

また本発明は、1層以上の透明粘着層であって、アクリル樹脂またはシリコーン樹脂を主成分とし、少なくとも1層のヤング率が1×10 〜1×10 Pa、厚みが10〜500μmである透明粘着層と、
1層以上の透明樹脂層であって、ポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリウレタン、および透明性を有するエラストマから選ばれる1種以上を含み、少なくとも1層のヤング率が1×10 〜1×10 Pa、厚みが10〜3000μmである透明樹脂層と、
シリコーン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン、およびアクリルから選ばれる1種以上のゲルを含み、少なくとも1層の針入度が50〜200である衝撃吸収層とを備えることを特徴とする積層体である。
また本発明は、1層以上の透明粘着層であって、アクリル樹脂またはシリコーン樹脂を主成分とし、少なくとも1層のヤング率が1×10 〜1×10 Pa、厚みが10〜500μmである透明粘着層と、
1層以上の透明樹脂層であって、ポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリウレタン、および透明性を有するエラストマから選ばれる1種以上を含み、少なくとも1層のヤング率が1×10 〜1×10 Pa、厚みが10〜3000μmである透明樹脂層と、
シリコーン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン、およびアクリルから選ばれる1種以上のゲルを含み、少なくとも1層の針入度が50〜200である衝撃吸収層とを備え、
透明樹脂層と衝撃吸収層とのJIS−A硬度の比が1.1以上の関係にある2層が存在することを特徴とする積層体である。
Further, the present invention is one or more transparent adhesive layers , mainly composed of an acrylic resin or a silicone resin, wherein at least one layer has a Young's modulus of 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa and a thickness of 10 to 500 μm. A transparent adhesive layer,
1 or more transparent resin layers comprising at least one layer selected from polyester resin, polypropylene resin, ethylene vinyl acetate copolymer, polyethylene, polystyrene, polyurethane, and transparent elastomer, and at least one layer of Young A transparent resin layer having a rate of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa and a thickness of 10 to 3000 μm;
A laminate comprising one or more kinds of gels selected from silicone, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyurethane, and acrylic, and an impact absorbing layer having a penetration of 50 to 200 of at least one layer. is there.
Further, the present invention is one or more transparent adhesive layers, mainly composed of an acrylic resin or a silicone resin, wherein at least one layer has a Young's modulus of 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa and a thickness of 10 to 500 μm. A transparent adhesive layer,
1 or more transparent resin layers comprising at least one layer selected from polyester resin, polypropylene resin, ethylene vinyl acetate copolymer, polyethylene, polystyrene, polyurethane, and transparent elastomer, and at least one layer of Young A transparent resin layer having a rate of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa and a thickness of 10 to 3000 μm;
Including one or more kinds of gels selected from silicone, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyurethane, and acrylic, and an impact absorbing layer having a penetration of 50 to 200 of at least one layer,
The laminate is characterized in that there are two layers having a JIS-A hardness ratio of 1.1 or more between the transparent resin layer and the shock absorbing layer .

本発明は、透明樹脂層のうち少なくとも1層が、0.01〜30Ω/□の面抵抗を有する透明導電層または金属メッシュ層を含むことを特徴とする。  The present invention is characterized in that at least one of the transparent resin layers includes a transparent conductive layer or a metal mesh layer having a surface resistance of 0.01 to 30Ω / □.

本発明は、透明樹脂層のうち少なくとも1層が、反射防止機能、防眩機能、防汚機能、静電防止機能、偏光機能、および位相差形成機能から選ばれる少なくとも1つの機能を有することを特徴とする。  In the present invention, at least one of the transparent resin layers has at least one function selected from an antireflection function, an antiglare function, an antifouling function, an antistatic function, a polarizing function, and a retardation forming function. Features.

本発明は、透明樹脂層が、電磁波の全領域、近赤外線領域および可視光領域のうち少なくとも1つ電磁波をフィルタリングするフィルタ機能を有することを特徴とする。  The present invention is characterized in that the transparent resin layer has a filter function of filtering at least one electromagnetic wave out of the entire electromagnetic wave region, the near infrared region, and the visible light region.

本発明は、上述の積層体をディスプレイ視認面に設けたことを特徴する表示装置である。
本発明は、ディスプレイ視認面に設けられるディスプレイ用フィルタであって、上述の積層体を有し、厚みが3.5mm以下であり、重量が530g以上550g以下の範囲にある鋼球を10cmの高さから落球させる落球衝撃試験における応力一時間曲線において、衝撃応力発生から第一のピークまでの間:T(μs)と、第1のピーク時の衝撃応力:F(kN)との間に、
T/F ≧ 200
の関係を満たすことを特徴とするディスプレイ用フィルタである。
The present invention is a display device characterized in that the above-described laminate is provided on a display viewing surface.
The present invention is a display filter provided on a display viewing surface, comprising a laminate as described above, a thickness of 3.5 mm or less, and a steel ball having a weight of 530 g or more and 550 g or less in a height of 10 cm. In the stress hour curve in the falling ball impact test for dropping the ball from the height, between the impact stress generation and the first peak: T (μs) and the impact stress at the first peak: F (kN),
T / F ≧ 200
It is a display filter characterized by satisfying this relationship.

以上詳説したように、本発明によれば、コスト低減が図られ、たとえばディスプレイ視認面に設置した場合、耐衝撃性などの安全基準を容易に達成できる。その結果、優れた耐衝撃性を有する大型表示装置または小型携帯端末用表示装置を低コストで実現できる。  As described in detail above, according to the present invention, the cost can be reduced. For example, when installed on the display viewing surface, safety standards such as impact resistance can be easily achieved. As a result, a large display device or a small mobile terminal display device having excellent impact resistance can be realized at low cost.

以下、添付図面を参照して、本発明に従う積層体およびそれを用いた表示装置の好適な実施形態について説明する。  DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of a laminate according to the invention and a display device using the same will be described with reference to the accompanying drawings.

第1の積層体は、後述のとおり第2積層体の構成を有し、すなわち透明粘着層と、透明樹脂層と、衝撃吸収層とから形成され、さらに重量が530g〜550gの範囲内にある鋼球を10cm高さから落球させる落球衝撃試験によって評価される。本発明のディスプレイ用フィルタは上記衝撃試験によって得られる応力−時間曲線において衝撃応力発生から第1のピークまでの時間:T(μs)と、第1のピーク時の衝撃応力:F(kN)との間に、
T/F ≧ 200
を満たしている。測定は、ストーンテーブル等の硬く安定な水平面上に日計電測製LC−20KNG702圧縮型ロードセル(定格容量20kN、定格出力1160*10−6strain)を固定し、ロードセル上中央部に5cm角のサンプルフィルムを固定し、室温下、530〜550gの鋼球を10cm高さから落下させて行う。その際の応力と時間とは、上記ロードセルとNEC三栄社製AS2102型動ひずみ計と、NEC三栄社製AP11−103型高速DCアンプと、NEC三栄社製RA1200型サーマルドットレコーダとを接続して測定する。
First laminate has a construction of a second laminate as described below, i.e., a transparent adhesive layer, and a transparent resin layer is formed of a shock absorbing layer, the more the range weight of 530g~550g It is evaluated by a falling ball impact test in which a certain steel ball is dropped from a height of 10 cm. The display filter of the present invention has a time from the occurrence of impact stress to the first peak: T (μs) and an impact stress at the first peak: F (kN) in the stress-time curve obtained by the impact test. Between,
T / F ≧ 200
Meet. For measurement, a Nikkei Denshi LC-20KNG702 compression load cell (rated capacity 20 kN, rated output 1160 * 10 −6 strain) is fixed on a hard and stable horizontal surface such as a stone table, and a 5 cm square in the center of the load cell. The sample film is fixed, and a steel ball of 530 to 550 g is dropped from a height of 10 cm at room temperature. The stress and time at that time are obtained by connecting the load cell, the NEC Seiei AS2102 type dynamic strain meter, the NEC Sanei company AP11-103 type high-speed DC amplifier, and the NEC Sanei company RA1200 type thermal dot recorder. taking measurement.

通常、耐衝撃性を高めるには衝撃応力を低減することが大きな要因であると考えられるが、応力だけでなく衝撃の発生時間も考慮した前記「T/F」値も、耐衝撃性を評価する重要なパラメータである。  In general, reducing impact stress is considered to be a major factor in improving impact resistance, but the “T / F” value that considers not only the stress but also the time at which the impact occurred also evaluates the impact resistance. Is an important parameter.

本発明の前記耐衝撃性パラメータ「T/F」値は200以上、好ましくは230以上、より好ましくは250以上である。  The impact parameter “T / F” value of the present invention is 200 or more, preferably 230 or more, more preferably 250 or more.

前記「T/F」値が200未満となると、後述するPDPパネル等の表示部材に装着使用する際に該部材が破損する可能性が高まり、実用上好ましくない場合がある。また上記条件を満たす積層体は非常に高い耐衝撃性を有しており、前述の電気用品取締法やUL規格にも適合する。  When the “T / F” value is less than 200, there is a high possibility that the member will be damaged when it is mounted and used on a display member such as a PDP panel, which will be described later. Moreover, the laminated body which satisfy | fills the said conditions has very high impact resistance, and also adapts to the above-mentioned electrical appliance control method and UL standard.

本発明の第2の積層体は、透明粘着層と、透明樹脂層と、必要に応じて衝撃吸収層とからなり、衝撃吸収層の少なくとも1層の針入度が50〜200である要件を満たしており、さらに透明樹脂層の少なくとも1層のヤング率が1×10 〜1×10 Pa、厚みが10〜3000μmであってもよく、透明粘着層の少なくとも1層のヤング率が1×10 〜1×10 Pa、厚みが10〜500μmであってもよい。 The second laminate of the present invention comprises a transparent adhesive layer, a transparent resin layer, and, if necessary, a shock absorbing layer, and has a requirement that the penetration of at least one layer of the shock absorbing layer is 50 to 200. Furthermore, the Young's modulus of at least one layer of the transparent resin layer may be 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa, the thickness may be 10 to 3000 μm, and the Young's modulus of at least one layer of the transparent adhesive layer is 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa, thickness may be 10 to 500 μm.

以下、第1、第2の積層体の各層に関して詳しく説明する。
(透明粘着層)
透明粘着層のヤング率は1×10〜1×10Paの範囲が好ましく、透明粘着層の厚みは10〜500μmの範囲が好ましい。
Hereinafter, each layer of the first and second laminates will be described in detail.
(Transparent adhesive layer)
The Young's modulus of the transparent adhesive layer is preferably in the range of 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa, and the thickness of the transparent adhesive layer is preferably in the range of 10 to 500 μm.

透明粘着層は低い弾性を有するため、表示素子に衝撃が加わったとき、視認面のガラスへの衝撃を緩和でき、割れたガラスの飛散を防止できる。  Since the transparent adhesive layer has low elasticity, when an impact is applied to the display element, the impact on the glass on the viewing surface can be mitigated, and scattering of the broken glass can be prevented.

該透明粘着層が、外部からの衝撃を吸収し、視認面へ伝えないようにするためには、該透明粘着層が外部からの衝撃によって、変形し、衝撃力を緩和し、打ち消すようにすればよいと考えられる。そのためには、透明粘着層の弾性をできるだけ低くすればよいと考えられる。  In order for the transparent adhesive layer to absorb external impact and not transmit it to the viewing surface, the transparent adhesive layer is deformed by the external impact, and the impact force is reduced and canceled. I think it would be good. For this purpose, it is considered that the elasticity of the transparent adhesive layer should be as low as possible.

また、割れたガラスが飛散することを防止するためには、ガラス片が透明粘着層との間に有している密着力を超えて、ガラスが飛び出そうとしないようにすれば良いと考えられる。そのためには粘着剤自体が変形し、ガラス片が飛び出そうとする力を吸収し、打ち消すようにすれば良いと考えられる。この点からも透明粘着層の弾性をできるだけ低くすればよいと考えられる。  Further, in order to prevent the broken glass from scattering, it is considered that the glass piece should not exceed the adhesive force between the glass piece and the transparent adhesive layer so that the glass does not fly out. . For this purpose, it is considered that the adhesive itself is deformed and absorbs the force that the glass piece is about to jump out and cancels it. From this point, it is considered that the elasticity of the transparent adhesive layer should be as low as possible.

本発明における透明粘着層の弾性としては、ヤング率が1×10〜1×10Paの範囲が好ましく、より好ましくは1×10〜1×10Pa、さらにより好ましくは1×10〜1×10Paである。The elasticity of the transparent adhesive layer in the present invention is preferably a Young's modulus in the range of 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa, more preferably 1 × 10 2 to 1 × 10 5 Pa, and even more preferably 1 × 10. 2 to 1 × 10 4 Pa.

透明粘着層のヤング率が大き過ぎる、すなわち1×10Paよりも大きくなると、表示素子に対して視認面側から衝撃が加わったり表示素子全体に機械的強度が加わった際に、該透明粘着層において衝撃を吸収することができず、視認面の基板ガラスが割れ易くなったり、飛散しやすくなる。If the Young's modulus of the transparent adhesive layer is too large, that is, greater than 1 × 10 6 Pa, the transparent adhesive layer is affected when an impact is applied to the display element from the viewing surface side or mechanical strength is applied to the entire display element. The impact cannot be absorbed in the layer, and the substrate glass on the viewing surface is easily broken or scattered.

また透明粘着層のヤング率が小さすぎる、すなわち1×10Paよりも小さくなると、透明粘着層自体が破断し易くなり、割れたガラスの飛散防止が難しくなる。On the other hand, if the Young's modulus of the transparent adhesive layer is too small, that is, less than 1 × 10 2 Pa, the transparent adhesive layer itself is easily broken and it becomes difficult to prevent the broken glass from scattering.

本発明における透明粘着層はできるだけ透明であることが好ましい。ここで「透明である」とは、厚み100μmの場合に可視光線視感平均透過率(以下、視感平均透過率と略称することがある)が50%以上であることを言う。  The transparent adhesive layer in the present invention is preferably as transparent as possible. Here, “transparent” means that when the thickness is 100 μm, the visible light visual average transmittance (hereinafter sometimes referred to as visual average transmittance) is 50% or more.

透明粘着層に用いることができる材料としては、具体的に例示すると、アクリル系粘着剤およびシリコーン系粘着剤は、元々弾性の低い材料を原料としており、本発明において特徴づけているような低いヤング率の層を作製しやすく、さらに透明性が高いため、好適に用いることができる。 As the material which can be used for the transparent adhesive layer, To illustrate concrete, the A acrylic-based adhesives and silicone-based adhesives, such as those characterized in the originally low elastic material is a raw material, the present invention Since a layer having a low Young's modulus is easy to produce and the transparency is high, it can be suitably used.

(透明粘着剤の厚み)
本発明における透明粘着層の厚みは、10〜500μmの範囲が好ましく、より好ましくは50〜500μm、さらにより好ましくは100〜500μmである。厚みがあまり厚すぎる、すなわち500μmよりも大きくなると透明性を失ってしまう。また厚みがあまり薄すぎる、すなわち10μmよりも小さくなると、衝撃を吸収する機能を十分に発揮することができない。
(Thickness of transparent adhesive)
The thickness of the transparent adhesive layer in the present invention is preferably in the range of 10 to 500 μm, more preferably 50 to 500 μm, and still more preferably 100 to 500 μm. If the thickness is too thick, that is, larger than 500 μm, the transparency is lost. On the other hand, if the thickness is too thin, that is, smaller than 10 μm, the function of absorbing impact cannot be sufficiently exhibited.

(アクリル系粘着剤)
アクリル系粘着剤は安価であるため広く用いられている。アクリル系粘着剤はアクリルポリマを主原料におり、アクリル系粘着剤は基本構成のモノマ類を溶液重合することによって得られる。
(Acrylic adhesive)
Acrylic adhesives are widely used because they are inexpensive. The acrylic pressure-sensitive adhesive is mainly made of an acrylic polymer, and the acrylic pressure-sensitive adhesive is obtained by solution polymerization of monomers having a basic structure.

溶液重合は通常、エステル類、芳香族炭化水素類、ケトン類などの有機溶剤中でアクリルモノマを過酸化物、アゾ系の触媒を用いて重合する。最終用途や要求される性能によって、溶剤やモノマ組成濃度などが定められる。  In solution polymerization, an acrylic monomer is usually polymerized in an organic solvent such as esters, aromatic hydrocarbons, and ketones using a peroxide or azo catalyst. The solvent, monomer composition concentration, and the like are determined depending on the end use and required performance.

アクリル系粘着剤は非架橋型と架橋型とに大別することができる。  Acrylic adhesives can be broadly classified into non-crosslinked types and crosslinked types.

非架橋型は塗工・乾燥してそのままの状態で使用するタイプで、熱可塑性を持っている。このため、一般的には凝集性にかけ、弾性が得られにくい。  The non-crosslinked type is a type that is used as it is after coating and drying, and has thermoplasticity. For this reason, it is generally difficult to obtain elasticity due to cohesion.

凝集性を付与し、弾性を上げるためには、共重合モノマの種類と量的変化と、外部から他のポリマやフェノール樹脂などの樹脂類を添加することとが行われる。これによって好ましい凝集性、粘着性、および接着性を併せ持つように設計される。  In order to impart cohesiveness and increase elasticity, the type and quantitative change of the copolymerized monomer and addition of other polymers such as other polymers and phenol resins from the outside are performed. By this, it is designed to have preferable cohesiveness, tackiness and adhesiveness.

凝集性の付与には、重合度よりもむしろ共重合モノマに依存した方が著しい効果がある。具体的には共重合モノマのうち凝集成分と改質成分との選択となり、双方のバランスが重要である。一般には凝集成分は酢酸ビニルが好都合のモノマであり、改質成分としてはモノまたはジカルボン酸含有モノマが選ばれる。  The provision of cohesion has a remarkable effect when it depends on the copolymerized monomer rather than the degree of polymerization. Specifically, among the copolymerized monomers, the coagulation component and the modification component are selected, and the balance between both is important. In general, vinyl acetate is a convenient monomer for the aggregating component, and a monomer containing a mono- or dicarboxylic acid is selected as the modifying component.

また、凝集性を付与するためのタイプとして、架橋型がある。架橋型においては、架橋度によって凝集性、粘着性、および接着性のバランスを取る。  Moreover, there exists a bridge | crosslinking type as a type for providing cohesiveness. In the cross-linking type, the cohesiveness, tackiness, and adhesiveness are balanced according to the degree of cross-linking.

アクリル系粘着剤の従来用いられている配合例を例示すると、酢酸ビニル、オクチルアクリレート、エチルアクリレート、および無水マレイン酸である。  Examples of conventional blending examples of acrylic adhesives are vinyl acetate, octyl acrylate, ethyl acrylate, and maleic anhydride.

ここで凝集性を左右する成分は、酢酸ビニルおよびエチルアクリレートである。これらの成分の含有割合を低下させ、凝集性を低下させることによって、本発明における弾性率の低い透明粘着層を得ることができる。  The components that influence the cohesion here are vinyl acetate and ethyl acrylate. A transparent adhesive layer having a low elastic modulus in the present invention can be obtained by reducing the content ratio of these components and reducing the cohesiveness.

(シリコーン系粘着剤)
シリコーン系粘着剤は、耐熱性が高いため耐熱性が必要な用途において特に好適に用いられている。また電気的特性、耐水性、耐湿性、および耐侯性が良い上に、低表面エネルギ、高表面エネルギのいずれの被着体にもよく接着する。
(Silicone adhesive)
Silicone pressure-sensitive adhesives are particularly suitably used in applications that require heat resistance because of their high heat resistance. In addition, it has good electrical properties, water resistance, moisture resistance, and weather resistance, and adheres well to any adherend of low surface energy or high surface energy.

シリコーン粘着剤の構成は、ゴム状シリコーンと樹脂状シリコーンとを基本としている。  The composition of the silicone adhesive is based on rubbery silicone and resinous silicone.

一般にシリコーン系粘着剤の乾燥フィルムは粘着性を示すが、低い凝集性である。このため架橋が必要となり、このことによって適当な弾性が得られるように調整する。通常250℃の加熱、または過酸化ベンゾイルのような過酸化物を加えて150〜170℃で5〜15分加熱する。  In general, a dry film of a silicone-based pressure-sensitive adhesive exhibits tackiness but has low cohesiveness. For this reason, crosslinking is required, and adjustment is made so that appropriate elasticity can be obtained. Usually, heating at 250 ° C. or adding a peroxide such as benzoyl peroxide and heating at 150 to 170 ° C. for 5 to 15 minutes.

シリコン系粘着剤の従来用いられている配合例を示すと、(a)メチルフェニルポリシロキサン樹脂、(b)フェニルビニルシロキサン樹脂、(c)ジメチルジフェニルシクロテトラシロキサン、および(d)クロロプラチン酸である。  Examples of conventionally used formulations of silicone adhesives are: (a) methylphenylpolysiloxane resin, (b) phenylvinylsiloxane resin, (c) dimethyldiphenylcyclotetrasiloxane, and (d) chloroplatinic acid. is there.

ここで凝集性を左右し、その他部材の架橋度、そして透明粘着剤の弾性を左右する部剤は、(d)クロロブラチン酸である。本発明において目的とする低い透明粘着剤を得るためには、(d)クロロブラチン酸の含有量を従来に比較して、低下させれば良い。  Here, the part which influences the cohesiveness and influences the degree of crosslinking of the other members and the elasticity of the transparent adhesive is (d) chlorobratic acid. In order to obtain the objective low transparent pressure-sensitive adhesive in the present invention, the content of (d) chlorobratic acid may be reduced as compared with the conventional one.

(透明粘着剤の形態および層形成方法)
透明粘着剤の形態は、大きく分けてシート状の形態と液状の形態に分けられる。シート状粘着剤は、感圧型であり、貼り付ける一方の部材に粘着剤をラミネートした後に、さらにもう一方の部材をラミネートする事によって二つの部材の貼り合わせを行う。
(Form of transparent adhesive and layer forming method)
The form of the transparent adhesive is roughly divided into a sheet form and a liquid form. The sheet-like pressure-sensitive adhesive is a pressure-sensitive type, and the two members are bonded together by laminating the other member after laminating the pressure-sensitive adhesive on one member to be bonded.

液状粘着剤は、塗布貼り合わせ後に室温放置または加熱によって硬化させるタイプであり、液状粘着剤の塗布方法としては、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ロールコート法等が挙げられ、粘着剤の種類、粘度、塗布量等から考慮選定される。  The liquid pressure-sensitive adhesive is a type that is allowed to stand at room temperature after application and pasting or is cured by heating. Examples of the method for applying the liquid pressure-sensitive adhesive include bar coating, reverse coating, gravure coating, and roll coating. It is selected considering the type of agent, viscosity, coating amount, etc.

透明粘着剤を用いて貼り合わせを行った後は、貼り合わせたときに入り込んだ気泡を脱泡させたり、透明粘着剤に固溶させ、さらには部材間の密着力を向上させるために、加圧、加温条件下にて養生を行なっても構わない。このとき、加圧条件としては、0.001から2MPa程度であり、加温条件としては、各部材の耐熱性にも依るが、室温以上、80℃以下である。  After bonding using a transparent adhesive, in order to defoam bubbles that have entered when bonded, or to dissolve in the transparent adhesive, and to improve the adhesion between members, Curing may be performed under pressure and heating conditions. At this time, the pressurizing condition is about 0.001 to 2 MPa, and the heating condition is not less than room temperature and not more than 80 ° C., depending on the heat resistance of each member.

(透明樹脂層)
本発明におけるその弾性および厚みによって特徴づけられた透明樹脂層の面に垂直な方向のヤング率は、1×10〜1×10Paの範囲が好ましく、透明樹脂層の厚みは10〜3000μmの範囲が好ましい。
(Transparent resin layer)
The Young's modulus in the direction perpendicular to the surface of the transparent resin layer characterized by its elasticity and thickness in the present invention is preferably in the range of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa, and the thickness of the transparent resin layer is 10 to 3000 μm. The range of is preferable.

本発明におけるその弾性および厚みに特徴づけられた透明樹脂層は、表示素子に衝撃が加わったときに、視認面のガラスに衝撃が加わることを防止したり、割れたガラスが飛散することを防止するための機能を持ち、本発明において重要な役割を果たす。  The transparent resin layer characterized by its elasticity and thickness in the present invention prevents the glass on the viewing surface from being impacted and the broken glass from being scattered when an impact is applied to the display element. And plays an important role in the present invention.

本発明における該透明樹脂層は、透明導電層、反射防止層、防眩層等の機能層を形成したり色素を含有させたりして用い、積層体の基体となる。  The transparent resin layer in the present invention is used by forming a functional layer such as a transparent conductive layer, an antireflection layer, an antiglare layer, or containing a pigment, and becomes a substrate of a laminate.

透明樹脂層は、透明である必要がある。ここで「透明である」とは、厚み100μmの場合に、可視光線視感平均透過率が50%以上であることである。  The transparent resin layer needs to be transparent. Here, “transparent” means that the visible light visual average transmittance is 50% or more when the thickness is 100 μm.

透明樹脂層が、外部からの衝撃を吸収し、それを伝えないようにするためには、該透明粘着層が外部からの衝撃により、変形し、衝撃力を緩和し、打ち消すようにすればよいと考えられる。そのためには、透明樹脂層の面に垂直な方向の弾性を目的に合わせて制限すれば良いと考えられる。  In order to prevent the transparent resin layer from absorbing and transmitting the impact from the outside, the transparent adhesive layer may be deformed by the impact from the outside, reducing the impact force, and canceling out. it is conceivable that. For this purpose, it is considered that the elasticity in the direction perpendicular to the surface of the transparent resin layer may be limited according to the purpose.

本発明における透明樹脂層の面に垂直な方向の弾性としては、ヤング率が1×10〜1×10Paであることが好ましく、より好ましくは1×10〜7×10Pa、さらにより好ましくは1×10Pa〜5×10Paである。As the elasticity in the direction perpendicular to the surface of the transparent resin layer in the present invention, the Young's modulus is preferably 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa, more preferably 1 × 10 3 to 7 × 10 7 Pa, Even more preferably, it is 1 × 10 3 Pa to 5 × 10 7 Pa.

該透明樹脂層のヤング率が大き過ぎる、すなわち1×10Paよりも大きいと、表示素子に対して視認面側から衝撃が加わったり表示素子全体に機械的強度が加わった際に、該透明樹脂層において衝撃を吸収することができず、視認面の基板ガラスが割れ易くなったり、飛散しやすくなる。また該透明樹脂層のヤング率が小さすぎる、すなわち1×10Paよりも小さいと、透明樹脂層自体が破断し易くなり好ましくない。If the Young's modulus of the transparent resin layer is too large, that is, greater than 1 × 10 8 Pa, the transparent resin layer is subjected to an impact when an impact is applied to the display element from the viewing surface side or mechanical strength is applied to the entire display element. Impact cannot be absorbed in the resin layer, and the substrate glass on the viewing surface is easily broken or scattered. Further, if the Young's modulus of the transparent resin layer is too small, that is, less than 1 × 10 3 Pa, the transparent resin layer itself is easily broken, which is not preferable.

該透明樹脂層に用いることができる材料としては、具体的に材料を例示すると、ポリエステル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリウレタン、エチレン/酢酸ビニル共重体の透明なエラストマとしてシリコーンゴム、ウレタンゴム、アクリルゴム、スチレン-ブタジエンゴム、軟質ポリ塩化ビニル、エチレン―プロピレン共重合体、エチレン―ブテン共重合体、エチレン―酢酸ビニル共重合体などのエチレン系共重合体等のエラストマ、エチレン系共重合体とエチレン―プロピレン―ジエン共重合体混合物の架橋体等のエチレン系透明組成物、スチレン系熱可塑性エラストマ、ウレタン系熱可塑性エラストマ等の熱可塑性エラストマ等である。また、これらの材料には本来の目的を損なわない範囲でシリカなどの充填材、可塑剤としてのオイル、耐熱安定剤または酸化防止剤などの添加剤等が含まれていても良い。また接着性等を高める目的でプラズマ処理等の処理が施されていても良い。 The material can be used for the transparent resin layer, To illustrate concrete a material, polyester Le, polystyrene, polyethylene, polypropylene, Polyurethane, other et styrene / vinyl acetate copolymer heavy body silicone as a clear elastomer Elastomers such as rubber, urethane rubber, acrylic rubber, styrene-butadiene rubber, soft polyvinyl chloride, ethylene-propylene copolymer, ethylene-butene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, etc., Examples thereof include ethylene-based transparent compositions such as a cross-linked product of an ethylene-based copolymer and an ethylene-propylene-diene copolymer mixture, and thermoplastic elastomers such as a styrene-based thermoplastic elastomer and a urethane-based thermoplastic elastomer . Also, fillers such as these the material silica in a range that does not impair the original purpose, oil as a plasticizer, may contain additives such as such as heat stabilizers or antioxidants. In addition, a treatment such as plasma treatment may be performed for the purpose of improving adhesiveness and the like.

中でもポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂またはエチレン酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリウレタンが好適に用いられる。  Of these, polyester resin, polypropylene resin, ethylene vinyl acetate copolymer, polyethylene, polystyrene, and polyurethane are preferably used.

本発明で用いる透明樹脂層の厚みは10〜3000μm、好ましくは10〜2000μm、より好ましくは10〜1500μm、更に好ましくは10〜1000μm、特に好ましくは10〜500μmである。厚みが薄すぎる、すなわち10μmよりも小さいと十分な衝撃吸収能力を得ることができない。また厚みが厚すぎる、すなわち3000μmよりも大きいと光透過性が不足することがある。また工程も考慮した場合、薄すぎると光学フィルタとして用いる場合にディスプレイ表面に設置するのが困難であり、厚すぎると材料の種類にもよるが可撓性が制限されることがある。  The thickness of the transparent resin layer used in the present invention is 10 to 3000 μm, preferably 10 to 2000 μm, more preferably 10 to 1500 μm, still more preferably 10 to 1000 μm, and particularly preferably 10 to 500 μm. If the thickness is too thin, that is, smaller than 10 μm, sufficient impact absorbing ability cannot be obtained. On the other hand, if the thickness is too thick, that is, larger than 3000 μm, the light transmittance may be insufficient. Also, considering the process, if it is too thin, it is difficult to install it on the display surface when used as an optical filter, and if it is too thick, flexibility may be limited depending on the type of material.

厚みが50〜250μmの透明な樹脂層は、いわゆる透明高分子フィルムであり、可撓性を有しており、透明導電膜をロールツーロール法で連続的に形成することができる。このため、効率よく、また、長尺大面積の透明積層体を生産することができる。また厚みが250μm以上の透明樹脂層は、いわゆる透明高分子シートであり、枚葉方式によって、透明導電層、反射防止層、防眩層等を形成することができる。弾性が低い場合はロールツーロール方を採用することも可能である。  The transparent resin layer having a thickness of 50 to 250 μm is a so-called transparent polymer film, has flexibility, and can form a transparent conductive film continuously by a roll-to-roll method. For this reason, it is possible to produce a transparent laminate having a long and large area efficiently. The transparent resin layer having a thickness of 250 μm or more is a so-called transparent polymer sheet, and a transparent conductive layer, an antireflection layer, an antiglare layer, and the like can be formed by a single wafer method. If the elasticity is low, the roll-to-roll method can be adopted.

本発明においては、透明樹脂層の表面を、スパッタリング処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、電子線照射などのエッチング処理や、下塗り処理によって、その上に形成される透明導電層の透明樹脂層に対する密着性を予め向上させてもよい。また、透明樹脂層と透明導電層との間に任意の金属などの無機物層を形成してもよく、透明導電膜を成膜する前に、必要に応じて溶剤洗浄または超音波洗浄などの防塵処理を施してもよい。  In the present invention, the surface of the transparent resin layer is formed on the surface of the transparent conductive layer by etching treatment such as sputtering treatment, corona treatment, flame treatment, ultraviolet ray irradiation, electron beam irradiation, and undercoat treatment. You may improve the adhesiveness with respect to beforehand. In addition, an inorganic layer such as an arbitrary metal may be formed between the transparent resin layer and the transparent conductive layer, and before forming the transparent conductive film, dustproofing such as solvent cleaning or ultrasonic cleaning as necessary. Processing may be performed.

また、透明積層体の耐擦傷性を向上させるために、透明樹脂層の少なくとも一方の主面にハードコート層が形成されていても良い。なお本発明における積層体が複数の透明樹脂層を有する場合、少なくとも1つは、上記の特性を有す必要があるが、その他は衝撃吸収能力を左右するパラメータに制限されない。  Moreover, in order to improve the scratch resistance of the transparent laminate, a hard coat layer may be formed on at least one main surface of the transparent resin layer. In addition, when the laminated body in this invention has a some transparent resin layer, at least one needs to have said characteristic, but others are not restrict | limited to the parameter which influences an impact-absorbing capability.

(衝撃吸収層)
本発明における衝撃吸収層は、積層体または光学フィルタを備え付けられた表示素子の画面に対して、外部から力がかかった場合に、その力を緩和し、表示素子が割れることを防止するため層である。
(Shock absorbing layer)
The shock absorbing layer according to the present invention is a layer for relaxing the force and preventing the display element from cracking when an external force is applied to the screen of the display element provided with the laminate or the optical filter. It is.

(衝撃吸収能力、透明性)
衝撃吸収層は、適度な衝撃吸収能力および透明性を有する必要がある。ここで「適度な衝撃吸収能力を有する」とは、その針入度(JIS K2207−1991−50g荷重)の値が、50〜200、好ましくは80〜200、より好ましくは100〜200であることである。また、「透明性を有する」とは、厚み100μmの場合における視感平均透過率の値が、40%以上であることである。
(Shock absorbing ability, transparency)
The shock absorbing layer needs to have an appropriate shock absorbing capacity and transparency. Here, “having moderate impact absorption capability” means that the value of penetration (JIS K2207-1991-50 g load) is 50 to 200, preferably 80 to 200, more preferably 100 to 200. It is. Further, “having transparency” means that the value of the luminous average transmittance when the thickness is 100 μm is 40% or more.

衝撃吸収層の厚みは、あまり薄すぎると十分な衝撃吸収能力を発揮することができず、またあまり厚すぎると十分な光透過性を得ることができないので好ましくない。そのため衝撃吸収層の厚みは、10〜3000μm、好ましくは10〜2000μm、より好ましくは10〜1500μm、更に好ましくは10〜1000μm、特に好ましくは10〜500μmである。  If the thickness of the shock absorbing layer is too thin, sufficient impact absorbing ability cannot be exhibited, and if it is too thick, sufficient light transmission cannot be obtained. Therefore, the thickness of the shock absorbing layer is 10 to 3000 μm, preferably 10 to 2000 μm, more preferably 10 to 1500 μm, still more preferably 10 to 1000 μm, and particularly preferably 10 to 500 μm.

衝撃吸収層の材料は、上記条件を満足できる材料であれば特に指定はないが、好適な材料として、シリコーン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン、およびアクリルのゲルが挙げられる。 The material of the shock absorbing layer is not particularly specified as long as the material that can satisfy the above conditions, suitable materials include silicone, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyurethane, and acrylic Le gels and the like.

そのうち特にシリコーンは、ゲル状態で用いることによって、その針入度および視感平均透過率が好適な値を示す衝撃吸収層を実現できる。さらに、ゲル内に空気を封入しておくと、衝撃吸収能力が向上し、より好適に用いることができる。  Of these, silicone, in particular, can be used in a gel state to realize an impact-absorbing layer having favorable values for penetration and visual average transmittance. Furthermore, if air is enclosed in the gel, the impact absorbing ability is improved and can be used more suitably.

衝撃吸収層を透明樹脂層上に固定する場合、粘着剤または接着剤を用いて互いを貼り合せる。ここで粘着剤および接着剤は、透明性を有するものであれば特に指定はない。ここで「透明性を有する」とは、厚み25μmの状態における視感平均透過率が50%以上であることを言う。粘着剤として、本発明における積層体の構成内での透明樹脂層同士の貼合せ、或いは光学フィルタと表示素子の画面との貼合せのために用いられる透明粘着層を用いることができる。透明粘着層の詳細に関しては後述する。  When fixing an impact-absorbing layer on a transparent resin layer, it sticks together using an adhesive or an adhesive agent. Here, the adhesive and the adhesive are not particularly specified as long as they have transparency. Here, “having transparency” means that the luminous average transmittance in a state of a thickness of 25 μm is 50% or more. As an adhesive, the transparent adhesive layer used for bonding of the transparent resin layers within the structure of the laminated body in this invention, or bonding of the optical filter and the screen of a display element can be used. Details of the transparent adhesive layer will be described later.

衝撃吸収層には、反射防止層または防眩層が形成されていても構わない。特に積層体または光学フィルタを表示素子に設置した結果、最表面となる面に衝撃吸収層が位置している場合は、視認性を向上させるために、反射防止層または防眩層が形成されていることが望ましい。反射防止層および防眩層の詳細に関しては後述する。  An antireflection layer or an antiglare layer may be formed on the shock absorbing layer. In particular, when the shock absorbing layer is located on the outermost surface as a result of installing the laminate or the optical filter on the display element, an antireflection layer or an antiglare layer is formed to improve the visibility. It is desirable that Details of the antireflection layer and the antiglare layer will be described later.

(積層体)
本発明における積層体は、透明樹脂層、透明粘着層および衝撃吸収層を積層して構成され、衝撃吸収層、透明樹脂層および透明粘着層はそれぞれ1層ずつのみで形成されていても構わないし、それぞれ複数の層が存在しても構わない。複数の衝撃吸収層が存在する場合は、耐衝撃性を向上させる上で、得られる効果は衝撃吸収層が一層の場合よりも大きい場合がある。
(Laminate)
Laminate in the present invention, the transparent resin layer, formed by laminating a transparent adhesive layer and shock-absorbing layer, the shock-absorbing layer, a transparent resin layer and the transparent adhesive layer is formed only in one each layer There may be a plurality of layers. When a plurality of shock absorbing layers are present, the effect obtained in improving the impact resistance may be greater than that of a single shock absorbing layer.

この際、透明樹脂層および/または衝撃吸収層が合計2層以上(A層、B層)使用される場合、そのJIS−A硬度(JIS−K6301規格)は、A層のJIS−A硬度(Ha)とB層のJIS−A硬度(Hb)との間に、
Ha/Hb ≧ 1.1
の関係があることが好ましく、より好ましくは、
Ha/Hb ≧ 1.2
更に好ましくは、
Ha/Hb ≧ 1.25
の関係がある。
At this time, when a total of two or more transparent resin layers and / or shock absorbing layers (A layer, B layer) are used, the JIS-A hardness (JIS-K6301 standard) is the JIS-A hardness of the A layer ( Between Ha) and the JIS-A hardness (Hb) of the B layer,
Ha / Hb ≧ 1.1
Preferably, there is a relationship of
Ha / Hb ≧ 1.2
More preferably,
Ha / Hb ≧ 1.25
There is a relationship.

またHaおよびHb値は0〜98であることが好ましく、更に好ましくは0〜95である。  Moreover, it is preferable that Ha and Hb values are 0-98, More preferably, it is 0-95.

柔軟な材料の硬度の評価方法として、JIS−A硬度の他に、ショアA硬度もある。JIS−A硬度とショアA硬度とはほとんど同じ値となることが多いので、HcおよびHd値としてショアA硬度の値を用いても実質的に問題はない。  As a method for evaluating the hardness of a flexible material, there is a Shore A hardness in addition to the JIS-A hardness. Since JIS-A hardness and Shore A hardness are often almost the same value, there is virtually no problem even if the values of Shore A hardness are used as the Hc and Hd values.

A層とB層との位置関係は任意であるが、硬度の高いA層が衝撃を受けやすい側、例えば表示装置に装着した場合、人側になるように配置することが好ましい。  Although the positional relationship between the A layer and the B layer is arbitrary, it is preferable that the A layer having high hardness is disposed on the side that is susceptible to impact, for example, when it is attached to a display device, on the human side.

本発明において、第1の積層体は、衝撃吸収層の少なくとも1層の針入度が50〜200であり、さらに透明樹脂層の少なくとも1層のヤング率が1×10 3 〜1×10 8 Pa、厚みが10〜3000μmであってもよく、透明粘着層の少なくとも1層のヤング率が1×10 2 〜1×10 6 Pa、厚みが10〜500μmであってもよく、透明樹脂層および/または衝撃吸収層が合計2層以上であり、各層のJIS−A硬度の比が1.1以上であってもよい。 In the present invention, in the first laminate, the penetration of at least one of the shock absorbing layers is 50 to 200, and the Young's modulus of at least one of the transparent resin layers is 1 × 10 3 to 1 × 10 8. Pa, the thickness may be 10 to 3000 μm, the Young's modulus of at least one layer of the transparent adhesive layer may be 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa, the thickness may be 10 to 500 μm , and the transparent resin layer and and the / or shock-absorbing layer are a total of two or more layers, may I der ratio of each layer of JIS-a hardness of 1.1 or more.

(表示素子)
本発明における積層体は、表示素子の部材として用いることが出来る。適用可能な表示素子は、プラズマディスプレイパネル(PDP)、液晶ディスプレイ(LCD)、有機ELディスプレイ(OELD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)などである。
(Display element)
The laminated body in this invention can be used as a member of a display element. Applicable display elements are a plasma display panel (PDP), a liquid crystal display (LCD), an organic EL display (OELD), a field emission display (FED), and the like.

PDPの場合は、電磁波遮断または色調調整を目的とした光学フィルタとして用いることができる。LCDの場合は、偏光板、位相差板、反射防止フィルム、および防眩性フィルムとして用いることができる。OELDおよびFEDの場合は、反射防止フィルムおよび防眩性フィルムとして主に用いることができる。  In the case of PDP, it can be used as an optical filter for the purpose of blocking electromagnetic waves or adjusting color tone. In the case of LCD, it can be used as a polarizing plate, a phase difference plate, an antireflection film, and an antiglare film. In the case of OELD and FED, it can mainly be used as an antireflection film and an antiglare film.

以下、代表例としてPDP用光学フィルタについて説明する。
(PDP用光学フィルタ)
PDPは、通常ディスプレイ前面部に光学フィルタを装備している。これは、プラズマディスプレイパネルが、原理上、強度の電磁波および近赤外線を装置外に放出するためである。電磁波は、計器に障害を及ぼすことが知られており、最近では、電磁波が人体にも障害を及ぼす可能性もあるとの報告もされている。このため、電磁波放出に関しては、法的に規制される方向になっている。例えば、現在日本では、VCCI(Voluntary Control Council for Interference by data processing equipment electronic office machine)による規制があり、米国では、FCC(Federal Communication Commission)による製品規制がある。
Hereinafter, an optical filter for PDP will be described as a representative example.
(Optical filter for PDP)
The PDP is usually equipped with an optical filter on the front surface of the display. This is because, in principle, the plasma display panel emits strong electromagnetic waves and near infrared rays to the outside of the apparatus. Electromagnetic waves are known to cause damage to instruments, and recently, it has been reported that electromagnetic waves may also damage the human body. For this reason, the electromagnetic wave emission is in a legally regulated direction. For example, in Japan, there is a regulation by VCCI (Voluntary Control Council for Interference by data processing equipment electronic machinery machine), and in the United States by FCC (Federal Communications).

近赤外線は、コードレス電話や赤外線方式のリモートコントローラー等の誤動作を引き起こす。特に問題となる波長は、800〜1000nmである。こうした電磁波および近赤外線の放出を抑えるために、光学フィルタが用いられている。  Near-infrared light causes malfunction of cordless telephones and infrared remote controllers. A particularly problematic wavelength is 800 to 1000 nm. In order to suppress such emission of electromagnetic waves and near infrared rays, an optical filter is used.

この光学フィルタは、フィルタ全面にわたって導電性があり、しかも透明性に優れている必要がある。これらの要求を満たし、実用化された光学フィルタは、大きく2種類に分けることができる。一つは、金属メッシュタイプと呼ばれているものであり、基体全面に細く金属を格子状に配置させたものである。これは、導電性に優れ、優れた電磁波遮断能力を持つが、近赤外線反射能力および透明性に劣る。もう一つは、透明膜タイプと呼ばれているものであり、透明導電性薄膜を基体全面に配置したものである。透明導電性薄膜タイプの光学フィルタは、金属メッシュタイプの光学フィルタに比較して、電磁波遮断能力に劣るが、近赤外線遮断能力および透明性に優れる為、ディスプレイ用フィルタとして好適に用いることができる。  This optical filter needs to be conductive over the entire surface of the filter and excellent in transparency. Optical filters that satisfy these requirements and have been put into practical use can be roughly divided into two types. One is called a metal mesh type, in which thin metals are arranged in a lattice pattern on the entire surface of the substrate. This is excellent in conductivity and has an excellent electromagnetic wave shielding ability, but is inferior in near-infrared reflection ability and transparency. The other is called a transparent film type, in which a transparent conductive thin film is arranged on the entire surface of a substrate. The transparent conductive thin film type optical filter is inferior in electromagnetic wave shielding ability as compared with a metal mesh type optical filter, but can be suitably used as a display filter because it is excellent in near infrared ray shielding ability and transparency.

透明導電性薄膜タイプ光学フィルタは、透明支持基体と透明導電性薄膜フィルムとを透明粘着剤を介して貼り合わせてある場合が多い。表示装置自体の軽量化や安全性の面から、透明支持基体としては、透明高分子成形体が、好適に用いられる場合が多いが、透明高分子成形体は、熱や湿気の影響を受けて変形する性質を持つため、ガラスが用いられる場合も多い。また、反射率低減機能、防眩機能または調色機能を持った光学フィルムを透明導電性フィルムに組み合わせて貼り合わせることも多い。  In many cases, a transparent conductive thin film type optical filter has a transparent support base and a transparent conductive thin film bonded together via a transparent adhesive. From the viewpoint of weight reduction and safety of the display device itself, a transparent polymer molded body is often used as a transparent support substrate, but the transparent polymer molded body is affected by heat and moisture. Glass is often used because of its deformable nature. In addition, an optical film having a reflectance reduction function, an antiglare function or a color matching function is often combined with a transparent conductive film.

本発明においてはこれら従来のものとは異なり、透明支持基体を有しない光学フィルタを提供する。  In the present invention, unlike these conventional ones, an optical filter having no transparent support substrate is provided.

光学フィルタの電磁波遮断能力は、光学フィルタの面抵抗値が低いほど優れる。透明導電性薄膜タイプ光学フィルタに関しては、抵抗が低い金属薄膜層を積層して、透明導電性薄膜を得ることが通常行われる。中でも、純物質の中で最も比抵抗が低い銀からなる金属薄膜が好適に用いられる。さらに透過率上昇および金属薄膜層の安定性向上の目的で、金属薄膜層を透明高屈折率薄膜層で挟み込み、透明導電性薄膜積層体を形成するのが通常である。  The electromagnetic wave shielding ability of the optical filter is more excellent as the surface resistance value of the optical filter is lower. Regarding a transparent conductive thin film type optical filter, it is common practice to obtain a transparent conductive thin film by laminating a metal thin film layer having a low resistance. Among these, a metal thin film made of silver having the lowest specific resistance among pure substances is preferably used. Furthermore, for the purpose of increasing the transmittance and improving the stability of the metal thin film layer, the metal thin film layer is usually sandwiched between transparent high refractive index thin film layers to form a transparent conductive thin film laminate.

電磁波遮断に用いる光学フィルタにおいては、外部電極を用いて、透明導電性薄膜層と外部との導通を得なければならない。  In an optical filter used for shielding electromagnetic waves, conduction between the transparent conductive thin film layer and the outside must be obtained using an external electrode.

本発明に用いられる光学フィルタの構成は、必要な機能を発現することができれば特に指定はない。  The configuration of the optical filter used in the present invention is not particularly specified as long as necessary functions can be expressed.

光学フィルタを構成する部材の数に特に指定はない。即ち、透明樹脂層および衝撃吸収層に全ての機能を付与しても良いし、それぞれの機能を有する層を複数組み合わせても構わない。光学フィルタの機能が1層の透明樹脂層および衝撃吸収層に形成される場合、透明粘着層は光学フィルタをPDPの視認面に貼り合せるために用いられる。また、光学フィルタが2枚以上の透明高分子フィルムを組み合わせて構成される場合、透明粘着剤は光学フィルタをPDP視認面に貼り合せるための透明粘着層または各高分子フィルム同士を貼り合せるために用いられる。  There is no particular designation on the number of members constituting the optical filter. That is, all functions may be imparted to the transparent resin layer and the shock absorbing layer, or a plurality of layers having the respective functions may be combined. When the function of the optical filter is formed in a single transparent resin layer and shock absorbing layer, the transparent adhesive layer is used to bond the optical filter to the viewing surface of the PDP. In addition, when the optical filter is configured by combining two or more transparent polymer films, the transparent adhesive is used to bond the transparent adhesive layer for bonding the optical filter to the PDP viewing surface or each polymer film. Used.

光学フィルタの構成の具体例を以下に示す。(A)はPDPの視認面、(B)、(C)および(D)は透明粘着層、(E)、(F)および(G)は透明樹脂層および衝撃吸収層、(H)は透明導電性薄膜、(I)は反射防止膜とすると、構成例は、A/B/H/E/I、A/B/H/E/C/F/I、A/B/E/H/C/F/I、A/B/H/E/C/F/D/G/I、A/B/E/H/C/F/D/G/I等である。  A specific example of the configuration of the optical filter is shown below. (A) is the viewing surface of the PDP, (B), (C) and (D) are transparent adhesive layers, (E), (F) and (G) are transparent resin layers and shock absorbing layers, and (H) is transparent. Assuming that the conductive thin film and (I) are anti-reflective films, the configuration examples are A / B / H / E / I, A / B / H / E / C / F / I, A / B / E / H / C / F / I, A / B / H / E / C / F / D / G / I, A / B / E / H / C / F / D / G / I, and the like.

1つの透明粘着層にのみ用いても、厚みがある一定以上であれば十分な効果を期待することができるが、本発明において、複数の透明粘着層全てに、低い弾性によって特徴づけられる透明粘着層を用いれば、それぞれの透明粘着層の厚みが小さくても、耐衝撃性に関して十分な効果を得ることができる。  Even if only one transparent adhesive layer is used, a sufficient effect can be expected as long as the thickness is equal to or greater than a certain value. However, in the present invention, all of the plurality of transparent adhesive layers are transparent adhesive characterized by low elasticity. If a layer is used, even if the thickness of each transparent adhesive layer is small, a sufficient effect regarding impact resistance can be obtained.

1つの透明樹脂層および衝撃吸収層のみ用いても、厚みがある一定以上であれば十分な効果を期待することができるが、本発明において、複数の透明樹脂層全てに、低い弾性によって特徴づけられる透明樹脂層を用いれば、それぞれの透明樹脂層の厚みが小さくても、耐衝撃性に関して十分な効果を得ることができる。  Even if only one transparent resin layer and a shock absorbing layer are used, a sufficient effect can be expected as long as the thickness is a certain value or more. However, in the present invention, all of the plurality of transparent resin layers are characterized by low elasticity. If the transparent resin layer to be used is used, even if the thickness of each transparent resin layer is small, a sufficient effect with respect to impact resistance can be obtained.

本発明の積層体はPDP用光学フィルタとして用いることができる。この場合、いずれかの透明樹脂層および/または衝撃吸収層に透明導電層が形成されている場合が多い。本発明における透明導電層とは、単層または多層薄膜からなる透明導電膜である。本発明では、高分子フィルムの主面上に透明導電層を形成した積層体を透明積層体という。高分子フィルムは、前述の透明樹脂層の他、ヤング率が1×10以上の材料を用いることもでき、好ましい例として2軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレート、ビスフェノールAポリカーボネート、酢酸セルロース等を挙げることができる。The laminate of the present invention can be used as an optical filter for PDP. In this case, a transparent conductive layer is often formed on any transparent resin layer and / or shock absorbing layer. The transparent conductive layer in the present invention is a transparent conductive film composed of a single layer or a multilayer thin film. In this invention, the laminated body which formed the transparent conductive layer on the main surface of a polymer film is called a transparent laminated body. As the polymer film, in addition to the above-mentioned transparent resin layer, a material having a Young's modulus of 1 × 10 8 or more can be used. Preferred examples include a biaxially stretched polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate, bisphenol A polycarbonate, acetic acid. A cellulose etc. can be mentioned.

単層の透明導電層としては、上述した導電性メッシュ、導電性格子状パターン膜、金属薄膜または酸化物半導体薄膜がある。  Examples of the single transparent conductive layer include the conductive mesh, the conductive lattice pattern film, the metal thin film, and the oxide semiconductor thin film described above.

多層の透明導電層としては、金属薄膜と高屈折率透明薄膜とを積層した多層薄膜がある。金属薄膜と高屈折率透明薄膜とを積層した多層薄膜は、以下のような特性を有する。すなわち銀などの金属薄膜は、導電性を有するとともに、金属の自由電子によって近赤外線反射特性を有する。また、高屈折率透明薄膜は、金属薄膜におけるある波長領域の光の反射を防止するという特性を有する。したがってこのような多層薄膜は、導電性、近赤外線カット能、可視光線透過率のいずれにおいても好ましい特性を有している。  As the multilayer transparent conductive layer, there is a multilayer thin film in which a metal thin film and a high refractive index transparent thin film are laminated. A multilayer thin film in which a metal thin film and a high refractive index transparent thin film are laminated has the following characteristics. That is, a metal thin film such as silver has conductivity and also has a near-infrared reflection characteristic due to metal free electrons. Further, the high refractive index transparent thin film has a characteristic of preventing reflection of light in a certain wavelength region in the metal thin film. Therefore, such a multilayer thin film has favorable characteristics in all of conductivity, near infrared ray cutting ability, and visible light transmittance.

電磁波シールド能および近赤外線カット能を有するディスプレイ用フィルタを得るためには、電磁波吸収のための高い導電性を有し、近赤外線反射のための反射界面を多く有する金属薄膜と、高屈折率透明薄膜とを積層した多層薄膜が好適である。  In order to obtain a display filter having electromagnetic shielding ability and near-infrared cut ability, a metal thin film having high conductivity for electromagnetic wave absorption and many reflective interfaces for near-infrared reflection, and high refractive index transparent A multilayer thin film in which a thin film is laminated is preferable.

ところで、VCCIにおいては、業務用途の規制値を示すClassAでは放射電界強度50dBμV/m未満であり、民生用途の規制値を示すClassBでは40dBμV/m未満である。しかし、プラズマディスプレイの放射電界強度は20〜90MHz帯域内で、対角20インチ型程度で40dBμV/m、対角40インチ型程度で50dBμV/mを越えている。このため、そのままでは家庭用途には使用できない。  By the way, in VCCI, the radiated electric field intensity is less than 50 dBμV / m in Class A indicating the regulation value for business use, and less than 40 dBμV / m in Class B indicating the regulation value for consumer use. However, the radiated electric field intensity of the plasma display is in the range of 20 to 90 MHz, exceeding 40 dBμV / m for a diagonal 20-inch type and exceeding 50 dBμV / m for a diagonal 40-inch type. For this reason, it cannot be used as it is for home use.

プラズマディスプレイの放射電界強度は、その画面の大きさおよび消費電力が大きいほど強く、シールド効果の高い電磁波シールド材が必要である。  The radiated electric field intensity of a plasma display increases as the screen size and power consumption increase, and an electromagnetic wave shielding material having a high shielding effect is required.

高い可視光線透過率と低い可視光線反射率に加え、プラズマディスプレイに必要な電磁波シールド能を有するには、透明導電層が、面抵抗0.1〜30Ω/□、より好ましくは0.1〜15Ω/□、さらに好ましくは0.01〜5Ω/□の低抵抗な導電性を有していることが必要である。本発明における「可視光線透過率」および「可視光線反射率」とは、透渦率および反射率の波長依存性からJIS(R−3106)に従って計算されるものである。  In order to have the electromagnetic wave shielding ability necessary for the plasma display in addition to the high visible light transmittance and the low visible light reflectance, the transparent conductive layer has a surface resistance of 0.1 to 30Ω / □, more preferably 0.1 to 15Ω. / □, more preferably 0.01 to 5Ω / □. The “visible light transmittance” and “visible light reflectance” in the present invention are calculated according to JIS (R-3106) from the wavelength dependence of the vortex permeability and the reflectance.

また、プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線を実用上問題とならないレベルまで遮断するには、ディスプレイ用フィルタの近赤外線波長領域800〜1000nmにおける光線透過率を20%以下にすることが必要であり、この要求を満たすためには、部材数低減の要求および色素を用いた近赤外線吸収の限界から、透明導電層自体が近赤外線カット性を持つことが必要である。透明導電層で近赤外線をカットするには、金属の自由電子による反射を利用することができる。  Moreover, in order to cut off the near-infrared light emitted by the plasma display to a level that does not cause a problem in practice, the light transmittance in the near-infrared wavelength region 800 to 1000 nm of the display filter needs to be 20% or less, In order to satisfy this requirement, it is necessary that the transparent conductive layer itself has a near-infrared cutting property because of the requirement for reducing the number of members and the limit of near-infrared absorption using a pigment. In order to cut near-infrared rays with a transparent conductive layer, reflection by free electrons of metal can be used.

金属薄膜層は厚くすると可視光線透過率が低くなり、薄くすると近赤外線の反射が弱くなる。しかし、ある厚みの金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を1段以上重ねることにより、可視光線透過率を高くし、かつ全体的な金属薄膜層の厚みを増やすことが可能である。また、層数および/またはそれぞれの層の厚みを制御することによって可視光線透過率、可視光線反射率、近赤外線の透過率、透過色、および反射色をある範囲で変化させることも可能である。  When the metal thin film layer is thick, the visible light transmittance is low, and when it is thin, the near-infrared reflection is weak. However, it is possible to increase the visible light transmittance and increase the overall thickness of the metal thin film layer by stacking one or more layers of a laminated structure in which a metal thin film layer of a certain thickness is sandwiched between high refractive index transparent thin film layers. It is. It is also possible to change the visible light transmittance, visible light reflectance, near-infrared transmittance, transmitted color, and reflected color within a certain range by controlling the number of layers and / or the thickness of each layer. .

可視光線反射率が高いと画面への照明器具等の映り込みが大きくなり、表示部表面の反射を防止する効果が低下し、視認性とコントラストとが低下するようになる。また、反射色としては、白色、青色、紫色系の目立たない色が好ましい。これらのことから、透明導電層は、光学的に設計、制御しやすい多層積層が好ましくなる。  When the visible light reflectance is high, the reflection of a lighting fixture or the like on the screen is increased, the effect of preventing reflection on the surface of the display unit is reduced, and visibility and contrast are reduced. Further, as the reflected color, white, blue, and purple-colored colors that are not conspicuous are preferable. For these reasons, the transparent conductive layer is preferably a multilayer stack that is easy to optically design and control.

PDP用光学フィルタにおいては、高分子フィルムの一方の主面上に多層薄膜の透明導電層を形成した透明積層体を用いることが好ましい。  In the optical filter for PDP, it is preferable to use a transparent laminate in which a transparent conductive layer of a multilayer thin film is formed on one main surface of a polymer film.

本発明において好ましい透明導電層は、高分子フィルムの一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層(a)、金属薄膜層(b)の順に、(a)/(b)を繰り返し単位として2〜4回繰り返し積層され、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層(a)を積層して形成され、該透明導電層の面抵抗が0.1〜30Ω/□であることを特徴とする。これによって、透明導電層は、電磁波シールド能のための低抵抗性、近赤外線カット能、透明性、および可視光線反射率に優れた性能を有する。本発明において、多層薄膜とは、特に記載がない限り、金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を1段以上重ねた多層積層の透明導電膜のことをいう。  In the present invention, a preferred transparent conductive layer is a high refractive index transparent thin film layer (a) and a metal thin film layer (b) in order of (a) / (b) on one main surface of the polymer film. It is repeatedly laminated 2 to 4 times, and further formed thereon by laminating at least a high refractive index transparent thin film layer (a), and the surface resistance of the transparent conductive layer is 0.1 to 30Ω / □. To do. As a result, the transparent conductive layer has low resistance for electromagnetic wave shielding ability, near infrared ray cutting ability, transparency, and excellent performance in visible light reflectance. In the present invention, unless otherwise specified, the multilayer thin film means a multilayer laminated transparent conductive film in which a laminated structure in which a metal thin film layer is sandwiched between high refractive index transparent thin film layers is laminated one or more layers.

本発明の透明導電層において、繰り返し積層数は2回〜4回が好適である。つまり、高分子フィルム(A)の主面上に透明導電層を積層した本発明の透明積層体は、(A)/(a)/(b)/(a)/(b)/(a)、または、(A)/(a)/(b)/(a)/(b)/(a)/(b)/(a)、または、(A)/(a)/(b)/(a)/(b)/(a)/(b)/(a)/(b)/(a)の層構成を有するものである。繰り返し積層数が5回以上では、生産装置の制限および生産性の問題が大きくなり、また、可視光線透過率の低下と可視光線反射率の増加とが生じる傾向がある。また、繰り返し回数が1回であると、低抵抗性と、近赤外線カット能と、可視光線反射率とを同時に十分なものとすることができない。  In the transparent conductive layer of the present invention, the number of repeated laminations is preferably 2 to 4 times. That is, the transparent laminate of the present invention in which the transparent conductive layer is laminated on the main surface of the polymer film (A) is (A) / (a) / (b) / (a) / (b) / (a). Or (A) / (a) / (b) / (a) / (b) / (a) / (b) / (a) or (A) / (a) / (b) / ( It has a layer structure of a) / (b) / (a) / (b) / (a) / (b) / (a). When the number of repeated laminations is 5 or more, there is a problem of limitations on the production apparatus and productivity, and a decrease in visible light transmittance and an increase in visible light reflectance tend to occur. If the number of repetitions is 1, low resistance, near-infrared cutting ability, and visible light reflectance cannot be made sufficient at the same time.

なお、繰り返し積層数が2回〜4回の多層薄膜において、近赤外線カット能と、可視光線透過率と、可視光線反射率とを同時に、プラズマディスプレイに好適な特性とするには、その面抵抗が1〜5Ω/□であることを本発明者らは見出した。  In addition, in a multilayer thin film having 2 to 4 repetitions of lamination, in order to make the near-infrared cut ability, the visible light transmittance, and the visible light reflectance at the same time suitable characteristics for a plasma display, its surface resistance The present inventors have found that is 1 to 5Ω / □.

将来的にはプラズマディスプレイから放出される電磁波強度が低下することも想定される。その場合は、光学フィルタの面抵抗が5〜15Ω/□でも十分な電磁波遮断特性を得ることができることが予想される。また、さらにプラズマディスプレイから放出される電磁波強度が低下することも想定される。その場合は、光学フィルタの面抵抗が15〜30Ω/□でも十分な電磁波遮断特性を得ることができるようになることが予想される。  In the future, it is also assumed that the intensity of electromagnetic waves emitted from the plasma display will decrease. In that case, it is expected that sufficient electromagnetic wave shielding characteristics can be obtained even when the surface resistance of the optical filter is 5 to 15Ω / □. It is also assumed that the electromagnetic wave intensity emitted from the plasma display is further reduced. In that case, it is expected that sufficient electromagnetic wave shielding characteristics can be obtained even when the surface resistance of the optical filter is 15 to 30Ω / □.

金属薄膜層(b)の材料としては、銀が、導電性、赤外線反射性および多層積層したときの可視光線透過性に優れているため、好適である。しかし、銀は化学的、物理的安定性に欠け、環境中の汚染物質、水蒸気、熱、光等によって劣化するため、銀に金、白金、パラジウム、銅、インジウム、スズ等の環境に安定な金属を一種以上加えた合金、またはこれら環境に安定な金属も好適に使用できる。特に、金およびパラジウムは耐環境性、光学特性に優れ好適である。  As a material for the metal thin film layer (b), silver is preferable because it is excellent in conductivity, infrared reflectivity, and visible light transmittance when multilayered. However, since silver lacks chemical and physical stability and deteriorates due to environmental pollutants, water vapor, heat, light, etc., it is stable to silver, gold, platinum, palladium, copper, indium, tin, etc. An alloy to which one or more metals are added, or an environment-stable metal can also be suitably used. In particular, gold and palladium are excellent in environmental resistance and optical characteristics and are suitable.

銀を含む合金中の銀の含有率は、特に限定されるものではないが、銀薄膜の導電性および光学特性と大きく変わらないことが望ましく、50重量%以上、100重量%未満程度である。しかしながら、銀に他の金属を添加すると、その優れた導電性および光学特性が阻害されるので、複数の金属薄膜層を有する場合は、可能であれば少なくとも1つの層は銀を合金にしないで用いたり、基体から見て最初の層および/または最外層にある金属薄膜層のみを合金にすることが望ましい。  The silver content in the alloy containing silver is not particularly limited, but is desirably not significantly different from the conductivity and optical properties of the silver thin film, and is about 50 wt% or more and less than 100 wt%. However, the addition of other metals to silver impairs its excellent conductivity and optical properties, so if you have multiple metal thin film layers, at least one layer should not be alloyed with silver if possible. It is desirable to use or alloy only the first and / or outermost metal thin film layer as viewed from the substrate.

金属薄膜層の厚みは、導電性および光学特性等から光学設計的かつ実験的に求められ、透明導電層が要求特性を持てば特に限定されるものではない。ただし、導電性等から薄膜が島状構造ではなく、連続状態であることが必要であり、厚みは4nm以上であることが望ましい。また、金属薄膜層が厚すぎると透明性が問題になるので30nm以下が望ましい。金属薄膜層が複数ある場合は、各層が全て同じ厚みとは限らず、また、全て銀、あるいは、同じ銀を含む合金でなくともよい。  The thickness of the metal thin film layer is not particularly limited as long as it is optically and experimentally determined from conductivity and optical characteristics, and the transparent conductive layer has the required characteristics. However, it is necessary for the thin film not to have an island-like structure but to be in a continuous state because of conductivity or the like, and the thickness is desirably 4 nm or more. Moreover, since transparency will become a problem when a metal thin film layer is too thick, 30 nm or less is desirable. When there are a plurality of metal thin film layers, all the layers are not necessarily the same thickness, and may not be all silver or an alloy containing the same silver.

金属薄膜層の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、メッキ等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。  For the formation of the metal thin film layer, any conventionally known method such as sputtering, ion plating, vacuum deposition, or plating can be employed.

高屈折率透明薄膜層(a)を形成する透明薄膜としては、可視領域において透明性を有し、金属薄膜層の可視領域における光線反射を防止する効果を有する材料であれば特に限定されるものではないが、可視光線に対する屈折率が1.6以上、好ましくは1.8以上、さらに好ましくは2.0以上の屈折率の高い材料が用いられる。このような透明薄膜を形成する具体的な材料としては、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化物、または、これら酸化物の混合物、あるいは硫化亜鉛などが挙げられる。  The transparent thin film that forms the high refractive index transparent thin film layer (a) is not particularly limited as long as it is a material having transparency in the visible region and preventing light reflection in the visible region of the metal thin film layer. However, a high refractive index material having a refractive index with respect to visible light of 1.6 or more, preferably 1.8 or more, more preferably 2.0 or more is used. Specific materials for forming such a transparent thin film include oxides such as indium, titanium, zirconium, bismuth, tin, zinc, antimony, tantalum, cerium, neodymium, lanthanum, thorium, magnesium, gallium, or the like. Examples thereof include a mixture of oxides and zinc sulfide.

これら酸化物あるいは硫化物は、金属と、酸素原子あるいは硫黄原子との化学量論的な組成にズレがあっても、光学特性を大きく変えない範囲であるならば差し支えない。なかでも、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、あるいは酸化インジウムと酸化スズとの混合物(ITO)は、透明性および高屈折率に加えて、成膜速度が速く、金属薄膜層との密着性等が良好であることから好適に使用できる。  These oxides or sulfides can be used as long as they do not significantly change the optical characteristics even if the stoichiometric composition of the metal and oxygen atoms or sulfur atoms is different. Among them, zinc oxide, titanium oxide, indium oxide, or a mixture of indium oxide and tin oxide (ITO) has high film formation speed and adhesion to a metal thin film layer in addition to transparency and high refractive index. Can be suitably used because of its good quality.

高屈折率透明薄膜層の厚みは、高分子フィルム(透明基体ともいう)の光学特性、金属薄膜層の厚み、光学特性、および、透明薄膜層の屈折率等から光学設計的かつ実験的に求められ、特に限定されるものではないが、5nm以上、200nm以下であることが好ましく、より好ましくは10nm以上、100nm以下である。また複数の高屈折率透明薄膜層を有する場合には、各層は同じ厚みとは限らず、また同じ透明薄膜材料でなくともよい。  The thickness of the high refractive index transparent thin film layer is determined optically and experimentally from the optical characteristics of the polymer film (also referred to as a transparent substrate), the thickness of the metal thin film layer, the optical characteristics, the refractive index of the transparent thin film layer, and the like. Although not particularly limited, it is preferably 5 nm or more and 200 nm or less, more preferably 10 nm or more and 100 nm or less. Moreover, when it has a some high refractive index transparent thin film layer, each layer does not necessarily have the same thickness, and does not need to be the same transparent thin film material.

高屈折率透明薄膜層の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、または湿式塗工等の従来公知の方法のいずれでも採用できる。  For forming the high refractive index transparent thin film layer, any conventionally known method such as sputtering, ion plating, ion beam assist, vacuum deposition, or wet coating can be employed.

上記の透明導電層の耐環境性を向上させるために、透明導電層の表面に、導電性および光学特性を著しく損なわない程度に、有機物または無機物の任意の保護層を設けてもよい。また、金属薄膜層の耐環境性、および金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との密着性等を向上させるため、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との間に、導電性および光学特性を損なわない程度に任意の無機物層を形成してもよい。これらの具体的な材料としては銅、ニッケル、クロム、金、白金、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、スズ、パラジウム等、あるいはこれらの材料の2種類以上からなる合金が挙げられる。その厚みは、好ましくは、0.2nm〜2nm程度である。  In order to improve the environmental resistance of the transparent conductive layer, an organic or inorganic protective layer may be provided on the surface of the transparent conductive layer to such an extent that the conductivity and optical properties are not significantly impaired. In addition, in order to improve the environmental resistance of the metal thin film layer and the adhesion between the metal thin film layer and the high refractive index transparent thin film layer, electrical conductivity and optical properties are provided between the metal thin film layer and the high refractive index transparent thin film layer. You may form arbitrary inorganic substance layers to such an extent that a characteristic is not impaired. Specific examples of these materials include copper, nickel, chromium, gold, platinum, zinc, zirconium, titanium, tungsten, tin, palladium, and the like, or alloys made of two or more of these materials. The thickness is preferably about 0.2 nm to 2 nm.

所望の光学特性の透明導電層を得るには、得ようとする電磁波シールド能の為の導電性、つまり、金属薄膜材料およびその厚みを勘案して、高分子フィルムおよび薄膜材料の光学定数(屈折率および消光係数)を用いたベクトル法、アドミッタンス図を用いる方法等を使った光学設計を行い、各層の薄膜材料、層数、および膜厚等を決定する。この際、透明導電層上に形成される隣接層を考慮すると良い。このことは高分子フィルム上に形成された透明導電層への光の入射媒質が、空気または真空等の屈折率1の入射媒質と違うために透過色(ならびに透過率、反射色および反射率)が変化するためである。すなわち、透明導電層上に機能性透明層を形成する際に透明粘着層を介する場合は、透明粘着層の光学定数を考慮する設計を行う。また、透明導電層上に機能性透明層を直接する場合は、透明導電層と接する材料の光学定数を考慮する設計を行う。  In order to obtain a transparent conductive layer having desired optical properties, the optical constants (refractive properties) of the polymer film and the thin film material are considered in consideration of the conductivity for the electromagnetic shielding ability to be obtained, that is, the metal thin film material and its thickness The optical design using the vector method using the rate and the extinction coefficient), the method using the admittance diagram, etc. is performed, and the thin film material, the number of layers, the film thickness, etc. of each layer are determined. At this time, an adjacent layer formed on the transparent conductive layer may be considered. This is because the light incident medium to the transparent conductive layer formed on the polymer film is different from the incident medium having a refractive index of 1 such as air or vacuum, so that the transmission color (and the transmittance, reflection color and reflectance) This is because of changes. That is, when forming the functional transparent layer on the transparent conductive layer, when the transparent adhesive layer is interposed, the design is performed in consideration of the optical constant of the transparent adhesive layer. In addition, when the functional transparent layer is formed directly on the transparent conductive layer, the design is performed in consideration of the optical constant of the material in contact with the transparent conductive layer.

上述のように、透明導電層の設計を行なうことによって、高屈折率透明薄膜層(a)では高分子フィルムから見て最下層と最上層とがその間の層よりも薄く、金属薄膜層(b)では高分子フィルムから見て最下層がその他の層よりも薄く、屈折率1.45〜1.65および消光係数ほぼ0である、厚み10〜50μmの粘着剤が隣接層であるとき、透明積層体の反射が著しく増加せず、隣接層形成による界面反射の増加が2%以下となる。  As described above, by designing the transparent conductive layer, in the high refractive index transparent thin film layer (a), the lowermost layer and the uppermost layer are thinner than the intermediate layer when viewed from the polymer film, and the metal thin film layer (b ) In the polymer film, the lowermost layer is thinner than the other layers, the refractive index is 1.45 to 1.65, and the extinction coefficient is almost 0. The reflection of the laminate does not increase remarkably, and the increase in interface reflection due to the adjacent layer formation is 2% or less.

特に、繰り返し回数が3回、すなわち、計7層からなる透明導電層においては、3層ある金属薄膜層(b)のうちの2番目の金属薄膜層、すなわち高分子フィルムからみて4番目の層が他の層より厚いと、前記粘着剤が隣接層であるときに、透明積層体の反射が著しく増加しない。  In particular, in the transparent conductive layer consisting of three repetitions, that is, a total of seven layers, the second metal thin film layer of the three metal thin film layers (b), that is, the fourth layer as viewed from the polymer film Is thicker than the other layers, the reflection of the transparent laminate is not significantly increased when the pressure-sensitive adhesive is an adjacent layer.

光学定数はエリプソメトリ(楕円偏光解析法)またはアッベ屈折計によって測定でき、また、光学特性を観察しながら、層数、膜厚等を制御して成膜を行うこともできる。  The optical constant can be measured by ellipsometry (elliptical ellipsometry) or an Abbe refractometer, and film formation can be performed by controlling the number of layers, film thickness, etc. while observing optical characteristics.

本発明におけるディスプレイ用フィルタの透明導電層は金属メッシュ層であることも好ましい。  The transparent conductive layer of the display filter in the present invention is also preferably a metal mesh layer.

単層の金属メッシュ層は、高分子フィルム上に銅メッシュ層を形成したものが好ましく、高分子フィルム上に銅箔を貼り合せ、その後メッシュ状に加工する。  The single metal mesh layer is preferably formed by forming a copper mesh layer on a polymer film, and a copper foil is bonded on the polymer film and then processed into a mesh shape.

本発明に用いられる銅箔は、圧延銅、電解銅とも使い得るが、金属層は多孔性のものが好ましく用いられ、その孔径は、0.5〜5μmが好ましく、さらに好ましくは、0.5〜3μmであり、さらに好ましくは0.5〜1μmである。孔径が5μmよりも大きくなるとパターニングの障害になる恐れがあり、また、0.5μmよりも小さくなると光線透過率の向上が期待しにくい。なお、銅箔のポロシティとしては、0.01〜20%の範囲が好ましく、さらに好ましくは、0.02〜15%、特に好ましくは0.02〜5%である。本発明でいう「ポロシティ」とは、体積をRとして、孔容積をPとしたときに、P/Rで定義される値である。例えば、体積0.1ccに対応する銅箔の孔容積を、水銀ポロシティで測定したところ0.001ccであったとすると、ポロシティは1%ということができる。用いられる銅箔は、各種表面処理をされていても構わない。具体的に例示すれば、クロメート処理、租面化処理、酸洗、ジンク・クロメート処理等である。  The copper foil used in the present invention can be used for both rolled copper and electrolytic copper, but the metal layer is preferably porous, and the pore diameter is preferably 0.5 to 5 μm, more preferably 0.5. It is -3micrometer, More preferably, it is 0.5-1micrometer. If the hole diameter is larger than 5 μm, patterning may be obstructed, and if it is smaller than 0.5 μm, it is difficult to expect an improvement in light transmittance. In addition, as a porosity of copper foil, the range of 0.01 to 20% is preferable, More preferably, it is 0.02 to 15%, Most preferably, it is 0.02 to 5%. The “porosity” in the present invention is a value defined by P / R where R is a volume and P is a pore volume. For example, when the pore volume of a copper foil corresponding to a volume of 0.1 cc is measured by mercury porosity and is 0.001 cc, the porosity can be 1%. The copper foil used may be subjected to various surface treatments. Specific examples include chromate treatment, roughening treatment, pickling, zinc / chromate treatment, and the like.

銅箔の厚みは3〜30μmが好ましく、より好ましくは、5〜20μm、さらに好ましくは7〜10μmである。この厚みよりも厚いとエッチングに時間を要するという問題があり、また、この厚みよりも薄いと電磁波シールド能に劣るという問題が発生する。  The thickness of the copper foil is preferably 3 to 30 μm, more preferably 5 to 20 μm, still more preferably 7 to 10 μm. If it is thicker than this thickness, there is a problem that it takes time to etch, and if it is thinner than this thickness, there arises a problem that the electromagnetic wave shielding ability is inferior.

光透過部分の開口率は60%以上、95%以下が好ましく、より好ましくは65%以上、90%以下、さらにより好ましくは70%以上、85%以下である。開口部の形状は、特に限定されるものではないが、正三角形、正四角形、正六角形、円形、長方形、菱形等に形がそろっており、面内に並んでいることが好ましい。光透過部分の開口部の代表的な大きさは1辺もしくは直径が5〜200μmの範囲であることが好ましい。さらに好ましくは10〜150μmである。この値が大きすぎる、すなわち200μmよりも大きいと電磁波シールド能が低下し、また、この値が小さすぎる、すなわち5μmよりも小さいとディスプレイの画像に好ましくない影響を与える。また、開口部を形成しない部分の金属の幅は5〜50μmが好ましい。すなわちピッチが10〜250μmであることが好ましい。この幅よりも細い、すなわち幅が10μmよりも小さいと、加工がきわめて困難になる。一方、この幅よりも太い、すなわち幅が50μmよりも大きいと、画像に好ましくない影響を与える。  The aperture ratio of the light transmitting portion is preferably 60% or more and 95% or less, more preferably 65% or more and 90% or less, and still more preferably 70% or more and 85% or less. The shape of the opening is not particularly limited, but it is preferably in the form of a regular triangle, a regular square, a regular hexagon, a circle, a rectangle, a rhombus, and the like, and is arranged in the plane. The typical size of the opening of the light transmitting portion is preferably in the range of one side or diameter of 5 to 200 μm. More preferably, it is 10-150 micrometers. If this value is too large, i.e., greater than 200 [mu] m, the ability to shield electromagnetic waves decreases, and if this value is too small, i.e., less than 5 [mu] m, the display image is unfavorably affected. Further, the width of the metal in the portion where the opening is not formed is preferably 5 to 50 μm. That is, the pitch is preferably 10 to 250 μm. If it is narrower than this width, that is, if the width is smaller than 10 μm, processing becomes extremely difficult. On the other hand, if it is thicker than this width, that is, if the width is larger than 50 μm, it adversely affects the image.

光透過部分を有する金属層の実質的なシート抵抗とは、上述のパターンよりも5倍以上大きな電極を用いて、上述のパターンの繰り返し単位よりも5倍以上の電極間隔をもつ4端子法によって測定したシート抵抗をいう。例えば、開口部の形状が1辺100μmの正方形で金属層の幅が20μmをもって規則的に正方形が並べられたものであれば、φ1mmの電極を1mm間隔で並べて測定することができる。或いはパターン形成したフィルムを短冊状に加工し、その長手方向の両端に電極を設けて、その抵抗を測り(R)、長手方向の長さa、短手方向の長さbとすると、実質的なシート抵抗=R×b/aで求めることができる。このように測定された値は、0.01Ω/□以上、0.5Ω/□以下が好ましく、より好ましくは0.05Ω/□以上、0.3Ω/□以下である。0.01Ω/□よりも小さな値を得ようとすると膜が厚くなりすぎ、かつ、開口部が十分取れなくなる。一方、0.5Ω/□よりも大きな値にすると十分な電磁波シールド能を得ることができなくなる。  The substantial sheet resistance of the metal layer having a light transmitting portion is determined by a four-terminal method using an electrode that is 5 times or more larger than the above pattern and having an electrode interval of 5 times or more than the repeating unit of the above pattern. It refers to the measured sheet resistance. For example, if the shape of the opening is a square having a side of 100 μm and the metal layer has a width of 20 μm and the squares are regularly arranged, it is possible to measure by arranging electrodes of φ1 mm at intervals of 1 mm. Alternatively, if the patterned film is processed into a strip shape, electrodes are provided at both ends in the longitudinal direction, and the resistance is measured (R), the length a in the longitudinal direction and the length b in the lateral direction are substantially Sheet resistance = R × b / a. The measured value is preferably 0.01Ω / □ or more and 0.5Ω / □ or less, more preferably 0.05Ω / □ or more and 0.3Ω / □ or less. If an attempt is made to obtain a value smaller than 0.01Ω / □, the film becomes too thick and the opening cannot be sufficiently removed. On the other hand, if the value is larger than 0.5Ω / □, sufficient electromagnetic wave shielding ability cannot be obtained.

銅箔を高分子フィルムにラミネートする方法としては、透明な接着剤を用いる。接着剤の種類としては、アクリル系、エポキシ系、ウレタン系、シリコーン系、ポリエステル系等があるが、特に接着剤に限定はない。2液系および熱硬化タイプが好適に使用される。なお、耐薬品性に優れた接着剤であることが好ましい。高分子フィルムに接着剤を塗布した後、銅箔と貼り合せることもできるし、銅箔に接着剤を貼り合せてもよい。  As a method of laminating the copper foil on the polymer film, a transparent adhesive is used. Examples of the adhesive include acrylic, epoxy, urethane, silicone, and polyester, but the adhesive is not particularly limited. A two-component system and a thermosetting type are preferably used. An adhesive having excellent chemical resistance is preferable. After apply | coating an adhesive agent to a polymer film, it can also bond with copper foil, and you may bond an adhesive agent to copper foil.

光透過部分を形成する方法としては、印刷法あるいはフォトレジスト法を用いることができる。印刷法では印刷レジスト材料を用いたスクリーン印刷法でマスク層をパターン形成する方法が好ましい。フォトレジスト材料を用いる方法では、ロールコーティング法、スピンコーティング法、全面印刷法、転写法などで、金属箔上にフォトレジスト材料をべた形成し、フォトマスクを用いて露光現像してレジストのパターニングを行う。レジストパターニングを完成させた後、開口部とする金属部分を湿式エッチングで除去することで、所望の開口形状と開口率の、光透過部分を有する金属メッシュ層を得ることができる。  As a method for forming the light transmission portion, a printing method or a photoresist method can be used. As the printing method, a method of patterning the mask layer by a screen printing method using a printing resist material is preferable. In the method using a photoresist material, a photoresist material is formed on a metal foil by a roll coating method, a spin coating method, a full surface printing method, a transfer method, etc., and exposed and developed using a photomask to pattern the resist. Do. After the resist patterning is completed, the metal portion serving as the opening is removed by wet etching, so that a metal mesh layer having a desired opening shape and opening ratio and having a light transmission portion can be obtained.

(調色)
また光学フィルタは、ディプレイからの発光色をより好ましいものに調整する機能を有する場合が多い。液晶パネル用フィルタにおいて透明導電層を有さず、調色機能を主な機能とする場合もある。
(Toning)
In many cases, the optical filter has a function of adjusting the emission color from the display to a more preferable one. In some cases, the liquid crystal panel filter does not have a transparent conductive layer, and the toning function is a main function.

光学フィルタの透過色において、黄緑〜緑色味が強いと、ディスプレイのコントラストが低下し、さらには色純度が低くなり、白色表示も緑色がかったものになることがある。このことは、黄緑〜緑色である550nm前後の波長の光が最も視感度が高いことにもよる。  When the transmission color of the optical filter is strong in yellowish green to green, the contrast of the display is lowered, the color purity is lowered, and the white display may be greenish. This is because light having a wavelength of about 550 nm, which is yellowish green to green, has the highest visibility.

多層薄膜は、可視光線透過率および可視光線反射率を重視すると、透過色調に劣る。電磁波シールド能即ち導電性と、近赤外線カット能とをあげるほど、金属薄膜の総膜厚を厚くするが必要がある。しかし、金属薄膜の総膜厚が大きくなる程、透過色が緑色〜黄緑色になる傾向がある。従って、プラズマディスプレイに用いる光学フィルタはその透過色がニュートラルグレーまたはブルーグレーであることが要求される。これは、緑色透過が強いとコントラストが低下すること、赤色および緑色発光色に比べて青色発光が弱いこと、標準白色より若干高めの色温度の白色が好まれること、等による。加えて、光学フィルタの透過特性は、プラズマディスプレイの白色表示の色度座標が極力、黒体軌跡に近いことが望ましい。  The multilayer thin film is inferior in transmitted color tone when the visible light transmittance and the visible light reflectance are regarded as important. It is necessary to increase the total thickness of the metal thin film as the electromagnetic wave shielding ability, that is, the conductivity and the near infrared ray cutting ability are increased. However, as the total thickness of the metal thin film increases, the transmitted color tends to be green to yellow-green. Therefore, the optical filter used in the plasma display is required to have a transmission color of neutral gray or blue gray. This is because the contrast decreases when green transmission is strong, blue emission is weaker than red and green emission colors, and white having a slightly higher color temperature than standard white is preferred. In addition, the transmission characteristics of the optical filter are preferably such that the chromaticity coordinates of the white display of the plasma display are as close as possible to the black body locus.

多層薄膜を透明導電層(B)に用いた場合は、多層薄膜の色調を補正して光学フィルタの透過色をニュートラルグレーまたはブルーグレーにすることが肝要である。色調を補正するには可視波長領域に吸収のある色素を用いれば良い。例えば、透明導電層(B)の透過色に緑色味がある場合、赤色の色素を用いてグレーに補正し、透過色に黄色味がある場合は青〜紫の色素を用いて補正する。  When a multilayer thin film is used for the transparent conductive layer (B), it is important to correct the color tone of the multilayer thin film so that the transmitted color of the optical filter is neutral gray or blue gray. In order to correct the color tone, a dye having absorption in the visible wavelength region may be used. For example, when the transparent color of the transparent conductive layer (B) is green, it is corrected to gray using a red pigment, and when the transmitted color is yellow, it is corrected using a blue to purple pigment.

カラープラズマディスプレイでは、希ガスの直流または交流放電によって発生する真空紫外光で励起発光する(Y,Gd,Eu)BO等の赤色(R)発光蛍光体、(Zn,Mn)SiO等の緑色(G)発光蛍光体、(Ba,Eu)MgAl1017:Eu等の青色(B)発光蛍光体が、画素を構成する表示セルに形成されている。蛍光体は、色純度の他に放電セルへの塗布性、残光時間の短さ、発光効率、耐熱性等を指標に選定されており、実用化されている蛍光体はその色純度に改良を要するものが多い。特に赤色発光蛍光体の発光スペクトルは、波長580nmから700nm程度までにわたる数本の発光ピークを示している。比較的強い短波長側の発光ピークは黄〜オレンジ色の発光であるので、赤色発光がオレンジに近い色純度の良くないものとなってしまう問題がある。希ガスにXeとNeとの混合ガスを用いた場合、Ne励起状態の発光緩和によるオレンジ色発光も同様に色純度を低下させてしまう。また、緑色発光および青色発光に関しても、そのピーク波長の位置および発光のブロードさが色純度を低下させる要因となっている。In a color plasma display, a red (R) light emitting phosphor such as (Y, Gd, Eu) BO 3 that emits light by excitation with vacuum ultraviolet light generated by DC or AC discharge of a rare gas, (Zn, Mn) 2 SiO 4, or the like. Green (G) light-emitting phosphors and blue (B) light-emitting phosphors such as (Ba, Eu) MgAl 10 O 17 : Eu are formed in the display cells constituting the pixels. Phosphors are selected based on color purity, coating properties on discharge cells, short afterglow time, luminous efficiency, heat resistance, etc., and phosphors in practical use have been improved to their color purity. There are many things that require. In particular, the emission spectrum of the red-emitting phosphor shows several emission peaks ranging from about 580 nm to about 700 nm. Since the relatively strong light emission peak on the short wavelength side is yellow to orange light emission, there is a problem in that red light emission has a poor color purity close to orange. When a mixed gas of Xe and Ne is used as the rare gas, orange light emission due to light emission relaxation in the Ne excited state similarly reduces the color purity. In addition, with respect to green light emission and blue light emission, the position of the peak wavelength and the emission broadness are factors that reduce the color purity.

色純度の高さは、例えば、国際照明委員会(CIE)が定めた横軸色度x、縦軸色度yで色相と彩度を表す座標系において、RGB三色を頂点とした三角形の広さで示す色再現範囲の広さで表すことができる。色純度の低さからプラズマディスプレイの発光の色再現範囲は、NTSC(National Television System Committee)方式で定めているRGB三色の色度が示す色再現範囲より通常狭い。  For example, in the coordinate system in which the hue and saturation are represented by the horizontal axis chromaticity x and the vertical axis chromaticity y determined by the International Commission on Illumination (CIE), the color purity is high in a triangular shape having three colors RGB as vertices. It can be represented by the breadth of the color reproduction range indicated by the breadth. Due to the low color purity, the color reproduction range of light emission of the plasma display is usually narrower than the color reproduction range indicated by the chromaticities of the three RGB colors defined by the NTSC (National Television System Committee) system.

また、表示セル間での発光の滲み出しに加えて、各色の発光が広い範囲にわたって不必要な光を含んでおり、必要な発光が際立たないことは、色純度だけではなくプラズマディスプレイのコントラストを下げる要因にもなっている。さらに、プラズマディスプレイは一般に室内照明等による外光が存在する明時においては暗時に比べコントラストが悪くなる。これは、基板ガラス、蛍光体等が外光を反射し、不必要な光が必要な光を際立たせなくするために起きる。プラズマディスプレイパネルのコントラスト比は、暗示は100〜200、周囲照度100lx程度の明時は10〜30であり、その向上が課題となっている。また、コントラストが低いことも色再現範囲を狭くしている要因である。  In addition to the oozing of light emission between display cells, the emission of each color includes unnecessary light over a wide range, and the fact that the necessary light emission does not stand out is not only the color purity but also the contrast of the plasma display. It is also a factor to lower. Further, the contrast of the plasma display is generally worse in the bright time when the outside light is present due to indoor lighting or the like than in the dark time. This occurs because the substrate glass, phosphors, etc. reflect outside light and make unnecessary light stand out. The contrast ratio of the plasma display panel is 100 to 200 for the suggestion and 10 to 30 for the bright time when the ambient illuminance is about 100 lx. Also, the low contrast is a factor that narrows the color reproduction range.

コントラストを向上させるためには、ディスプレイ前面にニュートラル・デンシティ(ND)フィルタのように、可視波長領域全体の透過率を下げ、基板ガラス、蛍光体における外光反射等の透過を少なくする方法がある。しかしながら、可視光線透過率が著しく低いと、輝度および画像の鮮明さが低下することになり、また色純度の改善はあまり見られない。  In order to improve the contrast, there is a method of reducing the transmittance of the entire visible wavelength region and reducing the transmission of external light reflection in the substrate glass and the phosphor, like a neutral density (ND) filter on the front surface of the display. . However, when the visible light transmittance is remarkably low, the brightness and the sharpness of the image are lowered, and the color purity is not improved so much.

本発明者らは、カラープラズマディスプレイの発光色の色純度およびコントラストを向上させることは、発光色の色純度およびコントラストを下げる原因となる不要発光および外光反射を低減することによって達成できることを見出した。  The present inventors have found that improving the color purity and contrast of the luminescent color of a color plasma display can be achieved by reducing unnecessary light emission and external light reflection that cause the color purity and contrast of the luminescent color to decrease. It was.

また、本発明者らは、色素を用いることによって、光学フィルタをニュートラルグレーまたはニュートラルブルーに調色するだけではなく、発光色の色純度およびコントラストを下げる原因となる不要発光および外光反射を低減できることを見出した。特に、赤色発光がオレンジに近いものは顕著であり、その原因である波長580nm〜605nmの発光を低減することによって赤色発光の色純度を向上させることができることを見い出した。  In addition, the present inventors not only adjust the optical filter to neutral gray or neutral blue by using a dye, but also reduce unnecessary light emission and external light reflection that cause the color purity and contrast of the emitted color to decrease. I found out that I can do it. In particular, it has been found that red light emission is close to orange, and the color purity of red light emission can be improved by reducing the light emission having a wavelength of 580 nm to 605 nm.

本発明の光学フィルタにおいて、不要発光および外光反射の低減は、波長570nm〜605nmに吸収極大を有する色素をシールド体に含有させることによって行うことができる。この際、ディスプレイ用フィルタによって、赤色である発光ピークのある波長615nm〜640nmの光線透過を著しく損なってしまわないことが必要である。  In the optical filter of the present invention, unnecessary light emission and external light reflection can be reduced by adding a pigment having an absorption maximum at a wavelength of 570 nm to 605 nm to the shield body. At this time, it is necessary that the light transmission at a wavelength of 615 nm to 640 nm with a red emission peak is not significantly impaired by the display filter.

色素はブロードな吸収範囲を有しており、所望の吸収ピークを有する色素であっても、その裾の吸収によって好適な波長の発光まで吸収してしまうことがある。Neによる発光が存在する場合は、オレンジ色発光の低減を行うこともできるため、RGB表示セルからの発光の色純度が向上する。  The dye has a broad absorption range, and even a dye having a desired absorption peak may absorb light having a suitable wavelength due to absorption at the bottom. When light emission by Ne is present, orange light emission can be reduced, so that the color purity of light emission from the RGB display cell is improved.

また、カラープラズマディスプレイの緑発光はブロードであり、そのピーク位置は、例えば、NTSC方式で要求される緑色よりも若干長波長側、すなわち黄緑側にあることがある。  The green light emission of the color plasma display is broad, and the peak position may be slightly longer than the green color required by the NTSC system, that is, on the yellowish green side.

本発明者らは、波長570nm〜605nmに吸収極大を有する色素の短波長側の吸収によって、緑色発光の長波長側を吸収して削り、さらに不要発光を削ること、および/または、ピークをシフトさせることによって色純度を向上できることを見出した。  The present inventors absorb and cut the long wavelength side of the green light emission by the absorption on the short wavelength side of the dye having the absorption maximum at a wavelength of 570 nm to 605 nm, and further reduce unnecessary light emission and / or shift the peak. It has been found that the color purity can be improved by making them.

赤色発光、更に加えて緑色発光の色純度向上には、波長570nm〜605nmに吸収極大を有する色素を用いることによって、波長570nm〜605nmにおける光学フィルタの最低透過率が、必要な赤色発光のピーク位置での透過率に対して80%以下であることが好適である。  In order to improve the color purity of red light emission and additionally green light emission, the minimum transmittance of the optical filter at a wavelength of 570 nm to 605 nm can be obtained by using a dye having an absorption maximum at a wavelength of 570 nm to 605 nm. It is preferable that it is 80% or less with respect to the transmittance at.

青色発光の色純度が低い場合は、赤色発光、緑色発光と同様に、不要発光を低減し、また、そのピーク波長をシフトさせ、青緑発光を吸収する色素を用いれば良い。さらに、色素による吸収は、外光の蛍光体への入射を低減することによって蛍光体での外光反射を低減させることができる。このことによってもまた色純度およびコントラストを向上させることができる。  When the color purity of blue light emission is low, a dye that reduces unnecessary light emission and shifts its peak wavelength and absorbs blue-green light emission may be used similarly to red light emission and green light emission. Furthermore, absorption by the dye can reduce external light reflection on the phosphor by reducing the incidence of external light on the phosphor. This also improves the color purity and contrast.

本発明の光学フィルタに色素を含有させる手法としては、
(1)透明な樹脂に少なくとも1種類以上の色素を混錬させた高分子フィルムを用いる方法、
(2)樹脂または樹脂モノマ/有機系溶媒の樹脂濃厚液に少なくとも1種類以上の色素を分散・溶解させ、キャスティング法により作製した高分子フィルムを用いる方法、
(3)樹脂バインダーと有機系溶媒とに少なくとも1種類以上の色素を加え、塗料として透明な基体上にコーティングしたものを用いる方法、
(4)1種類または複数種類の色素を含有する透明な粘着剤を用いる方法、
があり、これらの方法(1)〜(4)から1または複数が選択される。
As a method of incorporating a dye into the optical filter of the present invention,
(1) A method using a polymer film obtained by kneading at least one pigment in a transparent resin,
(2) A method of using a polymer film prepared by casting and dispersing at least one dye in a resin concentrate of resin or resin monomer / organic solvent,
(3) A method of using at least one kind of pigment added to a resin binder and an organic solvent and coating a transparent substrate as a paint,
(4) A method using a transparent pressure-sensitive adhesive containing one or more kinds of pigments,
And one or more of these methods (1) to (4) are selected.

本発明でいう「含有」とは、基材または塗膜等の層または粘着剤の内部に含有されることは勿論、基材または層の表面に塗布した状態をも意味する。  The term “containing” as used in the present invention means not only that it is contained in a layer such as a substrate or a coating film or an adhesive, but also a state where it is applied to the surface of the substrate or layer.

色素は、可視領域に所望の吸収波長を有する染料または顔料で良く、その種類は特に限定されるものではない。色素は、例えば、アントラキノン系、フタロシアニン系、メチン系、アゾメチン系、オキサジン系、アゾ系、スチリル系、クマリン系、ポルフィリン系、ジベンゾフラノン系、ジケトピロロピロール系、ローダミン系、キサンテン系、ピロメテン系等の一般に市販もされている有機色素があげられる。色素の種類および濃度は、色素の吸収波長および吸収係数、透明導電層の色調、光学フィルタに要求される透過特性および透過率、ならびに分散させる媒体または塗膜の種類および厚みから決まり、特に限定されるものではない。  The dye may be a dye or a pigment having a desired absorption wavelength in the visible region, and the kind thereof is not particularly limited. Examples of the dye include anthraquinone, phthalocyanine, methine, azomethine, oxazine, azo, styryl, coumarin, porphyrin, dibenzofuranone, diketopyrrolopyrrole, rhodamine, xanthene, and pyromethene. And organic dyes which are generally commercially available. The type and concentration of the dye are determined by the absorption wavelength and absorption coefficient of the dye, the color tone of the transparent conductive layer, the transmission characteristics and transmittance required for the optical filter, and the type and thickness of the medium or coating to be dispersed, and are particularly limited. It is not something.

透明導電層(B)に多層薄膜を用いる場合、電磁波シールド能に加え、近赤外線カット能も有しているが、より高い近赤外線カット能が必要であったり、透明導電層が近赤外線カット能を有していない場合に、近赤外線カット能をディスプレイ用フィルタに付与するために、前記色素に近赤外線吸収色素を1種類以上併用しても良い。  When using a multilayer thin film for the transparent conductive layer (B), in addition to the electromagnetic wave shielding ability, it also has a near infrared ray cutting ability, but a higher near infrared ray cutting ability is required or the transparent conductive layer has a near infrared ray cutting ability. In order to provide the display filter with a near infrared ray cutting ability, one or more near infrared absorbing dyes may be used in combination with the dye.

近赤外線吸収色素としては、透明導電層の近赤外線カット能を補填し、プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線を十分実用的になる程度に吸収するものであれば、特に限定されるものではなく、濃度も限定されるものではない。近赤外線吸収色素としては、例えば、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、またはジイミニウム系化合物が挙げられる。  The near-infrared absorbing dye is not particularly limited as long as it compensates the near-infrared cutting ability of the transparent conductive layer and absorbs the near-infrared light emitted by the plasma display to a sufficiently practical level. The concentration is not limited. Examples of the near-infrared absorbing dye include phthalocyanine compounds, anthraquinone compounds, dithiol compounds, and diiminium compounds.

プラズマディスプレイパネルはパネル表面の温度が高く、特に環境の温度が高いときは光学フィルタの温度も上がるため、本発明で用いる色素は、耐熱性、例えば、80℃で分解等によって顕著に劣化しない耐熱性を有していることが好適である。  Since the temperature of the panel surface of the plasma display panel is high, especially when the environmental temperature is high, the temperature of the optical filter also rises. It is preferable to have the property.

また、色素によっては、耐熱性に加えて、耐光性に乏しいものもある。プラズマディスプレイの発光、外光の紫外線および可視光線による色素の劣化が問題になる場合には、紫外線吸収剤を含む部材、あるいは紫外線を透過しない部材を用いることによって、色素の紫外線による劣化を低減すること、紫外線および可視光線による顕著な劣化がない色素を用いることが肝要である。  Some dyes have poor light resistance in addition to heat resistance. When degradation of pigments due to light emission of plasma display, ultraviolet rays of external light, and visible light becomes a problem, degradation of pigments by ultraviolet rays is reduced by using a member containing an ultraviolet absorber or a member that does not transmit ultraviolet rays. In particular, it is important to use a dye that does not significantly deteriorate due to ultraviolet rays and visible rays.

熱、光に加えて、湿度、およびこれらの複合した環境においても同様である。色素が劣化すると光学フィルタの透過特性が変わってしまう。  The same applies to heat and light as well as humidity and their combined environments. When the dye is deteriorated, the transmission characteristics of the optical filter are changed.

実際に、プラズマディスプレイパネルの表面温度が70℃から80℃になることは特開平8−220303号に明記されている。また、プラズマディスプレイパネルより発生する光は、例えば、300cd/mと明記されており(富士通株式会社Image Site カタログAD25−000061C Oct.1997M)、立体角を2πとして、これを2万時間照射すると、2π×20000×300=3800万(lx・時間)となることから、実用上数千万(lx・時間)程度の耐光性が必要になることが分かる。Actually, it is specified in Japanese Patent Laid-Open No. 8-220303 that the surface temperature of the plasma display panel is changed from 70 ° C. to 80 ° C. In addition, the light generated from the plasma display panel is specified as, for example, 300 cd / m 2 (Fujitsu Ltd. Image Site catalog AD25-000061C Oct. 1997M), and the solid angle is 2π, and this is irradiated for 20,000 hours. Since 2π × 20000 × 300 = 38 million (lx · hour), it is understood that light resistance of about several tens of millions (lx · hour) is necessary for practical use.

さらには、色素を媒体または塗膜中に分散させるために、色素の適宜の溶媒への溶解性も重要である。異なる吸収波長を有する色素2種類以上を一つの媒体または塗膜に含有させても良い。  Furthermore, in order to disperse | distribute a pigment | dye in a medium or a coating film, the solubility to the suitable solvent of a pigment | dye is also important. Two or more pigments having different absorption wavelengths may be contained in one medium or coating film.

本発明の光学フィルタは、カラープラズマディスプレイの輝度および視認性を著しく損なわない優れた透過特性および透過率を有し、カラープラズマディスプレイの発光色の色純度およびコントラストを向上させることができる。本発明者らは、1種以上含有せしめる色素の、少なくとも一つがテトラアザポルフィリン化合物の場合には、特に低減したい570〜605nmの不要発光の波長と同じか、または近い波長に主要吸収波長を有し、且つ、吸収波長幅が比較的狭いので、好適な発光を吸収してしまうことによる輝度の損失を少なくできることを見出した。これによって、優れた透過特性、透過率、発光色の色純度およびコントラストを向上させる能力が優れた光学フィルタを得ることができた。  The optical filter of the present invention has excellent transmission characteristics and transmittance that do not significantly impair the luminance and visibility of the color plasma display, and can improve the color purity and contrast of the emission color of the color plasma display. In the case where at least one of the dyes to be contained is a tetraazaporphyrin compound, the present inventors have a main absorption wavelength at a wavelength that is the same as or close to the wavelength of unwanted emission of 570 to 605 nm that is particularly desired to be reduced. In addition, since the absorption wavelength width is relatively narrow, it has been found that loss of luminance due to absorption of suitable light emission can be reduced. As a result, it was possible to obtain an optical filter having excellent transmission characteristics, transmittance, color purity of emission color, and ability to improve contrast.

本発明の光学フィルタにおいては、上述の色素を含有させる方法(1)〜(4)は、色素を含有する高分子フィルム(A)、色素を含有する後述の透明粘着層(C)または(D)、色素を含有する後述の機能性透明層(E)、色素を含有する上述のハードコート層(F)のうちの1または複数の層において実施することができる。色素を含有する後述の機能性透明層(E)は、色素を含有し且つ各機能を有する膜、色素を含有し且つ各機能を有する膜が高分子フィルム上に形成されたもの、各機能を有する膜が色素を含有する基材に形成されたもの、のいずれでも良い。  In the optical filter of the present invention, the above-described methods (1) to (4) for containing the dye are the polymer film (A) containing the dye, the transparent adhesive layer (C) described later containing the dye or (D ), A functional transparent layer (E) described later containing a dye, and one or a plurality of layers of the above-described hard coat layer (F) containing a dye. The functional transparent layer (E) described later containing a dye has a film containing a dye and each function, a film containing a dye and a film having each function formed on a polymer film, and each function. Any of the films formed on the base material containing the dye may be used.

本発明では、異なる吸収波長を有する色素2種類以上を一つの媒体または塗膜に含有させてもよく、また色素層を2つ以上有していても良い。  In the present invention, two or more kinds of dyes having different absorption wavelengths may be contained in one medium or coating film, and two or more dye layers may be provided.

まず、樹脂に色素を混練し、加熱成形する(1)の方法について説明する。樹脂材料としては、プラスチック板または高分子フィルムにした場合にできるだけ透明性の高いものが好ましく、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン6等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン/トリフルオロエチレン共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重体等のビニル化合物またはフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等を挙げることが出来るが、これらの樹脂に限定されるものではない。  First, the method (1) of kneading a pigment in a resin and thermoforming it will be described. As the resin material, a plastic plate or a polymer film that is as transparent as possible is preferable. Specifically, polyethylene terephthalate, polyethersulfone, polystyrene, polyethylene naphthalate, polyarylate, polyetheretherketone. Polyamides such as polycarbonate, polyethylene, polypropylene and nylon 6, cellulose resins such as polyimide and triacetyl cellulose, fluorine resins such as polyurethane and polytetrafluoroethylene, vinyl compounds such as polyvinyl chloride, polyacrylic acid and polyacrylic Acid esters, polyacrylonitrile, addition polymers of vinyl compounds, polymethacrylic acid, polymethacrylic acid esters, vinylidene compounds such as polyvinylidene chloride, vinylidene fluoride / trif Examples thereof include vinyl compounds such as oloethylene copolymers, ethylene / vinyl acetate copolymers, copolymers of fluorine compounds, polyethers such as polyethylene oxide, epoxy resins, polyvinyl alcohol, and polyvinyl butyral. It is not limited to.

作製方法としては、用いる色素、ベース高分子によって、加工温度、フィルム化条件等が多少異なるが、
(i)ベース高分子の粉体或いはペレットに色素を添加し、150〜350℃で加熱、溶解させた後、成形してプラスチック板を作製する方法、
(ii)押出し機によりフィルム化する方法、
(iii)押出し機により原反を作製し、30〜120℃で2〜5倍に、1軸延伸または2軸延伸して10〜200μm厚のフィルムにする方法、等が挙げられる。
As a production method, the processing temperature, filming conditions, etc. are somewhat different depending on the dye and base polymer used,
(I) A method in which a pigment is added to a base polymer powder or pellet, heated and dissolved at 150 to 350 ° C., and then molded to produce a plastic plate,
(Ii) a method of forming a film with an extruder;
(Iii) A method in which a raw material is produced by an extruder and uniaxially or biaxially stretched 2 to 5 times at 30 to 120 ° C. to form a film having a thickness of 10 to 200 μm.

混練する際に可塑剤等の通常の樹脂成型に用いる添加剤を加えてもよい。色素の添加量は、色素の吸収係数、作製する高分子成形体の厚み、目的の吸収強度、目的の透過特性および透過率等によって異なるが、ベース高分子成形体の重量に対して1ppm〜20%である。  When kneading, an additive used for ordinary resin molding such as a plasticizer may be added. The addition amount of the dye varies depending on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the polymer molded body to be produced, the target absorption strength, the target transmission characteristics and the transmittance, but is 1 ppm to 20 with respect to the weight of the base polymer molded body. %.

(2)のキャスティング法では、樹脂または樹脂モノマを有機系溶媒に溶解させた樹脂濃厚液に、色素を添加・溶解させ、必要であれば可塑剤、重合開始剤、酸化防止剤を加え、必要とする面状態を有する金型やドラム上へ流し込み、溶剤揮発・乾燥または重合・溶剤揮発・乾燥させることにより、プラスチック板、高分子フィルムを得る。  In the casting method (2), a dye is added to and dissolved in a resin concentrate obtained by dissolving a resin or resin monomer in an organic solvent, and if necessary, a plasticizer, a polymerization initiator, and an antioxidant are added. The plastic plate and the polymer film are obtained by pouring onto a mold or drum having a surface state as follows, and solvent evaporation / drying or polymerization / solvent evaporation / drying.

樹脂または樹脂モノマとしては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂(PVB、EVA等)或いはそれらの共重合樹脂の樹脂モノマを用いる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等を用いる。  Examples of the resin or resin monomer include aliphatic ester resins, acrylic resins, melamine resins, urethane resins, aromatic ester resins, polycarbonate resins, aliphatic polyolefin resins, aromatic polyolefin resins, polyvinyl resins, polyvinyl alcohol resins, Polyvinyl-based modified resins (PVB, EVA, etc.) or copolymer monomers thereof are used. As the solvent, a halogen-based, alcohol-based, ketone-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ether-based solvent, or a mixture thereof is used.

色素の濃度は、色素の吸収係数、板またはフィルムの厚み、目的の吸収強度、目的の透過特性および透渦率等によって異なるが、樹脂モノマの重量に対して、通常、1ppm〜20%である。
また、樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、1〜90%である。
The concentration of the dye varies depending on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the plate or film, the target absorption strength, the target transmission characteristics and the vortex permeability, but is usually 1 ppm to 20% with respect to the weight of the resin monomer. .
The resin concentration is usually 1 to 90% with respect to the entire paint.

塗料化してコーティングする(3)の方法としては、色素をバインダー樹脂および有機系溶媒に溶解させて塗料化する方法、または未着色のアクリルエマルジョン塗料に色素を微粉砕(50〜500nm)したものを分散させてアクリルエマルジョン系水性塗料とする方法、等がある。  As a method of coating by coating (3), a method of forming a paint by dissolving the dye in a binder resin and an organic solvent, or a method of finely pulverizing (50 to 500 nm) a dye into an uncolored acrylic emulsion paint There is a method of dispersing an acrylic emulsion water-based paint.

前者の方法では、通常、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂(PVB、EVA等)或いはそれらの共重合樹脂をバインダー樹脂として用いる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等を用いる。  In the former method, usually, an aliphatic ester resin, an acrylic resin, a melamine resin, a urethane resin, an aromatic ester resin, a polycarbonate resin, an aliphatic polyolefin resin, an aromatic polyolefin resin, a polyvinyl resin, a polyvinyl alcohol resin, Polyvinyl modified resins (PVB, EVA, etc.) or copolymer resins thereof are used as the binder resin. As the solvent, a halogen-based, alcohol-based, ketone-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ether-based solvent, or a mixture thereof is used.

色素の濃度は、色素の吸収係数、コーティングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、バインダー樹脂の重量に対して、通常、0.1〜30%である。  The concentration of the dye varies depending on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the coating, the target absorption intensity, the target visible light transmittance, and the like, but is usually 0.1 to 30% with respect to the weight of the binder resin.

また、バインダー樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、1〜50%である。後者のアクリルエマルジョン系水系塗料の場合も、前記と同様に、未着色のアクリルエマルジョン塗料に、色素を微粉砕(50〜500nm)したものを分散させて得られる。塗料中には、酸化防止剤等の通常塗料に用いるような添加物を加えてもよい。  Moreover, binder resin density | concentration is 1-50% normally with respect to the whole coating material. In the case of the latter acrylic emulsion water-based paint, it can be obtained by dispersing a finely pulverized pigment (50 to 500 nm) in an uncolored acrylic emulsion paint as described above. In the coating material, additives such as antioxidants used in ordinary coating materials may be added.

上述の方法で作製した塗料は、透明高分子フィルム、透明樹脂、透明ガラス等の上にバーコータ、ブレードコータ、スピンコータ、リバースコータ、ダイコータ、或いはスプレー等の従来公知のコーティングをして、色素を含有する基材を作製する。  The paint produced by the above-mentioned method contains a pigment by applying a conventionally known coating such as a bar coater, blade coater, spin coater, reverse coater, die coater, or spray on a transparent polymer film, transparent resin, transparent glass, etc. A base material is prepared.

コーティング面を保護するために保護層を設けたり、コーティング面を保護するようにコーティング面に、光学フィルタの他の構成部材を貼り合わせても良い。  A protective layer may be provided to protect the coating surface, or other components of the optical filter may be bonded to the coating surface so as to protect the coating surface.

色素を含有する粘着剤として用いる方法(4)では、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤(PVB)、エチレン−酢酸ビニル系接着剤(EVA)等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等のシート状または液状の粘着剤または接着剤に、色素を10ppm〜30%添加して用いる。  In the method (4) used as a pressure-sensitive adhesive containing a pigment, acrylic adhesive, silicon adhesive, urethane adhesive, polyvinyl butyral adhesive (PVB), ethylene-vinyl acetate adhesive (EVA), etc., polyvinyl A pigment is added to a sheet-like or liquid pressure-sensitive adhesive or adhesive such as ether, saturated amorphous polyester, or melamine resin, and used by adding 10 ppm to 30%.

これらの方法では、色素含有の光学フィルタの耐光性を上げるために紫外線吸収剤を色素と共に含有させることもできる。紫外線吸収剤の種類、濃度は特に限定されない。  In these methods, an ultraviolet absorber can be contained together with the dye in order to increase the light resistance of the optical filter containing the dye. The type and concentration of the ultraviolet absorber are not particularly limited.

(電極)
電磁波シールドを必要とする機器には、機器のケース内部に金属層を設けたり、ケースに導電性材料を使用して電磁波を遮断する。ディスプレイのように透明性が必要である場合には、窓状に形成された透明導電層によって付与された電磁波シールド機能を有する光学フィルタを設置する。電磁波は透明導電層において吸収された後、光学フィルタに電荷を誘起するので、アースをとることによって光学フィルタから電荷を逃がさないと、再び光学フィルタがアンテナとなって電磁波を発振してしまい、電磁波シールド能が低下する。したがって、光学フィルタとディスプレイ本体のアース部とが電気的に接続している必要がある。そのため、透明導電層(B)上に透明粘着層(D)および機能性透明層(E)が形成されている場合には、透明粘着層(D)および機能性透明層(E)は、導通部を残すように透明導電層(B)上に形成されることが好ましい。この導通部を用いて電極を形成する。導通部の形状は特に限定しないが、光学フィルタとディスプレイ本体との間に、電磁波の漏洩する隙間が存在しないことが肝要である。
(electrode)
For devices that require an electromagnetic wave shield, a metal layer is provided inside the device case or a conductive material is used for the case to block electromagnetic waves. When transparency is required as in a display, an optical filter having an electromagnetic wave shielding function provided by a transparent conductive layer formed in a window shape is installed. Since electromagnetic waves are absorbed in the transparent conductive layer after being absorbed in the transparent conductive layer, unless the charges are released from the optical filter by taking the ground, the optical filter again becomes an antenna and oscillates the electromagnetic wave. Shielding ability decreases. Therefore, the optical filter and the ground portion of the display body need to be electrically connected. Therefore, when the transparent adhesive layer (D) and the functional transparent layer (E) are formed on the transparent conductive layer (B), the transparent adhesive layer (D) and the functional transparent layer (E) It is preferably formed on the transparent conductive layer (B) so as to leave a part. An electrode is formed using this conducting part. The shape of the conducting portion is not particularly limited, but it is important that there is no gap between which the electromagnetic wave leaks between the optical filter and the display body.

電気的接触を良好とするために、導通部に導電材料を付与して電極を形成しても良い。付与する形状は特に限定しない。しかしながら、導通部をすべて覆うように形成されていることが好適である。  In order to achieve good electrical contact, an electrode may be formed by applying a conductive material to the conductive portion. The shape to give is not specifically limited. However, it is preferable that it is formed so as to cover all the conductive portions.

本発明における電極は、透明導電層を含む光学フィルタを構成する層のそれぞれに導電性材料を接触させて形成されていてもよい。本発明の光学フィルタでは、少なくとも透明導電性層とそれを保護するための層が層状をなしていることが観察できる。適当な導電性材料が透明導電層と各層とにおいて接触していれば、所望の電極を得ることができる。  The electrode in the present invention may be formed by bringing a conductive material into contact with each of the layers constituting the optical filter including the transparent conductive layer. In the optical filter of the present invention, it can be observed that at least the transparent conductive layer and the layer for protecting it are layered. If an appropriate conductive material is in contact with the transparent conductive layer and each layer, a desired electrode can be obtained.

この場合に透明導電層上に形成される透明粘着層の端部が透明導電層の端部よりも内側に入り込んでいると、導電性ペースト等を用いて電極を形成する場合に、透明粘着層の端部と透明導電層の端部との間の隙間部分に導電性ペーストが入り込み、透明導電層と電極との接触面積が増加するので好ましい。  In this case, when the end of the transparent adhesive layer formed on the transparent conductive layer is inward of the end of the transparent conductive layer, the transparent adhesive layer is formed when an electrode is formed using a conductive paste or the like. The conductive paste enters the gap between the end of the transparent conductive layer and the end of the transparent conductive layer, which increases the contact area between the transparent conductive layer and the electrode.

また透明導電層とその上に貼り合せる透明粘着層との間に銅テープのような導電性テープを挟み込み、その導電性テープの一部分を導通部としての電磁波シールド体の外部に引き出すことによって電極を形成しても良い。この場合、外部に引き出された導電性テープが実質的に電極となる。  In addition, a conductive tape such as a copper tape is sandwiched between the transparent conductive layer and the transparent adhesive layer to be bonded thereon, and a part of the conductive tape is pulled out to the outside of the electromagnetic wave shield as a conductive portion. It may be formed. In this case, the conductive tape drawn to the outside substantially becomes an electrode.

また透明導電層から積層体最表面に通じるような隙間を設け、電極を形成しても良い。表面から見える隙間の形状には特に指定はなく、円形でもよいし、角型でも良い。また線状に形成されていても構わない。表面から見える個々の隙間の大きさにも特に指定はない。ただし、あまり大きすぎると視認部分にかかってしまうので好ましくない。隙間の形成位置は、視認部分を避ける位置であれば特に指定はない。必然的に端部から近い位置となる。形成する隙間の数にも特に制限はないが、全周にわたってできるだけ多く形成されている方が電流の取り出し効率が上昇するので好ましい。隙間は透明導電層と積層体最表面との間に設けられていれば良いが、形成する電極との接触面積を増やす観点から、透明導電層を貫通していることが好ましい。  Further, a gap may be provided so as to lead from the transparent conductive layer to the outermost surface of the laminate, and the electrode may be formed. The shape of the gap visible from the surface is not particularly specified, and may be circular or square. Moreover, you may form in linear form. There is no particular designation for the size of the individual gaps visible from the surface. However, if it is too large, it will be applied to the visible part, which is not preferable. The position where the gap is formed is not particularly specified as long as it avoids the visible portion. Inevitably, the position is close to the end. The number of gaps to be formed is not particularly limited, but it is preferable that the gaps are formed as many as possible over the entire circumference because the current extraction efficiency is increased. The gap may be provided between the transparent conductive layer and the outermost surface of the laminate, but it is preferable to penetrate the transparent conductive layer from the viewpoint of increasing the contact area with the electrode to be formed.

隙間を埋める部材に関しても特に指定はない。金属部材で埋めても良いし、導電性ペーストで埋めても良い。この場合、隙間を埋めた部材が実質的に電極となる。  There is no particular designation regarding the member that fills the gap. It may be filled with a metal member or may be filled with a conductive paste. In this case, the member filling the gap substantially becomes the electrode.

電極は透明導電層(B)の周縁部に、連続的に設けられていることが好適である。すなわち、ディスプレイの表示部である中心部分を除いて、枠状に、導通部が設けられていることが好ましい。  It is preferable that the electrode is continuously provided on the peripheral edge of the transparent conductive layer (B). That is, it is preferable that the conducting portion is provided in a frame shape except for the central portion which is the display portion of the display.

全周に電極が形成されていなくとも一定の電磁波遮断能力はあるので、装置からの電磁波発生量と許容電磁波漏洩量とを総合的に考慮することによって、使用可能な場合も多い。  Even if no electrode is formed on the entire circumference, there is a certain ability to block electromagnetic waves. Therefore, it can be used in many cases by comprehensively considering the amount of electromagnetic waves generated from the apparatus and the allowable amount of electromagnetic leakage.

例えば、長方形の向い合う辺のみに導電材料を付与し電極を形成する設計にすれば、ロールツーロール方式で電極を形成したり、ロール状態のまま電極を形成したりすることができるため、非常に生産効率良く光学フィルタを作製することができるので都合が良い。また、この手法は先に示した、電極として導電性テープを用いる場合においても利用することができる。  For example, if an electrode is formed by applying a conductive material only to the opposite sides of a rectangle, an electrode can be formed by a roll-to-roll method or an electrode can be formed in a rolled state. In addition, it is convenient because an optical filter can be produced with high production efficiency. This technique can also be used in the case where a conductive tape is used as an electrode as described above.

長方形の向い合う2辺以外の部分に加えてさらに別の部分に電極が形成されていたり、向い合う2辺における一部分に電極が形成されていない部分が存在しても特に問題はない。  There is no particular problem even if an electrode is formed in another part in addition to the part other than the two opposite sides of the rectangle, or there is a part where no electrode is formed in a part of the two opposite sides.

電極形成過程において、導通部を覆うことは、耐環境性および耐擦傷性に劣る透明導電層(B)の保護にもなる。導通部を覆うために用いる材料は、導電性、耐触性および透明導電膜との密着性等の点から、銀、金、銅、白金、ニッケル、アルミニウム、クロム、鉄、亜鉛、カーボン等の単体もしくは2種以上からなる合金、合成樹脂とこれら単体または合金の混合物、もしくは、ホウケイ酸ガラスとこれら単体または合金の混合物からなるペーストを使用できる。電極形成にはメッキ法、真空蒸着法、スパッタ法など、ペーストといったものは印刷、塗工する方法など従来公知の方法を採用できる。  In the electrode formation process, covering the conductive portion also protects the transparent conductive layer (B) which is inferior in environmental resistance and scratch resistance. The material used to cover the conductive part is silver, gold, copper, platinum, nickel, aluminum, chromium, iron, zinc, carbon, etc. in terms of conductivity, contact resistance, and adhesion to the transparent conductive film. An alloy composed of a single element or two or more kinds, a synthetic resin and a mixture of these elements or alloys, or a paste composed of a borosilicate glass and a mixture of these elements or alloys can be used. For the electrode formation, a conventionally known method such as a plating method, a vacuum evaporation method, a sputtering method, a paste method, or a printing or coating method can be employed.

用いる導電性材料は電気を通導することのできるものであれば特に指定はない。銀ペーストなどの導電性の材料をペースト状にした物が用いられる。  The conductive material to be used is not particularly specified as long as it can conduct electricity. A paste made of a conductive material such as silver paste is used.

導通部を覆うための方法としては、ペースト状の物であれば各層の側面に塗布し乾燥させたりして行う。ロール状態のフィルムの側面に導電性材料を塗布しても良いし、ロールツーロールで繰り出しながら側面に塗布しても構わない。また、テープ状の導電性材料も用いることができる。  As a method for covering the conductive portion, a paste-like material is applied to the side surfaces of each layer and dried. A conductive material may be applied to the side surface of the roll film, or may be applied to the side surface while being rolled out by roll-to-roll. A tape-like conductive material can also be used.

塗布方法としては、効率および精度の観点から、スクリーン印刷法が用いられる場合が多い。  As a coating method, a screen printing method is often used from the viewpoint of efficiency and accuracy.

また隙間を金属部材で埋めて電極を形成する場合は、電磁波シールド体自体に予め加工を施さなくても構わない。ねじ穴を形成した金属性のアースを表示装置の外周部分に予め準備しておき、金属性のアース部分を含めて、表示装置の表示部分に電磁波シールド体を貼りつけた後に、電磁波シールド体を貫通するようにして金属性アースのねじ穴に導電性のねじを埋め込めば良い。この場合導電性のねじが実質的に電極の役割を果たす。この手法を用いると電磁波シールド体をロールツーロール方式で生産性高く作製できるうえ、電磁波シールド体の全周部分にわたって電極を形成することも容易である。  In addition, when the electrode is formed by filling the gap with a metal member, the electromagnetic wave shield itself may not be processed in advance. Prepare a metallic ground with screw holes on the outer periphery of the display device in advance, attach the electromagnetic shielding body to the display portion of the display device, including the metallic grounding portion, and then attach the electromagnetic shielding body. A conductive screw may be embedded in the screw hole of the metal ground so as to penetrate. In this case, the conductive screw substantially serves as an electrode. When this method is used, an electromagnetic wave shield body can be produced with high productivity by a roll-to-roll method, and an electrode can be easily formed over the entire circumference of the electromagnetic wave shield body.

(反射防止層)
反射防止層は、基体上に形成し、基体表面の光線反射率を低減するための層である。
(Antireflection layer)
The antireflection layer is a layer that is formed on the substrate and reduces the light reflectance of the substrate surface.

反射防止層としては、具体的には、可視光域において屈折率が1.5以下、好適には、1.4以下と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を、例えば1/4波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物窒化物、硫化物等の無機化合物、シリコン系樹脂、アクリル樹脂、またはフッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を2層以上多層積層したものがある。単層形成したものは、製造が容易であるが、反射防止性が多層積層に比べ劣る。多層積層したものは、広い波長領域にわたって反射防止能を有し、基体フィルムの光学特性による光学設計の制限が少ない。これら無機化合物薄膜の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンピームアシスト、真空蒸着、または室式塗工法等、従来公知の方法を用いればよい。
上記の反射防止層が形成されたフィルムが反射防止フィルムである。
Specifically, the antireflective layer has a refractive index of 1.5 or less, preferably 1.4 or less in the visible light region, such as fluorine-based transparent polymer resin, magnesium fluoride, silicon-based resin, or oxidation. A thin film of silicon, for example, formed as a single layer with an optical film thickness of ¼ wavelength, an inorganic compound such as a metal oxide, fluoride, silicide, boride, carbide nitride, sulfide, etc. having a different refractive index In addition, two or more layers of thin films of organic compounds such as silicon resin, acrylic resin, or fluorine resin are laminated. A single layer formed is easy to manufacture, but the antireflection property is inferior to that of a multilayer stack. Multilayer laminates have antireflection ability over a wide wavelength region, and there are few optical design restrictions due to the optical properties of the substrate film. In order to form these inorganic compound thin films, a conventionally known method such as sputtering, ion plating, ion beam assist, vacuum deposition, or a chamber coating method may be used.
The film on which the antireflection layer is formed is an antireflection film.

(防眩層)
防眩層は、基体上に形成し、基体中を通過する透過光および表面からの反射光を防眩するための層である。
(Anti-glare layer)
The antiglare layer is a layer for forming an antiglare layer on the substrate and antiglare the transmitted light passing through the substrate and the reflected light from the surface.

防眩層は0.1〜10μm程度の微少な凹凸を表面に有する。具体的には、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型または光硬化型樹脂に、シリカ、メラミン、アクリル等の無機化合物または有機化合物の粒子を分散させインキ化したものを、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等によって透明高分子フィルム上に塗布硬化させる。粒子の平均粒径は、1〜40μmである。または、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型または光硬化型樹脂を基体に塗布し、所望のヘイズまたは表面状態を有する型を押しつけ硬化する事によっても防眩層を得ることができる。さらには、ガラス板をフッ酸等でエッチングするように、基体フィルムを薬剤処理することによっても防眩層を得ることができる。この場合は、処理時間、薬剤のエッチング性により、ヘイズを制御することができる。ヘイズはたとえばASTM規格D1003−61で測定され、表面凹凸による散乱の度合いが多い程ヘイズが高くなる傾向にある。上述の防眩層においては、適当な凹凸が表面に形成されていれば良く、作成方法は、上記に挙げた方法に限定されるものではない。防眩層のヘイズは、0.5%以上20%以下であり、好ましくは、1%以上10%以下である。ヘイズが小さすぎると防眩能が不十分であり、ヘイズが大きすぎると平行光線透過率が低くなり、ディスプレイ視認性が悪くなる。
上記の防眩層が形成されたフィルムが防眩性フィルムである。
The antiglare layer has fine irregularities of about 0.1 to 10 μm on the surface. Specifically, an acrylic resin, a silicon resin, a melamine resin, a urethane resin, an alkyd resin, a thermosetting resin such as a fluorine resin, or a photocurable resin, an inorganic compound such as silica, melamine, or acrylic, An ink obtained by dispersing organic compound particles is coated and cured on a transparent polymer film by a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method or the like. The average particle diameter of the particles is 1 to 40 μm. Alternatively, a mold having a desired haze or surface state by applying a thermosetting or photocurable resin such as an acrylic resin, silicon resin, melamine resin, urethane resin, alkyd resin, or fluorine resin to the substrate. An antiglare layer can also be obtained by pressing and curing. Further, the antiglare layer can be obtained by treating the base film with a chemical agent so that the glass plate is etched with hydrofluoric acid or the like. In this case, the haze can be controlled by the processing time and the etching property of the chemical. The haze is measured by, for example, ASTM standard D1003-61, and the haze tends to increase as the degree of scattering due to surface irregularities increases. In the above-described antiglare layer, it is sufficient that appropriate irregularities are formed on the surface, and the production method is not limited to the above-described methods. The haze of the antiglare layer is from 0.5% to 20%, preferably from 1% to 10%. If the haze is too small, the antiglare ability is insufficient, and if the haze is too large, the parallel light transmittance is lowered and the display visibility is deteriorated.
The film on which the antiglare layer is formed is an antiglare film.

(偏光板)
偏光板は、光の中から一方向にのみ振動する成分のみを取り出すための光学要素であり、LCD素子にとって不可欠なものである。フィルム状態である場合が多く、偏光フィルムと呼ばれることも多い。
(Polarizer)
The polarizing plate is an optical element for extracting only a component that vibrates only in one direction from light, and is indispensable for an LCD element. In many cases, it is in a film state and is often referred to as a polarizing film.

本発明において用いられる偏光板は、通常LCD用に用いられているものであれば特に制限はない。  The polarizing plate used in the present invention is not particularly limited as long as it is usually used for LCD.

偏光フィルムは、ポリビニルアルコール(PVA)を塗布した高分子フィルムにヨウ素をドープしたものであることが多い。このフィルムを1軸延伸してフィルム中のヨウ素分子の向きをそろえる。このとき、ヨウ素はフィルムの高分子と一緒に配向し、結果としてヨウ素分子の向きが揃う。  The polarizing film is often a film obtained by doping iodine with a polymer film coated with polyvinyl alcohol (PVA). The film is uniaxially stretched to align the orientation of iodine molecules in the film. At this time, the iodine is aligned with the polymer of the film, and as a result, the orientation of the iodine molecules is aligned.

自然光は、いかなるときでも、進行方向に垂直に振動していて、偏光フィルムの中のヨウ素分子の長軸方向と平行(縦)に振動する光と垂直(横)に振動する光が含まれている。もちろん中間的な角度に振動する光もある。ヨウ素分子の長軸方向と平行に振動する光と垂直に振動する光のみについて考える。ヨウ素の場合、この分子の電子密度の偏りによって、分子の長軸方向に垂直な方向または平行な方向における光吸収係数が大きく異なっている。分子の長軸に垂直に振動する光はほぼ100%透過するが、分子の長軸に平行に振動する光はほとんど透過せず、ヨウ素に吸収される。したがって偏光フィルムを通過できるのはヨウ素分子の長軸と垂直な光のみとなりその他は全てヨウ素に吸収される。こうして、自然光から、一つの方向にしか振動しない直線偏光(平面偏光)が得られる。  Natural light is oscillating perpendicular to the traveling direction at any time, and includes light oscillating parallel (longitudinal) to the major axis direction of iodine molecules in the polarizing film and light oscillating perpendicularly (laterally). Yes. Of course, some light oscillates at an intermediate angle. Only light that vibrates parallel to the major axis direction of iodine molecules and light that vibrates perpendicularly will be considered. In the case of iodine, the light absorption coefficient in a direction perpendicular or parallel to the major axis direction of the molecule is greatly different depending on the deviation of the electron density of the molecule. Light that oscillates perpendicular to the long axis of the molecule transmits almost 100%, but light that oscillates parallel to the long axis of the molecule hardly transmits and is absorbed by iodine. Therefore, only light that is perpendicular to the major axis of iodine molecules can pass through the polarizing film, and all others are absorbed by iodine. Thus, linearly polarized light (plane polarized light) that vibrates only in one direction is obtained from natural light.

(サイズ)
本発明において、大型表示素子に関しては、その画面サイズが21インチ以上である場合に特に本発明の効果を期待できる。ここで画面サイズとは対角の長さで定義する。またサイズが37インチ以上である場合にはより大きな効果を期待することができ、さらにはサイズが42インチ以上である場合にさらに大きな効果を期待することができる。画面サイズが21インチより小さい表示素子に関しては、従来から用いられている部材を用いることによって電気取締り法に規定されている安全性条件を満たすことができる。しかし、画面サイズが21インチより小さい表示素子においても、本発明のように、その低い弾性率に特徴づけられた透明粘着層を用いることによって、より安全性が増すという効果がある。
(size)
In the present invention, the effect of the present invention can be expected particularly with respect to large display elements when the screen size is 21 inches or more. Here, the screen size is defined by the diagonal length. Further, when the size is 37 inches or more, a larger effect can be expected. Furthermore, when the size is 42 inches or more, a larger effect can be expected. With respect to a display element having a screen size smaller than 21 inches, it is possible to satisfy the safety condition stipulated in the Electric Regulatory Law by using a conventionally used member. However, even in a display element having a screen size smaller than 21 inches, the use of the transparent adhesive layer characterized by its low elastic modulus as in the present invention has the effect of increasing safety.

本発明における、小型携帯端末用表示素子に関しては、すべての画面サイズに関して、本発明の効果を期待することができる。小型携帯端末用に用いられている表示素子は小さいものでその画面サイズが1インチ程度であるが、このサイズのものでも落下等により外部から衝撃を受け、表示素子の基板ガラスが割れることがある。本発明によって特定される表示素子は、この割れが非常に生じにくく、効果的である。さらに最近では小型携帯端末に備えられた表示素子の画面サイズがより大きくなりつつある。画面サイズが大きくなると表示素子の基板ガラスはより割れ易くなるので、本発明における表示素子を用いることはより効果的である。  With regard to the display element for small portable terminals in the present invention, the effects of the present invention can be expected for all screen sizes. A display element used for a small portable terminal is small and has a screen size of about 1 inch. Even with this size, the substrate glass of the display element may be broken due to an impact from the outside due to dropping or the like. . In the display element specified by the present invention, this crack is very unlikely to occur and is effective. Furthermore, recently, the screen size of display elements provided in small portable terminals is becoming larger. Since the substrate glass of the display element is more easily broken when the screen size is increased, it is more effective to use the display element of the present invention.

(分析方法)
本発明のその低い弾性によって特徴づけられている透明粘着層のヤング率の測定には、通常用いられている一般的な手法を用いることができる。たとえば、該透明粘着層をむき出しにし、表面から単位面積に荷重をかけ、荷重の大きさと該透明粘着層の変形量とからヤング率を求めることができる。
(Analysis method)
A commonly used general technique can be used to measure the Young's modulus of the transparent adhesive layer characterized by its low elasticity of the present invention. For example, the transparent adhesive layer is exposed, a load is applied to the unit area from the surface, and the Young's modulus can be obtained from the magnitude of the load and the deformation amount of the transparent adhesive layer.

光学フィルタの層構成および各層の状態は、断面の光学顕微鏡測定、走査型電子顕微鏡(SEM)測定、透過型電子顕微鏡測定(TEM)を用いて調べることができる。  The layer configuration of the optical filter and the state of each layer can be examined using optical microscope measurement of a cross section, scanning electron microscope (SEM) measurement, and transmission electron microscope measurement (TEM).

透明導電膜の表面原子組成は、オージェ電子分光法(AES)、蛍光X線法(XRF)、X線マイクロアナライシス法(XMA)、ラザフォード後方散乱分析法(RBS)、X線光電子分光法(XPS)、真空紫外光電子分光法(UPS)、赤外吸収分光法(IR)、ラマン分光法、2次イオン質量分析法(SIMS)、低エネルギーイオン散乱分光法(ISS)等により測定できる。また、膜中の原子組成および膜厚は、オージェ電子分光法(AES)や2次イオン質量分析(SIMS)を深さ方向に実施することによって調べることができる。 The surface atomic composition of the transparent conductive film was determined by Auger electron spectroscopy (AES), X-ray fluorescence (XRF), X-ray microanalysis (XMA), Rutherford backscattering analysis (RBS), X-ray photoelectron spectroscopy ( XPS), vacuum ultraviolet photoelectron spectroscopy (UPS), infrared absorption spectroscopy (IR), Raman spectroscopy, secondary ion mass spectrometry (SIMS), low energy ion scattering spectroscopy (ISS), and the like. In addition, the atomic composition and film thickness in the film can be examined by performing Auger electron spectroscopy (AES) or secondary ion mass spectrometry (SIMS) in the depth direction.

透明導電膜上に防眩性フィルム(anti−glare film、略称AGフィルム)や反射防止フィルム等を貼り合わせてある場合は、それを剥がし、透明導電膜表面を剥き出しにした後に、上述の手法を用いて調べればよい。  If an anti-glare film (anti-glare film, abbreviated AG film) or anti-reflection film is pasted on the transparent conductive film, peel it off and expose the surface of the transparent conductive film. Use it to find out.

本発明において用いられる、高分子、色素の組成および構造に関しては、該色素を適当な溶媒に溶かした上で、一般的な組成または構造分析手法を用いて調べることができる。例えば、核磁気共鳴法(NMR)、赤外線分光法(IR)、ラマン分光法、質量分析法(MAS)等を用いることができる。  The composition and structure of the polymer and dye used in the present invention can be examined using a general composition or structure analysis method after dissolving the dye in an appropriate solvent. For example, nuclear magnetic resonance (NMR), infrared spectroscopy (IR), Raman spectroscopy, mass spectrometry (MAS), etc. can be used.

実施例
(透明導電膜の作製)
次に本発明の実施例を具体的に説明する。本発明はこれらによりなんら制限されるものではない。
Example (Preparation of transparent conductive film)
Next, examples of the present invention will be specifically described. The present invention is not limited by these.

実施例中の透明導電層(B)を構成する薄膜は、基材の一方の主面にマグネトロンDCスパッタリング法により成膜する。薄膜の厚みは、成膜条件から求めた値であり、実際に測定した膜厚ではない。  The thin film which comprises the transparent conductive layer (B) in an Example is formed into a film by magnetron DC sputtering method on one main surface of a base material. The thickness of the thin film is a value obtained from the film forming conditions, and is not an actually measured film thickness.

高屈折率透明薄膜層(a)としてITO薄膜を用いる場合、ターゲットに酸化インジウム・酸化スズ焼結体(組成比In:SnO=90:10wt%))を、スパッタガスにアルゴン・酸素混合ガス(全圧266mPa:酸素分圧5mPa)を用いて成膜する。When an ITO thin film is used as the high refractive index transparent thin film layer (a), an indium oxide / tin oxide sintered body (composition ratio In 2 O 3 : SnO 2 = 90: 10 wt%) is used as a target, and argon. The film is formed using an oxygen mixed gas (total pressure 266 mPa: oxygen partial pressure 5 mPa).

高屈折率透明薄膜層(a)として酸化スズ薄膜を用いる場合、ターゲットに酸化スズ焼結体を、スパッタガスにアルゴン・酸素混合ガス(全圧266mPa:酸素分圧5mPa)を用いて成膜する。  When a tin oxide thin film is used as the high refractive index transparent thin film layer (a), a tin oxide sintered body is formed as a target and an argon / oxygen mixed gas (total pressure 266 mPa: oxygen partial pressure 5 mPa) is used as a sputtering gas. .

金属薄膜層(b)として銀薄膜を用いる場合、ターゲットに銀を、スパッタガスにアルゴンガス(全圧266mPa)を用いて成膜する。  When a silver thin film is used as the metal thin film layer (b), the film is formed using silver as a target and argon gas (total pressure 266 mPa) as a sputtering gas.

金属薄膜層(b)として銀−パラジウム合金薄膜を用いる場合、ターゲットに銀−パラジウム合金(パラジウム10wt%)を、スパッタガスにアルゴンガス(全圧266mPa)を用いて成膜する。  When a silver-palladium alloy thin film is used as the metal thin film layer (b), a film is formed using a silver-palladium alloy (palladium 10 wt%) as a target and argon gas (total pressure 266 mPa) as a sputtering gas.

なお、透明導電層の面抵抗は、四探針測定法(プローブ間隔1mm)により測定する。また、表面の可視光線反射率(Rvis)は、まず測定対象物の小辺を切り出し、透明粘着層を取り除いて高分子フィルム(A)側表面をサンドペーパーで荒らした後、艶消し黒スプレーしてこの面の反射を無くし、反射積分球(光線入射角度6°)を用いた(株)日立製作所製分光光度計(U−3400)によって可視領域の全光線反射率を測定し、ここで求められた反射率からJIS R3106に従って計算する。  The sheet resistance of the transparent conductive layer is measured by a four-probe measurement method (probe interval 1 mm). The visible light reflectance (Rvis) of the surface is determined by first cutting out a small edge of the measurement object, removing the transparent adhesive layer, roughening the surface of the polymer film (A) with sandpaper, and then applying a matte black spray. The total light reflectance in the visible region was measured by a spectrophotometer (U-3400) manufactured by Hitachi, Ltd. using a reflection integrating sphere (light incident angle of 6 °) with no reflection on the surface of the lever. The calculated reflectance is calculated according to JIS R3106.

(ヤング率の測定)
透明粘着層のヤング率は、断面積1×10−のステンレス製の測定棒を用い、一定の荷重をかけて、測定棒の先端を透明粘着層の表面に押し付けることによって測定する。かけた荷重の大きさ(F)と測定棒が透明粘着層内に入り込んだ量(D)との関係よりヤング率(G)を求める。関係式は、F=G×Dである。
(Measurement of Young's modulus)
Young's modulus of the transparent adhesive layer, using a stainless steel measuring rod cross-sectional area 1 × 10- 6 m 2, over a constant load, the tip of the measuring bar is measured by pressing the surface of the transparent adhesive layer. The Young's modulus (G) is obtained from the relationship between the magnitude of the applied load (F) and the amount (D) of the measurement rod entering the transparent adhesive layer. The relational expression is F = G × D.

(針入度)
JIS K2207−1991−50g荷重に従って求める。
(Penetration)
Obtained according to JIS K2207-1991-50 g load.

(剛球落下試験)
比較例1〜においては以下の通り実施する。
(Rigid ball drop test)
In Comparative Examples 1-8, it carries out as follows.

表示素子の表示面中心部分に、直径が50mm、重量が500gの剛球を高さ1300mmから振り子状に落とす。このときに表示部分の基体ガラスが割れ、前面に飛散した場合には不合格、前面への飛散を生じなかった場合は合格とする。また合格した表示素子のなかでの優劣はガラスの割れの度合いによって区別する。  A hard sphere having a diameter of 50 mm and a weight of 500 g is dropped from a height of 1300 mm into a pendulum shape at the center of the display surface of the display element. At this time, if the base glass of the display portion is broken and scattered on the front surface, it is rejected, and if it is not scattered on the front surface, it is determined to be acceptable. In addition, superiority or inferiority among the passed display elements is distinguished by the degree of cracking of the glass.

比較9〜29、実施例1〜5においては以下の通り実施する。
表示素子の表示面中心部分に、直径が50mm、重量が500gの剛球を高さ1300mmから振り子状に落とす。割れて飛散したガラスの到達点までの距離を調べた。最も遠くまで飛散した質量1g以上のガラスの到達点までの距離を結果とする。
It carries out as follows in Comparative Examples 9-29 and Examples 1-5 .
A hard sphere having a diameter of 50 mm and a weight of 500 g is dropped from a height of 1300 mm into a pendulum shape at the center of the display surface of the display element. The distance to the arrival point of the broken glass was investigated. The distance to the arrival point of the glass having a mass of 1 g or more scattered farthest is the result.

(落下試験)
比較例1〜においては以下の通り実施する。
(Drop test)
In Comparative Examples 1-8, it carries out as follows.

表示素子を板の上に750mmの高さから落下させる。板は、厚み20mmの堅木の板である。厚み20mmの板を2枚併せて得られた、合せ板をコンクリート上に設置し、その上に該板を設置する。  The display element is dropped on the plate from a height of 750 mm. The plate is a hardwood plate having a thickness of 20 mm. A laminated board obtained by combining two boards having a thickness of 20 mm is placed on concrete, and the board is placed thereon.

表示装置前方900mmおよび1500mmに設けた障壁間に、短辺で15g以上、総重量で45g以上のガラス破片が飛散したり、重量が1gを越える破片が表示装置の前方1500mmに設けた障壁を越えて飛んだ場合は不合格とし、そうでない場合は合格とする。尚、不合格、合格それぞれの中においてもガラス片の飛散状況を鑑みて判断を実施する。  A glass piece of 15 g or more on the short side and a total weight of 45 g or more is scattered between the barriers provided at 900 mm and 1500 mm in front of the display device, or a piece having a weight exceeding 1 g exceeds the barrier provided at 1500 mm in front of the display device. If it flew away, it will be rejected, otherwise it will be accepted. In addition, a judgment is implemented in consideration of the scattering situation of a glass piece also in each of a disapproval and a pass.

比較9〜29、実施例1〜5においては以下の通り実施する。 It carries out as follows in Comparative Examples 9-29 and Examples 1-5 .

表示素子を板の上に750mmの高さから落下させる。板は、厚み20mmの堅木の板である。厚み20mmの板を2枚併せて得られた、合せ板をコンクリート上に設置し、その上に該板を設置する。  The display element is dropped on the plate from a height of 750 mm. The plate is a hardwood plate having a thickness of 20 mm. A laminated board obtained by combining two boards having a thickness of 20 mm is placed on concrete, and the board is placed thereon.

表示装置の前方方向へ、割れて飛散したガラスの到達点までの距離を調べた。最も遠くまで飛散した質量1g以上のガラスの到達点までの距離を結果とする。  The distance to the arrival point of the broken and scattered glass was investigated in the forward direction of the display device. The distance to the arrival point of the glass having a mass of 1 g or more scattered farthest is the result.

表示装置の前方900mmおよび1500mmに設けた障壁間に、単片で15g以上、総重量で45g以上のガラス破片が飛散したり、重量が1gを越える破片が、表示装置の前方1500mmに設けた障壁を超えて飛んだ場合は不合格とし、そうでない場合は合格とする。なお、不合格、合格それぞれの中においても、ガラス片の飛散状況を鑑みて優劣の判断を実施する。  Between the barriers provided at the front 900 mm and 1500 mm of the display device, a glass piece of 15 g or more in a single piece and a total weight of 45 g or more is scattered, or a piece of glass having a weight exceeding 1 g is provided at the front 1500 mm of the display device. If it flies beyond, it will be rejected, otherwise it will be accepted. In addition, in each reject and acceptance, the judgment of superiority or inferiority is performed in view of the scattering state of the glass pieces.

透明粘着層のヤング率に関して
比較例1)
(透明導電膜の作製)
2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(以下PET)フィルム(厚み:188μm)を高分子フィルム(A)としてその一方の主面に、PETフィルムから順に、ITO薄膜(膜厚:40nm)、銀薄膜(膜厚:11nm)、ITO薄膜(膜厚:95nm)、銀薄膜(膜厚:14nm)、ITO薄膜(膜厚:90nm)、銀薄膜(膜厚:12nm)、ITO薄膜(膜厚:40nm)の計7層の透明導電層(B)を形成し、面抵抗2.2Ω/□の透明導電層(B)を有する透明積層体を作製する。
Regarding the Young's modulus of the transparent adhesive layer ( Comparative Example 1)
(Preparation of transparent conductive film)
A biaxially stretched polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET) film (thickness: 188 μm) as a polymer film (A) has an ITO thin film (film thickness: 40 nm), a silver thin film (film thickness: 11 nm), ITO thin film (film thickness: 95 nm), silver thin film (film thickness: 14 nm), ITO thin film (film thickness: 90 nm), silver thin film (film thickness: 12 nm), ITO thin film (film thickness: 40 nm) in total 7 A transparent conductive layer (B) is formed, and a transparent laminate having a transparent conductive layer (B) having a surface resistance of 2.2 Ω / □ is produced.

積層体(PETフィルム/透明導電層)の断面を、本発明における高分子フィルム(A)/透明導電層(B)の一例を示す断面図として、図1に示す。図1において、透明高分子フィルム10の上に、順次、高屈折率薄膜層20、金属薄膜層30、高屈折率薄膜層20、金属薄膜層30、高屈折率薄膜層20、金属薄膜層30、高屈折率薄膜層20が積層される。  A cross section of the laminate (PET film / transparent conductive layer) is shown in FIG. 1 as a cross sectional view showing an example of the polymer film (A) / transparent conductive layer (B) in the present invention. In FIG. 1, a high refractive index thin film layer 20, a metal thin film layer 30, a high refractive index thin film layer 20, a metal thin film layer 30, a high refractive index thin film layer 20, and a metal thin film layer 30 are sequentially formed on a transparent polymer film 10. The high refractive index thin film layer 20 is laminated.

(アクリル系粘着剤の作製)
重量比で酢酸ビニル:オクチルアクリレート:エチルアクリレート:マレイン酸=20:70:10:7.5のモノマー混合液100部とアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)とメチレンクロライドを0.2:20割合で混合した混合物を作る。上記モノマー混合液とAIBN混合物を攪拌しながら還流がおこる温度まで過熱する。還流は74℃程度で生じる。還流が生じてから5分後にメチレンクロライド55部を混合物に加えはじめる。この作業は3時間以上かけてゆっくり行う。最終的に還流温度は50℃程度となる。その1時間後にトルエン75部を混合物に加える。還流温度は65℃程度となる。この温度において、混合物をさらに6時間加熱する。この段階で混合物のポリマ化が終了するので、室温まで冷却する。
(Production of acrylic adhesive)
100 parts by weight of vinyl acetate: octyl acrylate: ethyl acrylate: maleic acid = 20: 70: 10: 7.5, azobisisobutyronitrile (AIBN) and methylene chloride in 0.2: 20 ratio Make a mixture mixed with. The monomer mixture and AIBN mixture are heated to a temperature at which reflux occurs while stirring. Reflux occurs at around 74 ° C. Five minutes after refluxing, 55 parts of methylene chloride begin to be added to the mixture. This is done slowly over 3 hours. Finally, the reflux temperature is about 50 ° C. One hour later, 75 parts of toluene are added to the mixture. The reflux temperature is about 65 ° C. At this temperature, the mixture is heated for a further 6 hours. Since the polymerization of the mixture is completed at this stage, it is cooled to room temperature.

上述の材料混合割合で得られる共重合体の重量組成は、酢酸ビニル:オクチルアクリレート:エチルアクリレート:マレイン酸=20:70:10:7.5程度となる。得られた試料を試料a(酢酸ビニル20wt%)とする。  The weight composition of the copolymer obtained by the above-mentioned material mixing ratio is about vinyl acetate: octyl acrylate: ethyl acrylate: maleic acid = 20: 70: 10: 7.5. Let the obtained sample be the sample a (vinyl acetate 20 wt%).

続いて混合する材料の割合を変化させて重量組成の異なる試料を用意する。本実施例においては酢酸ビニルの混合割合のみが変化するようにして、重量組成を変化させる。酢酸ビニルの混合割合が以下の通りの試料を用意する。試料b(酢酸ビニル18wt%)、試料c(酢酸ビニル15wt%)、試料d(酢酸ビニル10wt%)、試料e(酢酸ビニル5wt%)、試料f(酢酸ビニル3wt%)、および試料g(酢酸ビニル2wt%)。  Subsequently, samples having different weight compositions are prepared by changing the ratio of the materials to be mixed. In this embodiment, the weight composition is changed so that only the mixing ratio of vinyl acetate is changed. Samples having the following mixing ratio of vinyl acetate are prepared. Sample b (vinyl acetate 18 wt%), sample c (vinyl acetate 15 wt%), sample d (vinyl acetate 10 wt%), sample e (vinyl acetate 5 wt%), sample f (vinyl acetate 3 wt%), and sample g (acetic acid Vinyl 2 wt%).

(色素の分散)
酢酸エチル/トルエン(50:50wt%)溶剤に有機色素を分散・溶解させ、アクリル系粘着剤の希釈液とする。アクリル系粘着剤/色素入り希釈液(80:20wt%)を混合し、粘着剤原液とする。粘着剤の屈折率は1.51、消光係数は0である。
(Dye dispersion)
An organic dye is dispersed and dissolved in an ethyl acetate / toluene (50:50 wt%) solvent to obtain a diluted solution of an acrylic adhesive. Mix the acrylic pressure-sensitive adhesive / pigmented diluted solution (80:20 wt%) to obtain a pressure-sensitive adhesive stock solution. The adhesive has a refractive index of 1.51 and an extinction coefficient of 0.

有機色素としては、プラズマディスプレイが放射する不要発光を吸収させるための波長595nmに吸収極大を有する三井化学(株)製色素PD−319、および白色発光の色度を補正するための三井化学(株)製赤色色素PS−Red−Gを用い、それぞれ乾燥した粘着剤1の中に1150(wt)ppm、1050(wt)ppmで含有されるようにアクリル系粘着剤/色素入り希釈液を調整する。  Organic dyes include Mitsui Chemicals Co., Ltd.'s dye PD-319, which has an absorption maximum at a wavelength of 595 nm for absorbing unwanted light emitted by the plasma display, and Mitsui Chemicals, Inc. for correcting the chromaticity of white light emission. ) Using a red dye PS-Red-G manufactured, and adjusting the acrylic adhesive / dye-containing diluted solution to be contained in the dried adhesive 1 at 1150 (wt) ppm and 1050 (wt) ppm, respectively. .

(粘着層の形成)
表面に易ハクリ処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み100μm)上に、用意した粘着剤を厚みが100μmとなるように、粘着剤原液をグラビアコート法で塗布し、粘着層を形成する。塗布面は易ハクリ処理面である。さらに粘着層の上に表面が易ハクリ処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み100μm)を貼り合せ、ダブルタック状態にする。粘着層に易ハクリ面が接するように貼り合せる。このとき用いる易ハクリ層は最初に粘着剤を塗布する面である易ハクリ層よりも易ハクリ性が高いものを用いることが好ましい。なお、透明粘着層の両面に位置するポリエチレンテレフタレートフィルムは離型フィルムとして機能し、易ハクリ性が高い方が、最初に剥がされることを想定されている。
(Formation of adhesive layer)
On the surface of the polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm) subjected to easy peeling treatment, the prepared pressure-sensitive adhesive is applied by a gravure coating method so that the thickness becomes 100 μm, thereby forming an adhesive layer. The coated surface is an easy peeling surface. Furthermore, a polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm) whose surface is easily peeled is bonded onto the adhesive layer to form a double tack state. Adhere to the adhesive layer so that the easy peeling surface is in contact. The easy peeling layer used at this time preferably has a higher peeling property than the easy peeling layer on which the adhesive is first applied. In addition, it is assumed that the polyethylene terephthalate film located on both surfaces of the transparent adhesive layer functions as a release film, and the one having higher peelability is peeled off first.

(透明導電性フィルムへの粘着層形成)
透明導電層/PETフィルムのPETフィルム面上に前述により得られる透明粘着層を形成する。まず透明粘着層の両面に貼りつけられている2枚の離型フィルムのうち1枚を剥がし、透明積層体上に貼り合せる。構成は、透明導電層/PETフィルム/粘着剤/離型フィルムとなる。
(Formation of adhesive layer on transparent conductive film)
A transparent adhesive layer obtained as described above is formed on the PET film surface of the transparent conductive layer / PET film. First, one of the two release films attached to both surfaces of the transparent adhesive layer is peeled off and bonded onto the transparent laminate. The configuration is transparent conductive layer / PET film / adhesive / release film.

(反射防止フィルムの作製)
トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(厚み:80μm、ヤング率:1300MPa)の一方の主面に、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにITO微粒子(平均粒径:10nm)を分散させたコート液をグラビアコータによって塗工し、紫外線硬化によって導電性ハードコート膜(膜厚:3μm)を形成し、その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコータによって塗工・90℃乾燥・熱硬化させ、屈折率1.4の反射防止膜(膜厚:100nm)を形成し、ハードコート性(JISK5400準拠の鉛筆硬度:2H)、ガスバリア性(ASTM−E96準拠、1.8g/m・day)、反射防止性(表面のRvis:1.0%)、帯電防止性(表面抵抗:7×10Ω/□)、および防汚性を有する機能性透明層(E)として反射防止フィルムを得る。反射防止フィルムの他方の主面に、粘着剤と同様の素材で色素を入れない粘着剤/希釈液を塗工・乾燥させ、厚み25μmの透明粘着層(D)(粘着剤2)を形成し、さらに離型フィルムをラミネートする。
(Preparation of antireflection film)
On one main surface of a triacetylcellulose (TAC) film (thickness: 80 μm, Young's modulus: 1300 MPa), a photopolymerization initiator was added to a polyfunctional methacrylate resin, and ITO fine particles (average particle size: 10 nm) were further dispersed. The coating liquid is applied with a gravure coater, a conductive hard coat film (film thickness: 3 μm) is formed by UV curing, and the fluorine-containing organic compound solution is applied on the microgravure coater, dried at 90 ° C, and thermally cured. An antireflection film (thickness: 100 nm) with a refractive index of 1.4 is formed, hard coat properties (pencil hardness according to JISK5400: 2H), gas barrier properties (according to ASTM-E96, 1.8 g / m 2 · day) ) Rvis antireflection property (surface: 1.0%), antistatic properties (surface resistance: 7 × 10 9 Ω / □ ), and having a soil resistance Obtaining an antireflection film as a functional transparent layer (E). On the other main surface of the antireflection film, a pressure sensitive adhesive / diluent that is the same material as the pressure sensitive adhesive and does not contain pigment is applied and dried to form a transparent adhesive layer (D) (pressure sensitive adhesive 2) having a thickness of 25 μm. Further, a release film is laminated.

(光学フィルタの作製)
透明導電膜/PETフィルム/粘着剤/離型フィルムを970mm×570mmの大きさに裁断し、ガラス製支持板に透明導電層(B)面を上にして固定する。さらに、ラミネーターを用いて、透明導電層(B)の周縁部20mmが剥きだしになるように導通部を残して、内側だけに反射防止フィルムをラミネートする。
(Production of optical filter)
The transparent conductive film / PET film / adhesive / release film is cut into a size of 970 mm × 570 mm and fixed to a glass support plate with the transparent conductive layer (B) side up. Further, using a laminator, an antireflection film is laminated only on the inner side, leaving a conductive portion so that the peripheral portion 20 mm of the transparent conductive layer (B) is exposed.

さらに、透明導電層(B)の剥きだしの導通部を覆うように周縁部の幅22mmの範囲に、銀ペースト(三井化学(株)製MSP−600F)をスクリーン印刷し、乾燥させ、厚み15μmの電極を形成する。支持板からはずして、透明粘着層(C)面に離型フィルムを有する本発明の光学フィルタを作製する。  Furthermore, a silver paste (MSP-600F manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) is screen-printed in a range of a peripheral width of 22 mm so as to cover the exposed conductive portion of the transparent conductive layer (B), dried, and a thickness of 15 μm. The electrode is formed. It removes from a support plate and produces the optical filter of this invention which has a release film in the transparent adhesion layer (C) surface.

(光学フィルタの装備)
さらに、該光学フィルタの離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面(表示部920mm×520mm)に枚葉式ラミネーターを用いて貼り合せた後、60℃、2×10Paの加圧加温条件下でオートクレーブ処理する。光学フィルタの電極と該プラズマディスプレイパネルのアース部を、(株)寺岡製作所製・導電性銅箔粘着テープ(510FR)を用いて接続し、本発明の光学フィルタを具備する表示装置を得る。該光学フィルタの断面を、本発明の光学フィルタとその装着状態の一例を示す断面図として、図2に示す。図2において、プラズマディスプレイパネル40の上に、順次、低い弾性に特徴づけられた透明粘着層50、透明高分子フィルム10、透明導電層60、透明粘着層70、透明高分子フィルム80、反射防止層90が積層される。電極100は、透明粘着層70、透明高分子フィルム80、反射防止層90の端面を覆うように、透明導電層60と電気的に接続される。
(Equipped with optical filter)
Further, the release film of the optical filter is peeled off and bonded to the front surface of the plasma display panel (display unit 920 mm × 520 mm) using a single wafer laminator, and then pressurized at 60 ° C. and 2 × 10 5 Pa. Autoclave under warm conditions. The electrode of the optical filter and the ground part of the plasma display panel are connected using a conductive copper foil adhesive tape (510FR) manufactured by Teraoka Seisakusho Co., Ltd., and a display device including the optical filter of the present invention is obtained. FIG. 2 shows a cross-sectional view of the optical filter as a cross-sectional view showing an example of the optical filter of the present invention and its mounting state. In FIG. 2, on the plasma display panel 40, a transparent adhesive layer 50, a transparent polymer film 10, a transparent conductive layer 60, a transparent adhesive layer 70, a transparent polymer film 80, and an antireflection film characterized by low elasticity in order. Layer 90 is laminated. The electrode 100 is electrically connected to the transparent conductive layer 60 so as to cover the end surfaces of the transparent adhesive layer 70, the transparent polymer film 80, and the antireflection layer 90.

(耐衝撃性試験)
上述のように作製した、光学フィルタを装備したPDPの耐衝撃性を剛球落下試験および落下試験によって調べる。共に合格した場合のみ合格とし、それ以外は不合格とする。合格、不合格それぞれの場合においても、各試験結果より耐衝撃性の優劣を判断する。
評価結果を表1に示す。
(Impact resistance test)
The impact resistance of the PDP equipped with the optical filter manufactured as described above is examined by a hard ball drop test and a drop test. Only pass if both pass, otherwise fail. In each case of pass or fail, the superiority or inferiority of impact resistance is judged from each test result.
The evaluation results are shown in Table 1.

透明粘着層においてそのヤング率が1×10〜1×10Paの範囲内において、良好な耐衝撃性を示し、耐衝撃性試験に合格するPDPを提供することができる積層体を得ることができることが分かる。透明粘着層のヤング率が1×10Paよりも大きい場合、および1×10Paよりも小さい場合は十分な耐衝撃性を得ることができないことが分かる。To obtain a laminate capable of providing a PDP that exhibits good impact resistance and passes an impact resistance test in a transparent adhesive layer having a Young's modulus in the range of 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa. You can see that It can be seen that sufficient impact resistance cannot be obtained when the Young's modulus of the transparent adhesive layer is larger than 1 × 10 6 Pa and smaller than 1 × 10 2 Pa.

Figure 0003851633
Figure 0003851633

比較例2)
弾性率によって特徴づけられた透明粘着層としてシリコン系の透明粘着層を作製し用いた点以外は比較例1と同様に実施する。
( Comparative Example 2)
The same operation as in Comparative Example 1 is performed except that a silicon-based transparent adhesive layer is prepared and used as the transparent adhesive layer characterized by the elastic modulus.

(シリコン系粘着剤の作製)
以下に示す3種の樹脂および触媒を用意する。
(Production of silicone adhesive)
The following three resins and catalysts are prepared.

樹脂P1/フェニルメチルシロキサン(濃度50モル%)と、モノフェニルシロキサン(濃度15モル%)と、モノメチルシロキサン(濃度25モル%)と、ジフェニルシロキサン(濃度10モル%)との共重合体。ジンクオクテイト触媒(0.6重量%)を含む。シリコンと結合した水酸基を持つ。  Resin P1 / A copolymer of phenylmethylsiloxane (concentration 50 mol%), monophenylsiloxane (concentration 15 mol%), monomethylsiloxane (concentration 25 mol%), and diphenylsiloxane (concentration 10 mol%). Contains zinc octate catalyst (0.6 wt%). It has a hydroxyl group bonded to silicon.

樹脂P2/フェニルメチルビニルシロキシ共重合体。フェニルメチルシロキサン(濃度60モル%)とフェニルビニルシロキサン(40モル%)とからなる。  Resin P2 / Phenylmethylvinylsiloxy copolymer. It consists of phenylmethylsiloxane (concentration 60 mol%) and phenylvinylsiloxane (40 mol%).

樹脂P3/フェニルメチルシロキサン(50モル%)と、水素化メチルシロキサン(50モル%)との共重合体。  Copolymer of resin P3 / phenylmethylsiloxane (50 mol%) and hydrogenated methylsiloxane (50 mol%).

触媒A/クロロプラチン酸(濃度0.2重量%)を分散したキシレン溶液。
調合h/樹脂P1と樹脂P2と樹脂P3を重量比25:4.0:1.0でトルエン中で混合し、50%混合液を作製する。この混合液に触媒Aを15滴加える。得られる混合液を試料hとする。
Catalyst A / xylene solution in which chloroplatinic acid (concentration 0.2% by weight) is dispersed.
Preparation h / resin P1, resin P2, and resin P3 are mixed in toluene at a weight ratio of 25: 4.0: 1.0 to prepare a 50% mixed solution. Add 15 drops of Catalyst A to the mixture. Let the obtained liquid mixture be the sample h.

調合i/触媒Aを1滴加える点以外は調合hと同様に実施する。得られる混合液を試料iとする。  The same procedure as in Formulation h, except that one drop of Formulation i / Catalyst A is added. Let the obtained liquid mixture be the sample i.

調合j/触媒Aを加えない点以外は調合hと同様に実施する。得られる混合液を試料jとする。
評価結果を表2に示す。
Formulation j / Same as Formulation h except that Catalyst A is not added. The resulting mixture is designated as sample j.
The evaluation results are shown in Table 2.

シリコン系の粘着剤を用いても、比較例1でのアクリル系粘着剤を用いた場合と同様に透明粘着層のヤング率を従来よりも低下させることによって、その透明粘着層を装備したPDPが、耐衝撃性の安全基準を満たすことができるようになることが分かる。 Even when a silicon-based adhesive is used, the PDP equipped with the transparent adhesive layer is reduced by lowering the Young's modulus of the transparent adhesive layer as compared with the case where the acrylic adhesive in Comparative Example 1 is used. It can be seen that the safety standard of impact resistance can be satisfied.

Figure 0003851633
Figure 0003851633

(比較例
透明粘着層としてダブルダックテープ(積水化学製5510)を用いた点以外は、比較例1と同様に実施する。
評価結果を表3に示す。
(Comparative Example 3 )
It carries out similarly to the comparative example 1 except the point which used the double duck tape (Sekisui Chemical 5510) as a transparent adhesion layer.
The evaluation results are shown in Table 3.

従来用いられている透明粘着剤を装備したPDPは、耐衝撃性に貧しく、その透明粘着剤のヤング率は、比較例1、2において、耐衝撃性が貧しかった試料と同等であることが
分かる。
A PDP equipped with a conventionally used transparent adhesive is poor in impact resistance, and it can be seen that the Young's modulus of the transparent adhesive is equivalent to that in Comparative Examples 1 and 2, which had poor impact resistance. .

Figure 0003851633
Figure 0003851633

比較
以下に示した事項以外は比較例1と同様に実施する。
( Comparative Example 4 )
The same operations as in Comparative Example 1 are performed except for the items described below.

比較例1と同様に反射防止フィルムを作製する。基材フィルムとしてトリアセチルセルロース(TAC)フィルムではなく、2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(以下PET)フィルム(厚み:188μm、ヤング率:4000MPa)を用いる。 An antireflection film is produced in the same manner as in Comparative Example 1. Instead of a triacetyl cellulose (TAC) film, a biaxially stretched polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET) film (thickness: 188 μm, Young's modulus: 4000 MPa) is used as the base film.

この反射防止フィルムの反射防止層形成面の反対面に比較例1で実施したのと同様に透明導電膜を作製する。 A transparent conductive film is produced on the surface opposite to the antireflection layer forming surface of this antireflection film in the same manner as in Comparative Example 1.

比較例1と同様にアクリル系粘着剤(試料番号e)を作製し、そこに色素を分散し、粘着層を形成する。 An acrylic pressure-sensitive adhesive (sample number e) is prepared in the same manner as in Comparative Example 1, and a dye is dispersed therein to form an adhesive layer.

反射防止膜/PETフィルム/透明導電膜の透明導電膜上に前述により得られる透明粘着層を形成する。まず透明粘着層の両面に貼りつけられている2枚の離型フィルムのうち1枚を剥がし、透明積層体上に貼り合せ、光学フィルタを作製する。
構成は、反射防止膜/PETフィルム/透明導電膜/粘着剤/離型フィルムなる。
The transparent adhesive layer obtained by the above is formed on the transparent conductive film of antireflection film / PET film / transparent conductive film. First, one of the two release films attached to both surfaces of the transparent adhesive layer is peeled off and bonded onto the transparent laminate to produce an optical filter.
The configuration is antireflection film / PET film / transparent conductive film / adhesive / release film.

上述のように作製した積層体を970mm×570mmの大きさに裁断し、光学フィルタを作製する。  The laminated body produced as described above is cut into a size of 970 mm × 570 mm to produce an optical filter.

さらに該光学フィルタの離型フィルムを剥離して、42インチ型プラズマディスプレイパネル前面(表示部920mm×520mm)に枚葉式ラミネーターを用いて貼り合せた後、60℃、2×10Paの加圧加温条件下でオートクレーブ処理する。Further, the release film of the optical filter is peeled off and bonded to the front surface of the 42-inch plasma display panel (display portion 920 mm × 520 mm) using a single wafer laminator, and then subjected to 60 ° C. and 2 × 10 5 Pa applied. Autoclave under pressure and warm conditions.

プラズマディスプレイパネル前面の表示部分外の周囲には外部とのねじ留め用の穴をあらかじめあけておく。このねじ留め用の穴はPDP外部に導通し、アースを取れるようになっている。  A hole for screwing with the outside is made in advance around the outside of the display portion on the front surface of the plasma display panel. This screwing hole is electrically connected to the outside of the PDP and can be grounded.

光学フィルタは、このねじ留め用の穴を覆い隠すようにPDPに貼りつけられる。光学フィルタ表面より光学フィルタを貫通するようにねじをねじ留め用穴に固定する。用いるねじは導電性を持つことが必要である。該光学フィルタの断面を、本発明の光学フィルタとその装着状態の他の例を示す断面図として、図3に示す。図3において、プラズマディスプレイパネル40の上に、順次、低い弾性に特徴づけられた透明粘着層50、透明導電層60、透明高分子フィルム10、反射防止層90が積層される。電極100は、各層を貫通するように設けられ、透明導電層60と電気的に接続するとともに、PDPの導電性ねじとの接触によって接地される。  The optical filter is attached to the PDP so as to cover the screw hole. A screw is fixed to the screw hole so as to penetrate the optical filter from the surface of the optical filter. The screw used must be conductive. FIG. 3 shows a cross-sectional view of the optical filter as a cross-sectional view showing another example of the optical filter of the present invention and its mounting state. In FIG. 3, a transparent adhesive layer 50, a transparent conductive layer 60, a transparent polymer film 10, and an antireflection layer 90 characterized by low elasticity are sequentially stacked on the plasma display panel 40. The electrode 100 is provided so as to penetrate each layer, and is electrically connected to the transparent conductive layer 60 and grounded by contact with the conductive screw of the PDP.

また、図4は本発明に係る積層体をOELD(有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ)に装備した状態の一例を示す断面図である。図4において、OELD140の上に、順次、低い弾性に特徴づけられた透明粘着層50、透明高分子フィルム10、反射防止層90が積層される。
評価結果を表4に示す。
Moreover, FIG. 4 is sectional drawing which shows an example of the state which equipped the laminated body based on this invention to OELD (organic electroluminescent display). In FIG. 4, the transparent adhesive layer 50, the transparent polymer film 10, and the antireflection layer 90 characterized by low elasticity are sequentially stacked on the OELD 140.
The evaluation results are shown in Table 4.

光学フィルタを構成する高分子フィルムの枚数が1枚であっても、そのヤング率が従来よりも低い透明粘着層を用いることによって、その光学フィルタを装備したPDPの耐衝撃性が十分に得られることが分かる。  Even if the number of polymer films constituting the optical filter is one, the impact resistance of the PDP equipped with the optical filter can be sufficiently obtained by using the transparent adhesive layer whose Young's modulus is lower than the conventional one. I understand that.

Figure 0003851633
Figure 0003851633

比較
以下に示した事項以外は比較例1と同様に実施する。
( Comparative Example 5 )
The same operations as in Comparative Example 1 are performed except for the items described below.

低い弾性に特徴づけられた粘着剤として、比較例2で用いたシリコン系粘着剤(試料番号c)を用いた以外は比較と同様に実施する。
評価結果を表5に示す。
As the pressure-sensitive adhesive characterized by low elasticity, the same procedure as in Comparative Example 4 is performed except that the silicon-based pressure-sensitive adhesive (sample number c) used in Comparative Example 2 is used.
The evaluation results are shown in Table 5.

透明粘着層が、シリコン系粘着剤であっても比較においてアクリル系粘着剤を用いた場合と同様に十分な耐衝撃性を得ることができることが分かる。 It can be seen that even when the transparent adhesive layer is a silicon adhesive, sufficient impact resistance can be obtained as in the case of using the acrylic adhesive in Comparative Example 4 .

Figure 0003851633
Figure 0003851633

比較
以下に示した事項以外は比較例1と同様に実施する。
比較で実施したのと同様に反射防止フィルムを作製する。
( Comparative Example 6 )
The same operations as in Comparative Example 1 are performed except for the items described below.
An antireflection film is produced in the same manner as in Comparative Example 4 .

比較例1と同様にアクリル系粘着剤(試料番号d)を作製し、粘着層を形成する。
反射防止膜/PETフィルムのPETフィルム上に前述により得られる透明粘着層を形成する。まず透明粘着層の両面に貼りつけられている2枚の離型フィルムのうち1枚を剥がし、透明積層体上に貼り合せ、さらなる積層体を作製する。
構成は、反射防止膜/PETフィルム/粘着剤/離型フィルムとなる。
An acrylic pressure-sensitive adhesive (sample number d) is prepared in the same manner as in Comparative Example 1, and an adhesive layer is formed.
The transparent adhesive layer obtained as described above is formed on the PET film of antireflection film / PET film. First, one of the two release films attached to both surfaces of the transparent adhesive layer is peeled off and bonded onto the transparent laminate to produce a further laminate.
The configuration is antireflection film / PET film / adhesive / release film.

上述のように作製した光学フィルタを60mm×40mmの大きさに裁断し、光学フィルタを作製する。  The optical filter produced as described above is cut into a size of 60 mm × 40 mm to produce an optical filter.

さらに該光学フィルタの離型フィルムを剥離して、3インチ型有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ前面(表示部60mm×40mm)に貼り合せる。  Further, the release film of the optical filter is peeled off and bonded to the front surface of the 3-inch organic electroluminescence display (display portion 60 mm × 40 mm).

耐衝撃試験の合格判断はディスプレイ視認面のガラス基板に割れが生じるかどうかで判断する。
評価結果を表6に示す。
Judgment of the acceptance of the impact resistance test is made based on whether or not the glass substrate on the display viewing surface is cracked.
The evaluation results are shown in Table 6.

透明粘着層のヤング率を従来よりも低下させることによって、それを装備した小型携帯ディスプレイが、落下による衝撃により割れにくいものとなることが分かる。  It can be seen that by reducing the Young's modulus of the transparent adhesive layer as compared with the conventional one, a small portable display equipped with the transparent adhesive layer is less likely to be broken by an impact caused by dropping.

Figure 0003851633
比較
以下に示した事項以外は比較例1と同様に実施する。
Figure 0003851633
( Comparative Example 7 )
The same operations as in Comparative Example 1 are performed except for the items described below.

低い弾性に特徴づけられた粘着剤として、比較例2で用いたシリコン系粘着剤(試料番号c)を用いた以外は比較と同様に実施する。 As the pressure-sensitive adhesive characterized by low elasticity, the same procedure as in Comparative Example 6 is performed except that the silicon-based pressure-sensitive adhesive (sample number c) used in Comparative Example 2 is used.

透明粘着層としてシリコン系粘着剤を用いることによって、アクリル系粘着剤
を用いた場合と同様に、それを装備した小型携帯ディスプレイの耐衝撃性が増すことが分かる。
It can be seen that the use of a silicone adhesive as the transparent adhesive layer increases the impact resistance of a small portable display equipped with the same as in the case of using an acrylic adhesive.

Figure 0003851633
Figure 0003851633

比較
以下の事項を除いて比較例1と同様に実施した。
( Comparative Example 8 )
The same operation as in Comparative Example 1 was performed except for the following items.

(アクリル系粘着剤の作製)において
試料cを作製した。
Sample (c) was prepared in (Production of acrylic pressure-sensitive adhesive).

(粘着層の形成)において
粘着層の厚みを、510、500、300、100、50、10、5μmの7種用意した。
(Formation of adhesive layer) In the adhesive layer, seven types of thicknesses of 510, 500, 300, 100, 50, 10, 5 μm were prepared.

(透明導電性フィルムへの粘着層の形成)において
上述で用意した7種の粘着剤を透明導電膜/PETフィルムのPETフィルム面上に貼り合わせ、7種の積層体を用意した。構成は、透明導電膜/PETフィルム/粘着剤/離型フィルムである。
(Formation of pressure-sensitive adhesive layer on transparent conductive film) The seven types of pressure-sensitive adhesive prepared above were bonded onto the surface of the transparent conductive film / PET film to prepare seven types of laminates. The configuration is transparent conductive film / PET film / adhesive / release film.

(光学フィルタの作製)において
光学フィルタ作製後に光学フィルタの視感平均透過率を測定した。視感平均透過率(Tvis)が30%より低い場合は、実用的ではないと判断する。
In (Preparation of optical filter), the optical transmittance of the optical filter was measured after the optical filter was manufactured. If the luminous average transmittance (Tvis) is lower than 30%, it is determined that it is not practical.

評価結果を表8に示す。  The evaluation results are shown in Table 8.

粘着層の厚みが10μmよりも小さい場合は、耐衝撃性試験を満たすことができないことが分かる。また、粘着層の厚みが500μmより大きい場合は、視感平均透過率が30%より小さくなり、実用的に有用でないものとなることが分かる。  It can be seen that when the thickness of the adhesive layer is smaller than 10 μm, the impact resistance test cannot be satisfied. Moreover, when the thickness of an adhesion layer is larger than 500 micrometers, it turns out that a luminous average transmittance | permeability becomes smaller than 30% and is not useful practically.

以上を鑑みると粘着層の厚みは10〜500μmの範囲であることが好ましいことが分かる。  In view of the above, it can be seen that the thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 10 to 500 μm.

Figure 0003851633
Figure 0003851633

透明樹脂層のヤング率に関して
比較
(透明樹脂層の作成)
ポリエチレンテレフタレートペレット1203(ユニチカ(株)製)を290〜300℃で溶融させ、押出し機により厚み200μmのフィルムを作製した。その後、このフィルムを2軸延伸して、厚み100μmのPETフィルムを作製する。
Regarding the Young's modulus of the transparent resin layer ( Comparative Example 9 )
(Creation of transparent resin layer)
Polyethylene terephthalate pellets 1203 (manufactured by Unitika Ltd.) were melted at 290 to 300 ° C., and a film having a thickness of 200 μm was produced by an extruder. Thereafter, this film is biaxially stretched to produce a PET film having a thickness of 100 μm.

上述のPETフィルムと巴川製紙所製透明粘着剤シート(厚み0.01mm、ヤング率:2.5MPa)とを用いた以外は比較例1と同様にして光学フィルタの作成およびPDP前面への貼合を行う。 Preparation of optical filter and bonding to front surface of PDP in the same manner as in Comparative Example 1 except that the above-described PET film and a transparent adhesive sheet (thickness 0.01 mm, Young's modulus: 2.5 MPa) manufactured by Yodogawa Paper Mill were used. I do.

該光学フィルタの断面を、本発明の光学フィルタとその装着状態の他の例を示す断面図として、図5に示す。図5において、プラズマディスプレイパネル240の上に、順次、透明粘着層250、適切な弾性および厚みを有する透明樹脂層210、透明導電層260、透明粘着層270、透明樹脂層280、反射防止層290が積層される。電極300は、透明粘着層270、透明樹脂層280、反射防止層290の端面を覆うように、透明導電層260と電気的に接続される。  FIG. 5 shows a cross-sectional view of the optical filter as a cross-sectional view showing another example of the optical filter of the present invention and its mounting state. In FIG. 5, a transparent adhesive layer 250, a transparent resin layer 210 having appropriate elasticity and thickness, a transparent conductive layer 260, a transparent adhesive layer 270, a transparent resin layer 280, and an antireflection layer 290 are sequentially formed on the plasma display panel 240. Are stacked. The electrode 300 is electrically connected to the transparent conductive layer 260 so as to cover the end faces of the transparent adhesive layer 270, the transparent resin layer 280, and the antireflection layer 290.

(耐衝撃性試験)
上述のように作製した、光学フィルタを装備したPDPの耐衝撃性を剛球落下試験により調べる。飛散したガラスが、到達した距離によって、優劣を判断した。すなわち、ガラスが遠くまで飛散するほど、装備した光学フィルタの性能が低いと評価した。本発明においてはガラス飛散距離が0.5m以内である場合に、透明樹脂層が有効に機能していると考える。
(Impact resistance test)
The impact resistance of the PDP equipped with the optical filter manufactured as described above is examined by a hard ball drop test. The superiority or inferiority was judged by the distance that the scattered glass reached. That is, it was evaluated that the performance of the equipped optical filter was lower as the glass was scattered farther. In the present invention, the transparent resin layer is considered to function effectively when the glass scattering distance is within 0.5 m.

比較10
透明樹脂層のPETを延伸しなかったこと以外は、比較と同様に実施する。
( Comparative Example 10 )
It implements similarly to the comparative example 9 except not having extended | stretched PET of a transparent resin layer.

比較11
弾性によって特徴づけられた透明樹脂層としてエチレン/プロピレン共重合体(厚み1
00μm、面に垂直な方向のヤング率40MPa)を用いる点以外は比較と同様に実施する。
( Comparative Example 11 )
As a transparent resin layer characterized by elasticity, an ethylene / propylene copolymer (thickness 1
This is carried out in the same manner as Comparative Example 9 except that 00 μm and Young's modulus 40 MPa in the direction perpendicular to the surface are used.

比較12
弾性によって特徴づけられた透明樹脂層としてエチレン/酢酸ビニル共重合体(EVA)(厚み100μm、面に垂直な方向のヤング率12MPa)を用いる点以外は比較と同様に実施する。
( Comparative Example 12 )
The process is carried out in the same manner as in Comparative Example 9 except that an ethylene / vinyl acetate copolymer (EVA) (thickness 100 μm, Young's modulus 12 MPa in the direction perpendicular to the surface) is used as the transparent resin layer characterized by elasticity.

比較13
弾性によって特徴づけられた透明樹脂層としてEVA(厚み100μm、面に垂直な方向のヤング率4MPa)を用いる点以外は比較と同様に実施する。
( Comparative Example 13 )
The same procedure as in Comparative Example 9 is performed except that EVA (thickness 100 μm, Young's modulus 4 MPa in the direction perpendicular to the surface) is used as the transparent resin layer characterized by elasticity.

比較14
基材フィルムとしてEVA(厚み200μm、面に垂直な方向のヤング率12MPa)を用いたこと以外は比較と同様に反射防止フィルムを作製する。この反射防止フィルムの反射防止層形成面の反対面に比較で実施したのと同様に透明導電膜を作製する。
( Comparative Example 14 )
An antireflection film is produced in the same manner as in Comparative Example 9 , except that EVA (thickness 200 μm, Young's modulus 12 MPa in the direction perpendicular to the surface) is used as the base film. A transparent conductive film is produced on the surface opposite to the antireflection layer forming surface of this antireflection film in the same manner as in Comparative Example 9 .

比較と同様にアクリル系粘着剤を作製し、そこに色素を分散し、粘着層を形成する。 An acrylic pressure-sensitive adhesive is prepared in the same manner as in Comparative Example 9, and a pigment is dispersed therein to form an adhesive layer.

反射防止膜/PETフィルム/透明導電膜の透明導電膜上に前述により得られる透明粘着層を形成する。まず透明粘着層の両面に貼りつけられている2枚の離型フィルムのうち1枚を剥がし、透明積層体上に貼り合せ、光学フィルタを作製する。構成は、反射防止膜/PETフィルム/透明導電膜/粘着剤/離型フィルムとなる。  The transparent adhesive layer obtained by the above is formed on the transparent conductive film of antireflection film / PET film / transparent conductive film. First, one of the two release films attached to both surfaces of the transparent adhesive layer is peeled off and bonded onto the transparent laminate to produce an optical filter. The configuration is antireflection film / PET film / transparent conductive film / adhesive / release film.

上述のように作製した積層体を970mm×570mmの大きさに裁断し、光学フィルタを作製する。  The laminated body produced as described above is cut into a size of 970 mm × 570 mm to produce an optical filter.

さらに該光学フィルタの離型フィルムを剥離して、42インチ型プラズマディスプレイパネル前面(表示部920mm×520mm)に枚葉式ラミネーターを用いて貼り合せる。  Further, the release film of the optical filter is peeled off and bonded to the front surface of the 42-inch plasma display panel (display unit 920 mm × 520 mm) using a single wafer laminator.

なお、プラズマディスプレイパネル前面の表示部分外の周囲には外部とのねじ留め用の穴をあらかじめあけておく。このねじ留め用の穴はPDP外部に導通し、アースを取れるようになっている。  In addition, a hole for screwing with the outside is made in advance around the outside of the display portion on the front surface of the plasma display panel. This screwing hole is electrically connected to the outside of the PDP and can be grounded.

光学フィルタは、このねじ留め用の穴を覆い隠すようにPDPに貼りつけられる。光学フィルタ表面から光学フィルタを貫通するように、ねじをねじ留め用穴に固定する。なお、用いるねじは導電性を持つことが必要である。該光学フィルタの断面を、本発明の光学フィルタとその装着状態のさらに他の例を示す断面図として、図6に示す。図6において、プラズマディスプレイパネル240の上に、順次、透明粘着層250、透明導電層260、透明樹脂層210、反射防止層290が積層される。電極300は、各層を貫通するように設けられ、透明導電層260と電気的に接続するとともに、PDPの導電性ねじとの接触によって接地される。  The optical filter is attached to the PDP so as to cover the screw hole. A screw is fixed to the screw hole so as to penetrate the optical filter from the surface of the optical filter. In addition, the screw to be used needs to have conductivity. FIG. 6 shows a cross-sectional view of the optical filter as a cross-sectional view showing still another example of the optical filter of the present invention and a mounted state thereof. In FIG. 6, a transparent adhesive layer 250, a transparent conductive layer 260, a transparent resin layer 210, and an antireflection layer 290 are sequentially stacked on the plasma display panel 240. The electrode 300 is provided so as to penetrate each layer, and is electrically connected to the transparent conductive layer 260 and grounded by contact with the conductive screw of the PDP.

比較15
弾性に特徴づけられた透明樹脂層としてEVA(厚み200μm、面に垂直な方向のヤング率4MPa)を使用した点以外は比較14と同様に実施する。
( Comparative Example 15 )
The same operation as in Comparative Example 14 is performed except that EVA (thickness 200 μm, Young's modulus 4 MPa in the direction perpendicular to the surface) is used as the transparent resin layer characterized by elasticity.

評価結果を表9に示す。構成枚数は、積層体を構成する全透明樹脂層の数である。ガラス飛散距離は、剛球落下試験後の結果である。  Table 9 shows the evaluation results. The number of components is the number of all transparent resin layers constituting the laminate. The glass scattering distance is the result after the hard ball drop test.

Figure 0003851633
Figure 0003851633

比較16
比較11のフィルタシートを40mm×30mmの大きさに切断し、2インチ型有機エレクトロルミネッセンス素子(寸法40mm×30mm)の視認面上に貼り合せた。
( Comparative Example 16 )
The filter sheet of Comparative Example 11 was cut into a size of 40 mm × 30 mm and bonded to the viewing surface of a 2-inch organic electroluminescence element (dimensions 40 mm × 30 mm).

また、図7は本発明に係る積層体をOELD(有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ)に装備した状態の他の例を示す断面図である。図7において、OELD340の上に、順次、透明粘着層250、透明樹脂層210、反射防止層290が積層される。  Moreover, FIG. 7 is sectional drawing which shows the other example of the state which equipped the laminated body based on this invention to OELD (organic electroluminescent display). In FIG. 7, a transparent adhesive layer 250, a transparent resin layer 210, and an antireflection layer 290 are sequentially stacked on the OELD 340.

この素子の耐衝撃性を落下試験により調べる。本発明においてはガラス飛散距離が0.5m以内である場合に透明樹脂層が、衝撃防止機能を十分に発していると考える。  The impact resistance of this element is examined by a drop test. In the present invention, it is considered that the transparent resin layer sufficiently exerts the impact preventing function when the glass scattering distance is within 0.5 m.

比較17
比較15において作成したPETフィルムを用いた点以外は、比較16と同様に実施する。
( Comparative Example 17 )
The same operation as in Comparative Example 16 is performed except that the PET film prepared in Comparative Example 15 is used.

評価結果を表10に示す。材料とは、弾性および厚みに特徴づけられた透明樹脂層の材料のことを指す。ヤング率はその透明樹脂層の面に垂直な方向のヤング率である。ガラス飛散距離は、落下試験後の結果である。  Table 10 shows the evaluation results. A material refers to the material of the transparent resin layer characterized by elasticity and thickness. The Young's modulus is the Young's modulus in the direction perpendicular to the surface of the transparent resin layer. The glass scattering distance is the result after the drop test.

Figure 0003851633
Figure 0003851633

次に衝撃吸収層を用いた場合について説明する。
比較18
(透明導電層の作製)
PETフィルム(厚み:75μm、ヤング率:3900MPa)と巴川製紙所製透明粘着剤シート(厚み0.01mm、ヤング率:2.5MPa)とを用いた以外は比較例1と同様にして透明導電層の作成を行う。
Next, the case where a shock absorbing layer is used will be described.
( Comparative Example 18 )
(Preparation of transparent conductive layer)
A transparent conductive layer in the same manner as in Comparative Example 1 except that a PET film (thickness: 75 μm, Young's modulus: 3900 MPa) and a transparent adhesive sheet (thickness 0.01 mm, Young's modulus: 2.5 MPa) manufactured by Yodogawa Paper Mill were used. Create.

(衝撃吸収層の用意)
シリコーンのゲル状物質(ジェルテック社製、製品名:αゲル、厚み500μmのシート、視感平均透過率83%、針入度180)を用意し、上記にて反射防止フィルムを作成した場合と同様にして、一方の主面上に反射防止層を形成する。さらにもう一方の主面上に透明粘着剤(厚み:25μm、ヤング率:2.0MPa)を貼り合わせる。
(Preparation of shock absorbing layer)
When a silicone gel-like substance (manufactured by Geltech Co., Ltd., product name: α gel, sheet having a thickness of 500 μm, luminous average transmittance of 83%, penetration of 180) is prepared, and an antireflection film is prepared as described above Similarly, an antireflection layer is formed on one main surface. Further, a transparent adhesive (thickness: 25 μm, Young's modulus: 2.0 MPa) is bonded to the other main surface.

上述の透明導電フィルム、衝撃吸収層を用いた以外は実施例1と同様にして光学フィルタの作成、PDPへの貼合を行う。  An optical filter is prepared and bonded to a PDP in the same manner as in Example 1 except that the above-described transparent conductive film and impact absorbing layer are used.

図8は、本発明の光学フィルタとその装着状態のさらに他の例を示す断面図である。図8において、プラズマディスプレイパネル440の上に、順次、透明粘着層450、透明樹脂層410、透明導電層460、透明粘着層470、透明樹脂層480、反射防止層490、衝撃吸収層500が積層される。電極510は、透明粘着層470、透明樹脂層480、反射防止層490の端面を覆うように、透明導電層460と電気的に接続される。  FIG. 8 is a cross-sectional view showing still another example of the optical filter of the present invention and its mounted state. In FIG. 8, on the plasma display panel 440, a transparent adhesive layer 450, a transparent resin layer 410, a transparent conductive layer 460, a transparent adhesive layer 470, a transparent resin layer 480, an antireflection layer 490, and a shock absorbing layer 500 are sequentially laminated. Is done. The electrode 510 is electrically connected to the transparent conductive layer 460 so as to cover the end surfaces of the transparent adhesive layer 470, the transparent resin layer 480, and the antireflection layer 490.

(耐衝撃性試験)
上述のように作製した、光学フィルタを装備したPDPの耐衝撃性を剛球落下試験により調べる。
(Impact resistance test)
The impact resistance of the PDP equipped with the optical filter manufactured as described above is examined by a hard ball drop test.

比較19
下記の事項を除いて、比較18と同様に実施した。
( Comparative Example 19 )
The same operation as in Comparative Example 18 was performed except for the following items.

(衝撃吸収層の用意)において
シリコーンのゲル状物質(ジェルテック社製、製品名:αゲル、厚み500μmのシート、針入度180、視感平均透過率83%)を用意し、一方の主面上に透明粘着剤(厚み:25μm、ヤング率:2.0MPa)を貼り合わせる。
(Preparation of shock absorbing layer) Prepare a silicone gel substance (manufactured by Geltech Co., Ltd., product name: α gel, 500 μm thick sheet, penetration 180, visual transmittance 83%). A transparent adhesive (thickness: 25 μm, Young's modulus: 2.0 MPa) is bonded onto the surface.

(光学フィルタの作製)において
実施例1の光学フィルタの色素入り粘着層と上記衝撃吸収層の透明粘着層が形成されていない面とを貼り合わせて得られる。
In (Preparation of optical filter), it is obtained by bonding the dye-containing adhesive layer of the optical filter of Example 1 and the surface of the shock absorbing layer on which the transparent adhesive layer is not formed.

得られる構成は、反射防止層/TACフィルム/透明粘着層/透明導電層/色素入り粘着層/衝撃吸収層/粘着層/セパレータフィルムとなる。  The resulting structure is antireflection layer / TAC film / transparent adhesive layer / transparent conductive layer / dye-containing adhesive layer / impact absorbing layer / adhesive layer / separator film.

さらに、透明導電層の剥きだしの導通部を覆うように周縁部の幅22mmの範囲に、銀ペースト(三井化学(株)製MSP−600F)をスクリーン印刷し、乾燥させ厚み15μmの電極を形成する。  Furthermore, a silver paste (MSP-600F manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) is screen-printed in a range of a width of 22 mm at the peripheral edge so as to cover the exposed conductive portion of the transparent conductive layer, and dried to form an electrode having a thickness of 15 μm. To do.

(光学フィルタの装備)において
該光学フィルタを備えたPDPの断面図を光学フィルタの断面図とともに図9に示す。図9において、プラズマディスプレイパネル440の上に、順次、衝撃吸収層500、透明粘着層450、透明樹脂層410、透明導電層460、透明粘着層470、透明樹脂層480、反射防止層490が積層される。電極510は、透明粘着層470、透明樹脂層480、反射防止層490の端面を覆うように、透明導電層460と電気的に接続される。
In (equipment of optical filter), a sectional view of a PDP provided with the optical filter is shown in FIG. 9 together with a sectional view of the optical filter. In FIG. 9, an impact absorbing layer 500, a transparent adhesive layer 450, a transparent resin layer 410, a transparent conductive layer 460, a transparent adhesive layer 470, a transparent resin layer 480, and an antireflection layer 490 are sequentially stacked on the plasma display panel 440. Is done. The electrode 510 is electrically connected to the transparent conductive layer 460 so as to cover the end surfaces of the transparent adhesive layer 470, the transparent resin layer 480, and the antireflection layer 490.

比較20
以下の事項を除いて、比較18と同様に実施した。
衝撃吸収層を2種類用意した。
( Comparative Example 20 )
The same operation as in Comparative Example 18 was performed except for the following items.
Two types of shock absorbing layers were prepared.

(衝撃吸収層Iの用意)
シリコーンのゲル状物質(ジェルテック社製、製品名:αゲル、厚み500μmのシート、視感平均透過率83%、針入度180)を用意し、上述において反射防止フィルムを作成した場合と同様にして、一方の主面上に反射防止層を形成する。さらにもう一方の主面上に透明粘着剤(厚み:25μm、ヤング率:2.0MPa)を貼り合わせる。これを衝撃吸収層Iとする。
(Preparation of shock absorbing layer I)
A silicone gel-like substance (manufactured by Geltech Co., Ltd., product name: α gel, sheet having a thickness of 500 μm, luminous average transmittance of 83%, penetration of 180) is prepared, and the same as the case of creating the antireflection film in the above. Thus, an antireflection layer is formed on one main surface. Further, a transparent adhesive (thickness: 25 μm, Young's modulus: 2.0 MPa) is bonded to the other main surface. This is referred to as shock absorbing layer I.

(衝撃吸収層IIの用意)
シリコーンのゲル状物質(ジェルテック社製、製品名:αゲル、厚み500μmのシート、視感平均透過率83%、針入度180)を用意し、一方の主面上に透明粘着剤(厚み:25μm、ヤング率:2.0MPa)を貼り合わせる。これを衝撃吸収層IIとする。
(Preparation of shock absorbing layer II)
A silicone gel material (manufactured by Geltech Co., Ltd., product name: α gel, sheet having a thickness of 500 μm, luminous average transmittance of 83%, penetration of 180) is prepared, and a transparent adhesive (thickness) is provided on one main surface. : 25 μm, Young's modulus: 2.0 MPa). This is called shock absorbing layer II.

(光学フィルタの作製)において
比較例1の光学フィルタの色素入り粘着層と衝撃吸収層IIの透明粘着層が形成されていない面でを貼り合わせる。
(Production of optical filter)
The pigment-containing adhesive layer of the optical filter of Comparative Example 1 and the shock-absorbing layer II on which the transparent adhesive layer is not formed are bonded together.

得られる積層体の構成は、反射防止層/TACフィルム/透明粘着層/透明導電層/色素入り粘着層/衝撃吸収層/粘着層/セパレータフィルムとなる。  The structure of the resulting laminate is antireflective layer / TAC film / transparent adhesive layer / transparent conductive layer / dye-containing adhesive layer / impact absorbing layer / adhesive layer / separator film.

さらに、透明導電層の剥きだしの導通部を覆うように周縁部の幅22mmの範囲に、銀ペースト(三井化学(株)製MSP−600F)をスクリーン印刷し、乾燥させ厚み15μmの電極を形成する。
衝撃吸収層Iの透明粘着剤側と上記積層体の反射防止フィルム側とを貼り合わせる。
Furthermore, a silver paste (MSP-600F manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) is screen-printed in a range of a width of 22 mm at the peripheral edge so as to cover the exposed conductive portion of the transparent conductive layer, and dried to form an electrode having a thickness of 15 μm. To do.
The transparent adhesive side of the shock absorbing layer I and the antireflection film side of the laminate are bonded together.

続いて積層体を支持板からはずして、透明粘着層面に離型フィルムを有する本発明の光学フィルタを作製する。  Subsequently, the laminate is removed from the support plate, and the optical filter of the present invention having a release film on the transparent adhesive layer surface is produced.

該光学フィルタを備えたPDPの断面図を光学フィルタの断面図とともに図10に示す。図10において、プラズマディスプレイパネル440の上に、順次、衝撃吸収層500、透明粘着層450、透明樹脂層410、透明導電層460、透明粘着層470、透明樹脂層480、反射防止層490、衝撃吸収層500が積層される。電極510は、透明粘着層470、透明樹脂層480、反射防止層490の端面を覆うように、透明導電層460と電気的に接続される。  A sectional view of a PDP provided with the optical filter is shown in FIG. 10 together with a sectional view of the optical filter. In FIG. 10, on the plasma display panel 440, the shock absorbing layer 500, the transparent adhesive layer 450, the transparent resin layer 410, the transparent conductive layer 460, the transparent adhesive layer 470, the transparent resin layer 480, the antireflection layer 490, and the impact are sequentially provided. The absorption layer 500 is laminated. The electrode 510 is electrically connected to the transparent conductive layer 460 so as to cover the end surfaces of the transparent adhesive layer 470, the transparent resin layer 480, and the antireflection layer 490.

比較21
反射防止フィルムと衝撃吸収層IIを用いなかったこと以外は比較18と同様にして作成、評価を実施した。
( Comparative Example 21 )
Preparation and evaluation were carried out in the same manner as in Comparative Example 18 except that the antireflection film and the shock absorbing layer II were not used.

(比較例22
衝撃吸収層を形成しない点を除いて、比較18と同様に実施した。
以上、比較18〜22の結果を表11に掲げた。
(Comparative Example 22 )
It implemented similarly to the comparative example 18 except the point which does not form a shock absorption layer.
The results of Comparative Examples 18 to 22 are listed in Table 11 above.

Figure 0003851633
Figure 0003851633

表11での比較18〜21の結果から分かるように、すべての比較例において、耐衝撃性試験に合格するプラズマディスプレイパネルを得ることができることが分かる。 As can be seen from the results of Comparative Examples 18 to 21 in Table 11, it can be seen that in all the Comparative Examples, plasma display panels that pass the impact resistance test can be obtained.

比較例22に示したように、衝撃吸収層を備えていない積層体を用いた光学フィルタを備えたプラズマディスプレイパネルは、耐衝撃性試験に合格しない。 As shown in Comparative Example 22 , the plasma display panel including the optical filter using the laminate that does not include the shock absorbing layer does not pass the impact resistance test.

比較23
(反射防止フィルムの作製)
PETフィルム上(厚さ:188μm、ヤング率:4000MPa)に、比較例1と同様の方法で反射防止層を形成し、反対面に粘着層(厚さ:25μm、ヤング率:2.0MPa)を形成した。構成は、反射防止層/PETフィルム/粘着層である。
( Comparative Example 23 )
(Preparation of antireflection film)
An antireflection layer is formed on the PET film (thickness: 188 μm, Young's modulus: 4000 MPa) in the same manner as in Comparative Example 1, and an adhesive layer (thickness: 25 μm, Young's modulus: 2.0 MPa) is formed on the opposite surface. Formed. The configuration is antireflection layer / PET film / adhesive layer.

(衝撃吸収層の用意)
シリコーンのゲル状物質(ジェルテック社製、製品名:αゲル、厚み500μmのシート、視感平均透過率83%、針入度180)を用意し、上述のように反射防止フィルムを作成した場合と同様にして、一方の主面上に反射防止層を形成する。さらにもう−方の主面上に透明粘着剤(厚み:25μm、ヤング率:2.0MPa)を貼り合わせる。
(Preparation of shock absorbing layer)
In the case of preparing an antireflection film as described above by preparing a silicone gel-like substance (manufactured by Geltech Co., Ltd., product name: α gel, sheet having a thickness of 500 μm, luminous average transmittance of 83%, penetration of 180) In the same manner as described above, an antireflection layer is formed on one main surface. Further, a transparent adhesive (thickness: 25 μm, Young's modulus: 2.0 MPa) is bonded to the other main surface.

(光学フィルタの作製)
40mm×30mmの大きさに裁断した上記反射防止フィルムと衝撃吸収層とを貼り合わせる。構成は、反射防止層/PETフィルム/粘着層/衝撃吸収層/粘着層/セパレータである。
(Production of optical filter)
The antireflection film cut to a size of 40 mm × 30 mm and the shock absorbing layer are bonded together. The constitution is antireflection layer / PET film / adhesive layer / impact absorbing layer / adhesive layer / separator.

これを2インチ型有機エレクトロルミネッセンス素子(寸法40mm×30mm)の画面上に貼り合せる。  This is pasted on the screen of a 2 inch type organic electroluminescence element (size 40 mm × 30 mm).

該反射防止フィルムを備えた有機エレクトロルミネッセンス素子の断面図を反射防止フィルムの断面図とともに図11に示す。図11において、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ520の上に、順次、透明粘着層50、透明樹脂層10、反射防止層90が積層される。
この素子の耐衝撃性を落下試験により調べた。
FIG. 11 shows a cross-sectional view of an organic electroluminescence element provided with the antireflection film together with a cross-sectional view of the antireflection film. In FIG. 11, the transparent adhesive layer 50, the transparent resin layer 10, and the antireflection layer 90 are sequentially laminated on the organic electroluminescence display 520.
The impact resistance of this element was examined by a drop test.

(比較例24
衝撃吸収層を形成しなかった点を除いて比較23と同様に実施した。
以上、比較23および比較例24の結果を表12に掲げた。
(Comparative Example 24 )
It implemented similarly to the comparative example 23 except the point which did not form the shock absorption layer.
The results of Comparative Example 23 and Comparative Example 24 are listed in Table 12 above.

Figure 0003851633
Figure 0003851633

表12での比較23の結果から分かるように、衝撃吸収層を備えた光学フィルタを用いることによって、耐衝撃性試験に合格する有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができることが分かる。また比較例24に示したように、衝撃吸収層を備えていない積層体または光学フィルタを備えた有機エレクトロルミネッセンス素子は、耐衝撃性試験に合格しない。
次に、落球衝撃試験評価を行った場合について述べる。
As can be seen from the results of Comparative Example 23 in Table 12, it can be seen that an organic electroluminescent device that passes the impact resistance test can be obtained by using an optical filter having a shock absorbing layer. Moreover, as shown in Comparative Example 24 , the organic electroluminescence device including the laminate or the optical filter that does not include the shock absorbing layer does not pass the impact resistance test.
Next, a case where a falling ball impact test is evaluated will be described.

比較25
(透明導電性フィルムの作製)
比較例1と同様の方法でポリエチレンテレフタレート(以下PET)フィルム(幅564mm、長さ500m、厚み75μm、ヤング率:3900MPa)を高分子フィルムとしてその一方の主面に、PETフィルムから順に、ITO薄膜(膜厚:40nm)、銀薄膜(膜厚:10nm)、ITO薄膜(膜厚:95nm)、銀薄膜(膜厚:12nm)、ITO薄膜(膜厚:90nm)、銀薄膜(膜厚:9nm)、ITO薄膜(膜厚:40nm)の計7層の透明導電層を形成し、面抵抗2.3Ω/□の透明導電層を有する透明導電性フィルムを作製した。透明導電層と反対側には透明粘着層を形成した。断面図を図1に示す。
( Comparative Example 25 )
(Preparation of transparent conductive film)
In the same manner as in Comparative Example 1, a polyethylene terephthalate (hereinafter PET) film (width 564 mm, length 500 m, thickness 75 μm, Young's modulus: 3900 MPa) was formed as a polymer film on one main surface, and in order from the PET film, an ITO thin film (Film thickness: 40 nm), silver thin film (film thickness: 10 nm), ITO thin film (film thickness: 95 nm), silver thin film (film thickness: 12 nm), ITO thin film (film thickness: 90 nm), silver thin film (film thickness: 9 nm) ), A total of seven transparent conductive layers of ITO thin film (film thickness: 40 nm) were formed, and a transparent conductive film having a transparent conductive layer having a surface resistance of 2.3Ω / □ was produced. A transparent adhesive layer was formed on the side opposite to the transparent conductive layer. A cross-sectional view is shown in FIG.

(AGフィルムの用意)
AGフィルム(日本油脂社製、銘柄:PET75AG−HC/PU−V、AG層の反対面に透明粘着層が形成されている、幅558mm、長さ500m、厚み75μm)(基材層:PETフィルム、ヤング率:3900MPa)を用意する。
(Preparation of AG film)
AG film (manufactured by NOF Corporation, brand: PET75AG-HC / PU-V, a transparent adhesive layer is formed on the opposite side of the AG layer, width 558 mm, length 500 m, thickness 75 μm) (base material layer: PET film , Young's modulus: 3900 MPa).

(EVAシートの用意)
エチレン酢酸ビニル共重合体(三井デュポンポリケミカル製、酢酸ビニル単位19wt%含有、MFR=2.5g/10分、JIS−A硬度=89、ヤング率:43MPa)ペレットを用い、押出し成形で、幅564mm、厚み0.23mm、0.36mm、0.93mm、1.3mm、2.1mmサイズのシートを作製する。これの片面に透明粘着層(色素無し、厚み0.01mm)を貼り合わせる。
(Preparation of EVA sheet)
Extrusion using ethylene vinyl acetate copolymer (made by Mitsui DuPont Polychemicals, containing 19 wt% vinyl acetate unit, MFR = 2.5 g / 10 min, JIS-A hardness = 89, Young's modulus: 43 MPa), width Sheets having a size of 564 mm, thickness of 0.23 mm, 0.36 mm, 0.93 mm, 1.3 mm, and 2.1 mm are manufactured. A transparent adhesive layer (no pigment, thickness 0.01 mm) is bonded to one side of this.

(貼合わせ)
ロールツーロール方式によって、上記透明導電フィルムの粘着層側と2.1mm厚のEVAシートの粘着層と反対側を貼り合わせる。
(Lamination)
By the roll-to-roll method, the adhesive layer side of the transparent conductive film and the adhesive layer side of the 2.1 mm thick EVA sheet are bonded together.

次いでロールツーロール方式により、上記積層体の透明導電層側とAGフィルムの粘着層側を貼り合わせる。なお、フィルムの幅方向位置に関しては、それぞれのフィルムの中心位置が一致するような位置とした。全体の厚みは約2.3mmである。  Next, the transparent conductive layer side of the laminate and the adhesive layer side of the AG film are bonded together by a roll-to-roll method. In addition, about the position of the width direction of a film, it was set as the position where the center position of each film corresponds. The total thickness is about 2.3 mm.

(切断)
上述の積層体を958mm*564mmサイズに切断する。
(Cut)
The above laminate is cut to a size of 958 mm * 564 mm.

(電極形成)
積層体の長辺部分に6mmの幅にわたって、スクリーン印刷法によって銀ペーストを塗布し、乾燥させることによってディスプレイ用フィルタ1を得た。塗布はAGフィルム側に実施した。
(Electrode formation)
A silver paste was applied to the long side portion of the laminate over a width of 6 mm by a screen printing method and dried to obtain a display filter 1. Application was performed on the AG film side.

(プラズマディスプレイパネルへの装着)
プラズマディスプレイパネル(NEC製 PX−42VP1)前面へ色素入り透明粘着層を介して、ディスプレイ用フィルタを取り付けた。プラズマディスプレイパネルにあらかじめ備え付けられているコンタクトを、ディスプレイ用フィルタの電極部分に接触させた。全周囲にわたって設けられている電極全てを覆うようにする。
(Mounting to plasma display panel)
A display filter was attached to the front surface of the plasma display panel (PX-42VP1 manufactured by NEC) via a transparent adhesive layer containing a dye. A contact provided in advance in the plasma display panel was brought into contact with the electrode portion of the display filter. Cover all the electrodes provided over the entire circumference.

(電磁波遮断能力評価)
プラズマディスプレイパネルを動作させて、外部に放出される電磁波の強度をFCC規格 Part15Jに基づいて測定する。本フィルタはクラスA基準を満たしている。
(Evaluation of electromagnetic wave shielding ability)
The plasma display panel is operated and the intensity of the electromagnetic wave emitted to the outside is measured based on FCC standard Part 15J. This filter meets Class A criteria.

(落球衝撃試験)
ストーンテーブル上に日計電測製LC−20KNG702圧縮型ロードセル(定格容量20kN、定格出力1160*10−6strain)を固定し、ロードセル上中央部に上記フィルタを50mm*50mmサイズに切り出したサンプルを固定し、室温下、543gの鋼球を10cm高さから落下させる。その際の応力と時間は、上記ロードセルとNEC三栄社製AS2102型動ひずみ計、NEC三栄社製AP11−103型高速DCアンプ、NEC三栄社製RA1200型サーマルドットレコーダを接続して測定する。結果を表1に示す。
(Falling ball impact test)
A LC-20KNG702 compression type load cell (rated capacity 20 kN, rated output 1160 * 10 −6 strain) manufactured by Nikkei Denso Co., Ltd. is fixed on the stone table, and a sample obtained by cutting the filter into a 50 mm * 50 mm size at the center of the load cell Fix and drop 543g steel ball from 10cm height at room temperature. The stress and time at that time are measured by connecting the load cell to the NEC Seiei AS2102 dynamic strain meter, the NEC Sanei company AP11-103 high-speed DC amplifier, and the NEC Sanei company RA1200 thermal dot recorder. The results are shown in Table 1.

また、同じサンプルフィルムをプラズマディスプレイパネル(NEC製 PX−42VP1)上に固定し、543gの鋼球を10cmの高さから落下させてもPDPパネルは破損しない。  Moreover, even if the same sample film is fixed on a plasma display panel (PX-42VP1 manufactured by NEC) and a 543 g steel ball is dropped from a height of 10 cm, the PDP panel is not damaged.

比較26
EVAシートの代わりに商品名αジェル(ジェルテック製シリコーン系ゲル、厚み3mm、片面透明粘着剤付き)を用いた以外は比較25と同様にしてサンプルシートの作製と落球衝撃試験を行う。結果を表13に示す。
( Comparative Example 26 )
A sample sheet and a falling ball impact test are performed in the same manner as in Comparative Example 25 except that the trade name α-gel (Geltec silicone gel, 3 mm thick, with single-sided transparent adhesive) is used instead of the EVA sheet. The results are shown in Table 13.

(比較例27
EVA、αジェルの代りにPETシート(厚さ:2mm、ヤング率:900MPa)を用いたこと以外は、比較25と同様の方法でサンプルシートの作製と落球衝撃試験を行う。結果を表13に示す。
(Comparative Example 27 )
A sample sheet is prepared and a falling ball impact test is performed in the same manner as in Comparative Example 25 except that a PET sheet (thickness: 2 mm, Young's modulus: 900 MPa) is used instead of EVA and α gel. The results are shown in Table 13.

Figure 0003851633
Figure 0003851633

次にJIS−A硬度が異なる2種以上の層からなる積層体の落球衝撃試験評価を行った場合について述べる。  Next, a case where a falling ball impact test evaluation of a laminate composed of two or more layers having different JIS-A hardness is described.

(実施例
厚み1mmのαジェルと厚み0.23mmのEVAと積層体を貼り合わせたサンプルシートを用いた以外は、比較25と同様にして落球衝撃試験を行う。結果を表14に示す。
(Example 1 )
A falling ball impact test is performed in the same manner as in Comparative Example 25 except that a sample sheet in which an α gel having a thickness of 1 mm, EVA having a thickness of 0.23 mm, and a laminate are bonded is used. The results are shown in Table 14.

比較28
(スチレン系熱可塑性エラストマー(SEBS)シートの用意)
シェル社のスチレン系熱可塑性エラストマー(商品名:クレイトンG1657、JIS−A硬度:55、ヤング率:1.2MPa)ペレットを用い、押出し成形で、幅564mm、厚み0.36mm、0.54mm、1.02mmサイズのシートを作製する。これの片面に透明粘着層(色素無し、0.01mm)を貼り合わせる。
( Comparative Example 28 )
(Preparation of styrenic thermoplastic elastomer (SEBS) sheet)
Styrenic thermoplastic elastomer (trade name: Kraton G1657, JIS-A hardness: 55, Young's modulus: 1.2 MPa) pellets made by Shell Co., Ltd., extrusion molding, width 564 mm, thickness 0.36 mm, 0.54 mm, 1 Create a sheet of size 02 mm. A transparent adhesive layer (no pigment, 0.01 mm) is bonded to one side of this.

(貼り合わせ、落球衝撃試験)
厚み0.36mmのEVAシート、αジェルの代りに厚み0.93mmのSEBSを用いた以外は実施例と同様にして貼り合わせと落球衝撃試験を行った。結果を表14に示した。
(Bonding, falling ball impact test)
Bonding and a falling ball impact test were performed in the same manner as in Example 1 except that an EVA sheet having a thickness of 0.36 mm and SEBS having a thickness of 0.93 mm were used instead of α gel. The results are shown in Table 14.

比較29
EVAシート厚みを0.23mmとし、サイズを縦横各々50mmとし電極印刷を行わなかった以外は比較28と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
( Comparative Example 29 )
A sample sheet was produced in the same manner as in Comparative Example 28 except that the EVA sheet thickness was 0.23 mm, the size was 50 mm in each length and width, and electrode printing was not performed, and a falling ball impact test was performed. The results are shown in Table 14.

(実施例
EVAシート厚みを0.94mmとし、SEBSシートの代わりに商品名αジェル(ジェルテック製シリコーン系ゲル、50mm*50mm*0.3mmサイズ片面透明粘着剤付き、JIS−A硬度<10)を用いた以外は比較29と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
(Example 2 )
EVA sheet thickness was 0.94 mm, and trade name α gel (Geltec silicone gel, 50 mm * 50 mm * 0.3 mm size with single-sided transparent adhesive, JIS-A hardness <10) was used instead of SEBS sheet. A sample sheet was prepared in the same manner as in Comparative Example 29, and a falling ball impact test was performed. The results are shown in Table 14.

(実施例
EVAシート厚みを0.23mmとし、αジェルを厚み1mmとした以外は実施例と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
(Example 3 )
A sample sheet was prepared in the same manner as in Example 2 except that the EVA sheet thickness was 0.23 mm and the α gel thickness was 1 mm, and a falling ball impact test was performed. The results are shown in Table 14.

(実施例
EVAシート厚みを0.36mmとし、αジェルを厚み1mmとした以外は実施例と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
(Example 4 )
A sample sheet was prepared in the same manner as in Example 3 except that the EVA sheet thickness was 0.36 mm and the α gel thickness was 1 mm, and a falling ball impact test was performed. The results are shown in Table 14.

(実施例
EVAシートの代わりにSEBSシート(厚み0.36mm)を用いた以外は実施例と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
(Example 5 )
A sample sheet was produced in the same manner as in Example 4 except that a SEBS sheet (thickness 0.36 mm) was used instead of the EVA sheet, and a falling ball impact test was performed. The results are shown in Table 14.

(実施例
SEBSシートを厚み0.93mm、αジェルを0.3mmとした以外は実施例と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
(Example 6 )
A sample sheet was prepared in the same manner as in Example 5 except that the SEBS sheet was 0.93 mm thick and the α gel was 0.3 mm, and a falling ball impact test was performed. The results are shown in Table 14.

(実施例
(EVA/エチレンプロピレンターポリマ(EPT)共架橋物シートの準備)
EVAを40部、三井EPT(エチレン/プロピレン/エチリデンノルボルネン共重合体)を60重量部、シリカを25重量部、パラフィンオイルを27重量部に安定剤、シランカップリング剤、過酸化物、安定剤を添加して混練後、溶融プレス成形にて縦150mm、横150mm、厚み0.54mmと1.17mmのシートを得た(以後EVTと呼ぶ
、JIS−A硬度:64、ヤング率:1.2MPa)。JIS−A硬度はいずれも64であった。この片面に上記の粘着剤(色素無し、厚み0.01mm)を貼り付けた。
(Example 7 )
(Preparation of EVA / ethylene propylene terpolymer (EPT) co-crosslinked sheet)
40 parts EVA, 60 parts by weight Mitsui EPT (ethylene / propylene / ethylidene norbornene copolymer), 25 parts by weight silica, 27 parts by weight paraffin oil, stabilizer, silane coupling agent, peroxide, stabilizer After kneading and melt kneading, sheets having a length of 150 mm, a width of 150 mm, and thicknesses of 0.54 mm and 1.17 mm were obtained (hereinafter referred to as EVT, JIS-A hardness: 64, Young's modulus: 1.2 MPa) ). The JIS-A hardness was 64 in all cases. The pressure-sensitive adhesive (no pigment, thickness 0.01 mm) was attached to this one surface.

(落球衝撃試験)
SEBSの代りに厚み0.54mmのEVT、αジェル(ジェルテック製シリコーン系ゲル、50mm*50mm*0.5mmサイズ片面透明粘着剤付き、JIS−A硬度<10)を用いた以外は実施例と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
(Falling ball impact test)
Example 6 except that 0.54 mm thick EVT and α gel (Geltec silicone gel, 50 mm * 50 mm * 0.5 mm size with single-sided transparent adhesive, JIS-A hardness <10) was used instead of SEBS A sample sheet was prepared in the same manner as described above, and a falling ball impact test was performed. The results are shown in Table 14.

比較30
αジェルの代わりに厚み0.36mmのSEBSを用いた以外は実施例と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
( Comparative Example 30 )
A sample sheet was prepared in the same manner as in Example 7 except that SEBS having a thickness of 0.36 mm was used instead of α gel, and a falling ball impact test was performed. The results are shown in Table 14.

(実施例
SEBSの代りにαジェルを厚み0.54mmとした以外は比較30と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
(Example 8 )
A sample sheet was prepared in the same manner as in Comparative Example 30 except that the α gel thickness was changed to 0.54 mm instead of SEBS, and a falling ball impact test was performed. The results are shown in Table 14.

Figure 0003851633
Figure 0003851633

比較31
αゲルの厚みを0.5mm、EVAの厚みを0.36mmとした以外は実施例と同様にしてサンプルシートの作製、落球衝撃試験を行った。結果を表15に示した。
( Comparative Example 31 )
A sample sheet was prepared and a falling ball impact test was conducted in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the α gel was 0.5 mm and the thickness of the EVA was 0.36 mm. The results are shown in Table 15.

比較32
αゲルの厚みを0.5mm、SEBSの厚みを0.5mmとした以外は実施例と同様にしてサンプルシートの作製、落球衝撃試験を行った。結果を表15に示した。
( Comparative Example 32 )
A sample sheet was prepared and a falling ball impact test was conducted in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the α gel was 0.5 mm and the thickness of the SEBS was 0.5 mm. The results are shown in Table 15.

比較33
SEBSの厚みを0.45mm、EVTの厚みを0.45mmとした以外は実施例と同様にしてサンプルシートの作製、落球衝撃試験を行った。結果を表15に示した。
( Comparative Example 33 )
A sample sheet was prepared and a falling ball impact test was performed in the same manner as in Example 1 except that the thickness of SEBS was 0.45 mm and the thickness of EVT was 0.45 mm. The results are shown in Table 15.

Figure 0003851633
Figure 0003851633

以上の結果より、1層以上の衝撃緩和層を設けT/F値が200以上であればパネルの破損が起こらないことが分かる。  From the above results, it can be seen that if one or more impact relaxation layers are provided and the T / F value is 200 or more, the panel is not damaged.

本発明は、次の実施の形態が可能である。
(1)少なくとも透明粘着層と透明樹脂層とからなる厚みが3.5mm以下の積層体であって、
重量が530g〜550gの範囲にある鋼球を10cmの高さから落球させる落球衝撃試験における応力−時間曲線において、衝撃応力発生から第一のピークまでの間:T(μs)と
第一のピーク時の衝撃応力:F(kN)との間に、
T/F ≧ 200
の関係を満たすことを特徴とする積層体。
(2)衝撃吸収層をさらに含むことを特徴とする前記構成(1)記載の積層体。
The following embodiments are possible for the present invention.
(1) A laminate comprising at least a transparent adhesive layer and a transparent resin layer and having a thickness of 3.5 mm or less,
In the stress-time curve in the falling ball impact test in which a steel ball having a weight in the range of 530 g to 550 g is dropped from a height of 10 cm, from the impact stress generation to the first peak: T (μs) and the first peak Impact stress at time: F (kN),
T / F ≧ 200
A laminate characterized by satisfying the above relationship.
(2) The laminate according to the configuration (1), further comprising a shock absorbing layer.

(3)1層以上の透明粘着層と、
1層以上の透明樹脂層とを備えた積層体であって、下記の(I)〜(Iv)の少なくとも1つの要件を満たすことを特徴とする前記構成(1)記載の積層体。
(I)透明粘着層の少なくとも1層のヤング率が1×10〜1×10Pa、厚みが10〜500μmである。
(II)透明樹脂層の少なくとも1層のヤング率が1×10〜1×10Pa、厚みが10〜3000μmである。
(III) 衝撃吸収層を含み、衝撃吸収層の少なくとも1層の針入度が50〜200である。
(IV)透明樹脂層および/または衝撃吸収層を合計2層以上有し、JIS−A硬度の比が1.1以上の関係にある2層が存在する。
(3) one or more transparent adhesive layers;
A laminate comprising one or more transparent resin layers, wherein the laminate according to the configuration (1) satisfies at least one of the following (I) to (Iv).
(I) The Young's modulus of at least one layer of the transparent adhesive layer is 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa, and the thickness is 10 to 500 μm.
(II) The Young's modulus of at least one of the transparent resin layers is 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa, and the thickness is 10 to 3000 μm.
(III) An impact absorbing layer is included, and the penetration of at least one of the impact absorbing layers is 50 to 200.
(IV) There are two layers having a total of two or more transparent resin layers and / or shock absorbing layers, and a JIS-A hardness ratio of 1.1 or more.

(4)透明粘着層が、アクリル樹脂またはシリコン樹脂を主成分とすることを特徴とする前記構成(3)記載の積層体。  (4) The laminate according to the constitution (3), wherein the transparent adhesive layer contains an acrylic resin or a silicon resin as a main component.

(5)透明樹脂層が、ポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリウレタン、および透明性を有するエラストマから選ばれる1種以上を含むことを特徴とする前記構成(3)記載の積層体。  (5) The constitution (3), wherein the transparent resin layer comprises at least one selected from polyester resin, polypropylene resin, ethylene vinyl acetate copolymer, polyethylene, polystyrene, polyurethane, and transparent elastomer. ) The laminate described.

(6)衝撃吸収層が、シリコーン系ゲルを含むことを特徴とする前記構成(3)記載の積層体。  (6) The laminate according to the configuration (3), wherein the shock absorbing layer contains a silicone gel.

(7)透明樹脂層、衝撃吸収層のJIS−A硬度が0〜98であることを特徴とする前記構成(3)記載の積層体。  (7) The laminated body according to the constitution (3), wherein the transparent resin layer and the shock absorbing layer have a JIS-A hardness of 0 to 98.

(8)透明樹脂層のうち少なくとも1層が、0.01〜30Ω/□の面抵抗を有する透明導電層または金属メッシュ層を含むことを特徴とする前記構成(1)記載の積層体。  (8) The laminate according to (1), wherein at least one of the transparent resin layers includes a transparent conductive layer or a metal mesh layer having a surface resistance of 0.01 to 30 Ω / □.

(9)透明樹脂層のうち少なくとも1層が、反射防止機能、防眩機能、防汚機能、静電防止機能、偏光機能、および位相差形成機能から選ばれる少なくとも1つの機能を有することを特徴とする前記構成(1)記載の積層体。  (9) At least one of the transparent resin layers has at least one function selected from an antireflection function, an antiglare function, an antifouling function, an antistatic function, a polarizing function, and a retardation forming function. The laminate according to the configuration (1).

(10)透明樹脂層は、電磁波の全領域、近赤外線領域および可視光領域のうち少なくとも1つ電磁波をフィルタリングするフィルタ機能を有することを特徴とする前記構成(1)記載の積層体。  (10) The laminate according to the configuration (1), wherein the transparent resin layer has a filter function of filtering at least one of the electromagnetic wave, the near infrared region, and the visible light region.

(11)前記構成(1)記載の積層体をディスプレイ視認面に設けたことを特徴する表示装置。  (11) A display device comprising the laminate according to the configuration (1) provided on a display viewing surface.

本発明は、その精神または主要な特徴から逸脱することなく、他のいろいろな形で実施することができる。したがって、前述の実施形態は、あらゆる点で単なる例示に過ぎず、本発明の範囲は、請求の範囲に示すものであって、明細書本文には何ら拘束されない。  The present invention can be implemented in various other forms without departing from the spirit or main features thereof. Accordingly, the above-described embodiment is merely an example in all respects, and the scope of the present invention is shown in the claims, and is not limited to the text of the specification.

さらに、請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、すべて本発明の範囲内のものである。  Further, all modifications and changes belonging to the equivalent scope of the claims are within the scope of the present invention.

透明導電膜の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of a transparent conductive film. 本発明に係る積層体をPDPに装備した状態の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the state equipped with the laminated body which concerns on this invention in PDP. 本発明に係る積層体をPDPに装備した状態の他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of the state equipped with the laminated body which concerns on this invention in PDP. 本発明に係る積層体をOELDに装備した状態の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the state which equipped the laminated body which concerns on this invention to OELD. 本発明に係る積層体をPDPに装備した状態のさらに他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the further another example of the state equipped with the laminated body which concerns on this invention in PDP. 本発明に係る積層体をPDPに装備した状態のさらに他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the further another example of the state equipped with the laminated body which concerns on this invention in PDP. 本発明に係る積層体をOELDに装備した状態の他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of the state equipped with the laminated body which concerns on this invention in OELD. 本発明に係る積層体をPDPに装備した状態のさらに他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the further another example of the state equipped with the laminated body which concerns on this invention in PDP. 本発明に係る積層体をPDPに装備した状態のさらに他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the further another example of the state equipped with the laminated body which concerns on this invention in PDP. 本発明に係る積層体をPDPに装備した状態のさらに他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the further another example of the state equipped with the laminated body which concerns on this invention in PDP. 本発明に係る積層体をOELDに装備した状態のさらに他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the further another example of the state equipped with the laminated body which concerns on this invention in OELD.

符号の説明Explanation of symbols

10 透明高分子フィルム
20 高屈折率薄膜層
30 金属薄膜層
40 プラズマディスプレイパネル
50 低い弾性に特徴づけられた透明粘着層
60 透明導電層
70 透明粘着層
80 透明高分子フィルム
90 反射防止層
100 電極
140 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Transparent polymer film 20 High refractive index thin film layer 30 Metal thin film layer 40 Plasma display panel 50 Transparent adhesive layer 60 characterized by low elasticity Transparent conductive layer 70 Transparent adhesive layer 80 Transparent polymer film 90 Antireflection layer 100 Electrode 140 Organic electroluminescence display

Claims (9)

1層以上の透明粘着層と、
1層以上の透明樹脂層と
シリコーン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン、およびアクリルから選ばれる1種以上のゲルを含み、少なくとも1層の針入度が50〜200である衝撃吸収層とを備えることを特徴とする積層体。
One or more transparent adhesive layers;
One or more transparent resin layers ;
A laminate comprising one or more types of gels selected from silicone, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyurethane, and acrylic, and an impact absorbing layer having a penetration of 50 to 200 in at least one layer .
1層以上の透明粘着層と、
1層以上の透明樹脂層であって、ポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリウレタン、および透明性を有するエラストマから選ばれる1種以上を含み、少なくとも1層のヤング率が1×10 〜1×10 Pa、厚みが10〜3000μmである透明樹脂層と、
シリコーン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン、およびアクリルから選ばれる1種以上のゲルを含み、少なくとも1層の針入度が50〜200である衝撃吸収層とを備え、
透明樹脂層と衝撃吸収層とのJIS−A硬度の比が1.1以上の関係にある2層が存在することを特徴とする積層体。
One or more transparent adhesive layers;
One or more transparent resin layers , including at least one layer selected from polyester resin, polypropylene resin, ethylene vinyl acetate copolymer, polyethylene, polystyrene, polyurethane, and transparent elastomer, and at least one layer of Young A transparent resin layer having a rate of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa and a thickness of 10 to 3000 μm;
Including one or more kinds of gels selected from silicone, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyurethane, and acrylic, and an impact absorbing layer having a penetration of 50 to 200 of at least one layer,
A laminate comprising two layers having a JIS-A hardness ratio of 1.1 or more between a transparent resin layer and a shock absorbing layer .
1層以上の透明粘着層であって、アクリル樹脂またはシリコーン樹脂を主成分とし、少なくとも1層のヤング率が1×10 〜1×10 Pa、厚みが10〜500μmである透明粘着層と、
1層以上の透明樹脂層であって、ポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリウレタン、および透明性を有するエラストマから選ばれる1種以上を含み、少なくとも1層のヤング率が1×10 〜1×10 Pa、厚みが10〜3000μmである透明樹脂層と、
シリコーン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン、およびアクリルから選ばれる1種以上のゲルを含み、少なくとも1層の針入度が50〜200である衝撃吸収層とを備えることを特徴とする積層体。
A transparent adhesive layer having one or more transparent adhesive layers, the main component of which is an acrylic resin or silicone resin, the Young's modulus of at least one layer being 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa, and the thickness being 10 to 500 μm; ,
1 or more transparent resin layers comprising at least one layer selected from polyester resin, polypropylene resin, ethylene vinyl acetate copolymer, polyethylene, polystyrene, polyurethane, and transparent elastomer, and at least one layer of Young A transparent resin layer having a rate of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa and a thickness of 10 to 3000 μm;
Silicone, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyurethane, and comprises one or more gel selected from acrylic, the product layer you anda shock absorbing layer is a penetration 50 to 200 at least one layer body.
1層以上の透明粘着層であって、アクリル樹脂またはシリコーン樹脂を主成分とし、少なくとも1層のヤング率が1×10 〜1×10 Pa、厚みが10〜500μmである透明粘着層と、
1層以上の透明樹脂層であって、ポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリウレタン、および透明性を有するエラストマから選ばれる1種以上を含み、少なくとも1層のヤング率が1×10 〜1×10 Pa、厚みが10〜3000μmである透明樹脂層と、
シリコーン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン、およびアクリルから選ばれる1種以上のゲルを含み、少なくとも1層の針入度が50〜200である衝撃吸収層とを備え、
透明樹脂層と衝撃吸収層とのJIS−A硬度の比が1.1以上の関係にある2層が存在することを特徴とする積層体。
A transparent adhesive layer having one or more transparent adhesive layers, the main component of which is an acrylic resin or silicone resin, the Young's modulus of at least one layer being 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa, and the thickness being 10 to 500 μm; ,
1 or more transparent resin layers comprising at least one layer selected from polyester resin, polypropylene resin, ethylene vinyl acetate copolymer, polyethylene, polystyrene, polyurethane, and transparent elastomer, and at least one layer of Young A transparent resin layer having a rate of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa and a thickness of 10 to 3000 μm;
Including one or more kinds of gels selected from silicone, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyurethane, and acrylic, and an impact absorbing layer having a penetration of 50 to 200 of at least one layer,
You characterized in that the two layers are present in the JIS-A ratio is 1.1 or more relationships hardness between the transparent resin layer and the shock absorbing layer product Sotai.
透明樹脂層のうち少なくとも1層が、0.01〜30Ω/□の面抵抗を有する透明導電層または金属メッシュ層を含むことを特徴とする請求項1〜4のうちの1つに記載の積層体。 At least one layer of the transparent resin layer is laminated according to one of claims 1-4, characterized in that it comprises a transparent conductive layer or a metal mesh layer having a surface resistance of 0.01~30Ω / □ body. 透明樹脂層のうち少なくとも1層が、反射防止機能、防眩機能、防汚機能、静電防止機能、偏光機能、および位相差形成機能から選ばれる少なくとも1つの機能を有することを特徴とする請求項1〜5のうちの1つに記載の積層体。 At least one of the transparent resin layers has at least one function selected from an antireflection function, an antiglare function, an antifouling function, an antistatic function, a polarizing function, and a retardation forming function. Item 6. The laminate according to any one of Items 1 to 5 . 透明樹脂層は、電磁波の全領域、近赤外線領域および可視光領域のうち少なくとも1つの電磁波をフィルタリングするフィルタ機能を有することを特徴とする請求項1〜6のうちの1つに記載の積層体。 Transparent resin layer, the total area of the electromagnetic wave, the laminated body according to one of claims 1 to 6, characterized in that it has a filter function for filtering at least one electromagnetic wave of the near infrared region and the visible light region . 請求項1〜7のうちの1つに記載の積層体をディスプレイ視認面に設けたことを特徴する表示装置。A display device comprising the laminate according to claim 1 provided on a display viewing surface. ディスプレイ視認面に設けられるディスプレイ用フィルタであって、請求項1〜7のうちの1つに記載の積層体を有し、厚みが3.5mm以下であり、重量が530g以上550g以下の範囲にある鋼球を10cmの高さから落球させる落球衝撃試験における応力一時間曲線において、衝撃応力発生から第一のピークまでの間:T(μs)と、第1のピーク時の衝撃応力:F(kN)との間に、A display filter provided on a display viewing surface, comprising the laminate according to claim 1, having a thickness of 3.5 mm or less, and a weight in a range of 530 g to 550 g. In the stress hour curve in a ball drop impact test in which a steel ball falls from a height of 10 cm, T (μs) from the generation of the impact stress to the first peak: and the impact stress at the first peak: F ( kN),
T/F ≧ 200T / F ≧ 200
の関係を満たすことを特徴とするディスプレイ用フィルタ。A display filter characterized by satisfying the relationship of
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