JP2004181975A - Laminate and display device using it - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate which can easily attain a safety standards such as a shock resistance keeping cost-reduction in the case of providing it on the visual inspection surface of the display, and a display using it. <P>SOLUTION: The shock resistance is improved by using a filter for the display which has a specific parameter and specific thickness. The resistance is improved by using a filter for the display which has a specific Young's modulus and a transparent adhesive layer with specific thickness. The resistance is improved by using a filter for the display which has a specific Young's modulus and a transparent resin layer with specific thickness. The resistance is improved by using a filter of the display which has a specific penetration and a shock absorbing layer with specific thickness. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

本発明は、たとえばプラズマディスプレイ(PDP)、ブラウン管(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、有機ELディスプレイ(OELD)、フィールドエミッションディスプレイ等のディスプレイの画面上に設置した場合、機械的強度の補強、破損に対する保護、電磁波の遮蔽、近赤外線の遮蔽、色調の変更などの機能を付与できる積層体およびこれを用いた表示装置に関する。  When the present invention is installed on a screen of a display such as a plasma display (PDP), a cathode ray tube (CRT), a liquid crystal display (LCD), an organic EL display (OELD), and a field emission display, the mechanical strength is strengthened or broken. The present invention relates to a laminate capable of imparting functions such as protection against electromagnetic waves, shielding of electromagnetic waves, shielding of near-infrared rays, change of color tone, and a display device using the same.

近年、社会が高度化するに従って、光エレクトロニクス関連部品、機器は著しく進歩している。その中で、画像を表示するディスプレイは、従来のテレビジョン装置用に加えて、コンピュータモニタ装置および情報端末装置用途にめざましく普及しつつある。その中でディスプレイの大型かつ薄型化、または携帯用途を目的とした小型かつ軽量化に対する市場の要求は高まる一方である。  2. Description of the Related Art In recent years, as society has become more sophisticated, optoelectronics-related components and devices have been significantly advanced. Among them, displays for displaying images have been remarkably popular in computer monitor devices and information terminal devices in addition to conventional television devices. Among them, the market demand for a large and thin display or a small and lightweight display for portable use is increasing.

ディスプレイの大型化および携帯用途を目的とした小型化を推し進めることにより安全性に対する問題が浮上する。  Pushing the size of displays and downsizing for portable applications raises safety concerns.

ディスプレイの視認面は通常ガラス板でできている。ガラス板はその面積が大きくなればなるほど外部からの衝撃を受けて割れやすくなる。また携帯して外部で持ち歩くことが多くなるほど外部からの衝撃を受ける機会が増加し、割れ易くなる。  The viewing surface of the display is usually made of a glass plate. The larger the area of the glass plate, the more easily the glass plate is broken by an external impact. Also, the more the user carries the device outside and carries it, the greater the chance of receiving an external impact increases, and the more easily the device is broken.

外部からの衝撃に対するディスプレイの安全性については、以下の通り、電気用品取締り法によって規制されている。  The safety of displays against external impacts is regulated by the Electrical Appliance and Material Control Law as follows.

例えば、ブラウン管の保護に関しては、最大部直径(角型の場合は、対角線長)の公称寸法が160mmを超えるブラウン管を有するものにあっては、ブラウン管をキャビネットに正常に取りつけた状態で、プラウン管の前面に、直径が50mm、重量が500gの剛球を高さ1400mmから振り子状に落としたときに、以下に適合する必要がある。すなわち(1)保護板が貼り合せガラスまたは合成樹脂のものにあっては、前面に破片が飛び散らないこと、(2)保護板が補強ガラスのものにあっては、ひび、割れその他の異常を生じないこと、(3)保護板を有しないものにあっては、前面に破片が飛び散らないこと、である。  For example, regarding protection of a cathode ray tube, for a cathode ray tube having a cathode ray tube having a nominal maximum diameter (diagonal length in the case of a square shape) of more than 160 mm, the cathode ray tube is normally mounted on a cabinet, and the cathode ray tube is mounted. When a hard sphere having a diameter of 50 mm and a weight of 500 g is dropped in a pendulum shape from a height of 1400 mm on the front surface of the device, the following must be satisfied. That is, (1) when the protection plate is made of laminated glass or synthetic resin, the fragments are not scattered on the front surface. (2) When the protection plate is made of reinforced glass, cracks, cracks and other abnormalities are caused. (3) In the case where the protective plate is not provided, debris does not scatter on the front surface.

ブラウン管の機械的強度に関しては、最大部直径(角型の場合は、対角線長)の公称寸法が160mmを超えるブラウン管を有するものにあっては、ブラウン管(保護板を有するものにあっては、保護板を含む。)を機械的方法または熱衝撃法により破壊したとき、ブラウン管の前方900mmおよび1500mmに設けた障壁間に飛散したガラスの破片の重量は、単片で15g以下、総重量で45g以下であり、かつ、重量が1gを越える破片は、ブラウン管前方1500mmに設けた障壁を超えて飛ばないこと、である。  Regarding the mechanical strength of the CRT, if the CRT has a nominal diameter of the maximum diameter (diagonal length in the case of a square type) exceeding 160 mm, the CRT has a protection plate. When the glass was broken by a mechanical method or a thermal shock method, the weight of glass fragments scattered between barriers provided at 900 mm and 1500 mm in front of the CRT was 15 g or less in a single piece, and 45 g or less in total weight. And fragments that weigh more than 1 g do not fly over the barrier provided at 1500 mm in front of the CRT.

機械的強度の加え方に関しては、例えばUL(Underwriters Laboratories Inc.)規格の中により具体的に規定されている。一例としては落下試験が挙げられる。この試験では表示素子を板の上に750mmの高さから落下させる。板は、厚み20mmの堅木の板である。厚み20mmの板を2枚併せて得られた、合せ板をコンクリート上に設置し、その上に該板を設置する。  The method of adding mechanical strength is more specifically defined, for example, in the UL (Underwriters Laboratories Inc.) standard. One example is a drop test. In this test, the display element is dropped on a plate from a height of 750 mm. The board is a 20 mm thick hardwood board. A laminated plate obtained by combining two 20 mm-thick plates is placed on concrete, and the plates are placed thereon.

大型かつ薄型化を実現することができるディスプレイとしては、従来から存在する液晶ディスプレイ(LCD)に加え、最近ではプラズマディスプレイパネル(PDP)が注目を集めており、次世代の大型ディスプレイとして期待されている。  As displays that can be made large and thin, plasma display panels (PDPs) have recently attracted attention in addition to existing liquid crystal displays (LCDs), and are expected to be the next-generation large displays. I have.

PDPは、通常、その視認面に光学フィルタを備えている。この光学フィルタは、PDP本体から発生する電磁波および近赤外線を遮断する目的で用いられる。また、その光学フィルタはPDP本体の発光色を好ましい色調に変更する機能を併せ持つ場合が多い。  A PDP usually has an optical filter on its viewing surface. This optical filter is used for the purpose of blocking electromagnetic waves and near infrared rays generated from the PDP main body. In addition, the optical filter often has a function of changing the emission color of the PDP body to a preferable color tone.

光学フィルタは、ガラス板または樹脂板からなる透明支持基体に機能を付与したものである。これまでのPDPは、光学フィルタの透明支持基体が前面保護板としての機能を有しているので、電気取締り法で定められている安全性基準を容易に達成できる。  The optical filter is obtained by adding a function to a transparent support substrate made of a glass plate or a resin plate. In the conventional PDP, the transparent support base of the optical filter has a function as a front protective plate, and thus can easily achieve the safety standard defined by the Electricity Control Law.

しかし、PDPを市場に普及させるために、製造コストを大幅に低下させる必要性がある。その光学フィルタについてもコスト低減が要求され、透明支持基体の材料コスト、枚葉方式による製造コストなどが検討事項となる。  However, there is a need to significantly reduce manufacturing costs in order to spread the PDP to the market. Cost reduction is also required for the optical filter, and the material cost of the transparent support base, the manufacturing cost by the single-wafer method, and the like are considered.

一方、液晶ディスプレイ(LCD)は、通常、視認面に偏光板、位相差板および反射防止機能を有するフィルム等を備えている。これらが実質的にディスプレイ保護機能を有するので、これまでのLCDは電気取締り法で定められている安全基準を容易に達成できる。  On the other hand, a liquid crystal display (LCD) usually includes a polarizing plate, a retardation plate, a film having an antireflection function, and the like on a viewing surface. Since they substantially have a display protection function, conventional LCDs can easily achieve the safety standards set by the Electricity Control Law.

LCDの画面サイズは20インチまでが一般的であるが、ディスプレイの大型化に対する市場要求が急拡大しているため、LCDのさらなる大型化が図られている。しかし、基板となるガラスのサイズが大きくなればなるほど割れ易くなり、これまでの手法のままでは、ディスプレイが電気取締り法等で規定される安全性基準を満たすことが困難となってきている。  The screen size of the LCD is generally up to 20 inches, but the market demand for a larger display is rapidly expanding, and thus the LCD is being made larger. However, as the size of the glass serving as the substrate becomes larger, the glass is more likely to break, and it is difficult for the display to satisfy the safety standards specified by the Electricity Control Law or the like using the conventional methods.

小型携帯端末用途のLCDは、頻繁に持ち歩くことを想定しているため、落としたり、ぶつけたりすることによって外部から衝撃を受ける機会が多い。これらは、視認面に設けられた偏光板および反射防止機能フィルムが有する保護機能によって、ある一定の大きさの衝撃に対する耐久性は有しているが、不十分である。実際、携帯端末メーカーが、ユーザーから受ける苦情の大部分は、LCDが割れるという現象に起因している。  Since the LCD for small portable terminals is assumed to be frequently carried around, there are many opportunities to receive an external impact by dropping or hitting the LCD. Although these have durability against a certain magnitude of impact due to the protective function of the polarizing plate and the antireflection function film provided on the viewing surface, they are insufficient. In fact, most of the complaints received by mobile terminal manufacturers from users are caused by the phenomenon that the LCD is cracked.

有機ELディスプレイ(OELD)およびフィールドエミッションディスプレイ(FED)に関しても、LCDの場合と同様、大型化を図るとガラス基板が割れ易くなるため、電気取締り法に規定された安全基準を満たすことが難しい。小型携帯端末用途においても衝撃による破損や割れが問題になる。特にOELD、FEDの場合は、LCDが有していた偏光板および位相差板を持たないため、実質的保護部材が減少しており、LCDに比べてガラス基板が割れ易い。  As for the organic EL display (OELD) and the field emission display (FED), similarly to the case of the LCD, if the size is increased, the glass substrate is liable to be broken, so that it is difficult to satisfy the safety standards specified in the Electricity Control Law. Breakage and cracking due to impact also become a problem for small portable terminals. In particular, in the case of OELD and FED, since the LCD does not have the polarizing plate and the retardation plate, the number of protective members is substantially reduced, and the glass substrate is more easily broken than the LCD.

本発明の目的は、コスト低減を図りつつ、たとえばディスプレイ視認面に設置した場合、耐衝撃性などの安全基準を容易に達成できる積層体およびこれを用いた表示装置を提供することである。  An object of the present invention is to provide a laminate that can easily achieve safety standards such as impact resistance when installed on a display viewing surface while reducing costs, and a display device using the same.

本発明者らは上記の課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、
特定の衝撃試験で得られるパラメータが特定の範囲を有する積層体、および
透明粘着層と透明樹脂層と必要に応じて衝撃吸収層からなる積層体で、
透明粘着層のヤング率が特定の範囲にある、
透明樹脂層のヤング率が特定の範囲にある、
衝撃吸収層の針入度が特定の範囲にある、
のうちの少なくとも1つの要件を満たす積層体、
が、本発明における課題を解決することができるとの知見を得、本発明を完成した。
The present inventors have conducted intensive research to solve the above problems,
In a laminate having parameters obtained in a specific impact test having a specific range, and a laminate including a transparent adhesive layer, a transparent resin layer, and an impact absorption layer as needed,
The Young's modulus of the transparent adhesive layer is in a specific range,
The Young's modulus of the transparent resin layer is in a specific range,
The penetration of the shock absorbing layer is in a specific range,
A laminate that meets at least one of the requirements of:
However, they have found that the problem in the present invention can be solved, and have completed the present invention.

すなわち、本発明の課題は以下に示される事項により特定される発明によって解決することができる。  That is, the object of the present invention can be solved by the invention specified by the following matters.

本発明は、1層以上の透明粘着層と、
1層以上の透明樹脂層とを備えた積層体であって、
(I)透明粘着層の少なくとも1層のヤング率が1×10〜1×10Pa、厚みが10〜500μmである、
(II)透明樹脂層の少なくとも1層のヤング率が1×10〜1×10Pa、厚みが10〜3000μmである、
(III)衝撃吸収層を含み、衝撃吸収層の少なくとも1層の針入度が50〜200である、
のうちの少なくとも1つの要件を満たすことを特徴とする積層体である。
The present invention includes one or more transparent adhesive layers,
A laminate comprising at least one transparent resin layer,
(I) at least one layer of the transparent adhesive layer has a Young's modulus of 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa and a thickness of 10 to 500 μm;
(II) at least one layer of the transparent resin layer has a Young's modulus of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa and a thickness of 10 to 3000 μm;
(III) a shock absorbing layer, wherein at least one of the shock absorbing layers has a penetration of 50 to 200;
Characterized by satisfying at least one of the following requirements.

また本発明は、1層以上の透明粘着層と、
1層以上の透明樹脂層とを備えた積層体であって、
(I)透明粘着層の少なくとも1層のヤング率が1×10〜1×10Pa、厚みが10〜500μmである、
(II)透明樹脂層の少なくとも1層のヤング率が1×10〜1×10Pa、厚みが10〜3000μmである、
(III)衝撃吸収層を含み、衝撃吸収層の少なくとも1層の針入度が50〜200である、および
(IV)透明樹脂層および/または衝撃吸収層を合計2層以上有し、JIS−A硬度の比が1.1以上の関係にある2層が存在する、
のうちの少なくとも1つの要件を満たすことを特徴とする積層体である。
The present invention also includes one or more transparent adhesive layers,
A laminate comprising at least one transparent resin layer,
(I) at least one layer of the transparent adhesive layer has a Young's modulus of 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa and a thickness of 10 to 500 μm;
(II) at least one layer of the transparent resin layer has a Young's modulus of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa and a thickness of 10 to 3000 μm;
(III) a shock-absorbing layer, wherein at least one of the shock-absorbing layers has a penetration of 50 to 200, and (IV) a transparent resin layer and / or a shock-absorbing layer having a total of two or more layers. There are two layers having a relationship of A hardness of 1.1 or more,
Characterized by satisfying at least one of the following requirements.

本発明は、透明粘着層が、アクリル樹脂またはシリコン樹脂を主成分とすることを特徴とする。  The present invention is characterized in that the transparent adhesive layer has an acrylic resin or a silicone resin as a main component.

本発明は、透明粘着層が、ポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリウレタン、および透明性を有するエラストマから選ばれる1種以上を含むことを特徴とする。
本発明は、衝撃吸収層が、シリコーン系ゲルを含むことを特徴とする。
The present invention is characterized in that the transparent adhesive layer contains at least one selected from a polyester resin, a polypropylene resin, an ethylene-vinyl acetate copolymer, polyethylene, polystyrene, a polyurethane, and a transparent elastomer.
The present invention is characterized in that the shock absorbing layer contains a silicone-based gel.

本発明は、透明樹脂層のうち少なくとも1層が、0.01〜30Ω/□の面抵抗を有する透明導電層または金属メッシュ層を含むことを特徴とする。  The present invention is characterized in that at least one of the transparent resin layers includes a transparent conductive layer or a metal mesh layer having a sheet resistance of 0.01 to 30 Ω / □.

本発明は、透明樹脂層のうち少なくとも1層が、反射防止機能、防眩機能、防汚機能、静電防止機能、偏光機能、および位相差形成機能から選ばれる少なくとも1つの機能を有することを特徴とする。  The present invention provides that at least one of the transparent resin layers has at least one function selected from an antireflection function, an antiglare function, an antifouling function, an antistatic function, a polarizing function, and a phase difference forming function. Features.

本発明は、透明樹脂層が、電磁波の全領域、近赤外線領域および可視光領域のうち少なくとも1つ電磁波をフィルタリングするフィルタ機能を有することを特徴とする。  The present invention is characterized in that the transparent resin layer has a filter function of filtering at least one electromagnetic wave of the whole region of the electromagnetic wave, the near infrared region, and the visible light region.

本発明は、上述の積層体をディスプレイ視認面に設けたことを特徴する表示装置である。  The present invention is a display device characterized in that the above-mentioned laminate is provided on a display viewing surface.

以上詳説したように、本発明によれば、コスト低減が図られ、たとえばディスプレイ視認面に設置した場合、耐衝撃性などの安全基準を容易に達成できる。その結果、優れた耐衝撃性を有する大型表示装置または小型携帯端末用表示装置を低コストで実現できる。  As described in detail above, according to the present invention, the cost can be reduced, and when installed on the display viewing surface, safety standards such as impact resistance can be easily achieved. As a result, a large display device or a small portable terminal display device having excellent impact resistance can be realized at low cost.

以下、添付図面を参照して、本発明に従う積層体およびそれを用いた表示装置の好適な実施形態について説明する。  Hereinafter, preferred embodiments of a laminate according to the present invention and a display device using the same will be described with reference to the accompanying drawings.

第1の積層体は、透明粘着層と、透明樹脂層と、必要に応じて衝撃吸収層とから形成され、重量が530g〜550gの範囲内にある鋼球を10cm高さから落球させる落球衝撃試験によって評価される。本発明のディスプレイ用フィルタは上記衝撃試験によって得られる応力−時間曲線において衝撃応力発生から第1のピークまでの時間:T(μs)と、第1のピーク時の衝撃応力:F(kN)との間に、
T/F ≧ 200
を満たしている。測定は、ストーンテーブル等の硬く安定な水平面上に日計電測製LC−20KNG702圧縮型ロードセル(定格容量20kN、定格出力1160*10−6strain)を固定し、ロードセル上中央部に5cm角のサンプルフィルムを固定し、室温下、530〜550gの鋼球を10cm高さから落下させて行う。その際の応力と時間とは、上記ロードセルとNEC三栄社製AS2102型動ひずみ計と、NEC三栄社製AP11−103型高速DCアンプと、NEC三栄社製RA1200型サーマルドットレコーダとを接続して測定する。
The first laminate is formed of a transparent adhesive layer, a transparent resin layer, and, if necessary, an impact absorbing layer, and a steel ball having a weight in the range of 530 g to 550 g is dropped from a height of 10 cm. Assessed by test. The display filter according to the present invention has a stress-time curve obtained by the above-described impact test, in which the time from the occurrence of the impact stress to the first peak: T (μs) and the impact stress at the first peak: F (kN). Between,
T / F ≧ 200
Meets. For the measurement, a Nikkei Denso LC-20KNG702 compression-type load cell (rated capacity 20 kN, rated output 1160 * 10 -6 strain) was fixed on a hard and stable horizontal surface such as a stone table, and a 5 cm square was placed at the center on the load cell. The sample film is fixed, and 530 to 550 g of steel balls are dropped from a height of 10 cm at room temperature. The stress and time at that time were determined by connecting the load cell, the AS2102 type dynamic strain meter manufactured by NEC Sanei, the AP11-103 type high-speed DC amplifier manufactured by NEC Sanei, and the RA1200 thermal dot recorder manufactured by NEC Sanei. Measure.

通常、耐衝撃性を高めるには衝撃応力を低減することが大きな要因であると考えられるが、応力だけでなく衝撃の発生時間も考慮した前記「T/F」値も、耐衝撃性を評価する重要なパラメータである。  In general, it is considered that reducing impact stress is a major factor in improving impact resistance. However, not only the stress but also the “T / F” value, which takes into account the impact generation time, evaluates the impact resistance. Is an important parameter.

本発明の前記耐衝撃性パラメータ「T/F」値は200以上、好ましくは230以上、より好ましくは250以上である。  The value of the impact resistance parameter “T / F” of the present invention is 200 or more, preferably 230 or more, more preferably 250 or more.

前記「T/F」値が200未満となると、後述するPDPパネル等の表示部材に装着使用する際に該部材が破損する可能性が高まり、実用上好ましくない場合がある。また上記条件を満たす積層体は非常に高い耐衝撃性を有しており、前述の電気用品取締法やUL規格にも適合する。  If the “T / F” value is less than 200, the possibility of damage of the member when mounted on a display member such as a PDP panel, which will be described later, increases, which may not be practically preferable. Further, the laminate satisfying the above conditions has extremely high impact resistance, and conforms to the above-mentioned Electrical Appliance and Material Control Law and UL standards.

本発明の第2の積層体は、透明粘着層と、透明樹脂層と、必要に応じて衝撃吸収層とからなり、
(I)透明粘着層の少なくとも1層のヤング率が1×10〜1×10Pa、厚みが10〜500μmである、
(II)透明樹脂層の少なくとも1層のヤング率が1×10〜1×10Pa、厚みが10〜3000μmである、
(III)衝撃吸収層の少なくとも1層の針入度が50〜200である、
の少なくとも1つの要件を満たしている。
The second laminate of the present invention comprises a transparent adhesive layer, a transparent resin layer, and, if necessary, a shock absorbing layer,
(I) at least one layer of the transparent adhesive layer has a Young's modulus of 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa and a thickness of 10 to 500 μm;
(II) at least one layer of the transparent resin layer has a Young's modulus of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa and a thickness of 10 to 3000 μm;
(III) at least one of the shock absorbing layers has a penetration of 50 to 200;
At least one requirement is satisfied.

以下、第1、第2の積層体の各層に関して詳しく説明する。
(透明粘着層)
透明粘着層のヤング率は1×10〜1×10Paの範囲が好ましく、透明粘着層の厚みは10〜500μmの範囲が好ましい。
Hereinafter, each layer of the first and second laminates will be described in detail.
(Transparent adhesive layer)
The transparent adhesive layer has a Young's modulus of preferably 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa, and the transparent adhesive layer has a thickness of preferably 10 to 500 μm.

透明粘着層は低い弾性を有するため、表示素子に衝撃が加わったとき、視認面のガラスへの衝撃を緩和でき、割れたガラスの飛散を防止できる。  Since the transparent adhesive layer has low elasticity, when an impact is applied to the display element, the impact on the glass on the viewing surface can be reduced, and scattering of the broken glass can be prevented.

該透明粘着層が、外部からの衝撃を吸収し、視認面へ伝えないようにするためには、該透明粘着層が外部からの衝撃によって、変形し、衝撃力を緩和し、打ち消すようにすればよいと考えられる。そのためには、透明粘着層の弾性をできるだけ低くすればよいと考えられる。  In order for the transparent pressure-sensitive adhesive layer to absorb an external impact and prevent transmission to the visual recognition surface, the transparent pressure-sensitive adhesive layer is deformed by the external impact, so that the impact force is reduced and counteracted. It is considered good. It is considered that the elasticity of the transparent adhesive layer should be made as low as possible.

また、割れたガラスが飛散することを防止するためには、ガラス片が透明粘着層との間に有している密着力を超えて、ガラスが飛び出そうとしないようにすれば良いと考えられる。そのためには粘着剤自体が変形し、ガラス片が飛び出そうとする力を吸収し、打ち消すようにすれば良いと考えられる。この点からも透明粘着層の弾性をできるだけ低くすればよいと考えられる。  In addition, in order to prevent the broken glass from scattering, it is considered that the glass piece should not exceed the adhesive force that the glass piece has with the transparent adhesive layer so that the glass does not try to fly out. . For that purpose, it is considered that the adhesive itself deforms and absorbs the force of the glass piece trying to fly out and cancels out. From this point as well, it is considered that the elasticity of the transparent adhesive layer should be made as low as possible.

本発明における透明粘着層の弾性としては、ヤング率が1×10〜1×10Paの範囲が好ましく、より好ましくは1×10〜1×10Pa、さらにより好ましくは1×10〜1×10Paである。The elasticity of the transparent adhesive layer in the present invention is preferably such that the Young's modulus is in the range of 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa, more preferably 1 × 10 2 to 1 × 10 5 Pa, and still more preferably 1 × 10 5 Pa. It is 2 to 1 × 10 4 Pa.

透明粘着層のヤング率が大き過ぎる、すなわち1×10Paよりも大きくなると、表示素子に対して視認面側から衝撃が加わったり表示素子全体に機械的強度が加わった際に、該透明粘着層において衝撃を吸収することができず、視認面の基板ガラスが割れ易くなったり、飛散しやすくなる。When the Young's modulus of the transparent pressure-sensitive adhesive layer is too large, that is, larger than 1 × 10 6 Pa, when a shock is applied to the display element from the viewing surface side or when mechanical strength is applied to the entire display element, the transparent pressure-sensitive adhesive becomes The layer cannot absorb the impact, and the substrate glass on the viewing surface is easily broken or scattered.

また透明粘着層のヤング率が小さすぎる、すなわち1×10Paよりも小さくなると、透明粘着層自体が破断し易くなり、割れたガラスの飛散防止が難しくなる。When the Young's modulus of the transparent pressure-sensitive adhesive layer is too small, that is, smaller than 1 × 10 2 Pa, the transparent pressure-sensitive adhesive layer itself is easily broken, and it is difficult to prevent the broken glass from scattering.

本発明における透明粘着層はできるだけ透明であることが好ましい。ここで「透明である」とは、厚み100μmの場合に可視光線視感平均透過率(以下、視感平均透過率と略称することがある)が50%以上であることを言う。  It is preferable that the transparent adhesive layer in the present invention is as transparent as possible. Here, “transparent” means that the visible light luminous average transmittance (hereinafter, sometimes abbreviated as luminous average transmittance) is 50% or more when the thickness is 100 μm.

透明粘着層に用いることができる材料としては、上述の条件を満たすことができれば特に指定はない。具体的に例示すると、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ビニル系粘着剤等である。中でもアクリル系粘着剤およびシリコーン系粘着剤は、元々弾性の低い材料を原料としており、本発明において特徴づけているような低いヤング率の層を作製しやすく、さらに透明性が高いため、好適に用いることができる。  The material that can be used for the transparent adhesive layer is not particularly specified as long as the above conditions can be satisfied. Specific examples include a rubber-based adhesive, an acrylic-based adhesive, a silicone-based adhesive, and a vinyl-based adhesive. Above all, acrylic pressure-sensitive adhesives and silicone-based pressure-sensitive adhesives are originally made of a material having low elasticity, and it is easy to produce a layer having a low Young's modulus as characterized in the present invention, and furthermore, since the transparency is high, it is preferably used. Can be used.

(透明粘着剤の厚み)
本発明における透明粘着層の厚みは、10〜500μmの範囲が好ましく、より好ましくは50〜500μm、さらにより好ましくは100〜500μmである。厚みがあまり厚すぎる、すなわち500μmよりも大きくなると透明性を失ってしまう。また厚みがあまり薄すぎる、すなわち10μmよりも小さくなると、衝撃を吸収する機能を十分に発揮することができない。
(Thickness of transparent adhesive)
The thickness of the transparent pressure-sensitive adhesive layer in the present invention is preferably in the range of 10 to 500 μm, more preferably 50 to 500 μm, and still more preferably 100 to 500 μm. If the thickness is too large, that is, if it exceeds 500 μm, the transparency will be lost. On the other hand, if the thickness is too small, that is, smaller than 10 μm, the function of absorbing impact cannot be sufficiently exhibited.

(アクリル系粘着剤)
アクリル系粘着剤は安価であるため広く用いられている。アクリル系粘着剤はアクリルポリマを主原料におり、アクリル系粘着剤は基本構成のモノマ類を溶液重合することによって得られる。
(Acrylic adhesive)
Acrylic pressure-sensitive adhesives are widely used because they are inexpensive. The acrylic pressure-sensitive adhesive is mainly composed of an acrylic polymer, and the acrylic pressure-sensitive adhesive is obtained by solution polymerization of monomers having a basic structure.

溶液重合は通常、エステル類、芳香族炭化水素類、ケトン類などの有機溶剤中でアクリルモノマを過酸化物、アゾ系の触媒を用いて重合する。最終用途や要求される性能によって、溶剤やモノマ組成濃度などが定められる。  In the solution polymerization, usually, an acrylic monomer is polymerized in an organic solvent such as an ester, an aromatic hydrocarbon or a ketone using a peroxide or an azo catalyst. The solvent, monomer composition concentration, and the like are determined depending on the end use and required performance.

アクリル系粘着剤は非架橋型と架橋型とに大別することができる。  Acrylic pressure-sensitive adhesives can be broadly classified into non-crosslinked and crosslinked types.

非架橋型は塗工・乾燥してそのままの状態で使用するタイプで、熱可塑性を持っている。このため、一般的には凝集性にかけ、弾性が得られにくい。  The non-crosslinked type is a type that is used as it is after being coated and dried, and has thermoplasticity. For this reason, it is generally difficult to obtain elasticity due to cohesion.

凝集性を付与し、弾性を上げるためには、共重合モノマの種類と量的変化と、外部から他のポリマやフェノール樹脂などの樹脂類を添加することとが行われる。これによって好ましい凝集性、粘着性、および接着性を併せ持つように設計される。  In order to impart cohesiveness and increase elasticity, the type and quantitative change of the copolymerized monomer and the addition of other resins such as a polymer or a phenol resin from the outside are performed. Thereby, it is designed to have preferable cohesiveness, tackiness and adhesiveness.

凝集性の付与には、重合度よりもむしろ共重合モノマに依存した方が著しい効果がある。具体的には共重合モノマのうち凝集成分と改質成分との選択となり、双方のバランスが重要である。一般には凝集成分は酢酸ビニルが好都合のモノマであり、改質成分としてはモノまたはジカルボン酸含有モノマが選ばれる。  In order to impart cohesiveness, it is more effective to rely on a copolymer monomer than on the degree of polymerization. Specifically, the coagulation component and the modifying component are selected from the copolymerized monomers, and the balance between the two is important. Generally, vinyl acetate is a convenient monomer for the aggregating component, and a mono- or dicarboxylic acid-containing monomer is selected as the modifying component.

また、凝集性を付与するためのタイプとして、架橋型がある。架橋型においては、架橋度によって凝集性、粘着性、および接着性のバランスを取る。  As a type for imparting cohesiveness, there is a cross-linking type. In the crosslinked type, the cohesiveness, tackiness, and adhesiveness are balanced depending on the degree of crosslinking.

アクリル系粘着剤の従来用いられている配合例を例示すると、酢酸ビニル、オクチルアクリレート、エチルアクリレート、および無水マレイン酸である。  Examples of conventionally used formulations of acrylic pressure-sensitive adhesives are vinyl acetate, octyl acrylate, ethyl acrylate, and maleic anhydride.

ここで凝集性を左右する成分は、酢酸ビニルおよびエチルアクリレートである。これらの成分の含有割合を低下させ、凝集性を低下させることによって、本発明における弾性率の低い透明粘着層を得ることができる。  Here, the components that influence the cohesiveness are vinyl acetate and ethyl acrylate. By lowering the content of these components and lowering the cohesiveness, the transparent adhesive layer having a low elastic modulus in the present invention can be obtained.

(シリコーン系粘着剤)
シリコーン系粘着剤は、耐熱性が高いため耐熱性が必要な用途において特に好適に用いられている。また電気的特性、耐水性、耐湿性、および耐侯性が良い上に、低表面エネルギ、高表面エネルギのいずれの被着体にもよく接着する。
(Silicone adhesive)
Silicone-based pressure-sensitive adhesives are particularly suitably used in applications requiring heat resistance because of their high heat resistance. In addition to good electrical properties, water resistance, moisture resistance, and weather resistance, it adheres well to adherends with low surface energy and high surface energy.

シリコーン粘着剤の構成は、ゴム状シリコーンと樹脂状シリコーンとを基本としている。  The constitution of the silicone adhesive is based on rubber-like silicone and resin-like silicone.

一般にシリコーン系粘着剤の乾燥フィルムは粘着性を示すが、低い凝集性である。このため架橋が必要となり、このことによって適当な弾性が得られるように調整する。通常250℃の加熱、または過酸化ベンゾイルのような過酸化物を加えて150〜170℃で5〜15分加熱する。  Generally, a dry film of a silicone-based pressure-sensitive adhesive shows tackiness, but has low cohesiveness. For this reason, cross-linking is required, and adjustment is made so as to obtain appropriate elasticity. Usually, heating at 250 ° C. or adding a peroxide such as benzoyl peroxide and heating at 150 to 170 ° C. for 5 to 15 minutes.

シリコン系粘着剤の従来用いられている配合例を示すと、(a)メチルフェニルポリシロキサン樹脂、(b)フェニルビニルシロキサン樹脂、(c)ジメチルジフェニルシクロテトラシロキサン、および(d)クロロプラチン酸である。  Examples of conventionally used silicone adhesives include (a) methylphenylpolysiloxane resin, (b) phenylvinylsiloxane resin, (c) dimethyldiphenylcyclotetrasiloxane, and (d) chloroplatinic acid. is there.

ここで凝集性を左右し、その他部材の架橋度、そして透明粘着剤の弾性を左右する部剤は、(d)クロロブラチン酸である。本発明において目的とする低い透明粘着剤を得るためには、(d)クロロブラチン酸の含有量を従来に比較して、低下させれば良い。  Here, the component that affects cohesion, the degree of crosslinking of other members, and the elasticity of the transparent pressure-sensitive adhesive is (d) chloroplatinic acid. In order to obtain the desired low transparent pressure-sensitive adhesive in the present invention, the content of (d) chloroplatinic acid may be reduced as compared with the conventional case.

(透明粘着剤の形態および層形成方法)
透明粘着剤の形態は、大きく分けてシート状の形態と液状の形態に分けられる。シート状粘着剤は、感圧型であり、貼り付ける一方の部材に粘着剤をラミネートした後に、さらにもう一方の部材をラミネートする事によって二つの部材の貼り合わせを行う。
(Form of transparent adhesive and layer forming method)
The form of the transparent adhesive is roughly divided into a sheet form and a liquid form. The sheet-like adhesive is a pressure-sensitive type, and after laminating the adhesive on one member to be pasted, the other member is further laminated to bond the two members.

液状粘着剤は、塗布貼り合わせ後に室温放置または加熱によって硬化させるタイプであり、液状粘着剤の塗布方法としては、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ロールコート法等が挙げられ、粘着剤の種類、粘度、塗布量等から考慮選定される。  The liquid pressure-sensitive adhesive is a type that is cured by being left at room temperature or heated after application and bonding, and examples of a method of applying the liquid pressure-sensitive adhesive include a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, and a roll coating method. It is selected in consideration of the type, viscosity, application amount, etc. of the agent.

透明粘着剤を用いて貼り合わせを行った後は、貼り合わせたときに入り込んだ気泡を脱泡させたり、透明粘着剤に固溶させ、さらには部材間の密着力を向上させるために、加圧、加温条件下にて養生を行なっても構わない。このとき、加圧条件としては、0.001から2MPa程度であり、加温条件としては、各部材の耐熱性にも依るが、室温以上、80℃以下である。  After bonding using a transparent adhesive, air bubbles that have entered at the time of bonding can be removed or dissolved in the transparent adhesive to improve adhesion between members. Curing may be performed under pressure and heating conditions. At this time, the pressing condition is about 0.001 to 2 MPa, and the heating condition is room temperature or higher and 80 ° C. or lower, depending on the heat resistance of each member.

(透明樹脂層)
本発明におけるその弾性および厚みによって特徴づけられた透明樹脂層の面に垂直な方向のヤング率は、1×10〜1×10Paの範囲が好ましく、透明樹脂層の厚みは10〜3000μmの範囲が好ましい。
(Transparent resin layer)
The Young's modulus in the direction perpendicular to the surface of the transparent resin layer characterized by its elasticity and thickness in the present invention is preferably in the range of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa, and the thickness of the transparent resin layer is 10 to 3000 μm. Is preferable.

本発明におけるその弾性および厚みに特徴づけられた透明樹脂層は、表示素子に衝撃が加わったときに、視認面のガラスに衝撃が加わることを防止したり、割れたガラスが飛散することを防止するための機能を持ち、本発明において重要な役割を果たす。  The transparent resin layer characterized by its elasticity and thickness in the present invention prevents a shock from being applied to the glass on the viewing surface or a broken glass from being scattered when a display element is subjected to an impact. And plays an important role in the present invention.

本発明における該透明樹脂層は、透明導電層、反射防止層、防眩層等の機能層を形成したり色素を含有させたりして用い、積層体の基体となる。  The transparent resin layer in the present invention forms a functional layer such as a transparent conductive layer, an antireflection layer, an antiglare layer, or contains a dye, and is used as a base of a laminate.

透明樹脂層は、透明である必要がある。ここで「透明である」とは、厚み100μmの場合に、可視光線視感平均透過率が50%以上であることである。  The transparent resin layer needs to be transparent. Here, “transparent” means that the visible light luminous average transmittance is 50% or more when the thickness is 100 μm.

透明樹脂層が、外部からの衝撃を吸収し、それを伝えないようにするためには、該透明粘着層が外部からの衝撃により、変形し、衝撃力を緩和し、打ち消すようにすればよいと考えられる。そのためには、透明樹脂層の面に垂直な方向の弾性を目的に合わせて制限すれば良いと考えられる。  In order that the transparent resin layer absorbs external impact and does not transmit the external impact, the transparent adhesive layer may be deformed by external impact, reduce the impact force, and cancel out. it is conceivable that. For this purpose, it is considered that the elasticity in the direction perpendicular to the surface of the transparent resin layer may be limited according to the purpose.

本発明における透明樹脂層の面に垂直な方向の弾性としては、ヤング率が1×10〜1×10Paであることが好ましく、より好ましくは1×10〜7×10Pa、さらにより好ましくは1×10Pa〜5×10Paである。As the elasticity in the direction perpendicular to the surface of the transparent resin layer in the present invention, the Young's modulus is preferably from 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa, more preferably from 1 × 10 3 to 7 × 10 7 Pa, Even more preferably, it is 1 × 10 3 Pa to 5 × 10 7 Pa.

該透明樹脂層のヤング率が大き過ぎる、すなわち1×10Paよりも大きいと、表示素子に対して視認面側から衝撃が加わったり表示素子全体に機械的強度が加わった際に、該透明樹脂層において衝撃を吸収することができず、視認面の基板ガラスが割れ易くなったり、飛散しやすくなる。また該透明樹脂層のヤング率が小さすぎる、すなわち1×10Paよりも小さいと、透明樹脂層自体が破断し易くなり好ましくない。If the Young's modulus of the transparent resin layer is too large, that is, greater than 1 × 10 8 Pa, when the display element is subjected to an impact from the viewing surface side or mechanical strength is applied to the entire display element, the transparent resin layer becomes transparent. The resin layer cannot absorb the impact, and the substrate glass on the viewing surface is easily broken or scattered. If the Young's modulus of the transparent resin layer is too small, that is, smaller than 1 × 10 3 Pa, the transparent resin layer itself is easily broken, which is not preferable.

該透明樹脂層に用いることができる材料としては、前述の条件を満たすことができる材料であれば特に指定はない。具体的に材料を例示すると、ポリエステル類、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリイミド、セルロース系樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン/トリフルオロエチレン共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重体等のビニル化合物またはフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラールの他透明なエラストマとしてシリコーンゴム、ウレタンゴム、アクリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、軟質ポリ塩化ビニル、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体などのエチレン系共重合体等のエラストマ、エチレン系共重合体とエチレン−プロピレン−ジエン共重合体混合物の架橋体等のエチレン系透明組成物、スチレン系熱可塑性エラストマ、ウレタン系熱可塑性エラストマ等の熱可塑性エラストマ等である。ただし透明樹脂層に用いることができる材料は、これらに限定されない。また、これらの材料には本来の目的を損なわない範囲でシリカなどの充填材、可塑剤としてのオイル、耐熱安定剤または酸化防止剤などの添加剤等が含まれていても良い。また接着性等を高める目的でプラズマ処理等の処理が施されていても良い。  The material that can be used for the transparent resin layer is not particularly specified as long as the material can satisfy the above-described conditions. Specific examples of the material include polyesters, polyether sulfone, polystyrene, polyethylene, polypropylene, polyamide, polyimide, cellulose resin, polyurethane, fluorine resins such as polytetrafluoroethylene, vinyl compounds such as polyvinyl chloride, Polyacrylic acid, polyacrylic acid ester, polyacrylonitrile, addition polymer of vinyl compound, polymethacrylic acid, polymethacrylic acid ester, vinylidene compound such as polyvinylidene chloride, vinylidene fluoride / trifluoroethylene copolymer, ethylene / acetic acid Copolymer of vinyl compound or fluorine compound such as vinyl copolymer, polyether such as polyethylene oxide, epoxy resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, and silicone as transparent elastomer Elastomers such as rubber, urethane rubber, acrylic rubber, styrene-butadiene rubber, soft polyvinyl chloride, ethylene-propylene copolymer, ethylene-butene copolymer, ethylene-based copolymer such as ethylene-vinyl acetate copolymer, Examples thereof include an ethylene-based transparent composition such as a crosslinked product of an ethylene-based copolymer and an ethylene-propylene-diene copolymer mixture, and a thermoplastic elastomer such as a styrene-based thermoplastic elastomer and a urethane-based thermoplastic elastomer. However, materials that can be used for the transparent resin layer are not limited to these. These materials may contain fillers such as silica, oil as a plasticizer, additives such as a heat stabilizer or an antioxidant, etc., as long as the intended purpose is not impaired. Further, a treatment such as a plasma treatment may be performed for the purpose of enhancing the adhesiveness or the like.

中でもポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂またはエチレン酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリウレタンが好適に用いられる。  Among them, polyester resin, polypropylene resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyethylene, polystyrene, and polyurethane are preferably used.

本発明で用いる透明樹脂層の厚みは10〜3000μm、好ましくは10〜2000μm、より好ましくは10〜1500μm、更に好ましくは10〜1000μm、特に好ましくは10〜500μmである。厚みが薄すぎる、すなわち10μmよりも小さいと十分な衝撃吸収能力を得ることができない。また厚みが厚すぎる、すなわち3000μmよりも大きいと光透過性が不足することがある。また工程も考慮した場合、薄すぎると光学フィルタとして用いる場合にディスプレイ表面に設置するのが困難であり、厚すぎると材料の種類にもよるが可撓性が制限されることがある。  The thickness of the transparent resin layer used in the present invention is 10 to 3000 μm, preferably 10 to 2000 μm, more preferably 10 to 1500 μm, further preferably 10 to 1000 μm, and particularly preferably 10 to 500 μm. If the thickness is too small, that is, smaller than 10 μm, it is not possible to obtain a sufficient shock absorbing ability. If the thickness is too large, that is, if it is larger than 3000 μm, the light transmittance may be insufficient. When the process is also taken into consideration, if the thickness is too thin, it is difficult to install the optical filter on the display surface, and if the thickness is too thick, flexibility may be limited depending on the type of material.

厚みが50〜250μmの透明な樹脂層は、いわゆる透明高分子フィルムであり、可撓性を有しており、透明導電膜をロールツーロール法で連続的に形成することができる。このため、効率よく、また、長尺大面積の透明積層体を生産することができる。また厚みが250μm以上の透明樹脂層は、いわゆる透明高分子シートであり、枚葉方式によって、透明導電層、反射防止層、防眩層等を形成することができる。弾性が低い場合はロールツーロール方を採用することも可能である。  The transparent resin layer having a thickness of 50 to 250 μm is a so-called transparent polymer film and has flexibility, and a transparent conductive film can be continuously formed by a roll-to-roll method. For this reason, a long and large-area transparent laminate can be efficiently produced. The transparent resin layer having a thickness of 250 μm or more is a so-called transparent polymer sheet, and a transparent conductive layer, an antireflection layer, an antiglare layer, and the like can be formed by a single-wafer method. If the elasticity is low, a roll-to-roll method can be adopted.

本発明においては、透明樹脂層の表面を、スパッタリング処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、電子線照射などのエッチング処理や、下塗り処理によって、その上に形成される透明導電層の透明樹脂層に対する密着性を予め向上させてもよい。また、透明樹脂層と透明導電層との間に任意の金属などの無機物層を形成してもよく、透明導電膜を成膜する前に、必要に応じて溶剤洗浄または超音波洗浄などの防塵処理を施してもよい。  In the present invention, the surface of the transparent resin layer, the etching treatment such as sputtering treatment, corona treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, or undercoating treatment, the transparent resin layer of the transparent conductive layer formed thereon by undercoating treatment May be improved in advance. Also, an inorganic layer such as an arbitrary metal may be formed between the transparent resin layer and the transparent conductive layer. Before forming the transparent conductive film, dust-proofing such as solvent cleaning or ultrasonic cleaning is performed as necessary. Processing may be performed.

また、透明積層体の耐擦傷性を向上させるために、透明樹脂層の少なくとも一方の主面にハードコート層が形成されていても良い。なお本発明における積層体が複数の透明樹脂層を有する場合、少なくとも1つは、上記の特性を有す必要があるが、その他は衝撃吸収能力を左右するパラメータに制限されない。  In order to improve the scratch resistance of the transparent laminate, a hard coat layer may be formed on at least one main surface of the transparent resin layer. When the laminate according to the present invention has a plurality of transparent resin layers, at least one of the laminates needs to have the above-described characteristics, but the other is not limited to parameters that affect the shock absorbing ability.

(衝撃吸収層)
本発明における衝撃吸収層は、積層体または光学フィルタを備え付けられた表示素子の画面に対して、外部から力がかかった場合に、その力を緩和し、表示素子が割れることを防止するため層である。
(Shock absorption layer)
The shock absorbing layer in the present invention is a layer for reducing the force when a force is applied from the outside to the screen of the display element provided with the laminate or the optical filter and preventing the display element from breaking. It is.

(衝撃吸収能力、透明性)
衝撃吸収層は、適度な衝撃吸収能力および透明性を有する必要がある。ここで「適度な衝撃吸収能力を有する」とは、その針入度(JIS K2207−1991−50g荷重)の値が、50〜200、好ましくは80〜200、より好ましくは100〜200であることである。また、「透明性を有する」とは、厚み100μmの場合における視感平均透過率の値が、40%以上であることである。
(Shock absorption capacity, transparency)
The shock absorbing layer needs to have a suitable shock absorbing capacity and transparency. Here, "having an appropriate shock absorbing capacity" means that the value of the penetration (JIS K2207-1991-50g load) is 50 to 200, preferably 80 to 200, and more preferably 100 to 200. It is. Further, “having transparency” means that the value of the luminous average transmittance when the thickness is 100 μm is 40% or more.

衝撃吸収層の厚みは、あまり薄すぎると十分な衝撃吸収能力を発揮することができず、またあまり厚すぎると十分な光透過性を得ることができないので好ましくない。そのため衝撃吸収層の厚みは、10〜3000μm、好ましくは10〜2000μm、より好ましくは10〜1500μm、更に好ましくは10〜1000μm、特に好ましくは10〜500μmである。  When the thickness of the shock absorbing layer is too small, sufficient shock absorbing ability cannot be exhibited, and when too large, sufficient light transmittance cannot be obtained, which is not preferable. Therefore, the thickness of the shock absorbing layer is 10 to 3000 μm, preferably 10 to 2000 μm, more preferably 10 to 1500 μm, further preferably 10 to 1000 μm, and particularly preferably 10 to 500 μm.

衝撃吸収層の材料は、上記条件を満足できる材料であれば特に指定はないが、好適な材料として、シリコーン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン、およびアクリル等のゲルが挙げられる。  The material of the shock absorbing layer is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions, but suitable materials include gels such as silicone, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyurethane, and acrylic.

そのうち特にシリコーンは、ゲル状態で用いることによって、その針入度および視感平均透過率が好適な値を示す衝撃吸収層を実現できる。さらに、ゲル内に空気を封入しておくと、衝撃吸収能力が向上し、より好適に用いることができる。  Among them, particularly, when silicone is used in a gel state, it is possible to realize an impact-absorbing layer whose penetration and average luminous transmittance show suitable values. Further, when air is sealed in the gel, the shock absorbing ability is improved, and the gel can be used more preferably.

衝撃吸収層を透明樹脂層上に固定する場合、粘着剤または接着剤を用いて互いを貼り合せる。ここで粘着剤および接着剤は、透明性を有するものであれば特に指定はない。ここで「透明性を有する」とは、厚み25μmの状態における視感平均透過率が50%以上であることを言う。粘着剤として、本発明における積層体の構成内での透明樹脂層同士の貼合せ、或いは光学フィルタと表示素子の画面との貼合せのために用いられる透明粘着層を用いることができる。透明粘着層の詳細に関しては後述する。  When the shock absorbing layers are fixed on the transparent resin layer, they are attached to each other using an adhesive or an adhesive. Here, the pressure-sensitive adhesive and the adhesive are not particularly specified as long as they have transparency. Here, “having transparency” means that the luminous average transmittance in a state of a thickness of 25 μm is 50% or more. As the pressure-sensitive adhesive, a transparent pressure-sensitive adhesive layer used for bonding the transparent resin layers in the structure of the laminate of the present invention or for bonding the optical filter and the screen of the display element can be used. Details of the transparent adhesive layer will be described later.

衝撃吸収層には、反射防止層または防眩層が形成されていても構わない。特に積層体または光学フィルタを表示素子に設置した結果、最表面となる面に衝撃吸収層が位置している場合は、視認性を向上させるために、反射防止層または防眩層が形成されていることが望ましい。反射防止層および防眩層の詳細に関しては後述する。  An anti-reflection layer or an anti-glare layer may be formed on the shock absorbing layer. In particular, as a result of installing the laminate or the optical filter on the display element, if the shock absorbing layer is located on the surface that is the outermost surface, an anti-reflection layer or an anti-glare layer is formed to improve visibility. Is desirable. Details of the antireflection layer and the antiglare layer will be described later.

(積層体)
本発明における積層体は、透明樹脂層、透明粘着層および必要に応じて衝撃吸収層を積層して構成され、衝撃吸収層、透明樹脂層および透明粘着層はそれぞれ1層ずつのみで形成されていても構わないし、それぞれ複数の層が存在しても構わない。複数の衝撃吸収層が存在する場合は、耐衝撃性を向上させる上で、得られる効果は衝撃吸収層が一層の場合よりも大きい場合がある。
(Laminate)
The laminate in the present invention is constituted by laminating a transparent resin layer, a transparent adhesive layer and, if necessary, a shock absorbing layer, and each of the shock absorbing layer, the transparent resin layer and the transparent adhesive layer is formed by only one layer. Or a plurality of layers may be present. When a plurality of impact absorbing layers are present, the effect obtained in improving the impact resistance may be greater than that of a single impact absorbing layer.

この際、透明樹脂層および/または透明粘着層が合計2層以上(A層、B層)使用される場合、そのJIS−A硬度(JIS−K6301規格)は、A層のJIS−A硬度(Ha)とB層のJIS−A硬度(Hb)との間に、
Ha/Hb ≧ 1.1
の関係があることが好ましく、より好ましくは、
Ha/Hb ≧ 1.2
更に好ましくは、
Ha/Hb ≧ 1.25
の関係がある。
In this case, when a total of two or more transparent resin layers and / or transparent adhesive layers (A layer, B layer) are used, the JIS-A hardness (JIS-K6301 standard) is the JIS-A hardness (A-layer hardness) of the A layer. Between Ha) and the JIS-A hardness (Hb) of the B layer,
Ha / Hb ≧ 1.1
Preferably, there is a relationship, more preferably,
Ha / Hb ≧ 1.2
More preferably,
Ha / Hb ≧ 1.25
There is a relationship.

またHaおよびHb値は0〜98であることが好ましく、更に好ましくは0〜95である。  The Ha and Hb values are preferably from 0 to 98, more preferably from 0 to 95.

柔軟な材料の硬度の評価方法として、JIS−A硬度の他に、ショアA硬度もある。JIS−A硬度とショアA硬度とはほとんど同じ値となることが多いので、HcおよびHd値としてショアA硬度の値を用いても実質的に問題はない。  As a method for evaluating the hardness of a flexible material, there is Shore A hardness in addition to JIS-A hardness. Since the JIS-A hardness and the Shore A hardness often have almost the same value, there is no substantial problem even if the values of the Shore A hardness are used as the Hc and Hd values.

A層とB層との位置関係は任意であるが、硬度の高いA層が衝撃を受けやすい側、例えば表示装置に装着した場合、人側になるように配置することが好ましい。  The positional relationship between the layer A and the layer B is arbitrary, but it is preferable that the layer A having a high hardness is arranged on the side where the impact is likely to be impacted, for example, on the side of the person when mounted on a display device.

本発明において、第1の積層体は、
(I)透明粘着層の少なくとも1層のヤング率が1×10〜1×10Pa、厚みが10〜500μmである、
(II)透明樹脂層の少なくとも1層のヤング率が1×10〜1×10Pa、厚みが10〜3000μmである、
(III)衝撃吸収層の少なくとも1層の針入度が50〜200である、
(IV)透明樹脂層および/または衝撃吸収層が合計2層以上であり、各層のJIS−A硬度の比が1.1以上である、
の少なくとも1つの要件を満たすことが好ましい。
In the present invention, the first laminate is
(I) at least one layer of the transparent adhesive layer has a Young's modulus of 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa and a thickness of 10 to 500 μm;
(II) at least one layer of the transparent resin layer has a Young's modulus of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa and a thickness of 10 to 3000 μm;
(III) at least one of the shock absorbing layers has a penetration of 50 to 200;
(IV) the transparent resin layer and / or the shock absorbing layer are two or more layers in total, and the ratio of the JIS-A hardness of each layer is 1.1 or more;
It is preferable that at least one of the following conditions is satisfied.

(表示素子)
本発明における積層体は、表示素子の部材として用いることが出来る。適用可能な表示素子は、プラズマディスプレイパネル(PDP)、液晶ディスプレイ(LCD)、有機ELディスプレイ(OELD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)などである。
(Display element)
The laminate according to the present invention can be used as a member of a display element. Applicable display elements include a plasma display panel (PDP), a liquid crystal display (LCD), an organic EL display (OELD), and a field emission display (FED).

PDPの場合は、電磁波遮断または色調調整を目的とした光学フィルタとして用いることができる。LCDの場合は、偏光板、位相差板、反射防止フィルム、および防眩性フィルムとして用いることができる。OELDおよびFEDの場合は、反射防止フィルムおよび防眩性フィルムとして主に用いることができる。  In the case of PDP, it can be used as an optical filter for the purpose of blocking electromagnetic waves or adjusting color tone. In the case of LCD, it can be used as a polarizing plate, a retardation plate, an antireflection film, and an antiglare film. In the case of OELD and FED, it can be mainly used as an antireflection film and an antiglare film.

以下、代表例としてPDP用光学フィルタについて説明する。
(PDP用光学フィルタ)
PDPは、通常ディスプレイ前面部に光学フィルタを装備している。これは、プラズマディスプレイパネルが、原理上、強度の電磁波および近赤外線を装置外に放出するためである。電磁波は、計器に障害を及ぼすことが知られており、最近では、電磁波が人体にも障害を及ぼす可能性もあるとの報告もされている。このため、電磁波放出に関しては、法的に規制される方向になっている。例えば、現在日本では、VCCI(Voluntary Control Council for Interference by data processing equipment electronic office machine)による規制があり、米国では、FCC(Federal Communication Commission)による製品規制がある。
Hereinafter, a PDP optical filter will be described as a representative example.
(Optical filter for PDP)
PDPs are usually equipped with an optical filter on the front of the display. This is because the plasma display panel emits strong electromagnetic waves and near-infrared rays outside the device in principle. Electromagnetic waves are known to cause damage to instruments, and it has recently been reported that electromagnetic waves may also cause damage to the human body. For this reason, the emission of electromagnetic waves is becoming a legally regulated direction. For example, in Japan, there is currently a regulation by VCCI (Voluntary Control Council for Interference by data processing equipment electronic machine machine), and in the United States, there is a FCC (Federal Communication) regulation in the United States.

近赤外線は、コードレス電話や赤外線方式のリモートコントローラー等の誤動作を引き起こす。特に問題となる波長は、800〜1000nmである。こうした電磁波および近赤外線の放出を抑えるために、光学フィルタが用いられている。  Near infrared rays cause malfunctions of cordless telephones, infrared remote controllers, and the like. Particularly problematic wavelengths are 800 to 1000 nm. An optical filter is used to suppress emission of such electromagnetic waves and near infrared rays.

この光学フィルタは、フィルタ全面にわたって導電性があり、しかも透明性に優れている必要がある。これらの要求を満たし、実用化された光学フィルタは、大きく2種類に分けることができる。一つは、金属メッシュタイプと呼ばれているものであり、基体全面に細く金属を格子状に配置させたものである。これは、導電性に優れ、優れた電磁波遮断能力を持つが、近赤外線反射能力および透明性に劣る。もう一つは、透明膜タイプと呼ばれているものであり、透明導電性薄膜を基体全面に配置したものである。透明導電性薄膜タイプの光学フィルタは、金属メッシュタイプの光学フィルタに比較して、電磁波遮断能力に劣るが、近赤外線遮断能力および透明性に優れる為、ディスプレイ用フィルタとして好適に用いることができる。  This optical filter needs to have conductivity over the entire surface of the filter and to have excellent transparency. Optical filters that satisfy these requirements and have been put into practical use can be broadly classified into two types. One is a so-called metal mesh type in which metal is thinly arranged in a grid pattern on the entire surface of a substrate. It is excellent in conductivity and has excellent electromagnetic wave blocking ability, but is inferior in near-infrared reflecting ability and transparency. The other type is called a transparent film type, in which a transparent conductive thin film is arranged on the entire surface of a substrate. The transparent conductive thin film type optical filter is inferior to the metal mesh type optical filter in electromagnetic wave blocking ability, but is excellent in near-infrared ray blocking ability and transparency, and thus can be suitably used as a display filter.

透明導電性薄膜タイプ光学フィルタは、透明支持基体と透明導電性薄膜フィルムとを透明粘着剤を介して貼り合わせてある場合が多い。表示装置自体の軽量化や安全性の面から、透明支持基体としては、透明高分子成形体が、好適に用いられる場合が多いが、透明高分子成形体は、熱や湿気の影響を受けて変形する性質を持つため、ガラスが用いられる場合も多い。また、反射率低減機能、防眩機能または調色機能を持った光学フィルムを透明導電性フィルムに組み合わせて貼り合わせることも多い。  The transparent conductive thin film type optical filter often has a transparent support substrate and a transparent conductive thin film bonded together via a transparent adhesive. In terms of weight reduction and safety of the display device itself, a transparent polymer molded body is often suitably used as the transparent support substrate, but the transparent polymer molded body is affected by heat and moisture. Glass is often used because of its deformable nature. Further, an optical film having a reflectance reducing function, an anti-glare function or a toning function is often combined with a transparent conductive film and bonded.

本発明においてはこれら従来のものとは異なり、透明支持基体を有しない光学フィルタを提供する。  The present invention provides an optical filter which does not have a transparent supporting substrate, unlike these conventional ones.

光学フィルタの電磁波遮断能力は、光学フィルタの面抵抗値が低いほど優れる。透明導電性薄膜タイプ光学フィルタに関しては、抵抗が低い金属薄膜層を積層して、透明導電性薄膜を得ることが通常行われる。中でも、純物質の中で最も比抵抗が低い銀からなる金属薄膜が好適に用いられる。さらに透過率上昇および金属薄膜層の安定性向上の目的で、金属薄膜層を透明高屈折率薄膜層で挟み込み、透明導電性薄膜積層体を形成するのが通常である。  The lower the sheet resistance of the optical filter, the better the electromagnetic wave blocking ability of the optical filter. As for the transparent conductive thin film type optical filter, it is common practice to obtain a transparent conductive thin film by laminating a metal thin film layer having low resistance. Among them, a metal thin film made of silver having the lowest specific resistance among pure substances is preferably used. Further, for the purpose of increasing the transmittance and improving the stability of the metal thin film layer, the metal thin film layer is usually sandwiched between transparent high refractive index thin film layers to form a transparent conductive thin film laminate.

電磁波遮断に用いる光学フィルタにおいては、外部電極を用いて、透明導電性薄膜層と外部との導通を得なければならない。  In an optical filter used for blocking electromagnetic waves, it is necessary to obtain conduction between the transparent conductive thin film layer and the outside by using an external electrode.

本発明に用いられる光学フィルタの構成は、必要な機能を発現することができれば特に指定はない。  The configuration of the optical filter used in the present invention is not particularly limited as long as necessary functions can be exhibited.

光学フィルタを構成する部材の数に特に指定はない。即ち、透明樹脂層および衝撃吸収層に全ての機能を付与しても良いし、それぞれの機能を有する層を複数組み合わせても構わない。光学フィルタの機能が1層の透明樹脂層および衝撃吸収層に形成される場合、透明粘着層は光学フィルタをPDPの視認面に貼り合せるために用いられる。また、光学フィルタが2枚以上の透明高分子フィルムを組み合わせて構成される場合、透明粘着剤は光学フィルタをPDP視認面に貼り合せるための透明粘着層または各高分子フィルム同士を貼り合せるために用いられる。  There is no particular designation for the number of members constituting the optical filter. That is, all functions may be imparted to the transparent resin layer and the shock absorbing layer, or a plurality of layers having respective functions may be combined. When the function of the optical filter is formed in a single transparent resin layer and a shock absorbing layer, the transparent adhesive layer is used for attaching the optical filter to the viewing surface of the PDP. In addition, when the optical filter is configured by combining two or more transparent polymer films, the transparent adhesive is used to bond the optical filter to the transparent adhesive layer for bonding the PDP viewing surface or each polymer film to each other. Used.

光学フィルタの構成の具体例を以下に示す。(A)はPDPの視認面、(B)、(C)および(D)は透明粘着層、(E)、(F)および(G)は透明樹脂層および衝撃吸収層、(H)は透明導電性薄膜、(I)は反射防止膜とすると、構成例は、A/B/H/E/I、A/B/H/E/C/F/I、A/B/E/H/C/F/I、A/B/H/E/C/F/D/G/I、A/B/E/H/C/F/D/G/I等である。  Specific examples of the configuration of the optical filter are shown below. (A) is a visible surface of PDP, (B), (C) and (D) are transparent adhesive layers, (E), (F) and (G) are transparent resin layers and shock absorbing layers, and (H) is transparent. Assuming that the conductive thin film and (I) are antireflection films, the configuration examples are A / B / H / E / I, A / B / H / E / C / F / I, and A / B / E / H / C / F / I, A / B / H / E / C / F / D / G / I, and A / B / E / H / C / F / D / G / I.

1つの透明粘着層にのみ用いても、厚みがある一定以上であれば十分な効果を期待することができるが、本発明において、複数の透明粘着層全てに、低い弾性によって特徴づけられる透明粘着層を用いれば、それぞれの透明粘着層の厚みが小さくても、耐衝撃性に関して十分な効果を得ることができる。  Even if only one transparent adhesive layer is used, a sufficient effect can be expected as long as the thickness is a certain value or more, but in the present invention, all of the plurality of transparent adhesive layers are provided with a transparent adhesive characterized by low elasticity. When a layer is used, a sufficient effect on impact resistance can be obtained even when the thickness of each transparent adhesive layer is small.

1つの透明樹脂層および衝撃吸収層のみ用いても、厚みがある一定以上であれば十分な効果を期待することができるが、本発明において、複数の透明樹脂層全てに、低い弾性によって特徴づけられる透明樹脂層を用いれば、それぞれの透明樹脂層の厚みが小さくても、耐衝撃性に関して十分な効果を得ることができる。  Even if only one transparent resin layer and the shock absorbing layer are used, a sufficient effect can be expected as long as the thickness is a certain value or more. However, in the present invention, all of the plurality of transparent resin layers are characterized by low elasticity. When the transparent resin layers obtained are used, a sufficient effect on impact resistance can be obtained even if the thickness of each transparent resin layer is small.

本発明の積層体はPDP用光学フィルタとして用いることができる。この場合、いずれかの透明樹脂層および/または衝撃吸収層に透明導電層が形成されている場合が多い。本発明における透明導電層とは、単層または多層薄膜からなる透明導電膜である。本発明では、高分子フィルムの主面上に透明導電層を形成した積層体を透明積層体という。高分子フィルムは、前述の透明樹脂層の他、ヤング率が1×10以上の材料を用いることもでき、好ましい例として2軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレート、ビスフェノールAポリカーボネート、酢酸セルロース等を挙げることができる。The laminate of the present invention can be used as an optical filter for PDP. In this case, a transparent conductive layer is often formed on one of the transparent resin layers and / or the shock absorbing layer. The transparent conductive layer in the present invention is a transparent conductive film composed of a single layer or a multilayer thin film. In the present invention, a laminate in which a transparent conductive layer is formed on a main surface of a polymer film is referred to as a transparent laminate. As the polymer film, in addition to the above-mentioned transparent resin layer, a material having a Young's modulus of 1 × 10 8 or more can be used. Preferred examples thereof include a biaxially stretched polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate, bisphenol A polycarbonate, and acetic acid. Cellulose and the like can be mentioned.

単層の透明導電層としては、上述した導電性メッシュ、導電性格子状パターン膜、金属薄膜または酸化物半導体薄膜がある。  The single-layered transparent conductive layer includes the above-described conductive mesh, conductive lattice pattern film, metal thin film, or oxide semiconductor thin film.

多層の透明導電層としては、金属薄膜と高屈折率透明薄膜とを積層した多層薄膜がある。金属薄膜と高屈折率透明薄膜とを積層した多層薄膜は、以下のような特性を有する。すなわち銀などの金属薄膜は、導電性を有するとともに、金属の自由電子によって近赤外線反射特性を有する。また、高屈折率透明薄膜は、金属薄膜におけるある波長領域の光の反射を防止するという特性を有する。したがってこのような多層薄膜は、導電性、近赤外線カット能、可視光線透過率のいずれにおいても好ましい特性を有している。  As the multilayer transparent conductive layer, there is a multilayer thin film in which a metal thin film and a high refractive index transparent thin film are laminated. The multilayer thin film in which the metal thin film and the high refractive index transparent thin film are laminated has the following characteristics. That is, a thin metal film such as silver has conductivity and near-infrared reflection characteristics due to free electrons of the metal. Further, the high-refractive-index transparent thin film has a property of preventing reflection of light in a certain wavelength region on the metal thin film. Therefore, such a multilayer thin film has preferable characteristics in all of conductivity, near-infrared cut ability, and visible light transmittance.

電磁波シールド能および近赤外線カット能を有するディスプレイ用フィルタを得るためには、電磁波吸収のための高い導電性を有し、近赤外線反射のための反射界面を多く有する金属薄膜と、高屈折率透明薄膜とを積層した多層薄膜が好適である。  In order to obtain a display filter having electromagnetic wave shielding ability and near-infrared cut ability, a metal thin film that has high conductivity for absorbing electromagnetic waves and has many reflection interfaces for near-infrared reflection, and a high refractive index transparent A multilayer thin film obtained by laminating a thin film and a thin film is preferable.

ところで、VCCIにおいては、業務用途の規制値を示すClassAでは放射電界強度50dBμV/m未満であり、民生用途の規制値を示すClassBでは40dBμV/m未満である。しかし、プラズマディスプレイの放射電界強度は20〜90MHz帯域内で、対角20インチ型程度で40dBμV/m、対角40インチ型程度で50dBμV/mを越えている。このため、そのままでは家庭用途には使用できない。  By the way, in VCCI, the emission electric field intensity is less than 50 dBμV / m in Class A indicating a regulation value for business use, and less than 40 dB μV / m in Class B indicating a regulation value for consumer use. However, the radiated electric field intensity of the plasma display is in the range of 20 to 90 MHz, exceeding 40 dBμV / m for a diagonal of about 20 inches and exceeding 50 dBμV / m for a diagonal of about 40 inches. Therefore, it cannot be used for home use as it is.

プラズマディスプレイの放射電界強度は、その画面の大きさおよび消費電力が大きいほど強く、シールド効果の高い電磁波シールド材が必要である。  The radiated electric field strength of the plasma display is stronger as the size of the screen and the power consumption are larger, and an electromagnetic wave shielding material having a high shielding effect is required.

高い可視光線透過率と低い可視光線反射率に加え、プラズマディスプレイに必要な電磁波シールド能を有するには、透明導電層が、面抵抗0.1〜30Ω/□、より好ましくは0.1〜15Ω/□、さらに好ましくは0.01〜5Ω/□の低抵抗な導電性を有していることが必要である。本発明における「可視光線透過率」および「可視光線反射率」とは、透渦率および反射率の波長依存性からJIS(R−3106)に従って計算されるものである。  In addition to high visible light transmittance and low visible light reflectance, the transparent conductive layer must have a sheet resistance of 0.1 to 30 Ω / □, more preferably 0.1 to 15 Ω, in order to have an electromagnetic wave shielding property required for a plasma display. / □, more preferably 0.01 to 5Ω / □. The “visible light transmittance” and “visible light reflectance” in the present invention are calculated according to JIS (R-3106) from the wavelength dependence of the eddy transmittance and the reflectance.

また、プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線を実用上問題とならないレベルまで遮断するには、ディスプレイ用フィルタの近赤外線波長領域800〜1000nmにおける光線透過率を20%以下にすることが必要であり、この要求を満たすためには、部材数低減の要求および色素を用いた近赤外線吸収の限界から、透明導電層自体が近赤外線カット性を持つことが必要である。透明導電層で近赤外線をカットするには、金属の自由電子による反射を利用することができる。  Further, in order to cut off near-infrared light emitted from the plasma display to a level at which no practical problem occurs, the light transmittance of the display filter in the near-infrared wavelength region of 800 to 1000 nm needs to be 20% or less. In order to satisfy this requirement, it is necessary that the transparent conductive layer itself has a near-infrared cut property due to a requirement for reduction in the number of members and a limit of near-infrared absorption using a dye. In order to cut off near infrared rays by the transparent conductive layer, reflection by free electrons of metal can be used.

金属薄膜層は厚くすると可視光線透過率が低くなり、薄くすると近赤外線の反射が弱くなる。しかし、ある厚みの金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を1段以上重ねることにより、可視光線透過率を高くし、かつ全体的な金属薄膜層の厚みを増やすことが可能である。また、層数および/またはそれぞれの層の厚みを制御することによって可視光線透過率、可視光線反射率、近赤外線の透過率、透過色、および反射色をある範囲で変化させることも可能である。  The thicker the metal thin film layer, the lower the visible light transmittance, and the thinner the thin metal layer, the weaker the near-infrared reflection. However, it is possible to increase the visible light transmittance and increase the overall thickness of the metal thin film layer by stacking one or more layers of a laminated structure in which a metal thin film layer with a certain thickness is sandwiched between high refractive index transparent thin film layers. It is. Further, by controlling the number of layers and / or the thickness of each layer, the visible light transmittance, the visible light reflectance, the transmittance of near-infrared light, the transmitted color, and the reflected color can be changed within a certain range. .

可視光線反射率が高いと画面への照明器具等の映り込みが大きくなり、表示部表面の反射を防止する効果が低下し、視認性とコントラストとが低下するようになる。また、反射色としては、白色、青色、紫色系の目立たない色が好ましい。これらのことから、透明導電層は、光学的に設計、制御しやすい多層積層が好ましくなる。  When the visible light reflectance is high, the reflection of a lighting device or the like on the screen becomes large, the effect of preventing reflection on the display unit surface is reduced, and visibility and contrast are reduced. Further, as the reflection color, white, blue, and purple inconspicuous colors are preferable. For these reasons, it is preferable that the transparent conductive layer be a multilayer laminate that is easily designed and controlled optically.

PDP用光学フィルタにおいては、高分子フィルムの一方の主面上に多層薄膜の透明導電層を形成した透明積層体を用いることが好ましい。  In an optical filter for a PDP, it is preferable to use a transparent laminate in which a transparent conductive layer of a multilayer thin film is formed on one main surface of a polymer film.

本発明において好ましい透明導電層は、高分子フィルムの一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層(a)、金属薄膜層(b)の順に、(a)/(b)を繰り返し単位として2〜4回繰り返し積層され、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層(a)を積層して形成され、該透明導電層の面抵抗が0.1〜30Ω/□であることを特徴とする。これによって、透明導電層は、電磁波シールド能のための低抵抗性、近赤外線カット能、透明性、および可視光線反射率に優れた性能を有する。本発明において、多層薄膜とは、特に記載がない限り、金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を1段以上重ねた多層積層の透明導電膜のことをいう。  In the present invention, the transparent conductive layer is preferably such that a high refractive index transparent thin film layer (a) and a metal thin film layer (b) are arranged in order of (a) / (b) on one main surface of a polymer film. It is formed by repeatedly laminating 2 to 4 times, and further laminating at least a high refractive index transparent thin film layer (a) thereon, and the sheet resistance of the transparent conductive layer is 0.1 to 30 Ω / □. I do. This allows the transparent conductive layer to have low resistance for electromagnetic wave shielding, near-infrared cut ability, transparency, and excellent performance in visible light reflectance. In the present invention, a multilayer thin film refers to a transparent conductive film of a multilayer laminate in which one or more laminated structures in which a metal thin film layer is sandwiched between high refractive index transparent thin film layers are stacked, unless otherwise specified.

本発明の透明導電層において、繰り返し積層数は2回〜4回が好適である。つまり、高分子フィルム(A)の主面上に透明導電層を積層した本発明の透明積層体は、(A)/(a)/(b)/(a)/(b)/(a)、または、(A)/(a)/(b)/(a)/(b)/(a)/(b)/(a)、または、(A)/(a)/(b)/(a)/(b)/(a)/(b)/(a)/(b)/(a)の層構成を有するものである。繰り返し積層数が5回以上では、生産装置の制限および生産性の問題が大きくなり、また、可視光線透過率の低下と可視光線反射率の増加とが生じる傾向がある。また、繰り返し回数が1回であると、低抵抗性と、近赤外線カット能と、可視光線反射率とを同時に十分なものとすることができない。  In the transparent conductive layer of the present invention, the number of repeated laminations is preferably 2 to 4 times. That is, the transparent laminate of the present invention, in which the transparent conductive layer is laminated on the main surface of the polymer film (A), is obtained by (A) / (a) / (b) / (a) / (b) / (a) Or (A) / (a) / (b) / (a) / (b) / (a) / (b) / (a) or (A) / (a) / (b) / ( a) / (b) / (a) / (b) / (a) / (b) / (a). When the number of repetitive laminations is 5 or more, the limitation of the production apparatus and the problem of productivity increase, and the visible light transmittance tends to decrease and the visible light reflectance tends to increase. On the other hand, if the number of repetitions is one, the low resistance, near-infrared cut ability, and visible light reflectance cannot be simultaneously sufficient.

なお、繰り返し積層数が2回〜4回の多層薄膜において、近赤外線カット能と、可視光線透過率と、可視光線反射率とを同時に、プラズマディスプレイに好適な特性とするには、その面抵抗が1〜5Ω/□であることを本発明者らは見出した。  In a multilayer thin film having two to four repetitions, the near-infrared cut ability, the visible light transmittance, and the visible light reflectivity should be simultaneously set to be suitable characteristics for a plasma display. Of the present invention was found to be 1 to 5 Ω / □.

将来的にはプラズマディスプレイから放出される電磁波強度が低下することも想定される。その場合は、光学フィルタの面抵抗が5〜15Ω/□でも十分な電磁波遮断特性を得ることができることが予想される。また、さらにプラズマディスプレイから放出される電磁波強度が低下することも想定される。その場合は、光学フィルタの面抵抗が15〜30Ω/□でも十分な電磁波遮断特性を得ることができるようになることが予想される。  It is assumed that the intensity of electromagnetic waves emitted from the plasma display will decrease in the future. In that case, it is expected that sufficient electromagnetic wave blocking characteristics can be obtained even if the sheet resistance of the optical filter is 5 to 15 Ω / □. It is also assumed that the intensity of electromagnetic waves emitted from the plasma display is further reduced. In that case, it is expected that sufficient electromagnetic wave blocking characteristics can be obtained even when the sheet resistance of the optical filter is 15 to 30 Ω / □.

金属薄膜層(b)の材料としては、銀が、導電性、赤外線反射性および多層積層したときの可視光線透過性に優れているため、好適である。しかし、銀は化学的、物理的安定性に欠け、環境中の汚染物質、水蒸気、熱、光等によって劣化するため、銀に金、白金、パラジウム、銅、インジウム、スズ等の環境に安定な金属を一種以上加えた合金、またはこれら環境に安定な金属も好適に使用できる。特に、金およびパラジウムは耐環境性、光学特性に優れ好適である。  As a material of the metal thin film layer (b), silver is preferred because it has excellent conductivity, infrared reflectivity, and visible light transmittance when laminated in multiple layers. However, silver lacks chemical and physical stability and is degraded by pollutants in the environment, water vapor, heat, light, etc., so silver has an environmental stability such as gold, platinum, palladium, copper, indium, and tin. Alloys to which one or more metals are added, or metals that are stable in these environments can also be suitably used. In particular, gold and palladium are preferable because of their excellent environmental resistance and optical properties.

銀を含む合金中の銀の含有率は、特に限定されるものではないが、銀薄膜の導電性および光学特性と大きく変わらないことが望ましく、50重量%以上、100重量%未満程度である。しかしながら、銀に他の金属を添加すると、その優れた導電性および光学特性が阻害されるので、複数の金属薄膜層を有する場合は、可能であれば少なくとも1つの層は銀を合金にしないで用いたり、基体から見て最初の層および/または最外層にある金属薄膜層のみを合金にすることが望ましい。  The silver content in the silver-containing alloy is not particularly limited, but is preferably not significantly different from the conductivity and optical properties of the silver thin film, and is about 50% by weight or more and less than 100% by weight. However, the addition of other metals to silver impairs its excellent electrical conductivity and optical properties, so if there are multiple metal thin film layers, at least one layer should not be alloyed with silver if possible. It is desirable to use or alloy only the first and / or outermost metal thin-film layers as viewed from the substrate.

金属薄膜層の厚みは、導電性および光学特性等から光学設計的かつ実験的に求められ、透明導電層が要求特性を持てば特に限定されるものではない。ただし、導電性等から薄膜が島状構造ではなく、連続状態であることが必要であり、厚みは4nm以上であることが望ましい。また、金属薄膜層が厚すぎると透明性が問題になるので30nm以下が望ましい。金属薄膜層が複数ある場合は、各層が全て同じ厚みとは限らず、また、全て銀、あるいは、同じ銀を含む合金でなくともよい。  The thickness of the metal thin film layer is optically and experimentally determined from the conductivity and optical characteristics, and is not particularly limited as long as the transparent conductive layer has the required characteristics. However, it is necessary that the thin film has a continuous state instead of an island structure due to conductivity and the like, and the thickness is desirably 4 nm or more. Further, if the metal thin film layer is too thick, transparency becomes a problem. When there are a plurality of metal thin film layers, the layers are not necessarily all the same thickness, and may not be all silver or an alloy containing the same silver.

金属薄膜層の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、メッキ等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。  For forming the metal thin film layer, any of the conventionally known methods such as sputtering, ion plating, vacuum deposition, and plating can be employed.

高屈折率透明薄膜層(a)を形成する透明薄膜としては、可視領域において透明性を有し、金属薄膜層の可視領域における光線反射を防止する効果を有する材料であれば特に限定されるものではないが、可視光線に対する屈折率が1.6以上、好ましくは1.8以上、さらに好ましくは2.0以上の屈折率の高い材料が用いられる。このような透明薄膜を形成する具体的な材料としては、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化物、または、これら酸化物の混合物、あるいは硫化亜鉛などが挙げられる。  The transparent thin film forming the high-refractive-index transparent thin film layer (a) is not particularly limited as long as it has transparency in the visible region and has an effect of preventing light reflection in the visible region of the metal thin film layer. However, a material having a high refractive index to visible light of 1.6 or more, preferably 1.8 or more, more preferably 2.0 or more is used. Specific materials for forming such a transparent thin film include oxides of indium, titanium, zirconium, bismuth, tin, zinc, antimony, tantalum, cerium, neodymium, lanthanum, thorium, magnesium, gallium, and the like, or A mixture of oxides, zinc sulfide, and the like can be given.

これら酸化物あるいは硫化物は、金属と、酸素原子あるいは硫黄原子との化学量論的な組成にズレがあっても、光学特性を大きく変えない範囲であるならば差し支えない。なかでも、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、あるいは酸化インジウムと酸化スズとの混合物(ITO)は、透明性および高屈折率に加えて、成膜速度が速く、金属薄膜層との密着性等が良好であることから好適に使用できる。  These oxides or sulfides do not matter even if the stoichiometric composition of the metal and the oxygen atom or the sulfur atom deviates as long as the optical characteristics are not largely changed. Among them, zinc oxide, titanium oxide, indium oxide, or a mixture of indium oxide and tin oxide (ITO) has a high film-forming speed in addition to transparency and a high refractive index, and has an adhesive property with a metal thin film layer. Can be favorably used because of good.

高屈折率透明薄膜層の厚みは、高分子フィルム(透明基体ともいう)の光学特性、金属薄膜層の厚み、光学特性、および、透明薄膜層の屈折率等から光学設計的かつ実験的に求められ、特に限定されるものではないが、5nm以上、200nm以下であることが好ましく、より好ましくは10nm以上、100nm以下である。また複数の高屈折率透明薄膜層を有する場合には、各層は同じ厚みとは限らず、また同じ透明薄膜材料でなくともよい。  The thickness of the high-refractive-index transparent thin film layer is determined optically and experimentally from the optical characteristics of the polymer film (also referred to as a transparent substrate), the thickness and optical characteristics of the metal thin film layer, and the refractive index of the transparent thin film layer. Although not particularly limited, it is preferably 5 nm or more and 200 nm or less, more preferably 10 nm or more and 100 nm or less. When a plurality of high-refractive-index transparent thin film layers are provided, each layer is not limited to the same thickness and may not be the same transparent thin film material.

高屈折率透明薄膜層の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、または湿式塗工等の従来公知の方法のいずれでも採用できる。  For forming the high-refractive-index transparent thin film layer, any conventionally known method such as sputtering, ion plating, ion beam assist, vacuum deposition, or wet coating can be employed.

上記の透明導電層の耐環境性を向上させるために、透明導電層の表面に、導電性および光学特性を著しく損なわない程度に、有機物または無機物の任意の保護層を設けてもよい。また、金属薄膜層の耐環境性、および金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との密着性等を向上させるため、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との間に、導電性および光学特性を損なわない程度に任意の無機物層を形成してもよい。これらの具体的な材料としては銅、ニッケル、クロム、金、白金、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、スズ、パラジウム等、あるいはこれらの材料の2種類以上からなる合金が挙げられる。その厚みは、好ましくは、0.2nm〜2nm程度である。  In order to improve the environmental resistance of the transparent conductive layer, an optional organic or inorganic protective layer may be provided on the surface of the transparent conductive layer to such an extent that conductivity and optical properties are not significantly impaired. In addition, in order to improve the environmental resistance of the metal thin film layer and the adhesion between the metal thin film layer and the high refractive index transparent thin film layer, the conductivity and optical properties between the metal thin film layer and the high refractive index transparent thin film layer are increased. An arbitrary inorganic layer may be formed to the extent that the characteristics are not impaired. Specific examples of these materials include copper, nickel, chromium, gold, platinum, zinc, zirconium, titanium, tungsten, tin, palladium, and the like, and alloys composed of two or more of these materials. Its thickness is preferably about 0.2 nm to 2 nm.

所望の光学特性の透明導電層を得るには、得ようとする電磁波シールド能の為の導電性、つまり、金属薄膜材料およびその厚みを勘案して、高分子フィルムおよび薄膜材料の光学定数(屈折率および消光係数)を用いたベクトル法、アドミッタンス図を用いる方法等を使った光学設計を行い、各層の薄膜材料、層数、および膜厚等を決定する。この際、透明導電層上に形成される隣接層を考慮すると良い。このことは高分子フィルム上に形成された透明導電層への光の入射媒質が、空気または真空等の屈折率1の入射媒質と違うために透過色(ならびに透過率、反射色および反射率)が変化するためである。すなわち、透明導電層上に機能性透明層を形成する際に透明粘着層を介する場合は、透明粘着層の光学定数を考慮する設計を行う。また、透明導電層上に機能性透明層を直接する場合は、透明導電層と接する材料の光学定数を考慮する設計を行う。  In order to obtain a transparent conductive layer having desired optical characteristics, the optical constant (refractive index) of the polymer film and the thin film material should be taken into consideration, considering the conductivity for the electromagnetic wave shielding ability to be obtained, that is, the metal thin film material and its thickness. The optical design is performed using a vector method using a rate and an extinction coefficient, a method using an admittance diagram, and the like, and the thin film material, the number of layers, the film thickness, and the like of each layer are determined. At this time, it is good to consider an adjacent layer formed on the transparent conductive layer. This is because the incident medium of light to the transparent conductive layer formed on the polymer film is different from the incident medium having a refractive index of 1, such as air or vacuum, so that the transmitted color (and the transmittance, the reflected color and the reflectance) are different. Is changed. That is, when the functional transparent layer is formed on the transparent conductive layer via the transparent adhesive layer, a design is performed in consideration of the optical constant of the transparent adhesive layer. In the case where a functional transparent layer is directly formed on the transparent conductive layer, a design is performed in consideration of the optical constant of a material in contact with the transparent conductive layer.

上述のように、透明導電層の設計を行なうことによって、高屈折率透明薄膜層(a)では高分子フィルムから見て最下層と最上層とがその間の層よりも薄く、金属薄膜層(b)では高分子フィルムから見て最下層がその他の層よりも薄く、屈折率1.45〜1.65および消光係数ほぼ0である、厚み10〜50μmの粘着剤が隣接層であるとき、透明積層体の反射が著しく増加せず、隣接層形成による界面反射の増加が2%以下となる。  As described above, by designing the transparent conductive layer, in the high refractive index transparent thin film layer (a), when viewed from the polymer film, the lowermost layer and the uppermost layer are thinner than the layer between them, and the metal thin film layer (b) In (1), when the lowermost layer is thinner than the other layers as viewed from the polymer film, and the pressure-sensitive adhesive having a refractive index of 1.45 to 1.65 and an extinction coefficient of almost 0 and having a thickness of 10 to 50 μm is an adjacent layer, it is transparent The reflection of the laminate does not increase significantly, and the increase in interfacial reflection due to the formation of the adjacent layer is 2% or less.

特に、繰り返し回数が3回、すなわち、計7層からなる透明導電層においては、3層ある金属薄膜層(b)のうちの2番目の金属薄膜層、すなわち高分子フィルムからみて4番目の層が他の層より厚いと、前記粘着剤が隣接層であるときに、透明積層体の反射が著しく増加しない。  In particular, in the case of a transparent conductive layer having three repetitions, ie, a total of seven layers, the second metal thin film layer of the three metal thin film layers (b), that is, the fourth layer viewed from the polymer film Is thicker than the other layers, the reflection of the transparent laminate does not significantly increase when the pressure-sensitive adhesive is an adjacent layer.

光学定数はエリプソメトリ(楕円偏光解析法)またはアッベ屈折計によって測定でき、また、光学特性を観察しながら、層数、膜厚等を制御して成膜を行うこともできる。  The optical constant can be measured by ellipsometry (ellipsometric analysis) or Abbe refractometer, and the film can be formed by controlling the number of layers and the film thickness while observing the optical characteristics.

本発明におけるディスプレイ用フィルタの透明導電層は金属メッシュ層であることも好ましい。  The transparent conductive layer of the display filter in the present invention is also preferably a metal mesh layer.

単層の金属メッシュ層は、高分子フィルム上に銅メッシュ層を形成したものが好ましく、高分子フィルム上に銅箔を貼り合せ、その後メッシュ状に加工する。  The single-layer metal mesh layer is preferably formed by forming a copper mesh layer on a polymer film. A copper foil is bonded on the polymer film, and then processed into a mesh.

本発明に用いられる銅箔は、圧延銅、電解銅とも使い得るが、金属層は多孔性のものが好ましく用いられ、その孔径は、0.5〜5μmが好ましく、さらに好ましくは、0.5〜3μmであり、さらに好ましくは0.5〜1μmである。孔径が5μmよりも大きくなるとパターニングの障害になる恐れがあり、また、0.5μmよりも小さくなると光線透過率の向上が期待しにくい。なお、銅箔のポロシティとしては、0.01〜20%の範囲が好ましく、さらに好ましくは、0.02〜15%、特に好ましくは0.02〜5%である。本発明でいう「ポロシティ」とは、体積をRとして、孔容積をPとしたときに、P/Rで定義される値である。例えば、体積0.1ccに対応する銅箔の孔容積を、水銀ポロシティで測定したところ0.001ccであったとすると、ポロシティは1%ということができる。用いられる銅箔は、各種表面処理をされていても構わない。具体的に例示すれば、クロメート処理、租面化処理、酸洗、ジンク・クロメート処理等である。  The copper foil used in the present invention can be used as rolled copper or electrolytic copper, but a porous metal layer is preferably used, and the pore size is preferably 0.5 to 5 μm, more preferably 0.5 to 5 μm. To 3 μm, and more preferably 0.5 to 1 μm. When the hole diameter is larger than 5 μm, there is a possibility that the patterning may be hindered. On the other hand, when the hole diameter is smaller than 0.5 μm, it is difficult to expect an improvement in light transmittance. The porosity of the copper foil is preferably in the range of 0.01 to 20%, more preferably 0.02 to 15%, and particularly preferably 0.02 to 5%. The “porosity” in the present invention is a value defined by P / R when the volume is R and the pore volume is P. For example, if the pore volume of a copper foil corresponding to a volume of 0.1 cc is measured by mercury porosity and is 0.001 cc, the porosity can be said to be 1%. The copper foil used may be subjected to various surface treatments. Specific examples include chromate treatment, surface treatment, pickling, zinc chromate treatment and the like.

銅箔の厚みは3〜30μmが好ましく、より好ましくは、5〜20μm、さらに好ましくは7〜10μmである。この厚みよりも厚いとエッチングに時間を要するという問題があり、また、この厚みよりも薄いと電磁波シールド能に劣るという問題が発生する。  The thickness of the copper foil is preferably 3 to 30 μm, more preferably 5 to 20 μm, and still more preferably 7 to 10 μm. If the thickness is larger than this, there is a problem that it takes time for etching. If the thickness is smaller than this, there arises a problem that the electromagnetic wave shielding performance is inferior.

光透過部分の開口率は60%以上、95%以下が好ましく、より好ましくは65%以上、90%以下、さらにより好ましくは70%以上、85%以下である。開口部の形状は、特に限定されるものではないが、正三角形、正四角形、正六角形、円形、長方形、菱形等に形がそろっており、面内に並んでいることが好ましい。光透過部分の開口部の代表的な大きさは1辺もしくは直径が5〜200μmの範囲であることが好ましい。さらに好ましくは10〜150μmである。この値が大きすぎる、すなわち200μmよりも大きいと電磁波シールド能が低下し、また、この値が小さすぎる、すなわち5μmよりも小さいとディスプレイの画像に好ましくない影響を与える。また、開口部を形成しない部分の金属の幅は5〜50μmが好ましい。すなわちピッチが10〜250μmであることが好ましい。この幅よりも細い、すなわち幅が10μmよりも小さいと、加工がきわめて困難になる。一方、この幅よりも太い、すなわち幅が50μmよりも大きいと、画像に好ましくない影響を与える。  The aperture ratio of the light transmitting portion is preferably 60% or more and 95% or less, more preferably 65% or more and 90% or less, and even more preferably 70% or more and 85% or less. Although the shape of the opening is not particularly limited, it has a regular triangle, a regular square, a regular hexagon, a circle, a rectangle, a rhombus, and the like, and is preferably arranged in a plane. It is preferable that a typical size of the opening of the light transmitting portion is in a range of one side or a diameter of 5 to 200 μm. More preferably, it is 10 to 150 μm. If this value is too large, that is, more than 200 μm, the electromagnetic wave shielding ability is reduced, and if this value is too small, that is, less than 5 μm, it adversely affects the image on the display. Further, the width of the metal in the portion where the opening is not formed is preferably 5 to 50 μm. That is, the pitch is preferably 10 to 250 μm. If the width is smaller than this width, that is, if the width is smaller than 10 μm, processing becomes extremely difficult. On the other hand, if the width is larger than this width, that is, if the width is larger than 50 μm, the image is unfavorably affected.

光透過部分を有する金属層の実質的なシート抵抗とは、上述のパターンよりも5倍以上大きな電極を用いて、上述のパターンの繰り返し単位よりも5倍以上の電極間隔をもつ4端子法によって測定したシート抵抗をいう。例えば、開口部の形状が1辺100μmの正方形で金属層の幅が20μmをもって規則的に正方形が並べられたものであれば、φ1mmの電極を1mm間隔で並べて測定することができる。或いはパターン形成したフィルムを短冊状に加工し、その長手方向の両端に電極を設けて、その抵抗を測り(R)、長手方向の長さa、短手方向の長さbとすると、実質的なシート抵抗=R×b/aで求めることができる。このように測定された値は、0.01Ω/□以上、0.5Ω/□以下が好ましく、より好ましくは0.05Ω/□以上、0.3Ω/□以下である。0.01Ω/□よりも小さな値を得ようとすると膜が厚くなりすぎ、かつ、開口部が十分取れなくなる。一方、0.5Ω/□よりも大きな値にすると十分な電磁波シールド能を得ることができなくなる。  The substantial sheet resistance of a metal layer having a light-transmitting portion is determined by a four-terminal method using an electrode that is five times or more larger than the above-described pattern and having an electrode spacing that is five times or more larger than the repeating unit of the above-described pattern. The measured sheet resistance. For example, when the shape of the opening is a square having a side of 100 μm and the square of the metal layer is regularly arranged with a width of 20 μm, the measurement can be performed by arranging φ1 mm electrodes at 1 mm intervals. Alternatively, the patterned film is processed into a strip shape, electrodes are provided at both ends in the longitudinal direction, and the resistance is measured (R). Sheet resistance = R × b / a. The value thus measured is preferably from 0.01 Ω / □ to 0.5 Ω / □, more preferably from 0.05 Ω / □ to 0.3 Ω / □. If an attempt is made to obtain a value smaller than 0.01 Ω / □, the film becomes too thick and an opening cannot be sufficiently obtained. On the other hand, if the value is larger than 0.5Ω / □, sufficient electromagnetic wave shielding ability cannot be obtained.

銅箔を高分子フィルムにラミネートする方法としては、透明な接着剤を用いる。接着剤の種類としては、アクリル系、エポキシ系、ウレタン系、シリコーン系、ポリエステル系等があるが、特に接着剤に限定はない。2液系および熱硬化タイプが好適に使用される。なお、耐薬品性に優れた接着剤であることが好ましい。高分子フィルムに接着剤を塗布した後、銅箔と貼り合せることもできるし、銅箔に接着剤を貼り合せてもよい。  As a method of laminating a copper foil on a polymer film, a transparent adhesive is used. Examples of the type of the adhesive include an acrylic type, an epoxy type, a urethane type, a silicone type, and a polyester type, but the adhesive is not particularly limited. Two-part and thermosetting types are preferably used. Preferably, the adhesive is excellent in chemical resistance. After applying the adhesive to the polymer film, the adhesive can be attached to the copper foil, or the adhesive may be attached to the copper foil.

光透過部分を形成する方法としては、印刷法あるいはフォトレジスト法を用いることができる。印刷法では印刷レジスト材料を用いたスクリーン印刷法でマスク層をパターン形成する方法が好ましい。フォトレジスト材料を用いる方法では、ロールコーティング法、スピンコーティング法、全面印刷法、転写法などで、金属箔上にフォトレジスト材料をべた形成し、フォトマスクを用いて露光現像してレジストのパターニングを行う。レジストパターニングを完成させた後、開口部とする金属部分を湿式エッチングで除去することで、所望の開口形状と開口率の、光透過部分を有する金属メッシュ層を得ることができる。  As a method for forming the light transmitting portion, a printing method or a photoresist method can be used. In the printing method, a method in which a mask layer is pattern-formed by a screen printing method using a printing resist material is preferable. In the method using a photoresist material, a solid photoresist material is formed on a metal foil by roll coating, spin coating, full-surface printing, transfer, etc., and is exposed and developed using a photomask to pattern the resist. Do. After completion of the resist patterning, the metal portion serving as the opening is removed by wet etching, whereby a metal mesh layer having a light transmitting portion with a desired opening shape and opening ratio can be obtained.

(調色)
また光学フィルタは、ディプレイからの発光色をより好ましいものに調整する機能を有する場合が多い。液晶パネル用フィルタにおいて透明導電層を有さず、調色機能を主な機能とする場合もある。
(Toning)
The optical filter often has a function of adjusting the color of light emitted from the display to a more preferable one. In some cases, a filter for a liquid crystal panel does not have a transparent conductive layer and has a toning function as a main function.

光学フィルタの透過色において、黄緑〜緑色味が強いと、ディスプレイのコントラストが低下し、さらには色純度が低くなり、白色表示も緑色がかったものになることがある。このことは、黄緑〜緑色である550nm前後の波長の光が最も視感度が高いことにもよる。  If the transmission color of the optical filter has a strong yellowish green to green tint, the contrast of the display is reduced, the color purity is further reduced, and the white display may be greenish. This is due to the fact that light having a wavelength of about 550 nm, which is yellowish green to green, has the highest visibility.

多層薄膜は、可視光線透過率および可視光線反射率を重視すると、透過色調に劣る。電磁波シールド能即ち導電性と、近赤外線カット能とをあげるほど、金属薄膜の総膜厚を厚くするが必要がある。しかし、金属薄膜の総膜厚が大きくなる程、透過色が緑色〜黄緑色になる傾向がある。従って、プラズマディスプレイに用いる光学フィルタはその透過色がニュートラルグレーまたはブルーグレーであることが要求される。これは、緑色透過が強いとコントラストが低下すること、赤色および緑色発光色に比べて青色発光が弱いこと、標準白色より若干高めの色温度の白色が好まれること、等による。加えて、光学フィルタの透過特性は、プラズマディスプレイの白色表示の色度座標が極力、黒体軌跡に近いことが望ましい。  The multilayer thin film is inferior in transmission color tone when importance is placed on visible light transmittance and visible light reflectance. It is necessary to increase the total thickness of the metal thin film as the electromagnetic wave shielding ability, that is, the conductivity, and the near-infrared cut ability are increased. However, as the total thickness of the metal thin film increases, the transmission color tends to be green to yellowish green. Therefore, the optical filter used for the plasma display is required to have a transmission color of neutral gray or blue gray. This is due to the fact that when green transmission is strong, contrast is reduced, blue emission is weaker than red and green emission colors, and white with a color temperature slightly higher than standard white is preferred. In addition, regarding the transmission characteristics of the optical filter, it is desirable that the chromaticity coordinates of the white display of the plasma display be as close as possible to the locus of the black body.

多層薄膜を透明導電層(B)に用いた場合は、多層薄膜の色調を補正して光学フィルタの透過色をニュートラルグレーまたはブルーグレーにすることが肝要である。色調を補正するには可視波長領域に吸収のある色素を用いれば良い。例えば、透明導電層(B)の透過色に緑色味がある場合、赤色の色素を用いてグレーに補正し、透過色に黄色味がある場合は青〜紫の色素を用いて補正する。  When a multilayer thin film is used for the transparent conductive layer (B), it is important to correct the color tone of the multilayer thin film so that the transmission color of the optical filter becomes neutral gray or blue gray. To correct the color tone, a dye that absorbs in the visible wavelength region may be used. For example, when the transmission color of the transparent conductive layer (B) has a green tint, the color is corrected to gray using a red dye, and when the transmission color has a yellow tint, correction is performed using a blue to purple dye.

カラープラズマディスプレイでは、希ガスの直流または交流放電によって発生する真空紫外光で励起発光する(Y,Gd,Eu)BO等の赤色(R)発光蛍光体、(Zn,Mn)SiO等の緑色(G)発光蛍光体、(Ba,Eu)MgAl1017:Eu等の青色(B)発光蛍光体が、画素を構成する表示セルに形成されている。蛍光体は、色純度の他に放電セルへの塗布性、残光時間の短さ、発光効率、耐熱性等を指標に選定されており、実用化されている蛍光体はその色純度に改良を要するものが多い。特に赤色発光蛍光体の発光スペクトルは、波長580nmから700nm程度までにわたる数本の発光ピークを示している。比較的強い短波長側の発光ピークは黄〜オレンジ色の発光であるので、赤色発光がオレンジに近い色純度の良くないものとなってしまう問題がある。希ガスにXeとNeとの混合ガスを用いた場合、Ne励起状態の発光緩和によるオレンジ色発光も同様に色純度を低下させてしまう。また、緑色発光および青色発光に関しても、そのピーク波長の位置および発光のブロードさが色純度を低下させる要因となっている。In a color plasma display, a red (R) light-emitting phosphor such as (Y, Gd, Eu) BO 3 or the like, (Zn, Mn) 2 SiO 4 or the like, which is excited and emits by vacuum ultraviolet light generated by a DC or AC discharge of a rare gas. Blue (B) light emitting phosphor such as (Ba, Eu) MgAl 10 O 17 : Eu is formed in a display cell constituting a pixel. In addition to the color purity, the phosphor is selected based on the index of application to the discharge cell, short afterglow time, luminous efficiency, heat resistance, etc. Many require. In particular, the emission spectrum of the red light-emitting phosphor shows several emission peaks ranging from a wavelength of about 580 nm to about 700 nm. Since the relatively strong emission peak on the short wavelength side is emission of yellow to orange, there is a problem that red emission becomes poor in color purity close to orange. When a mixed gas of Xe and Ne is used as the rare gas, orange light emission due to relaxation of light emission in the Ne excited state also deteriorates color purity. Regarding green light emission and blue light emission, the position of the peak wavelength and the broadening of the light emission are factors that lower the color purity.

色純度の高さは、例えば、国際照明委員会(CIE)が定めた横軸色度x、縦軸色度yで色相と彩度を表す座標系において、RGB三色を頂点とした三角形の広さで示す色再現範囲の広さで表すことができる。色純度の低さからプラズマディスプレイの発光の色再現範囲は、NTSC(National Television System Committee)方式で定めているRGB三色の色度が示す色再現範囲より通常狭い。  The height of the color purity is determined by, for example, a triangular shape having three vertexes of RGB in a coordinate system representing hue and saturation by a horizontal axis chromaticity x and a vertical axis chromaticity y defined by the International Commission on Illumination (CIE). It can be represented by the size of the color reproduction range indicated by the size. Due to the low color purity, the color reproduction range of the emission of the plasma display is usually narrower than the color reproduction range indicated by the chromaticity of the three colors RGB defined by the NTSC (National Television System Committee) system.

また、表示セル間での発光の滲み出しに加えて、各色の発光が広い範囲にわたって不必要な光を含んでおり、必要な発光が際立たないことは、色純度だけではなくプラズマディスプレイのコントラストを下げる要因にもなっている。さらに、プラズマディスプレイは一般に室内照明等による外光が存在する明時においては暗時に比べコントラストが悪くなる。これは、基板ガラス、蛍光体等が外光を反射し、不必要な光が必要な光を際立たせなくするために起きる。プラズマディスプレイパネルのコントラスト比は、暗示は100〜200、周囲照度100lx程度の明時は10〜30であり、その向上が課題となっている。また、コントラストが低いことも色再現範囲を狭くしている要因である。  In addition to the bleeding of light emission between display cells, the emission of each color contains unnecessary light over a wide range, and the fact that the required light emission is inconspicuous not only reduces the color purity but also the contrast of the plasma display. It is also a factor to lower. Further, a plasma display generally has a lower contrast in a bright state in which external light due to room lighting or the like is present than in a dark state. This occurs because the substrate glass, the phosphor, and the like reflect external light, and unnecessary light does not make necessary light stand out. The contrast ratio of the plasma display panel is 100 to 200 in the hint, and 10 to 30 in the bright state with the ambient illuminance of about 100 lx. The low contrast is also a factor that narrows the color reproduction range.

コントラストを向上させるためには、ディスプレイ前面にニュートラル・デンシティ(ND)フィルタのように、可視波長領域全体の透過率を下げ、基板ガラス、蛍光体における外光反射等の透過を少なくする方法がある。しかしながら、可視光線透過率が著しく低いと、輝度および画像の鮮明さが低下することになり、また色純度の改善はあまり見られない。  In order to improve the contrast, there is a method of lowering the transmittance in the entire visible wavelength region and reducing the transmission of external light reflection and the like in the substrate glass and the phosphor, such as a neutral density (ND) filter in front of the display. . However, if the visible light transmittance is extremely low, the brightness and the sharpness of the image are reduced, and the color purity is not significantly improved.

本発明者らは、カラープラズマディスプレイの発光色の色純度およびコントラストを向上させることは、発光色の色純度およびコントラストを下げる原因となる不要発光および外光反射を低減することによって達成できることを見出した。  The present inventors have found that improving the color purity and contrast of the luminescent color of a color plasma display can be achieved by reducing unnecessary light emission and external light reflection, which cause a reduction in the color purity and contrast of the luminescent color. Was.

また、本発明者らは、色素を用いることによって、光学フィルタをニュートラルグレーまたはニュートラルブルーに調色するだけではなく、発光色の色純度およびコントラストを下げる原因となる不要発光および外光反射を低減できることを見出した。特に、赤色発光がオレンジに近いものは顕著であり、その原因である波長580nm〜605nmの発光を低減することによって赤色発光の色純度を向上させることができることを見い出した。  In addition, by using a dye, the present inventors not only adjust the optical filter to neutral gray or neutral blue, but also reduce unnecessary light emission and external light reflection that cause a reduction in color purity and contrast of the emission color. I found what I can do. In particular, the red emission is remarkably orange, and it has been found that the color purity of the red emission can be improved by reducing the emission at a wavelength of 580 nm to 605 nm.

本発明の光学フィルタにおいて、不要発光および外光反射の低減は、波長570nm〜605nmに吸収極大を有する色素をシールド体に含有させることによって行うことができる。この際、ディスプレイ用フィルタによって、赤色である発光ピークのある波長615nm〜640nmの光線透過を著しく損なってしまわないことが必要である。  In the optical filter of the present invention, reduction of unnecessary light emission and reflection of external light can be performed by including a dye having a maximum absorption at a wavelength of 570 nm to 605 nm in the shield. In this case, it is necessary that the display filter does not significantly impair the transmission of light having a wavelength of 615 nm to 640 nm having a red emission peak.

色素はブロードな吸収範囲を有しており、所望の吸収ピークを有する色素であっても、その裾の吸収によって好適な波長の発光まで吸収してしまうことがある。Neによる発光が存在する場合は、オレンジ色発光の低減を行うこともできるため、RGB表示セルからの発光の色純度が向上する。  Dyes have a broad absorption range, and even a dye having a desired absorption peak may absorb light of a suitable wavelength due to absorption at the bottom. When light emission by Ne is present, orange light emission can be reduced, so that the color purity of light emission from the RGB display cells is improved.

また、カラープラズマディスプレイの緑発光はブロードであり、そのピーク位置は、例えば、NTSC方式で要求される緑色よりも若干長波長側、すなわち黄緑側にあることがある。  The green emission of the color plasma display is broad, and the peak position may be slightly longer than the green required by the NTSC system, for example, on the yellow-green side.

本発明者らは、波長570nm〜605nmに吸収極大を有する色素の短波長側の吸収によって、緑色発光の長波長側を吸収して削り、さらに不要発光を削ること、および/または、ピークをシフトさせることによって色純度を向上できることを見出した。  The present inventors absorb and cut off the long-wavelength side of green light emission and further cut off unnecessary light emission, and / or shift the peak by absorption of the dye having the absorption maximum at a wavelength of 570 nm to 605 nm on the short wavelength side. It has been found that the color purity can be improved by doing so.

赤色発光、更に加えて緑色発光の色純度向上には、波長570nm〜605nmに吸収極大を有する色素を用いることによって、波長570nm〜605nmにおける光学フィルタの最低透過率が、必要な赤色発光のピーク位置での透過率に対して80%以下であることが好適である。  In order to improve the color purity of red light emission and green light emission, in addition, by using a dye having an absorption maximum at a wavelength of 570 nm to 605 nm, the minimum transmittance of the optical filter at a wavelength of 570 nm to 605 nm is set to a required red light emission peak position. Is preferably 80% or less with respect to the transmittance at

青色発光の色純度が低い場合は、赤色発光、緑色発光と同様に、不要発光を低減し、また、そのピーク波長をシフトさせ、青緑発光を吸収する色素を用いれば良い。さらに、色素による吸収は、外光の蛍光体への入射を低減することによって蛍光体での外光反射を低減させることができる。このことによってもまた色純度およびコントラストを向上させることができる。  When the color purity of blue light emission is low, a dye that reduces unnecessary light emission, shifts its peak wavelength, and absorbs blue-green light emission may be used similarly to red light emission and green light emission. Further, absorption by the dye can reduce external light reflection on the phosphor by reducing the incidence of external light on the phosphor. This can also improve color purity and contrast.

本発明の光学フィルタに色素を含有させる手法としては、
(1)透明な樹脂に少なくとも1種類以上の色素を混錬させた高分子フィルムを用いる方法、
(2)樹脂または樹脂モノマ/有機系溶媒の樹脂濃厚液に少なくとも1種類以上の色素を分散・溶解させ、キャスティング法により作製した高分子フィルムを用いる方法、
(3)樹脂バインダーと有機系溶媒とに少なくとも1種類以上の色素を加え、塗料として透明な基体上にコーティングしたものを用いる方法、
(4)1種類または複数種類の色素を含有する透明な粘着剤を用いる方法、
があり、これらの方法(1)〜(4)から1または複数が選択される。
As a method of including a dye in the optical filter of the present invention,
(1) a method of using a polymer film obtained by kneading at least one kind of dye in a transparent resin,
(2) a method of dispersing and dissolving at least one or more dyes in a resin or a resin concentrate of a resin monomer / organic solvent and using a polymer film produced by a casting method;
(3) a method in which at least one or more kinds of dyes are added to a resin binder and an organic solvent and coated on a transparent substrate as a paint;
(4) a method using a transparent adhesive containing one or more kinds of dyes,
And one or more of these methods (1) to (4) are selected.

本発明でいう「含有」とは、基材または塗膜等の層または粘着剤の内部に含有されることは勿論、基材または層の表面に塗布した状態をも意味する。  The term “contained” in the present invention means not only that it is contained in a layer such as a substrate or a coating film or inside a pressure-sensitive adhesive, but also that it is applied to the surface of a substrate or a layer.

色素は、可視領域に所望の吸収波長を有する染料または顔料で良く、その種類は特に限定されるものではない。色素は、例えば、アントラキノン系、フタロシアニン系、メチン系、アゾメチン系、オキサジン系、アゾ系、スチリル系、クマリン系、ポルフィリン系、ジベンゾフラノン系、ジケトピロロピロール系、ローダミン系、キサンテン系、ピロメテン系等の一般に市販もされている有機色素があげられる。色素の種類および濃度は、色素の吸収波長および吸収係数、透明導電層の色調、光学フィルタに要求される透過特性および透過率、ならびに分散させる媒体または塗膜の種類および厚みから決まり、特に限定されるものではない。  The dye may be a dye or pigment having a desired absorption wavelength in the visible region, and the type is not particularly limited. Dyes include, for example, anthraquinone, phthalocyanine, methine, azomethine, oxazine, azo, styryl, coumarin, porphyrin, dibenzofuranone, diketopyrrolopyrrole, rhodamine, xanthene, pyromethene And other commercially available organic dyes. The type and concentration of the dye are determined by the absorption wavelength and absorption coefficient of the dye, the color tone of the transparent conductive layer, the transmission characteristics and transmittance required for the optical filter, and the type and thickness of the medium or coating film to be dispersed, and are particularly limited. Not something.

透明導電層(B)に多層薄膜を用いる場合、電磁波シールド能に加え、近赤外線カット能も有しているが、より高い近赤外線カット能が必要であったり、透明導電層が近赤外線カット能を有していない場合に、近赤外線カット能をディスプレイ用フィルタに付与するために、前記色素に近赤外線吸収色素を1種類以上併用しても良い。  When a multilayer thin film is used for the transparent conductive layer (B), it has a near-infrared cut ability in addition to an electromagnetic wave shielding ability. In the case where it does not have one, one or more kinds of near-infrared absorbing dyes may be used in combination with the above dyes in order to impart near-infrared cut ability to the display filter.

近赤外線吸収色素としては、透明導電層の近赤外線カット能を補填し、プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線を十分実用的になる程度に吸収するものであれば、特に限定されるものではなく、濃度も限定されるものではない。近赤外線吸収色素としては、例えば、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、またはジイミニウム系化合物が挙げられる。  The near-infrared absorbing dye is not particularly limited as long as it complements the near-infrared cut ability of the transparent conductive layer and absorbs near-infrared light emitted by the plasma display to an extent that makes it practical enough. The concentration is not limited. Examples of the near infrared absorbing dye include a phthalocyanine-based compound, an anthraquinone-based compound, a dithiol-based compound, and a diiminium-based compound.

プラズマディスプレイパネルはパネル表面の温度が高く、特に環境の温度が高いときは光学フィルタの温度も上がるため、本発明で用いる色素は、耐熱性、例えば、80℃で分解等によって顕著に劣化しない耐熱性を有していることが好適である。  Since the plasma display panel has a high panel surface temperature, particularly when the temperature of the environment is high, the temperature of the optical filter also increases. Therefore, the dye used in the present invention has heat resistance, for example, heat resistance that does not significantly deteriorate at 80 ° C. due to decomposition or the like. It is preferable to have the property.

また、色素によっては、耐熱性に加えて、耐光性に乏しいものもある。プラズマディスプレイの発光、外光の紫外線および可視光線による色素の劣化が問題になる場合には、紫外線吸収剤を含む部材、あるいは紫外線を透過しない部材を用いることによって、色素の紫外線による劣化を低減すること、紫外線および可視光線による顕著な劣化がない色素を用いることが肝要である。  Some dyes have poor light resistance in addition to heat resistance. When the deterioration of the dye due to the emission of the plasma display, ultraviolet light of external light and visible light becomes a problem, the deterioration of the dye due to ultraviolet light is reduced by using a member containing an ultraviolet absorber or a member that does not transmit ultraviolet light. It is important to use a dye that does not significantly deteriorate due to ultraviolet light and visible light.

熱、光に加えて、湿度、およびこれらの複合した環境においても同様である。色素が劣化すると光学フィルタの透過特性が変わってしまう。  The same is true for heat, light, humidity, and their combined environment. Deterioration of the dye changes the transmission characteristics of the optical filter.

実際に、プラズマディスプレイパネルの表面温度が70℃から80℃になることは特開平8−220303号に明記されている。また、プラズマディスプレイパネルより発生する光は、例えば、300cd/mと明記されており(富士通株式会社Image Site カタログAD25−000061C Oct.1997M)、立体角を2πとして、これを2万時間照射すると、2π×20000×300=3800万(lx・時間)となることから、実用上数千万(lx・時間)程度の耐光性が必要になることが分かる。Actually, it is specified in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-220303 that the surface temperature of the plasma display panel changes from 70 ° C. to 80 ° C. Further, the light generated from the plasma display panel is specified as, for example, 300 cd / m 2 (Fujitsu Limited Image Site Catalog AD25-0061C Oct. 1997M). Since 2π × 20,000 × 300 = 38 million (lx · hour), it is understood that light resistance of about tens of millions (lx · hour) is practically required.

さらには、色素を媒体または塗膜中に分散させるために、色素の適宜の溶媒への溶解性も重要である。異なる吸収波長を有する色素2種類以上を一つの媒体または塗膜に含有させても良い。  Furthermore, in order to disperse the dye in a medium or a coating film, the solubility of the dye in an appropriate solvent is also important. Two or more dyes having different absorption wavelengths may be contained in one medium or coating film.

本発明の光学フィルタは、カラープラズマディスプレイの輝度および視認性を著しく損なわない優れた透過特性および透過率を有し、カラープラズマディスプレイの発光色の色純度およびコントラストを向上させることができる。本発明者らは、1種以上含有せしめる色素の、少なくとも一つがテトラアザポルフィリン化合物の場合には、特に低減したい570〜605nmの不要発光の波長と同じか、または近い波長に主要吸収波長を有し、且つ、吸収波長幅が比較的狭いので、好適な発光を吸収してしまうことによる輝度の損失を少なくできることを見出した。これによって、優れた透過特性、透過率、発光色の色純度およびコントラストを向上させる能力が優れた光学フィルタを得ることができた。  The optical filter of the present invention has excellent transmission characteristics and transmittance without significantly impairing the brightness and visibility of the color plasma display, and can improve the color purity and contrast of the emission color of the color plasma display. The present inventors have found that when at least one of the dyes to be contained is a tetraazaporphyrin compound, the main absorption wavelength is at or near the wavelength of the unnecessary emission of 570 to 605 nm which is particularly desired to be reduced. In addition, since the absorption wavelength width is relatively narrow, it has been found that loss of luminance due to absorption of suitable light emission can be reduced. As a result, it was possible to obtain an optical filter having excellent transmission characteristics, transmittance, and ability to improve the color purity of emitted light and the contrast.

本発明の光学フィルタにおいては、上述の色素を含有させる方法(1)〜(4)は、色素を含有する高分子フィルム(A)、色素を含有する後述の透明粘着層(C)または(D)、色素を含有する後述の機能性透明層(E)、色素を含有する上述のハードコート層(F)のうちの1または複数の層において実施することができる。色素を含有する後述の機能性透明層(E)は、色素を含有し且つ各機能を有する膜、色素を含有し且つ各機能を有する膜が高分子フィルム上に形成されたもの、各機能を有する膜が色素を含有する基材に形成されたもの、のいずれでも良い。  In the optical filter of the present invention, the methods (1) to (4) for containing the dye include the polymer film (A) containing the dye and the transparent adhesive layer (C) or (D) described below containing the dye. ), One or more of a functional transparent layer (E) described below containing a dye, and a hard coat layer (F) described above containing a dye. The functional transparent layer (E) described below containing a dye is a film containing a dye and having each function, a film containing a dye and having each function formed on a polymer film, and each function. The film may be formed on a substrate containing a dye.

本発明では、異なる吸収波長を有する色素2種類以上を一つの媒体または塗膜に含有させてもよく、また色素層を2つ以上有していても良い。  In the present invention, two or more dyes having different absorption wavelengths may be contained in one medium or coating film, or two or more dye layers may be provided.

まず、樹脂に色素を混練し、加熱成形する(1)の方法について説明する。樹脂材料としては、プラスチック板または高分子フィルムにした場合にできるだけ透明性の高いものが好ましく、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン6等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン/トリフルオロエチレン共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重体等のビニル化合物またはフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等を挙げることが出来るが、これらの樹脂に限定されるものではない。  First, the method of (1) in which a resin is kneaded with a dye and heat molded is described. The resin material is preferably as transparent as possible when formed into a plastic plate or a polymer film. Specifically, polyethylene terephthalate, polyether sulfone, polystyrene, polyethylene naphthalate, polyarylate, polyether ether ketone Polyamide such as polycarbonate, polyethylene, polypropylene, nylon 6, cellulose resin such as polyimide, triacetyl cellulose, fluorine resin such as polyurethane, polytetrafluoroethylene, vinyl compound such as polyvinyl chloride, polyacrylic acid, polyacrylic Acid ester, polyacrylonitrile, addition polymer of vinyl compound, polymethacrylic acid, polymethacrylic acid ester, vinylidene compound such as polyvinylidene chloride, vinylidene fluoride / trif Examples include vinyl compounds or copolymers of fluorine compounds such as ethylene copolymers and ethylene / vinyl acetate copolymers, polyethers such as polyethylene oxide, epoxy resins, polyvinyl alcohol, and polyvinyl butyral. However, the present invention is not limited to this.

作製方法としては、用いる色素、ベース高分子によって、加工温度、フィルム化条件等が多少異なるが、
(i)ベース高分子の粉体或いはペレットに色素を添加し、150〜350℃で加熱、溶解させた後、成形してプラスチック板を作製する方法、
(ii)押出し機によりフィルム化する方法、
(iii)押出し機により原反を作製し、30〜120℃で2〜5倍に、1軸延伸または2軸延伸して10〜200μm厚のフィルムにする方法、等が挙げられる。
As the production method, depending on the dye used, the base polymer, the processing temperature, film formation conditions and the like are slightly different,
(I) a method in which a pigment is added to a base polymer powder or pellet, heated and dissolved at 150 to 350 ° C., and then molded to produce a plastic plate;
(Ii) a method of forming a film with an extruder,
(Iii) A method of producing a raw material using an extruder and uniaxially or biaxially stretching the film at a temperature of 30 to 120 ° C. to 2 to 5 times to obtain a film having a thickness of 10 to 200 μm.

混練する際に可塑剤等の通常の樹脂成型に用いる添加剤を加えてもよい。色素の添加量は、色素の吸収係数、作製する高分子成形体の厚み、目的の吸収強度、目的の透過特性および透過率等によって異なるが、ベース高分子成形体の重量に対して1ppm〜20%である。  At the time of kneading, an additive such as a plasticizer used for ordinary resin molding may be added. The amount of the dye to be added depends on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the polymer molded article to be produced, the intended absorption intensity, the intended transmission characteristics and the transmittance, etc. %.

(2)のキャスティング法では、樹脂または樹脂モノマを有機系溶媒に溶解させた樹脂濃厚液に、色素を添加・溶解させ、必要であれば可塑剤、重合開始剤、酸化防止剤を加え、必要とする面状態を有する金型やドラム上へ流し込み、溶剤揮発・乾燥または重合・溶剤揮発・乾燥させることにより、プラスチック板、高分子フィルムを得る。  In the casting method (2), a dye is added and dissolved in a resin concentrate obtained by dissolving a resin or a resin monomer in an organic solvent, and if necessary, a plasticizer, a polymerization initiator, and an antioxidant are added. A plastic plate or a polymer film is obtained by pouring the mixture into a mold or a drum having the following surface condition and subjecting it to solvent evaporation and drying or polymerization, solvent evaporation and drying.

樹脂または樹脂モノマとしては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂(PVB、EVA等)或いはそれらの共重合樹脂の樹脂モノマを用いる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等を用いる。  As the resin or resin monomer, an aliphatic ester resin, an acrylic resin, a melamine resin, a urethane resin, an aromatic ester resin, a polycarbonate resin, an aliphatic polyolefin resin, an aromatic polyolefin resin, a polyvinyl resin, a polyvinyl alcohol resin, Polyvinyl-modified resin (PVB, EVA, etc.) or a resin monomer of these copolymer resins is used. As the solvent, a halogen-based, alcohol-based, ketone-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ether-based solvent, or a mixture thereof is used.

色素の濃度は、色素の吸収係数、板またはフィルムの厚み、目的の吸収強度、目的の透過特性および透渦率等によって異なるが、樹脂モノマの重量に対して、通常、1ppm〜20%である。
また、樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、1〜90%である。
The concentration of the dye varies depending on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the plate or film, the target absorption intensity, the target transmission characteristics, the vortex permeability, and the like, but is usually 1 ppm to 20% based on the weight of the resin monomer. .
Further, the resin concentration is usually 1 to 90% based on the whole paint.

塗料化してコーティングする(3)の方法としては、色素をバインダー樹脂および有機系溶媒に溶解させて塗料化する方法、または未着色のアクリルエマルジョン塗料に色素を微粉砕(50〜500nm)したものを分散させてアクリルエマルジョン系水性塗料とする方法、等がある。  As the method of (3) for coating by coating, a method of dissolving a dye in a binder resin and an organic solvent to form a coating, or a method in which an uncolored acrylic emulsion paint is finely pulverized (50 to 500 nm) is used. There is a method of dispersing into an acrylic emulsion-based water-based paint, and the like.

前者の方法では、通常、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂(PVB、EVA等)或いはそれらの共重合樹脂をバインダー樹脂として用いる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等を用いる。  In the former method, usually, an aliphatic ester resin, an acrylic resin, a melamine resin, a urethane resin, an aromatic ester resin, a polycarbonate resin, an aliphatic polyolefin resin, an aromatic polyolefin resin, a polyvinyl resin, a polyvinyl alcohol resin, A modified polyvinyl resin (PVB, EVA, etc.) or a copolymer thereof is used as a binder resin. As the solvent, a halogen-based, alcohol-based, ketone-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ether-based solvent, or a mixture thereof is used.

色素の濃度は、色素の吸収係数、コーティングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、バインダー樹脂の重量に対して、通常、0.1〜30%である。  The concentration of the dye varies depending on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the coating, the desired absorption intensity, the desired visible light transmittance, and the like, but is usually 0.1 to 30% based on the weight of the binder resin.

また、バインダー樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、1〜50%である。後者のアクリルエマルジョン系水系塗料の場合も、前記と同様に、未着色のアクリルエマルジョン塗料に、色素を微粉砕(50〜500nm)したものを分散させて得られる。塗料中には、酸化防止剤等の通常塗料に用いるような添加物を加えてもよい。  Further, the binder resin concentration is usually 1 to 50% with respect to the whole paint. Similarly, in the case of the latter acrylic emulsion-based water-based paint, a pigment obtained by finely pulverizing (50 to 500 nm) a pigment is dispersed in an uncolored acrylic emulsion paint. Additives such as antioxidants and the like used in ordinary paints may be added to the paint.

上述の方法で作製した塗料は、透明高分子フィルム、透明樹脂、透明ガラス等の上にバーコータ、ブレードコータ、スピンコータ、リバースコータ、ダイコータ、或いはスプレー等の従来公知のコーティングをして、色素を含有する基材を作製する。  The coating material prepared by the above-described method contains a pigment, such as a bar coater, a blade coater, a spin coater, a reverse coater, a die coater, or a conventionally known coating such as a spray, on a transparent polymer film, a transparent resin, or a transparent glass. A substrate to be manufactured is prepared.

コーティング面を保護するために保護層を設けたり、コーティング面を保護するようにコーティング面に、光学フィルタの他の構成部材を貼り合わせても良い。  A protective layer may be provided to protect the coated surface, or another component of the optical filter may be bonded to the coated surface so as to protect the coated surface.

色素を含有する粘着剤として用いる方法(4)では、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤(PVB)、エチレン−酢酸ビニル系接着剤(EVA)等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等のシート状または液状の粘着剤または接着剤に、色素を10ppm〜30%添加して用いる。  In the method (4) used as a pressure-sensitive adhesive containing a dye, a polyvinyl adhesive such as an acrylic adhesive, a silicone adhesive, a urethane adhesive, a polyvinyl butyral adhesive (PVB), an ethylene-vinyl acetate adhesive (EVA), or the like is used. A pigment is added to a sheet-like or liquid pressure-sensitive adhesive or adhesive such as ether, saturated amorphous polyester, or melamine resin with 10 ppm to 30% added.

これらの方法では、色素含有の光学フィルタの耐光性を上げるために紫外線吸収剤を色素と共に含有させることもできる。紫外線吸収剤の種類、濃度は特に限定されない。  In these methods, an ultraviolet absorber can be contained together with the dye in order to increase the light resistance of the dye-containing optical filter. The type and concentration of the ultraviolet absorber are not particularly limited.

(電極)
電磁波シールドを必要とする機器には、機器のケース内部に金属層を設けたり、ケースに導電性材料を使用して電磁波を遮断する。ディスプレイのように透明性が必要である場合には、窓状に形成された透明導電層によって付与された電磁波シールド機能を有する光学フィルタを設置する。電磁波は透明導電層において吸収された後、光学フィルタに電荷を誘起するので、アースをとることによって光学フィルタから電荷を逃がさないと、再び光学フィルタがアンテナとなって電磁波を発振してしまい、電磁波シールド能が低下する。したがって、光学フィルタとディスプレイ本体のアース部とが電気的に接続している必要がある。そのため、透明導電層(B)上に透明粘着層(D)および機能性透明層(E)が形成されている場合には、透明粘着層(D)および機能性透明層(E)は、導通部を残すように透明導電層(B)上に形成されることが好ましい。この導通部を用いて電極を形成する。導通部の形状は特に限定しないが、光学フィルタとディスプレイ本体との間に、電磁波の漏洩する隙間が存在しないことが肝要である。
(electrode)
For devices that require an electromagnetic wave shield, a metal layer is provided inside the case of the device, or the case is shielded from electromagnetic waves by using a conductive material. When transparency is required as in a display, an optical filter having an electromagnetic wave shielding function provided by a transparent conductive layer formed in a window shape is provided. Since the electromagnetic wave induces electric charge in the optical filter after being absorbed in the transparent conductive layer, unless the charge is released from the optical filter by grounding, the optical filter again becomes an antenna and oscillates the electromagnetic wave. The shielding ability decreases. Therefore, it is necessary that the optical filter and the ground part of the display body are electrically connected. Therefore, when the transparent adhesive layer (D) and the functional transparent layer (E) are formed on the transparent conductive layer (B), the transparent adhesive layer (D) and the functional transparent layer (E) It is preferably formed on the transparent conductive layer (B) so as to leave a portion. An electrode is formed using this conductive part. Although the shape of the conductive portion is not particularly limited, it is important that there is no gap for leakage of electromagnetic waves between the optical filter and the display body.

電気的接触を良好とするために、導通部に導電材料を付与して電極を形成しても良い。付与する形状は特に限定しない。しかしながら、導通部をすべて覆うように形成されていることが好適である。  In order to improve the electrical contact, a conductive material may be applied to the conductive portion to form an electrode. The shape to be provided is not particularly limited. However, it is preferable that it is formed so as to cover all the conductive portions.

本発明における電極は、透明導電層を含む光学フィルタを構成する層のそれぞれに導電性材料を接触させて形成されていてもよい。本発明の光学フィルタでは、少なくとも透明導電性層とそれを保護するための層が層状をなしていることが観察できる。適当な導電性材料が透明導電層と各層とにおいて接触していれば、所望の電極を得ることができる。  The electrode in the present invention may be formed by bringing a conductive material into contact with each of the layers constituting the optical filter including the transparent conductive layer. In the optical filter of the present invention, it can be observed that at least the transparent conductive layer and the layer for protecting the transparent conductive layer are layered. If a suitable conductive material is in contact with the transparent conductive layer and each layer, a desired electrode can be obtained.

この場合に透明導電層上に形成される透明粘着層の端部が透明導電層の端部よりも内側に入り込んでいると、導電性ペースト等を用いて電極を形成する場合に、透明粘着層の端部と透明導電層の端部との間の隙間部分に導電性ペーストが入り込み、透明導電層と電極との接触面積が増加するので好ましい。  In this case, when the end of the transparent adhesive layer formed on the transparent conductive layer is intruded inside the end of the transparent conductive layer, the transparent adhesive layer is formed when an electrode is formed using a conductive paste or the like. This is preferable because the conductive paste enters the gap between the end of the transparent conductive layer and the end of the transparent conductive layer, and the contact area between the transparent conductive layer and the electrode increases.

また透明導電層とその上に貼り合せる透明粘着層との間に銅テープのような導電性テープを挟み込み、その導電性テープの一部分を導通部としての電磁波シールド体の外部に引き出すことによって電極を形成しても良い。この場合、外部に引き出された導電性テープが実質的に電極となる。  Also, a conductive tape such as a copper tape is sandwiched between the transparent conductive layer and the transparent adhesive layer to be laminated thereon, and a part of the conductive tape is pulled out to the outside of the electromagnetic wave shielding body as a conductive part, thereby forming an electrode. It may be formed. In this case, the conductive tape drawn out to the outside substantially serves as an electrode.

また透明導電層から積層体最表面に通じるような隙間を設け、電極を形成しても良い。表面から見える隙間の形状には特に指定はなく、円形でもよいし、角型でも良い。また線状に形成されていても構わない。表面から見える個々の隙間の大きさにも特に指定はない。ただし、あまり大きすぎると視認部分にかかってしまうので好ましくない。隙間の形成位置は、視認部分を避ける位置であれば特に指定はない。必然的に端部から近い位置となる。形成する隙間の数にも特に制限はないが、全周にわたってできるだけ多く形成されている方が電流の取り出し効率が上昇するので好ましい。隙間は透明導電層と積層体最表面との間に設けられていれば良いが、形成する電極との接触面積を増やす観点から、透明導電層を貫通していることが好ましい。  Alternatively, an electrode may be formed by providing a gap from the transparent conductive layer to the outermost surface of the laminate. The shape of the gap seen from the surface is not particularly specified, and may be circular or square. It may be formed in a linear shape. There is no particular designation for the size of each gap seen from the surface. However, it is not preferable that the size is too large, since the size is applied to a visible portion. The formation position of the gap is not particularly specified as long as the position avoids the visible portion. Inevitably, it will be near the end. There is no particular limitation on the number of gaps to be formed, but it is preferable to form as many gaps as possible over the entire circumference because the current extraction efficiency increases. The gap may be provided between the transparent conductive layer and the outermost surface of the laminate, but preferably penetrates the transparent conductive layer from the viewpoint of increasing the contact area with the electrode to be formed.

隙間を埋める部材に関しても特に指定はない。金属部材で埋めても良いし、導電性ペーストで埋めても良い。この場合、隙間を埋めた部材が実質的に電極となる。  There is no particular designation for the member that fills the gap. It may be filled with a metal member or with a conductive paste. In this case, the member filling the gap becomes an electrode substantially.

電極は透明導電層(B)の周縁部に、連続的に設けられていることが好適である。すなわち、ディスプレイの表示部である中心部分を除いて、枠状に、導通部が設けられていることが好ましい。  The electrodes are preferably provided continuously on the peripheral edge of the transparent conductive layer (B). That is, it is preferable that the conductive portion is provided in a frame shape except for a central portion which is a display portion of the display.

全周に電極が形成されていなくとも一定の電磁波遮断能力はあるので、装置からの電磁波発生量と許容電磁波漏洩量とを総合的に考慮することによって、使用可能な場合も多い。  Even if electrodes are not formed on the entire circumference, there is a certain electromagnetic wave blocking ability. Therefore, in many cases, it can be used by comprehensively considering the amount of electromagnetic waves generated from the device and the amount of allowable electromagnetic wave leakage.

例えば、長方形の向い合う辺のみに導電材料を付与し電極を形成する設計にすれば、ロールツーロール方式で電極を形成したり、ロール状態のまま電極を形成したりすることができるため、非常に生産効率良く光学フィルタを作製することができるので都合が良い。また、この手法は先に示した、電極として導電性テープを用いる場合においても利用することができる。  For example, if the electrode is formed by applying a conductive material only to opposing sides of a rectangle, the electrode can be formed by a roll-to-roll method or the electrode can be formed in a rolled state. This is convenient because an optical filter can be manufactured with high production efficiency. This technique can also be used in the case where a conductive tape is used as an electrode as described above.

長方形の向い合う2辺以外の部分に加えてさらに別の部分に電極が形成されていたり、向い合う2辺における一部分に電極が形成されていない部分が存在しても特に問題はない。  There is no particular problem even if an electrode is formed in another portion in addition to the portion other than the two opposing sides of the rectangle, or a portion where the electrode is not formed in a part of the two opposing sides.

電極形成過程において、導通部を覆うことは、耐環境性および耐擦傷性に劣る透明導電層(B)の保護にもなる。導通部を覆うために用いる材料は、導電性、耐触性および透明導電膜との密着性等の点から、銀、金、銅、白金、ニッケル、アルミニウム、クロム、鉄、亜鉛、カーボン等の単体もしくは2種以上からなる合金、合成樹脂とこれら単体または合金の混合物、もしくは、ホウケイ酸ガラスとこれら単体または合金の混合物からなるペーストを使用できる。電極形成にはメッキ法、真空蒸着法、スパッタ法など、ペーストといったものは印刷、塗工する方法など従来公知の方法を採用できる。  In the process of forming the electrode, covering the conductive portion also protects the transparent conductive layer (B) having poor environmental resistance and scratch resistance. The material used to cover the conductive portion may be selected from silver, gold, copper, platinum, nickel, aluminum, chromium, iron, zinc, carbon, etc., from the viewpoints of conductivity, contact resistance, and adhesion to the transparent conductive film. A paste composed of a single substance or an alloy composed of two or more kinds, a synthetic resin and a mixture of these simple substances or alloys, or a paste composed of a borosilicate glass and a mixture of these simple substances or alloys can be used. For forming an electrode, a conventionally known method such as a printing method or a coating method for a paste such as a plating method, a vacuum evaporation method, and a sputtering method can be employed.

用いる導電性材料は電気を通導することのできるものであれば特に指定はない。銀ペーストなどの導電性の材料をペースト状にした物が用いられる。  The conductive material used is not particularly specified as long as it can conduct electricity. A paste made of a conductive material such as a silver paste is used.

導通部を覆うための方法としては、ペースト状の物であれば各層の側面に塗布し乾燥させたりして行う。ロール状態のフィルムの側面に導電性材料を塗布しても良いし、ロールツーロールで繰り出しながら側面に塗布しても構わない。また、テープ状の導電性材料も用いることができる。  As a method for covering the conductive portion, a paste-like material is applied to the side surface of each layer and dried. The conductive material may be applied to the side surface of the film in a roll state, or may be applied to the side surface while being fed out in a roll-to-roll manner. Alternatively, a tape-shaped conductive material can be used.

塗布方法としては、効率および精度の観点から、スクリーン印刷法が用いられる場合が多い。  As a coating method, a screen printing method is often used from the viewpoint of efficiency and accuracy.

また隙間を金属部材で埋めて電極を形成する場合は、電磁波シールド体自体に予め加工を施さなくても構わない。ねじ穴を形成した金属性のアースを表示装置の外周部分に予め準備しておき、金属性のアース部分を含めて、表示装置の表示部分に電磁波シールド体を貼りつけた後に、電磁波シールド体を貫通するようにして金属性アースのねじ穴に導電性のねじを埋め込めば良い。この場合導電性のねじが実質的に電極の役割を果たす。この手法を用いると電磁波シールド体をロールツーロール方式で生産性高く作製できるうえ、電磁波シールド体の全周部分にわたって電極を形成することも容易である。  When the gap is filled with a metal member to form an electrode, the electromagnetic wave shield itself does not need to be processed in advance. A metal ground having a screw hole is prepared in advance on the outer peripheral portion of the display device, and the electromagnetic wave shield body is attached to the display portion of the display device including the metal ground portion. A conductive screw may be embedded in the screw hole of the metal ground so as to penetrate. In this case, the conductive screw substantially serves as an electrode. Using this method, an electromagnetic wave shield can be manufactured with high productivity by a roll-to-roll method, and it is easy to form electrodes over the entire circumference of the electromagnetic wave shield.

(反射防止層)
反射防止層は、基体上に形成し、基体表面の光線反射率を低減するための層である。
(Anti-reflective layer)
The antireflection layer is a layer formed on a substrate to reduce the light reflectance of the surface of the substrate.

反射防止層としては、具体的には、可視光域において屈折率が1.5以下、好適には、1.4以下と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を、例えば1/4波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物窒化物、硫化物等の無機化合物、シリコン系樹脂、アクリル樹脂、またはフッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を2層以上多層積層したものがある。単層形成したものは、製造が容易であるが、反射防止性が多層積層に比べ劣る。多層積層したものは、広い波長領域にわたって反射防止能を有し、基体フィルムの光学特性による光学設計の制限が少ない。これら無機化合物薄膜の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンピームアシスト、真空蒸着、または室式塗工法等、従来公知の方法を用いればよい。
上記の反射防止層が形成されたフィルムが反射防止フィルムである。
Specifically, the antireflection layer has a refractive index of 1.5 or less, preferably 1.4 or less in the visible light range, and is preferably a fluorocarbon transparent polymer resin, magnesium fluoride, a silicon resin, or an oxide. A silicon thin film or the like formed as a single layer with an optical thickness of, for example, 1/4 wavelength, or an inorganic compound having a different refractive index, such as a metal oxide, a fluoride, a silicide, a boride, a carbide nitride, or a sulfide. , Two or more thin films of an organic compound such as a silicon-based resin, an acrylic resin, or a fluorine-based resin. A single layer is easy to manufacture, but is inferior in antireflection properties to a multilayer laminate. The multilayer laminate has an antireflection function over a wide wavelength range, and there is little restriction on the optical design due to the optical characteristics of the base film. For the formation of these inorganic compound thin films, conventionally known methods such as sputtering, ion plating, ion beam assist, vacuum deposition, and room coating may be used.
The film on which the antireflection layer is formed is an antireflection film.

(防眩層)
防眩層は、基体上に形成し、基体中を通過する透過光および表面からの反射光を防眩するための層である。
(Anti-glare layer)
The anti-glare layer is a layer formed on the base to prevent transmitted light passing through the base and light reflected from the surface from being anti-glare.

防眩層は0.1〜10μm程度の微少な凹凸を表面に有する。具体的には、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型または光硬化型樹脂に、シリカ、メラミン、アクリル等の無機化合物または有機化合物の粒子を分散させインキ化したものを、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等によって透明高分子フィルム上に塗布硬化させる。粒子の平均粒径は、1〜40μmである。または、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型または光硬化型樹脂を基体に塗布し、所望のヘイズまたは表面状態を有する型を押しつけ硬化する事によっても防眩層を得ることができる。さらには、ガラス板をフッ酸等でエッチングするように、基体フィルムを薬剤処理することによっても防眩層を得ることができる。この場合は、処理時間、薬剤のエッチング性により、ヘイズを制御することができる。ヘイズはたとえばASTM規格D1003−61で測定され、表面凹凸による散乱の度合いが多い程ヘイズが高くなる傾向にある。上述の防眩層においては、適当な凹凸が表面に形成されていれば良く、作成方法は、上記に挙げた方法に限定されるものではない。防眩層のヘイズは、0.5%以上20%以下であり、好ましくは、1%以上10%以下である。ヘイズが小さすぎると防眩能が不十分であり、ヘイズが大きすぎると平行光線透過率が低くなり、ディスプレイ視認性が悪くなる。
上記の防眩層が形成されたフィルムが防眩性フィルムである。
The antiglare layer has fine irregularities on the surface of about 0.1 to 10 μm. Specifically, an acrylic resin, a silicon resin, a melamine resin, a urethane resin, an alkyd resin, a thermosetting or photocurable resin such as a fluorine resin, silica, melamine, an inorganic compound such as acrylic, The particles obtained by dispersing the organic compound particles and forming an ink are coated and cured on a transparent polymer film by a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method or the like. The average particle size of the particles is 1 to 40 μm. Alternatively, a thermosetting or photocurable resin such as an acrylic resin, a silicon resin, a melamine resin, a urethane resin, an alkyd resin, or a fluororesin is applied to a substrate, and a mold having a desired haze or surface state is provided. The anti-glare layer can also be obtained by pressing and curing. Further, the antiglare layer can be obtained by treating the base film with a chemical, such as etching the glass plate with hydrofluoric acid or the like. In this case, the haze can be controlled by the processing time and the etching property of the chemical. Haze is measured, for example, according to ASTM standard D1003-61, and the haze tends to increase as the degree of scattering due to surface irregularities increases. In the above-described antiglare layer, it is only necessary that appropriate irregularities are formed on the surface, and the method of forming the antiglare layer is not limited to the methods described above. The haze of the antiglare layer is from 0.5% to 20%, preferably from 1% to 10%. If the haze is too small, the antiglare ability is insufficient, and if the haze is too large, the parallel light transmittance is reduced, and the display visibility is deteriorated.
The film on which the antiglare layer is formed is an antiglare film.

(偏光板)
偏光板は、光の中から一方向にのみ振動する成分のみを取り出すための光学要素であり、LCD素子にとって不可欠なものである。フィルム状態である場合が多く、偏光フィルムと呼ばれることも多い。
(Polarizer)
The polarizing plate is an optical element for extracting only a component that vibrates in only one direction from light, and is indispensable for an LCD element. It is often in the form of a film, and is often called a polarizing film.

本発明において用いられる偏光板は、通常LCD用に用いられているものであれば特に制限はない。  The polarizing plate used in the present invention is not particularly limited as long as it is generally used for LCD.

偏光フィルムは、ポリビニルアルコール(PVA)を塗布した高分子フィルムにヨウ素をドープしたものであることが多い。このフィルムを1軸延伸してフィルム中のヨウ素分子の向きをそろえる。このとき、ヨウ素はフィルムの高分子と一緒に配向し、結果としてヨウ素分子の向きが揃う。  The polarizing film is often obtained by doping iodine into a polymer film coated with polyvinyl alcohol (PVA). The film is uniaxially stretched to align iodine molecules in the film. At this time, iodine is oriented together with the polymer of the film, and as a result, the directions of the iodine molecules are aligned.

自然光は、いかなるときでも、進行方向に垂直に振動していて、偏光フィルムの中のヨウ素分子の長軸方向と平行(縦)に振動する光と垂直(横)に振動する光が含まれている。もちろん中間的な角度に振動する光もある。ヨウ素分子の長軸方向と平行に振動する光と垂直に振動する光のみについて考える。ヨウ素の場合、この分子の電子密度の偏りによって、分子の長軸方向に垂直な方向または平行な方向における光吸収係数が大きく異なっている。分子の長軸に垂直に振動する光はほぼ100%透過するが、分子の長軸に平行に振動する光はほとんど透過せず、ヨウ素に吸収される。したがって偏光フィルムを通過できるのはヨウ素分子の長軸と垂直な光のみとなりその他は全てヨウ素に吸収される。こうして、自然光から、一つの方向にしか振動しない直線偏光(平面偏光)が得られる。  At all times, natural light vibrates perpendicular to the direction of travel, and includes light that vibrates in parallel (longitudinal) and vertical (horizontal) with the long axis direction of iodine molecules in the polarizing film. I have. Of course, some light oscillates at an intermediate angle. Consider only light that oscillates parallel to the long axis direction of the iodine molecule and light that oscillates perpendicularly. In the case of iodine, the light absorption coefficient in a direction perpendicular or parallel to the major axis direction of the molecule greatly differs due to the bias of the electron density of the molecule. Light that oscillates perpendicular to the long axis of the molecule is transmitted almost 100%, but light that oscillates parallel to the long axis of the molecule is hardly transmitted and is absorbed by iodine. Therefore, only light perpendicular to the major axis of the iodine molecule can pass through the polarizing film, and all other components are absorbed by iodine. In this way, linearly polarized light (plane polarized light) vibrating in only one direction is obtained from natural light.

(サイズ)
本発明において、大型表示素子に関しては、その画面サイズが21インチ以上である場合に特に本発明の効果を期待できる。ここで画面サイズとは対角の長さで定義する。またサイズが37インチ以上である場合にはより大きな効果を期待することができ、さらにはサイズが42インチ以上である場合にさらに大きな効果を期待することができる。画面サイズが21インチより小さい表示素子に関しては、従来から用いられている部材を用いることによって電気取締り法に規定されている安全性条件を満たすことができる。しかし、画面サイズが21インチより小さい表示素子においても、本発明のように、その低い弾性率に特徴づけられた透明粘着層を用いることによって、より安全性が増すという効果がある。
(size)
In the present invention, the effect of the present invention can be particularly expected when the screen size of a large display element is 21 inches or more. Here, the screen size is defined by a diagonal length. Further, when the size is 37 inches or more, a greater effect can be expected, and when the size is 42 inches or more, a greater effect can be expected. With respect to a display element having a screen size smaller than 21 inches, the use of a conventionally used member can satisfy the safety condition specified by the Electricity Control Law. However, even in a display element having a screen size smaller than 21 inches, the use of a transparent adhesive layer characterized by its low elastic modulus as in the present invention has an effect of further increasing safety.

本発明における、小型携帯端末用表示素子に関しては、すべての画面サイズに関して、本発明の効果を期待することができる。小型携帯端末用に用いられている表示素子は小さいものでその画面サイズが1インチ程度であるが、このサイズのものでも落下等により外部から衝撃を受け、表示素子の基板ガラスが割れることがある。本発明によって特定される表示素子は、この割れが非常に生じにくく、効果的である。さらに最近では小型携帯端末に備えられた表示素子の画面サイズがより大きくなりつつある。画面サイズが大きくなると表示素子の基板ガラスはより割れ易くなるので、本発明における表示素子を用いることはより効果的である。  Regarding the display element for a small portable terminal in the present invention, the effect of the present invention can be expected for all screen sizes. The display element used for a small portable terminal is small and has a screen size of about 1 inch. However, even with this size, the substrate glass of the display element may be broken due to an external impact due to a drop or the like. . In the display element specified by the present invention, this crack is very unlikely to occur and is effective. Furthermore, recently, the screen size of a display element provided in a small portable terminal is becoming larger. The use of the display element in the present invention is more effective because the substrate glass of the display element is more easily broken as the screen size increases.

(分析方法)
本発明のその低い弾性によって特徴づけられている透明粘着層のヤング率の測定には、通常用いられている一般的な手法を用いることができる。たとえば、該透明粘着層をむき出しにし、表面から単位面積に荷重をかけ、荷重の大きさと該透明粘着層の変形量とからヤング率を求めることができる。
(Analysis method)
For measuring the Young's modulus of the transparent adhesive layer characterized by its low elasticity according to the present invention, a commonly used general method can be used. For example, the transparent adhesive layer is exposed, a load is applied to a unit area from the surface, and the Young's modulus can be determined from the magnitude of the load and the amount of deformation of the transparent adhesive layer.

光学フィルタの層構成および各層の状態は、断面の光学顕微鏡測定、走査型電子顕微鏡(SEM)測定、透過型電子顕微鏡測定(TEM)を用いて調べることができる。  The layer configuration of the optical filter and the state of each layer can be examined using an optical microscope measurement, a scanning electron microscope (SEM) measurement, and a transmission electron microscope measurement (TEM) of the cross section.

透明導電膜の表面原子組成は、オージェ電子分光法(AES)、蛍光X線法(XRF)、X線マイクロアナライシス法(XMA)、荷電粒子励起X線分析法(RBS)、X線光電子分光法(XPS)、真空紫外光電子分光法(UPS)、赤外吸収分光法(IR)、ラマン分光法、2次イオン質量分析法(SIMS)、低エネルギーイオン散乱分光法(ISS)等により測定できる。また、膜中の原子組成および膜厚は、オージェ電子分光法(AES)や2次イオン質量分析(SIMS)を深さ方向に実施することによって調べることができる。  The surface atomic composition of the transparent conductive film is determined by Auger electron spectroscopy (AES), X-ray fluorescence (XRF), X-ray microanalysis (XMA), charged particle excitation X-ray analysis (RBS), X-ray photoelectron spectroscopy Method (XPS), vacuum ultraviolet photoelectron spectroscopy (UPS), infrared absorption spectroscopy (IR), Raman spectroscopy, secondary ion mass spectroscopy (SIMS), low energy ion scattering spectroscopy (ISS), etc. . Further, the atomic composition and the film thickness in the film can be examined by performing Auger electron spectroscopy (AES) or secondary ion mass spectrometry (SIMS) in the depth direction.

透明導電膜上に防眩性フィルム(anti−glare film、略称AGフィルム)や反射防止フィルム等を貼り合わせてある場合は、それを剥がし、透明導電膜表面を剥き出しにした後に、上述の手法を用いて調べればよい。  When an anti-glare film (anti-glare film, abbreviated as AG film), an anti-reflection film, or the like is laminated on the transparent conductive film, the film is peeled off, and the surface of the transparent conductive film is exposed. It is sufficient to use and check.

本発明において用いられる、高分子、色素の組成および構造に関しては、該色素を適当な溶媒に溶かした上で、一般的な組成または構造分析手法を用いて調べることができる。例えば、核磁気共鳴法(NMR)、赤外線分光法(IR)、ラマン分光法、質量分析法(MAS)等を用いることができる。  The composition and structure of the polymer and dye used in the present invention can be examined by dissolving the dye in an appropriate solvent and using a general composition or structure analysis technique. For example, nuclear magnetic resonance (NMR), infrared spectroscopy (IR), Raman spectroscopy, mass spectroscopy (MAS) and the like can be used.

実施例
(透明導電膜の作製)
次に本発明の実施例を具体的に説明する。本発明はこれらによりなんら制限されるものではない。
Example (production of transparent conductive film)
Next, examples of the present invention will be described specifically. The present invention is not limited by these.

実施例中の透明導電層(B)を構成する薄膜は、基材の一方の主面にマグネトロンDCスパッタリング法により成膜する。薄膜の厚みは、成膜条件から求めた値であり、実際に測定した膜厚ではない。  The thin film constituting the transparent conductive layer (B) in the embodiment is formed on one main surface of the substrate by a magnetron DC sputtering method. The thickness of the thin film is a value obtained from film forming conditions, and is not an actually measured film thickness.

高屈折率透明薄膜層(a)としてITO薄膜を用いる場合、ターゲットに酸化インジウム・酸化スズ焼結体(組成比In:SnO=90:10wt%))を、スパッタガスにアルゴン・酸素混合ガス(全圧266mPa:酸素分圧5mPa)を用いて成膜する。When an ITO thin film is used as the high-refractive-index transparent thin film layer (a), an indium oxide / tin oxide sintered body (composition ratio In 2 O 3 : SnO 2 = 90: 10 wt%) is used as a target, and argon sputter gas is used as a sputtering gas. A film is formed using an oxygen mixed gas (total pressure: 266 mPa: oxygen partial pressure: 5 mPa).

高屈折率透明薄膜層(a)として酸化スズ薄膜を用いる場合、ターゲットに酸化スズ焼結体を、スパッタガスにアルゴン・酸素混合ガス(全圧266mPa:酸素分圧5mPa)を用いて成膜する。  When a tin oxide thin film is used as the high refractive index transparent thin film layer (a), a tin oxide sintered body is formed as a target and a mixed gas of argon and oxygen (total pressure 266 mPa: oxygen partial pressure 5 mPa) is formed as a sputtering gas. .

金属薄膜層(b)として銀薄膜を用いる場合、ターゲットに銀を、スパッタガスにアルゴンガス(全圧266mPa)を用いて成膜する。  When a silver thin film is used as the metal thin film layer (b), silver is formed as a target and argon gas (total pressure of 266 mPa) is used as a sputtering gas.

金属薄膜層(b)として銀−パラジウム合金薄膜を用いる場合、ターゲットに銀−パラジウム合金(パラジウム10wt%)を、スパッタガスにアルゴンガス(全圧266mPa)を用いて成膜する。  When a silver-palladium alloy thin film is used as the metal thin film layer (b), a silver-palladium alloy (palladium 10 wt%) is formed as a target, and an argon gas (total pressure 266 mPa) is formed as a sputtering gas.

なお、透明導電層の面抵抗は、四探針測定法(プローブ間隔1mm)により測定する。また、表面の可視光線反射率(Rvis)は、まず測定対象物の小辺を切り出し、透明粘着層を取り除いて高分子フィルム(A)側表面をサンドペーパーで荒らした後、艶消し黒スプレーしてこの面の反射を無くし、反射積分球(光線入射角度6°)を用いた(株)日立製作所製分光光度計(U−3400)によって可視領域の全光線反射率を測定し、ここで求められた反射率からJIS R3106に従って計算する。  The sheet resistance of the transparent conductive layer is measured by a four-probe measurement method (probe interval: 1 mm). The visible light reflectance (Rvis) of the surface is determined by first cutting out a small side of the object to be measured, removing the transparent adhesive layer, roughening the surface of the polymer film (A) side with sandpaper, and then spraying with matte black spray. The reflection of the lever was eliminated, and the total light reflectance in the visible region was measured by a spectrophotometer (U-3400, manufactured by Hitachi, Ltd.) using a reflection integrating sphere (light incident angle: 6 °), and calculated here. The calculated reflectance is calculated according to JIS R3106.

(ヤング率の測定)
透明粘着層のヤング率は、断面積1×10−のステンレス製の測定棒を用い、一定の荷重をかけて、測定棒の先端を透明粘着層の表面に押し付けることによって測定する。かけた荷重の大きさ(F)と測定棒が透明粘着層内に入り込んだ量(D)との関係よりヤング率(G)を求める。関係式は、F=G×Dである。
(Measurement of Young's modulus)
Young's modulus of the transparent adhesive layer, using a stainless steel measuring rod cross-sectional area 1 × 10- 6 m 2, over a constant load, the tip of the measuring bar is measured by pressing the surface of the transparent adhesive layer. The Young's modulus (G) is determined from the relationship between the magnitude of the applied load (F) and the amount (D) of the measuring rod penetrating into the transparent adhesive layer. The relational expression is F = G × D.

(針入度)
JIS K2207−1991−50g荷重に従って求める。
(Penetration)
It is determined according to JIS K2207-1991-50g load.

(剛球落下試験)
実施例1〜7においては以下の通り実施する。
(Hard ball drop test)
Examples 1 to 7 are performed as follows.

表示素子の表示面中心部分に、直径が50mm、重量が500gの剛球を高さ1300mmから振り子状に落とす。このときに表示部分の基体ガラスが割れ、前面に飛散した場合には不合格、前面への飛散を生じなかった場合は合格とする。また合格した表示素子のなかでの優劣はガラスの割れの度合いによって区別する。  A hard sphere having a diameter of 50 mm and a weight of 500 g is dropped from a height of 1300 mm into a pendulum at the center of the display surface of the display element. At this time, if the base glass of the display portion was broken and scattered to the front, it was rejected. If it did not scatter to the front, the test was passed. In addition, the superiority among the display elements that have passed is distinguished by the degree of breakage of the glass.

実施例8〜30においては以下の通り実施する。
表示素子の表示面中心部分に、直径が50mm、重量が500gの剛球を高さ1300mmから振り子状に落とす。割れて飛散したガラスの到達点までの距離を調べた。最も遠くまで飛散した質量1g以上のガラスの到達点までの距離を結果とする。
Examples 8 to 30 are performed as follows.
A hard sphere having a diameter of 50 mm and a weight of 500 g is dropped from a height of 1300 mm into a pendulum at the center of the display surface of the display element. The distance to the arrival point of the broken glass was examined. The result is the distance to the point of arrival of the glass having a mass of 1 g or more that has scattered farthest.

(落下試験)
実施例1〜7においては以下の通り実施する。
(Drop test)
Examples 1 to 7 are performed as follows.

表示素子を板の上に750mmの高さから落下させる。板は、厚み20mmの堅木の板である。厚み20mmの板を2枚併せて得られた、合せ板をコンクリート上に設置し、その上に該板を設置する。  The display element is dropped on the plate from a height of 750 mm. The board is a 20 mm thick hardwood board. A laminated plate obtained by combining two 20 mm-thick plates is placed on concrete, and the plates are placed thereon.

表示装置前方900mmおよび1500mmに設けた障壁間に、短辺で15g以上、総重量で45g以上のガラス破片が飛散したり、重量が1gを越える破片が表示装置の前方1500mmに設けた障壁を越えて飛んだ場合は不合格とし、そうでない場合は合格とする。尚、不合格、合格それぞれの中においてもガラス片の飛散状況を鑑みて判断を実施する。  Between the barriers provided at 900 mm and 1500 mm in front of the display device, glass fragments of 15 g or more on the short side and a total weight of 45 g or more are scattered, or fragments having a weight exceeding 1 g exceed the barrier provided at 1500 mm in front of the display device. If it flew, it was rejected, otherwise it was passed. In addition, the judgment is carried out in consideration of the scattering state of the glass piece in each of the reject and the pass.

実施例8〜30においては以下の通り実施する。  Examples 8 to 30 are performed as follows.

表示素子を板の上に750mmの高さから落下させる。板は、厚み20mmの堅木の板である。厚み20mmの板を2枚併せて得られた、合せ板をコンクリート上に設置し、その上に該板を設置する。  The display element is dropped on the plate from a height of 750 mm. The board is a 20 mm thick hardwood board. A laminated plate obtained by combining two 20 mm-thick plates is placed on concrete, and the plates are placed thereon.

表示装置の前方方向へ、割れて飛散したガラスの到達点までの距離を調べた。最も遠くまで飛散した質量1g以上のガラスの到達点までの距離を結果とする。  The distance to the arrival point of the broken glass scattered in the forward direction of the display device was examined. The result is the distance to the point of arrival of the glass having a mass of 1 g or more that has scattered farthest.

表示装置の前方900mmおよび1500mmに設けた障壁間に、単片で15g以上、総重量で45g以上のガラス破片が飛散したり、重量が1gを越える破片が、表示装置の前方1500mmに設けた障壁を超えて飛んだ場合は不合格とし、そうでない場合は合格とする。なお、不合格、合格それぞれの中においても、ガラス片の飛散状況を鑑みて優劣の判断を実施する。  Between the barriers provided at 900 mm and 1500 mm in front of the display device, 15 g or more of a single piece of glass shards having a total weight of 45 g or more are scattered, and fragments having a weight exceeding 1 g are provided at a distance of 1500 mm in front of the display device. If it flew beyond, it will be rejected, otherwise it will be passed. In addition, in each of the rejection and the pass, judgment of superiority or inferiority is performed in view of the scattering state of the glass piece.

透明粘着層のヤング率に関して
(実施例1)
(透明導電膜の作製)
2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(以下PET)フィルム(厚み:188μm)を高分子フィルム(A)としてその一方の主面に、PETフィルムから順に、ITO薄膜(膜厚:40nm)、銀薄膜(膜厚:11nm)、ITO薄膜(膜厚:95nm)、銀薄膜(膜厚:14nm)、ITO薄膜(膜厚:90nm)、銀薄膜(膜厚:12nm)、ITO薄膜(膜厚:40nm)の計7層の透明導電層(B)を形成し、面抵抗2.2Ω/□の透明導電層(B)を有する透明積層体を作製する。
Regarding Young's modulus of transparent adhesive layer (Example 1)
(Preparation of transparent conductive film)
A biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (hereinafter, PET) (thickness: 188 μm) is used as a polymer film (A), and an ITO thin film (thickness: 40 nm) and a silver thin film (thickness: 11 nm), ITO thin film (thickness: 95 nm), silver thin film (thickness: 14 nm), ITO thin film (thickness: 90 nm), silver thin film (thickness: 12 nm), and ITO thin film (thickness: 40 nm). A transparent laminate having a transparent conductive layer (B) having a sheet resistance of 2.2 Ω / □ is formed.

積層体(PETフィルム/透明導電層)の断面を、本発明における高分子フィルム(A)/透明導電層(B)の一例を示す断面図として、図1に示す。図1において、透明高分子フィルム10の上に、順次、高屈折率薄膜層20、金属薄膜層30、高屈折率薄膜層20、金属薄膜層30、高屈折率薄膜層20、金属薄膜層30、高屈折率薄膜層20が積層される。  A cross section of the laminate (PET film / transparent conductive layer) is shown in FIG. 1 as a cross-sectional view showing an example of the polymer film (A) / transparent conductive layer (B) in the present invention. In FIG. 1, a high-refractive-index thin film layer 20, a metal thin-film layer 30, a high-refractive-index thin film layer 20, a metal thin-film layer 30, a high-refractive-index thin film layer 20, and a metal thin-film layer 30 The high refractive index thin film layer 20 is laminated.

(アクリル系粘着剤の作製)
重量比で酢酸ビニル:オクチルアクリレート:エチルアクリレート:マレイン酸=20:70:10:7.5のモノマー混合液100部とアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)とメチレンクロライドを0.2:20割合で混合した混合物を作る。上記モノマー混合液とAIBN混合物を攪拌しながら還流がおこる温度まで過熱する。還流は74℃程度で生じる。還流が生じてから5分後にメチレンクロライド55部を混合物に加えはじめる。この作業は3時間以上かけてゆっくり行う。最終的に還流温度は50℃程度となる。その1時間後にトルエン75部を混合物に加える。還流温度は65℃程度となる。この温度において、混合物をさらに6時間加熱する。この段階で混合物のポリマ化が終了するので、室温まで冷却する。
(Production of acrylic adhesive)
100 parts by weight of a monomer mixture of vinyl acetate: octyl acrylate: ethyl acrylate: maleic acid = 20: 70: 10: 7.5, azobisisobutyronitrile (AIBN) and methylene chloride in a ratio of 0.2: 20 by weight. To make a mixed mixture. The monomer mixture and the AIBN mixture are heated with stirring to a temperature at which reflux occurs. Reflux occurs at about 74 ° C. Five minutes after refluxing, 55 parts of methylene chloride begin to be added to the mixture. This operation is performed slowly over 3 hours. Finally, the reflux temperature becomes about 50 ° C. One hour later, 75 parts of toluene are added to the mixture. The reflux temperature is about 65 ° C. At this temperature, the mixture is heated for a further 6 hours. At this stage, the polymerization of the mixture is completed, and the mixture is cooled to room temperature.

上述の材料混合割合で得られる共重合体の重量組成は、酢酸ビニル:オクチルアクリレート:エチルアクリレート:マレイン酸=20:70:10:7.5程度となる。得られた試料を試料a(酢酸ビニル20wt%)とする。  The weight composition of the copolymer obtained at the above-described material mixing ratio is about vinyl acetate: octyl acrylate: ethyl acrylate: maleic acid = about 20: 70: 10: 7.5. The obtained sample is referred to as sample a (vinyl acetate 20 wt%).

続いて混合する材料の割合を変化させて重量組成の異なる試料を用意する。本実施例においては酢酸ビニルの混合割合のみが変化するようにして、重量組成を変化させる。酢酸ビニルの混合割合が以下の通りの試料を用意する。試料b(酢酸ビニル18wt%)、試料c(酢酸ビニル15wt%)、試料d(酢酸ビニル10wt%)、試料e(酢酸ビニル5wt%)、試料f(酢酸ビニル3wt%)、および試料g(酢酸ビニル2wt%)。  Subsequently, samples having different weight compositions are prepared by changing the ratio of the materials to be mixed. In this embodiment, the weight composition is changed such that only the mixing ratio of vinyl acetate is changed. Prepare a sample having the following mixing ratio of vinyl acetate. Sample b (18 wt% vinyl acetate), Sample c (15 wt% vinyl acetate), Sample d (10 wt% vinyl acetate), Sample e (5 wt% vinyl acetate), Sample f (3 wt% vinyl acetate), and Sample g (acetic acid Vinyl 2 wt%).

(色素の分散)
酢酸エチル/トルエン(50:50wt%)溶剤に有機色素を分散・溶解させ、アクリル系粘着剤の希釈液とする。アクリル系粘着剤/色素入り希釈液(80:20wt%)を混合し、粘着剤原液とする。粘着剤の屈折率は1.51、消光係数は0である。
(Dye dispersion)
An organic dye is dispersed and dissolved in a solvent of ethyl acetate / toluene (50:50 wt%) to prepare a diluting liquid of an acrylic pressure-sensitive adhesive. An acrylic adhesive / dilution solution containing a pigment (80:20 wt%) is mixed to prepare an adhesive stock solution. The refractive index of the adhesive is 1.51, and the extinction coefficient is 0.

有機色素としては、プラズマディスプレイが放射する不要発光を吸収させるための波長595nmに吸収極大を有する三井化学(株)製色素PD−319、および白色発光の色度を補正するための三井化学(株)製赤色色素PS−Red−Gを用い、それぞれ乾燥した粘着剤1の中に1150(wt)ppm、1050(wt)ppmで含有されるようにアクリル系粘着剤/色素入り希釈液を調整する。  Examples of the organic dye include a dye PD-319 manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. having an absorption maximum at a wavelength of 595 nm for absorbing unnecessary emission emitted by the plasma display, and Mitsui Chemicals, Inc. for correcting chromaticity of white emission. ) Using a red dye made by PS-Red-G, prepare an acrylic adhesive / dilution liquid containing dye so that each dried adhesive 1 contains 1150 (wt) ppm and 1050 (wt) ppm. .

(粘着層の形成)
表面に易ハクリ処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み100μm)上に、用意した粘着剤を厚みが100μmとなるように、粘着剤原液をグラビアコート法で塗布し、粘着層を形成する。塗布面は易ハクリ処理面である。さらに粘着層の上に表面が易ハクリ処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み100μm)を貼り合せ、ダブルタック状態にする。粘着層に易ハクリ面が接するように貼り合せる。このとき用いる易ハクリ層は最初に粘着剤を塗布する面である易ハクリ層よりも易ハクリ性が高いものを用いることが好ましい。なお、透明粘着層の両面に位置するポリエチレンテレフタレートフィルムは離型フィルムとして機能し、易ハクリ性が高い方が、最初に剥がされることを想定されている。
(Formation of adhesive layer)
An adhesive stock solution is applied by a gravure coating method on a polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm) having a surface subjected to easy peeling treatment so as to have a thickness of 100 μm to form an adhesive layer. The coated surface is an easily removed surface. Further, a polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm) whose surface has been easily removed is stuck on the adhesive layer to form a double tack state. The adhesive layer is stuck so that the easily peeled surface is in contact with the adhesive layer. At this time, it is preferable that the easy peel layer used has a higher easy peel property than the easy peel layer on which the adhesive is first applied. In addition, the polyethylene terephthalate films located on both sides of the transparent adhesive layer function as a release film, and it is assumed that the one with higher easy peeling property is firstly peeled off.

(透明導電性フィルムへの粘着層形成)
透明導電層/PETフィルムのPETフィルム面上に前述により得られる透明粘着層を形成する。まず透明粘着層の両面に貼りつけられている2枚の離型フィルムのうち1枚を剥がし、透明積層体上に貼り合せる。構成は、透明導電層/PETフィルム/粘着剤/離型フィルムとなる。
(Formation of adhesive layer on transparent conductive film)
The transparent adhesive layer obtained as described above is formed on the transparent conductive layer / PET film surface of the PET film. First, one of the two release films adhered to both sides of the transparent adhesive layer is peeled off, and is adhered to the transparent laminate. The structure is: transparent conductive layer / PET film / adhesive / release film.

(反射防止フィルムの作製)
トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(厚み:80μm、ヤング率:1300MPa)の一方の主面に、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにITO微粒子(平均粒径:10nm)を分散させたコート液をグラビアコータによって塗工し、紫外線硬化によって導電性ハードコート膜(膜厚:3μm)を形成し、その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコータによって塗工・90℃乾燥・熱硬化させ、屈折率1.4の反射防止膜(膜厚:100nm)を形成し、ハードコート性(JISK5400準拠の鉛筆硬度:2H)、ガスバリア性(ASTM−E96準拠、1.8g/m・day)、反射防止性(表面のRvis:1.0%)、帯電防止性(表面抵抗:7×10Ω/□)、および防汚性を有する機能性透明層(E)として反射防止フィルムを得る。反射防止フィルムの他方の主面に、粘着剤と同様の素材で色素を入れない粘着剤/希釈液を塗工・乾燥させ、厚み25μmの透明粘着層(D)(粘着剤2)を形成し、さらに離型フィルムをラミネートする。
(Preparation of anti-reflection film)
On one main surface of a triacetyl cellulose (TAC) film (thickness: 80 μm, Young's modulus: 1300 MPa), a photopolymerization initiator was added to a polyfunctional methacrylate resin, and ITO fine particles (average particle size: 10 nm) were further dispersed. The coating liquid is applied by a gravure coater, a conductive hard coat film (thickness: 3 μm) is formed by ultraviolet curing, and a fluorine-containing organic compound solution is applied thereon by a micro gravure coater, dried at 90 ° C., and thermally cured. Then, an antireflection film (thickness: 100 nm) having a refractive index of 1.4 was formed, and a hard coat property (pencil hardness: 2H according to JIS K5400) and a gas barrier property (1.8 g / m 2 · day according to ASTM-E96). ) Rvis antireflection property (surface: 1.0%), antistatic properties (surface resistance: 7 × 10 9 Ω / □ ), and having a soil resistance Obtaining an antireflection film as a functional transparent layer (E). On the other main surface of the anti-reflection film, apply and dry an adhesive / diluent that does not contain a dye with the same material as the adhesive to form a transparent adhesive layer (D) (adhesive 2) having a thickness of 25 μm. Then, a release film is laminated.

(光学フィルタの作製)
透明導電膜/PETフィルム/粘着剤/離型フィルムを970mm×570mmの大きさに裁断し、ガラス製支持板に透明導電層(B)面を上にして固定する。さらに、ラミネーターを用いて、透明導電層(B)の周縁部20mmが剥きだしになるように導通部を残して、内側だけに反射防止フィルムをラミネートする。
(Production of optical filter)
The transparent conductive film / PET film / adhesive / release film is cut into a size of 970 mm × 570 mm, and fixed to a glass support plate with the transparent conductive layer (B) face up. Further, using a laminator, an antireflection film is laminated only on the inner side, leaving a conductive portion so that the peripheral portion 20 mm of the transparent conductive layer (B) is exposed.

さらに、透明導電層(B)の剥きだしの導通部を覆うように周縁部の幅22mmの範囲に、銀ペースト(三井化学(株)製MSP−600F)をスクリーン印刷し、乾燥させ、厚み15μmの電極を形成する。支持板からはずして、透明粘着層(C)面に離型フィルムを有する本発明の光学フィルタを作製する。  Further, a silver paste (MSP-600F, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) is screen-printed in a range of 22 mm in width of the peripheral portion so as to cover the exposed conductive portion of the transparent conductive layer (B), dried, and dried to a thickness of 15 μm. Is formed. The optical filter of the present invention having a release film on the transparent adhesive layer (C) surface is prepared by removing the optical filter from the support plate.

(光学フィルタの装備)
さらに、該光学フィルタの離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面(表示部920mm×520mm)に枚葉式ラミネーターを用いて貼り合せた後、60℃、2×10Paの加圧加温条件下でオートクレーブ処理する。光学フィルタの電極と該プラズマディスプレイパネルのアース部を、(株)寺岡製作所製・導電性銅箔粘着テープ(510FR)を用いて接続し、本発明の光学フィルタを具備する表示装置を得る。該光学フィルタの断面を、本発明の光学フィルタとその装着状態の一例を示す断面図として、図2に示す。図2において、プラズマディスプレイパネル40の上に、順次、低い弾性に特徴づけられた透明粘着層50、透明高分子フィルム10、透明導電層60、透明粘着層70、透明高分子フィルム80、反射防止層90が積層される。電極100は、透明粘着層70、透明高分子フィルム80、反射防止層90の端面を覆うように、透明導電層60と電気的に接続される。
(Equipped with optical filter)
Further, the release film of the optical filter was peeled off and bonded to the front surface of the plasma display panel (display section 920 mm × 520 mm) using a single-wafer laminator, and then pressurized at 60 ° C. and 2 × 10 5 Pa. Autoclave under warm conditions. The electrode of the optical filter and the ground portion of the plasma display panel are connected using a conductive copper foil adhesive tape (510FR) manufactured by Teraoka Seisakusho Co., Ltd. to obtain a display device having the optical filter of the present invention. A cross section of the optical filter is shown in FIG. 2 as a cross-sectional view showing an example of the optical filter of the present invention and a mounted state thereof. In FIG. 2, on a plasma display panel 40, a transparent adhesive layer 50, a transparent polymer film 10, a transparent conductive layer 60, a transparent adhesive layer 70, a transparent polymer film 80, and an anti-reflection Layer 90 is laminated. The electrode 100 is electrically connected to the transparent conductive layer 60 so as to cover the end faces of the transparent adhesive layer 70, the transparent polymer film 80, and the antireflection layer 90.

(耐衝撃性試験)
上述のように作製した、光学フィルタを装備したPDPの耐衝撃性を剛球落下試験および落下試験によって調べる。共に合格した場合のみ合格とし、それ以外は不合格とする。合格、不合格それぞれの場合においても、各試験結果より耐衝撃性の優劣を判断する。
評価結果を表1に示す。
(Impact resistance test)
The impact resistance of the PDP equipped with the optical filter manufactured as described above is examined by a hard ball drop test and a drop test. Pass only if both pass, otherwise reject. In each of the cases of pass and reject, the superiority of the impact resistance is determined from the results of each test.
Table 1 shows the evaluation results.

透明粘着層においてそのヤング率が1×10〜1×10Paの範囲内において、良好な耐衝撃性を示し、耐衝撃性試験に合格するPDPを提供することができる積層体を得ることができることが分かる。透明粘着層のヤング率が1×10Paよりも大きい場合、および1×10Paよりも小さい場合は十分な耐衝撃性を得ることができないことが分かる。To obtain a laminate capable of providing a PDP exhibiting good impact resistance and passing an impact resistance test when the transparent adhesive layer has a Young's modulus in a range of 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa. You can see that you can do it. It can be seen that when the Young's modulus of the transparent pressure-sensitive adhesive layer is larger than 1 × 10 6 Pa and smaller than 1 × 10 2 Pa, sufficient impact resistance cannot be obtained.

Figure 2004181975
Figure 2004181975

(実施例2)
弾性率によって特徴づけられた透明粘着層としてシリコン系の透明粘着層を作製し用いた点以外は実施例1と同様に実施する。
(Example 2)
The same procedure as in Example 1 was carried out except that a silicon-based transparent adhesive layer was prepared and used as a transparent adhesive layer characterized by an elastic modulus.

(シリコン系粘着剤の作製)
以下に示す3種の樹脂および触媒を用意する。
(Production of silicone adhesive)
The following three types of resins and catalysts are prepared.

樹脂P1/フェニルメチルシロキサン(濃度50モル%)と、モノフェニルシロキサン(濃度15モル%)と、モノメチルシロキサン(濃度25モル%)と、ジフェニルシロキサン(濃度10モル%)との共重合体。ジンクオクテイト触媒(0.6重量%)を含む。シリコンと結合した水酸基を持つ。  Resin P1 / A copolymer of phenylmethylsiloxane (concentration 50 mol%), monophenylsiloxane (concentration 15 mol%), monomethylsiloxane (concentration 25 mol%), and diphenylsiloxane (concentration 10 mol%). Contains zinc octate catalyst (0.6% by weight). It has a hydroxyl group bonded to silicon.

樹脂P2/フェニルメチルビニルシロキシ共重合体。フェニルメチルシロキサン(濃度60モル%)とフェニルビニルシロキサン(40モル%)とからなる。  Resin P2 / phenylmethylvinylsiloxy copolymer. It consists of phenylmethylsiloxane (concentration: 60 mol%) and phenylvinylsiloxane (40 mol%).

樹脂P3/フェニルメチルシロキサン(50モル%)と、水素化メチルシロキサン(50モル%)との共重合体。  Copolymer of resin P3 / phenylmethylsiloxane (50 mol%) and hydrogenated methylsiloxane (50 mol%).

触媒A/クロロプラチン酸(濃度0.2重量%)を分散したキシレン溶液。
調合h/樹脂P1と樹脂P2と樹脂P3を重量比25:4.0:1.0でトルエン中で混合し、50%混合液を作製する。この混合液に触媒Aを15滴加える。得られる混合液を試料hとする。
Catalyst A / xylene solution in which chloroplatinic acid (concentration: 0.2% by weight) is dispersed.
Formulation h / Resin P1, Resin P2, and Resin P3 are mixed in toluene at a weight ratio of 25: 4.0: 1.0 to prepare a 50% mixed solution. 15 drops of catalyst A are added to this mixture. The resulting mixture is designated as sample h.

調合i/触媒Aを1滴加える点以外は調合hと同様に実施する。得られる混合液を試料iとする。  Preparation i is carried out in the same manner as preparation h except that one drop of catalyst A is added. The resulting mixture is designated as sample i.

調合j/触媒Aを加えない点以外は調合hと同様に実施する。得られる混合液を試料jとする。
評価結果を表2に示す。
Preparation j / The same procedure as in Preparation h, except that catalyst A was not added. The resulting mixture is designated as sample j.
Table 2 shows the evaluation results.

シリコン系の粘着剤を用いても、実施例1でのアクリル系粘着剤を用いた場合と同様に透明粘着層のヤング率を従来よりも低下させることによって、その透明粘着層を装備したPDPが、耐衝撃性の安全基準を満たすことができるようになることが分かる。  Even when a silicone-based pressure-sensitive adhesive is used, the PDP equipped with the transparent pressure-sensitive adhesive layer can be formed by lowering the Young's modulus of the transparent pressure-sensitive adhesive layer as compared with the conventional case, as in the case of using the acrylic pressure-sensitive adhesive in Example 1. It can be seen that safety standards for impact resistance can be satisfied.

Figure 2004181975
Figure 2004181975

(比較例1)
透明粘着層としてダブルダックテープ(積水化学製5510)を用いた点以外は、実施例1と同様に実施する。
評価結果を表3に示す。
(Comparative Example 1)
Except that a double duck tape (5510 made by Sekisui Chemical) was used as the transparent adhesive layer, the same procedure as in Example 1 was performed.
Table 3 shows the evaluation results.

従来用いられている透明粘着剤を装備したPDPは、耐衝撃性に貧しく、その透明粘着剤のヤング率は、実施例1、2において、耐衝撃性が貧しかった試料と同等であることが分かる。  A PDP equipped with a transparent pressure-sensitive adhesive conventionally used has poor impact resistance, and the Young's modulus of the transparent pressure-sensitive adhesive in Examples 1 and 2 is equivalent to that of the sample having poor impact resistance. .

Figure 2004181975
Figure 2004181975

(実施例3)
以下に示した事項以外は実施例1と同様に実施する。
(Example 3)
Except for the matters described below, the same operation as in the first embodiment is performed.

実施例1と同様に反射防止フィルムを作製する。基材フィルムとしてトリアセチルセルロース(TAC)フィルムではなく、2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(以下PET)フィルム(厚み:188μm、ヤング率:4000MPa)を用いる。  An anti-reflection film is produced in the same manner as in Example 1. Instead of a triacetyl cellulose (TAC) film, a biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 188 μm, Young's modulus: 4000 MPa) is used as the base film.

この反射防止フィルムの反射防止層形成面の反対面に実施例1で実施したのと同様に透明導電膜を作製する。  A transparent conductive film is formed on the surface of the antireflection film opposite to the surface on which the antireflection layer is formed in the same manner as in Example 1.

実施例1と同様にアクリル系粘着剤(試料番号e)を作製し、そこに色素を分散し、粘着層を形成する。  An acrylic pressure-sensitive adhesive (sample number e) is prepared in the same manner as in Example 1, and a dye is dispersed therein to form a pressure-sensitive adhesive layer.

反射防止膜/PETフィルム/透明導電膜の透明導電膜上に前述により得られる透明粘着層を形成する。まず透明粘着層の両面に貼りつけられている2枚の離型フィルムのうち1枚を剥がし、透明積層体上に貼り合せ、光学フィルタを作製する。
構成は、反射防止膜/PETフィルム/透明導電膜/粘着剤/離型フィルムなる。
The transparent adhesive layer obtained as described above is formed on the transparent conductive film of the antireflection film / PET film / transparent conductive film. First, one of the two release films adhered to both sides of the transparent adhesive layer is peeled off and laminated on a transparent laminate to produce an optical filter.
The structure is antireflection film / PET film / transparent conductive film / adhesive / release film.

上述のように作製した積層体を970mm×570mmの大きさに裁断し、光学フィルタを作製する。  The laminate produced as described above is cut into a size of 970 mm × 570 mm to produce an optical filter.

さらに該光学フィルタの離型フィルムを剥離して、42インチ型プラズマディスプレイパネル前面(表示部920mm×520mm)に枚葉式ラミネーターを用いて貼り合せた後、60℃、2×10Paの加圧加温条件下でオートクレーブ処理する。Further, the release film of the optical filter was peeled off and bonded to the front of a 42-inch type plasma display panel (display section 920 mm × 520 mm) using a single-wafer laminator, and then applied at 60 ° C. and 2 × 10 5 Pa. Autoclave under pressure heating condition.

プラズマディスプレイパネル前面の表示部分外の周囲には外部とのねじ留め用の穴をあらかじめあけておく。このねじ留め用の穴はPDP外部に導通し、アースを取れるようになっている。  A hole for screwing with the outside is formed in advance around the outside of the display portion on the front of the plasma display panel. The hole for screwing is electrically connected to the outside of the PDP so as to be grounded.

光学フィルタは、このねじ留め用の穴を覆い隠すようにPDPに貼りつけられる。光学フィルタ表面より光学フィルタを貫通するようにねじをねじ留め用穴に固定する。用いるねじは導電性を持つことが必要である。該光学フィルタの断面を、本発明の光学フィルタとその装着状態の他の例を示す断面図として、図3に示す。図3において、プラズマディスプレイパネル40の上に、順次、低い弾性に特徴づけられた透明粘着層50、透明導電層60、透明高分子フィルム10、反射防止層90が積層される。電極100は、各層を貫通するように設けられ、透明導電層60と電気的に接続するとともに、PDPの導電性ねじとの接触によって接地される。  The optical filter is attached to the PDP so as to cover this screw hole. A screw is fixed to the screw hole so as to penetrate the optical filter from the optical filter surface. The screws used must have conductivity. A cross section of the optical filter is shown in FIG. 3 as a cross-sectional view showing another example of the optical filter of the present invention and its mounted state. In FIG. 3, a transparent adhesive layer 50, a transparent conductive layer 60, a transparent polymer film 10, and an anti-reflection layer 90, which are characterized by low elasticity, are sequentially laminated on the plasma display panel 40. The electrode 100 is provided to penetrate each layer, is electrically connected to the transparent conductive layer 60, and is grounded by contact with a conductive screw of the PDP.

また、図4は本発明に係る積層体をOELD(有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ)に装備した状態の一例を示す断面図である。図4において、OELD140の上に、順次、低い弾性に特徴づけられた透明粘着層50、透明高分子フィルム10、反射防止層90が積層される。
評価結果を表4に示す。
FIG. 4 is a sectional view showing an example of a state in which the laminate according to the present invention is mounted on an OELD (organic electroluminescence display). In FIG. 4, on the OELD 140, a transparent adhesive layer 50, a transparent polymer film 10, and an anti-reflection layer 90 characterized by low elasticity are sequentially laminated.
Table 4 shows the evaluation results.

光学フィルタを構成する高分子フィルムの枚数が1枚であっても、そのヤング率が従来よりも低い透明粘着層を用いることによって、その光学フィルタを装備したPDPの耐衝撃性が十分に得られることが分かる。  Even if the number of polymer films constituting the optical filter is one, the impact resistance of the PDP equipped with the optical filter can be sufficiently obtained by using the transparent adhesive layer having a Young's modulus lower than the conventional one. You can see that.

Figure 2004181975
Figure 2004181975

(実施例4)
以下に示した事項以外は実施例1と同様に実施する。
(Example 4)
Except for the matters described below, the same operation as in the first embodiment is performed.

低い弾性に特徴づけられた粘着剤として、実施例2で用いたシリコン系粘着剤(試料番号c)を用いた以外は実施例3と同様に実施する。
評価結果を表5に示す。
The procedure is performed in the same manner as in Example 3 except that the silicone-based adhesive (sample number c) used in Example 2 is used as the adhesive characterized by low elasticity.
Table 5 shows the evaluation results.

透明粘着層が、シリコン系粘着剤であっても実施例3においてアクリル系粘着剤を用いた場合と同様に十分な耐衝撃性を得ることができることが分かる。  It can be seen that even when the transparent adhesive layer is a silicone-based adhesive, sufficient impact resistance can be obtained as in the case of using the acrylic-based adhesive in Example 3.

Figure 2004181975
Figure 2004181975

(実施例5)
以下に示した事項以外は実施例1と同様に実施する。
実施例3で実施したのと同様に反射防止フィルムを作製する。
(Example 5)
Except for the matters described below, the same operation as in the first embodiment is performed.
An anti-reflection film is produced in the same manner as in Example 3.

実施例1と同様にアクリル系粘着剤(試料番号d)を作製し、粘着層を形成する。
反射防止膜/PETフィルムのPETフィルム上に前述により得られる透明粘着層を形成する。まず透明粘着層の両面に貼りつけられている2枚の離型フィルムのうち1枚を剥がし、透明積層体上に貼り合せ、さらなる積層体を作製する。
構成は、反射防止膜/PETフィルム/粘着剤/離型フィルムとなる。
An acrylic pressure-sensitive adhesive (sample number d) is prepared in the same manner as in Example 1 to form a pressure-sensitive adhesive layer.
The transparent adhesive layer obtained as described above is formed on the PET film of the antireflection film / PET film. First, one of the two release films adhered to both sides of the transparent adhesive layer is peeled off, and the two films are laminated on a transparent laminate to produce a further laminate.
The composition is antireflection film / PET film / adhesive / release film.

上述のように作製した光学フィルタを60mm×40mmの大きさに裁断し、光学フィルタを作製する。  The optical filter manufactured as described above is cut into a size of 60 mm × 40 mm to manufacture an optical filter.

さらに該光学フィルタの離型フィルムを剥離して、3インチ型有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ前面(表示部60mm×40mm)に貼り合せる。  Further, the release film of the optical filter is peeled off, and the optical filter is bonded to the front of a 3 inch type organic electroluminescence display (display section 60 mm × 40 mm).

耐衝撃試験の合格判断はディスプレイ視認面のガラス基板に割れが生じるかどうかで判断する。
評価結果を表6に示す。
Pass judgment of the impact resistance test is made based on whether or not the glass substrate on the display viewing surface is cracked.
Table 6 shows the evaluation results.

透明粘着層のヤング率を従来よりも低下させることによって、それを装備した小型携帯ディスプレイが、落下による衝撃により割れにくいものとなることが分かる。  It can be seen that, by lowering the Young's modulus of the transparent adhesive layer than before, the small portable display equipped with the transparent adhesive layer is less likely to be broken by the impact of falling.

Figure 2004181975
(実施例6)
以下に示した事項以外は実施例1と同様に実施する。
Figure 2004181975
(Example 6)
Except for the matters described below, the same operation as in the first embodiment is performed.

低い弾性に特徴づけられた粘着剤として、実施例2で用いたシリコン系粘着剤(試料番号c)を用いた以外は実施例5と同様に実施する。
評価結果を表7に示す。
The same operation as in Example 5 was performed except that the silicone-based pressure-sensitive adhesive (sample number c) used in Example 2 was used as the pressure-sensitive adhesive characterized by low elasticity.
Table 7 shows the evaluation results.

透明粘着層としてシリコン系粘着剤を用いることによって、アクリル系粘着剤
を用いた場合と同様に、それを装備した小型携帯ディスプレイの耐衝撃性が増すことが分かる。
It can be seen that the use of a silicone-based pressure-sensitive adhesive as the transparent pressure-sensitive adhesive layer increases the impact resistance of a small portable display equipped with the same as in the case of using an acrylic pressure-sensitive adhesive.

Figure 2004181975
Figure 2004181975

(実施例7)
以下の事項を除いて実施例1と同様に実施した。
(Example 7)
The operation was performed in the same manner as in Example 1 except for the following.

(アクリル系粘着剤の作製)において
試料cを作製した。
(Production of acrylic pressure-sensitive adhesive) Sample c was produced.

(粘着層の形成)において
粘着層の厚みを、510、500、300、100、50、10、5μmの7種用意した。
(Formation of Adhesive Layer) Seven kinds of adhesive layers having a thickness of 510, 500, 300, 100, 50, 10, and 5 μm were prepared.

(透明導電性フィルムへの粘着層の形成)において
上述で用意した7種の粘着剤を透明導電膜/PETフィルムのPETフィルム面上に貼り合わせ、7種の積層体を用意した。構成は、透明導電膜/PETフィルム/粘着剤/離型フィルムである。
(Formation of Adhesive Layer on Transparent Conductive Film) The seven kinds of adhesives prepared above were adhered on the PET film surface of the transparent conductive film / PET film to prepare seven kinds of laminates. The structure is transparent conductive film / PET film / adhesive / release film.

(光学フィルタの作製)において
光学フィルタ作製後に光学フィルタの視感平均透過率を測定した。視感平均透過率(Tvis)が30%より低い場合は、実用的ではないと判断する。
(Production of Optical Filter) The average luminous transmittance of the optical filter was measured after the production of the optical filter. If the luminous average transmittance (Tvis) is lower than 30%, it is determined that it is not practical.

評価結果を表8に示す。  Table 8 shows the evaluation results.

粘着層の厚みが10μmよりも小さい場合は、耐衝撃性試験を満たすことができないことが分かる。また、粘着層の厚みが500μmより大きい場合は、視感平均透過率が30%より小さくなり、実用的に有用でないものとなることが分かる。  It can be seen that when the thickness of the adhesive layer is smaller than 10 μm, the impact resistance test cannot be satisfied. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is larger than 500 μm, the luminous average transmittance is smaller than 30%, which is not practically useful.

以上を鑑みると粘着層の厚みは10〜500μmの範囲であることが好ましいことが分かる。  In view of the above, it is understood that the thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 10 to 500 μm.

Figure 2004181975
Figure 2004181975

透明樹脂層のヤング率に関して
(実施例8)
(透明樹脂層の作成)
ポリエチレンテレフタレートペレット1203(ユニチカ(株)製)を290〜300℃で溶融させ、押出し機により厚み200μmのフィルムを作製した。その後、このフィルムを2軸延伸して、厚み100μmのPETフィルムを作製する。
Regarding Young's modulus of transparent resin layer (Example 8)
(Creating a transparent resin layer)
Polyethylene terephthalate pellets 1203 (manufactured by Unitika Ltd.) were melted at 290 to 300 ° C., and a 200 μm thick film was produced with an extruder. Thereafter, this film is biaxially stretched to produce a PET film having a thickness of 100 μm.

上述のPETフィルムと巴川製紙所製透明粘着剤シート(厚み0.01mm、ヤング率:2.5MPa)とを用いた以外は実施例1と同様にして光学フィルタの作成およびPDP前面への貼合を行う。  Except for using the above-mentioned PET film and a transparent pressure-sensitive adhesive sheet (having a thickness of 0.01 mm and a Young's modulus of 2.5 MPa) manufactured by Hamakawa Paper Mill, an optical filter was prepared and bonded to the front surface of a PDP in the same manner as in Example 1. I do.

該光学フィルタの断面を、本発明の光学フィルタとその装着状態の他の例を示す断面図として、図5に示す。図5において、プラズマディスプレイパネル240の上に、順次、透明粘着層250、適切な弾性および厚みを有する透明樹脂層210、透明導電層260、透明粘着層270、透明樹脂層280、反射防止層290が積層される。電極300は、透明粘着層270、透明樹脂層280、反射防止層290の端面を覆うように、透明導電層260と電気的に接続される。  A cross section of the optical filter is shown in FIG. 5 as a cross-sectional view showing another example of the optical filter of the present invention and its mounted state. 5, a transparent adhesive layer 250, a transparent resin layer 210 having appropriate elasticity and thickness, a transparent conductive layer 260, a transparent adhesive layer 270, a transparent resin layer 280, and an antireflection layer 290 are sequentially formed on the plasma display panel 240. Are laminated. The electrode 300 is electrically connected to the transparent conductive layer 260 so as to cover the end surfaces of the transparent adhesive layer 270, the transparent resin layer 280, and the antireflection layer 290.

(耐衝撃性試験)
上述のように作製した、光学フィルタを装備したPDPの耐衝撃性を剛球落下試験により調べる。飛散したガラスが、到達した距離によって、優劣を判断した。すなわち、ガラスが遠くまで飛散するほど、装備した光学フィルタの性能が低いと評価した。本発明においてはガラス飛散距離が0.5m以内である場合に、透明樹脂層が有効に機能していると考える。
(Impact resistance test)
The impact resistance of the PDP equipped with the optical filter manufactured as described above is examined by a hard ball drop test. The superiority was judged based on the distance that the scattered glass reached. That is, it was evaluated that the further the glass was scattered, the lower the performance of the equipped optical filter was. In the present invention, it is considered that the transparent resin layer functions effectively when the glass scattering distance is within 0.5 m.

(実施例9)
透明樹脂層のPETを延伸しなかったこと以外は、実施例8と同様に実施する。
(Example 9)
The same operation as in Example 8 is performed except that the PET of the transparent resin layer is not stretched.

(実施例10)
弾性によって特徴づけられた透明樹脂層としてエチレン/プロピレン共重合体(厚み100μm、面に垂直な方向のヤング率40MPa)を用いる点以外は実施例8と同様に実施する。
(Example 10)
Except that an ethylene / propylene copolymer (thickness: 100 μm, Young's modulus in a direction perpendicular to the plane: 40 MPa) is used as a transparent resin layer characterized by elasticity, the same procedure as in Example 8 is performed.

(実施例11)
弾性によって特徴づけられた透明樹脂層としてエチレン/酢酸ビニル共重合体(EVA)(厚み100μm、面に垂直な方向のヤング率12MPa)を用いる点以外は実施例8と同様に実施する。
(Example 11)
Example 8 is carried out in the same manner as in Example 8 except that an ethylene / vinyl acetate copolymer (EVA) (thickness: 100 μm, Young's modulus in a direction perpendicular to the plane: 12 MPa) is used as a transparent resin layer characterized by elasticity.

(実施例12)
弾性によって特徴づけられた透明樹脂層としてEVA(厚み100μm、面に垂直な方向のヤング率4MPa)を用いる点以外は実施例8と同様に実施する。
(Example 12)
Example 8 is carried out in the same manner as in Example 8, except that EVA (Young's modulus in the direction perpendicular to the surface: 4 MPa) is used as the transparent resin layer characterized by elasticity.

(実施例13)
基材フィルムとしてEVA(厚み200μm、面に垂直な方向のヤング率12MPa)を用いたこと以外は実施例8と同様に反射防止フィルムを作製する。この反射防止フィルムの反射防止層形成面の反対面に実施例8で実施したのと同様に透明導電膜を作製する。
(Example 13)
An anti-reflection film is produced in the same manner as in Example 8, except that EVA (thickness: 200 μm, Young's modulus in a direction perpendicular to the plane: 12 MPa) is used as the base film. A transparent conductive film is formed on the surface of the antireflection film opposite to the surface on which the antireflection layer is formed in the same manner as in Example 8.

実施例8と同様にアクリル系粘着剤を作製し、そこに色素を分散し、粘着層を形成する。  An acrylic pressure-sensitive adhesive was prepared in the same manner as in Example 8, and a pigment was dispersed therein to form a pressure-sensitive adhesive layer.

反射防止膜/PETフィルム/透明導電膜の透明導電膜上に前述により得られる透明粘着層を形成する。まず透明粘着層の両面に貼りつけられている2枚の離型フィルムのうち1枚を剥がし、透明積層体上に貼り合せ、光学フィルタを作製する。構成は、反射防止膜/PETフィルム/透明導電膜/粘着剤/離型フィルムとなる。  The transparent adhesive layer obtained as described above is formed on the transparent conductive film of the antireflection film / PET film / transparent conductive film. First, one of the two release films adhered to both sides of the transparent adhesive layer is peeled off and laminated on a transparent laminate to produce an optical filter. The composition is antireflection film / PET film / transparent conductive film / adhesive / release film.

上述のように作製した積層体を970mm×570mmの大きさに裁断し、光学フィルタを作製する。  The laminate produced as described above is cut into a size of 970 mm × 570 mm to produce an optical filter.

さらに該光学フィルタの離型フィルムを剥離して、42インチ型プラズマディスプレイパネル前面(表示部920mm×520mm)に枚葉式ラミネーターを用いて貼り合せる。  Further, the release film of the optical filter is peeled off and bonded to the front of a 42-inch plasma display panel (display section 920 mm × 520 mm) using a single-wafer laminator.

なお、プラズマディスプレイパネル前面の表示部分外の周囲には外部とのねじ留め用の穴をあらかじめあけておく。このねじ留め用の穴はPDP外部に導通し、アースを取れるようになっている。  A hole for screwing with the outside is formed in advance around the outside of the display portion on the front of the plasma display panel. The hole for screwing is electrically connected to the outside of the PDP so as to be grounded.

光学フィルタは、このねじ留め用の穴を覆い隠すようにPDPに貼りつけられる。光学フィルタ表面から光学フィルタを貫通するように、ねじをねじ留め用穴に固定する。なお、用いるねじは導電性を持つことが必要である。該光学フィルタの断面を、本発明の光学フィルタとその装着状態のさらに他の例を示す断面図として、図6に示す。図6において、プラズマディスプレイパネル240の上に、順次、透明粘着層250、透明導電層260、透明樹脂層210、反射防止層290が積層される。電極300は、各層を貫通するように設けられ、透明導電層260と電気的に接続するとともに、PDPの導電性ねじとの接触によって接地される。  The optical filter is attached to the PDP so as to cover this screw hole. Screws are fixed to the screw holes so as to penetrate the optical filter from the optical filter surface. It is necessary that the screws used have conductivity. FIG. 6 is a cross-sectional view showing another example of the optical filter of the present invention and a mounted state of the optical filter according to the present invention. 6, a transparent adhesive layer 250, a transparent conductive layer 260, a transparent resin layer 210, and an antireflection layer 290 are sequentially laminated on a plasma display panel 240. The electrode 300 is provided to penetrate each layer, is electrically connected to the transparent conductive layer 260, and is grounded by contact with a conductive screw of the PDP.

(実施例14)
弾性に特徴づけられた透明樹脂層としてEVA(厚み200μm、面に垂直な方向のヤング率4MPa)を使用した点以外は実施例13と同様に実施する。
(Example 14)
The same procedure as in Example 13 was carried out except that EVA (200 μm in thickness, Young's modulus in a direction perpendicular to the plane of 4 MPa) was used as a transparent resin layer characterized by elasticity.

評価結果を表9に示す。構成枚数は、積層体を構成する全透明樹脂層の数である。ガラス飛散距離は、剛球落下試験後の結果である。  Table 9 shows the evaluation results. The number of components is the number of all transparent resin layers constituting the laminate. The glass scatter distance is the result after the hard ball drop test.

Figure 2004181975
Figure 2004181975

(実施例15)
実施例10のフィルタシートを40mm×30mmの大きさに切断し、2インチ型有機エレクトロルミネッセンス素子(寸法40mm×30mm)の視認面上に貼り合せた。
(Example 15)
The filter sheet of Example 10 was cut into a size of 40 mm × 30 mm, and bonded on a visual recognition surface of a 2-inch type organic electroluminescence device (dimensions 40 mm × 30 mm).

また、図7は本発明に係る積層体をOELD(有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ)に装備した状態の他の例を示す断面図である。図7において、OELD340の上に、順次、透明粘着層250、透明樹脂層210、反射防止層290が積層される。  FIG. 7 is a sectional view showing another example of a state in which the laminate according to the present invention is mounted on an OELD (organic electroluminescence display). 7, a transparent adhesive layer 250, a transparent resin layer 210, and an antireflection layer 290 are sequentially laminated on the OELD 340.

この素子の耐衝撃性を落下試験により調べる。本発明においてはガラス飛散距離が0.5m以内である場合に透明樹脂層が、衝撃防止機能を十分に発していると考える。  The impact resistance of this element is examined by a drop test. In the present invention, when the glass scattering distance is within 0.5 m, it is considered that the transparent resin layer sufficiently exerts the impact prevention function.

(実施例16)
実施例14において作成したPETフィルムを用いた点以外は、実施例15と同様に実施する。
(Example 16)
Except that the PET film prepared in Example 14 was used, the same operation as in Example 15 was performed.

評価結果を表10に示す。材料とは、弾性および厚みに特徴づけられた透明樹脂層の材料のことを指す。ヤング率はその透明樹脂層の面に垂直な方向のヤング率である。ガラス飛散距離は、落下試験後の結果である。  Table 10 shows the evaluation results. The material refers to a material of a transparent resin layer characterized by elasticity and thickness. The Young's modulus is a Young's modulus in a direction perpendicular to the surface of the transparent resin layer. The glass scatter distance is the result after the drop test.

Figure 2004181975
Figure 2004181975

次に衝撃吸収層を用いた場合について説明する。
(実施例17)
(透明導電層の作製)
PETフィルム(厚み:75μm、ヤング率:3900MPa)と巴川製紙所製透明粘着剤シート(厚み0.01mm、ヤング率:2.5MPa)とを用いた以外は実施例1と同様にして透明導電層の作成を行う。
Next, the case where the shock absorbing layer is used will be described.
(Example 17)
(Preparation of transparent conductive layer)
Transparent conductive layer in the same manner as in Example 1 except that a PET film (thickness: 75 μm, Young's modulus: 3900 MPa) and a transparent pressure sensitive adhesive sheet (thickness: 0.01 mm, Young's modulus: 2.5 MPa) manufactured by Hamakawa Paper Mill were used. Create.

(衝撃吸収層の用意)
シリコーンのゲル状物質(ジェルテック社製、製品名:αゲル、厚み500μmのシート、視感平均透過率83%、針入度180)を用意し、上記にて反射防止フィルムを作成した場合と同様にして、一方の主面上に反射防止層を形成する。さらにもう一方の主面上に透明粘着剤(厚み:25μm、ヤング率:2.0MPa)を貼り合わせる。
(Preparation of shock absorbing layer)
A silicone gel substance (manufactured by Geltech Co., Ltd., product name: α-gel, sheet with a thickness of 500 μm, average luminous transmittance 83%, penetration 180) was prepared, and the antireflection film was prepared as described above. Similarly, an antireflection layer is formed on one main surface. Further, a transparent pressure-sensitive adhesive (thickness: 25 μm, Young's modulus: 2.0 MPa) is bonded on the other main surface.

上述の透明導電フィルム、衝撃吸収層を用いた以外は実施例1と同様にして光学フィルタの作成、PDPへの貼合を行う。  Except for using the above-described transparent conductive film and the shock absorbing layer, an optical filter is prepared and bonded to a PDP in the same manner as in Example 1.

図8は、本発明の光学フィルタとその装着状態のさらに他の例を示す断面図である。図8において、プラズマディスプレイパネル440の上に、順次、透明粘着層450、透明樹脂層410、透明導電層460、透明粘着層470、透明樹脂層480、反射防止層490、衝撃吸収層500が積層される。電極510は、透明粘着層470、透明樹脂層480、反射防止層490の端面を覆うように、透明導電層460と電気的に接続される。  FIG. 8 is a cross-sectional view showing still another example of the optical filter of the present invention and a mounted state thereof. 8, a transparent adhesive layer 450, a transparent resin layer 410, a transparent conductive layer 460, a transparent adhesive layer 470, a transparent resin layer 480, an antireflection layer 490, and a shock absorbing layer 500 are sequentially laminated on a plasma display panel 440. Is done. Electrode 510 is electrically connected to transparent conductive layer 460 so as to cover the end surfaces of transparent adhesive layer 470, transparent resin layer 480, and antireflection layer 490.

(耐衝撃性試験)
上述のように作製した、光学フィルタを装備したPDPの耐衝撃性を剛球落下試験により調べる。
(Impact resistance test)
The impact resistance of the PDP equipped with the optical filter manufactured as described above is examined by a hard ball drop test.

(実施例18)
下記の事項を除いて、実施例17と同様に実施した。
(Example 18)
The same operation as in Example 17 was performed, except for the following.

(衝撃吸収層の用意)において
シリコーンのゲル状物質(ジェルテック社製、製品名:αゲル、厚み500μmのシート、針入度180、視感平均透過率83%)を用意し、一方の主面上に透明粘着剤(厚み:25μm、ヤング率:2.0MPa)を貼り合わせる。
In (Preparation of shock absorbing layer), a silicone gel substance (manufactured by Geltech Co., Ltd., product name: α-gel, 500 μm thick sheet, penetration of 180, average luminous transmittance 83%) was prepared. A transparent pressure-sensitive adhesive (thickness: 25 μm, Young's modulus: 2.0 MPa) is stuck on the surface.

(光学フィルタの作製)において
実施例1の光学フィルタの色素入り粘着層と上記衝撃吸収層の透明粘着層が形成されていない面とを貼り合わせて得られる。
(Preparation of Optical Filter) Obtained by laminating the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer of the optical filter of Example 1 with the surface of the impact absorbing layer on which the transparent pressure-sensitive adhesive layer is not formed.

得られる構成は、反射防止層/TACフィルム/透明粘着層/透明導電層/色素入り粘着層/衝撃吸収層/粘着層/セパレータフィルムとなる。  The structure obtained is: antireflection layer / TAC film / transparent adhesive layer / transparent conductive layer / adhesive layer containing dye / shock absorbing layer / adhesive layer / separator film.

さらに、透明導電層の剥きだしの導通部を覆うように周縁部の幅22mmの範囲に、銀ペースト(三井化学(株)製MSP−600F)をスクリーン印刷し、乾燥させ厚み15μmの電極を形成する。  Furthermore, a silver paste (MSP-600F, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) is screen-printed in a range of 22 mm in the peripheral portion so as to cover the exposed conductive portion of the transparent conductive layer, and dried to form an electrode having a thickness of 15 μm. I do.

(光学フィルタの装備)において
該光学フィルタを備えたPDPの断面図を光学フィルタの断面図とともに図9に示す。図9において、プラズマディスプレイパネル440の上に、順次、衝撃吸収層500、透明粘着層450、透明樹脂層410、透明導電層460、透明粘着層470、透明樹脂層480、反射防止層490が積層される。電極510は、透明粘着層470、透明樹脂層480、反射防止層490の端面を覆うように、透明導電層460と電気的に接続される。
(Equipment of Optical Filter) FIG. 9 shows a cross-sectional view of a PDP provided with the optical filter together with a cross-sectional view of the optical filter. 9, the shock absorbing layer 500, the transparent adhesive layer 450, the transparent resin layer 410, the transparent conductive layer 460, the transparent adhesive layer 470, the transparent resin layer 480, and the antireflection layer 490 are sequentially laminated on the plasma display panel 440. Is done. Electrode 510 is electrically connected to transparent conductive layer 460 so as to cover the end surfaces of transparent adhesive layer 470, transparent resin layer 480, and antireflection layer 490.

(実施例19)
以下の事項を除いて、実施例17と同様に実施した。
衝撃吸収層を2種類用意した。
(Example 19)
The same operation as in Example 17 was performed, except for the following.
Two types of shock absorbing layers were prepared.

(衝撃吸収層Iの用意)
シリコーンのゲル状物質(ジェルテック社製、製品名:αゲル、厚み500μmのシート、視感平均透過率83%、針入度180)を用意し、上述において反射防止フィルムを作成した場合と同様にして、一方の主面上に反射防止層を形成する。さらにもう一方の主面上に透明粘着剤(厚み:25μm、ヤング率:2.0MPa)を貼り合わせる。これを衝撃吸収層Iとする。
(Preparation of shock absorbing layer I)
A silicone gel substance (manufactured by Geltech Co., Ltd., product name: α-gel, sheet with a thickness of 500 μm, average luminous transmittance 83%, penetration 180) was prepared, and the same as in the case of forming the anti-reflection film as described above Then, an antireflection layer is formed on one main surface. Further, a transparent pressure-sensitive adhesive (thickness: 25 μm, Young's modulus: 2.0 MPa) is bonded on the other main surface. This is referred to as a shock absorbing layer I.

(衝撃吸収層IIの用意)
シリコーンのゲル状物質(ジェルテック社製、製品名:αゲル、厚み500μmのシート、視感平均透過率83%、針入度180)を用意し、一方の主面上に透明粘着剤(厚み:25μm、ヤング率:2.0MPa)を貼り合わせる。これを衝撃吸収層IIとする。
(Preparation of shock absorbing layer II)
A silicone gel substance (manufactured by Geltech Co., Ltd., product name: α-gel, 500 μm thick sheet, luminous average transmittance 83%, penetration 180) was prepared, and a transparent adhesive (thickness: : 25 μm, Young's modulus: 2.0 MPa). This is referred to as a shock absorbing layer II.

(光学フィルタの作製)において
実施例1の光学フィルタの色素入り粘着層と衝撃吸収層IIの透明粘着層が形成されていない面でを貼り合わせる。
(Preparation of Optical Filter) The dye-containing adhesive layer of the optical filter of Example 1 and the surface of the impact absorbing layer II where the transparent adhesive layer is not formed are bonded together.

得られる積層体の構成は、反射防止層/TACフィルム/透明粘着層/透明導電層/色素入り粘着層/衝撃吸収層/粘着層/セパレータフィルムとなる。  The structure of the obtained laminate is as follows: antireflection layer / TAC film / transparent adhesive layer / transparent conductive layer / dye-containing adhesive layer / shock absorbing layer / adhesive layer / separator film.

さらに、透明導電層の剥きだしの導通部を覆うように周縁部の幅22mmの範囲に、銀ペースト(三井化学(株)製MSP−600F)をスクリーン印刷し、乾燥させ厚み15μmの電極を形成する。
衝撃吸収層Iの透明粘着剤側と上記積層体の反射防止フィルム側とを貼り合わせる。
Furthermore, a silver paste (MSP-600F, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) is screen-printed in a range of 22 mm in width of the peripheral portion so as to cover the exposed conductive portion of the transparent conductive layer, and dried to form an electrode having a thickness of 15 μm. I do.
The transparent adhesive side of the shock absorbing layer I and the antireflection film side of the laminate are stuck together.

続いて積層体を支持板からはずして、透明粘着層面に離型フィルムを有する本発明の光学フィルタを作製する。  Subsequently, the laminate is removed from the support plate to produce an optical filter of the present invention having a release film on the transparent adhesive layer surface.

該光学フィルタを備えたPDPの断面図を光学フィルタの断面図とともに図10に示す。図10において、プラズマディスプレイパネル440の上に、順次、衝撃吸収層500、透明粘着層450、透明樹脂層410、透明導電層460、透明粘着層470、透明樹脂層480、反射防止層490、衝撃吸収層500が積層される。電極510は、透明粘着層470、透明樹脂層480、反射防止層490の端面を覆うように、透明導電層460と電気的に接続される。  FIG. 10 shows a sectional view of a PDP provided with the optical filter together with a sectional view of the optical filter. In FIG. 10, the shock absorbing layer 500, the transparent adhesive layer 450, the transparent resin layer 410, the transparent conductive layer 460, the transparent adhesive layer 470, the transparent resin layer 480, the antireflection layer 490, The absorption layer 500 is laminated. The electrode 510 is electrically connected to the transparent conductive layer 460 so as to cover the end surfaces of the transparent adhesive layer 470, the transparent resin layer 480, and the antireflection layer 490.

(実施例20)
反射防止フィルムと衝撃吸収層IIを用いなかったこと以外は実施例17と同様にして作成、評価を実施した。
(Example 20)
Preparation and evaluation were performed in the same manner as in Example 17 except that the antireflection film and the shock absorbing layer II were not used.

(比較例2)
衝撃吸収層を形成しない点を除いて、実施例17と同様に実施した。
以上、実施例17〜20および比較例2の結果を表11に掲げた。
(Comparative Example 2)
Example 17 was carried out in the same manner as in Example 17 except that no shock absorbing layer was formed.
Table 11 shows the results of Examples 17 to 20 and Comparative Example 2.

Figure 2004181975
Figure 2004181975

表11での実施例17〜20の結果から分かるように、すべての実施例において、耐衝撃性試験に合格するプラズマディスプレイパネルを得ることができることが分かる。  As can be seen from the results of Examples 17 to 20 in Table 11, it can be seen that in all the examples, a plasma display panel that passed the impact resistance test can be obtained.

比較例2に示したように、衝撃吸収層を備えていない積層体を用いた光学フィルタを備えたプラズマディスプレイパネルは、耐衝撃性試験に合格しない。  As shown in Comparative Example 2, the plasma display panel including the optical filter using the laminate having no shock absorbing layer does not pass the shock resistance test.

(実施例21)
(反射防止フィルムの作製)
PETフィルム上(厚さ:188μm、ヤング率:4000MPa)に、実施例1と同様の方法で反射防止層を形成し、反対面に粘着層(厚さ:25μm、ヤング率:2.0MPa)を形成した。構成は、反射防止層/PETフィルム/粘着層である。
(Example 21)
(Preparation of anti-reflection film)
An antireflection layer was formed on a PET film (thickness: 188 μm, Young's modulus: 4000 MPa) in the same manner as in Example 1, and an adhesive layer (thickness: 25 μm, Young's modulus: 2.0 MPa) was formed on the opposite surface. Formed. The constitution is: anti-reflection layer / PET film / adhesive layer.

(衝撃吸収層の用意)
シリコーンのゲル状物質(ジェルテック社製、製品名:αゲル、厚み500μmのシート、視感平均透過率83%、針入度180)を用意し、上述のように反射防止フィルムを作成した場合と同様にして、一方の主面上に反射防止層を形成する。さらにもう−方の主面上に透明粘着剤(厚み:25μm、ヤング率:2.0MPa)を貼り合わせる。
(Preparation of shock absorbing layer)
When a silicone gel material (manufactured by Geltech Co., Ltd., product name: α-gel, 500 μm thick sheet, average luminous transmittance 83%, penetration 180) is prepared, and an antireflection film is prepared as described above. Similarly to the above, an antireflection layer is formed on one main surface. Further, a transparent pressure-sensitive adhesive (thickness: 25 μm, Young's modulus: 2.0 MPa) is attached on the other main surface.

(光学フィルタの作製)
40mm×30mmの大きさに裁断した上記反射防止フィルムと衝撃吸収層とを貼り合わせる。構成は、反射防止層/PETフィルム/粘着層/衝撃吸収層/粘着層/セパレータである。
(Preparation of optical filter)
The antireflection film cut into a size of 40 mm × 30 mm and the shock absorbing layer are bonded together. The structure is as follows: antireflection layer / PET film / adhesive layer / shock absorbing layer / adhesive layer / separator.

これを2インチ型有機エレクトロルミネッセンス素子(寸法40mm×30mm)の画面上に貼り合せる。  This is bonded on a screen of a 2-inch type organic electroluminescence element (dimensions: 40 mm × 30 mm).

該反射防止フィルムを備えた有機エレクトロルミネッセンス素子の断面図を反射防止フィルムの断面図とともに図11に示す。図11において、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ520の上に、順次、透明粘着層50、透明樹脂層10、反射防止層90が積層される。
この素子の耐衝撃性を落下試験により調べた。
FIG. 11 shows a cross-sectional view of an organic electroluminescence device including the anti-reflection film, together with a cross-sectional view of the anti-reflection film. In FIG. 11, a transparent adhesive layer 50, a transparent resin layer 10, and an antireflection layer 90 are sequentially laminated on an organic electroluminescence display 520.
The impact resistance of this element was examined by a drop test.

(比較例3)
衝撃吸収層を形成しなかった点を除いて実施例21と同様に実施した。
以上、実施例21および比較例3の結果を表12に掲げた。
(Comparative Example 3)
Example 21 was carried out in the same manner as in Example 21 except that the impact absorbing layer was not formed.
The results of Example 21 and Comparative Example 3 are shown in Table 12.

Figure 2004181975
Figure 2004181975

表12での実施例21の結果から分かるように、衝撃吸収層を備えた光学フィルタを用いることによって、耐衝撃性試験に合格する有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができることが分かる。また比較例3に示したように、衝撃吸収層を備えていない積層体または光学フィルタを備えた有機エレクトロルミネッセンス素子は、耐衝撃性試験に合格しない。
次に、落球衝撃試験評価を行った場合について述べる。
As can be seen from the results of Example 21 in Table 12, it can be seen that the use of the optical filter having the shock absorbing layer makes it possible to obtain an organic electroluminescent element that passes the shock resistance test. Further, as shown in Comparative Example 3, the organic electroluminescent device having the laminate or the optical filter without the shock absorbing layer does not pass the impact resistance test.
Next, a case in which a falling ball impact test evaluation is performed will be described.

(実施例22)
(透明導電性フィルムの作製)
実施例1と同様の方法でポリエチレンテレフタレート(以下PET)フィルム(幅564mm、長さ500m、厚み75μm、ヤング率:3900MPa)を高分子フィルムとしてその一方の主面に、PETフィルムから順に、ITO薄膜(膜厚:40nm)、銀薄膜(膜厚:10nm)、ITO薄膜(膜厚:95nm)、銀薄膜(膜厚:12nm)、ITO薄膜(膜厚:90nm)、銀薄膜(膜厚:9nm)、ITO薄膜(膜厚:40nm)の計7層の透明導電層を形成し、面抵抗2.3Ω/□の透明導電層を有する透明導電性フィルムを作製した。透明導電層と反対側には透明粘着層を形成した。断面図を図1に示す。
(Example 22)
(Preparation of transparent conductive film)
In the same manner as in Example 1, a polyethylene terephthalate (PET) film (width 564 mm, length 500 m, thickness 75 μm, Young's modulus: 3900 MPa) was used as a polymer film, and an ITO thin film was formed on one main surface of the polymer film in order from the PET film. (Thickness: 40 nm), silver thin film (thickness: 10 nm), ITO thin film (thickness: 95 nm), silver thin film (thickness: 12 nm), ITO thin film (thickness: 90 nm), silver thin film (thickness: 9 nm) ) And an ITO thin film (thickness: 40 nm), a total of seven transparent conductive layers were formed, and a transparent conductive film having a transparent conductive layer with a sheet resistance of 2.3Ω / □ was produced. A transparent adhesive layer was formed on the side opposite to the transparent conductive layer. A cross-sectional view is shown in FIG.

(AGフィルムの用意)
AGフィルム(日本油脂社製、銘柄:PET75AG−HC/PU−V、AG層の反対面に透明粘着層が形成されている、幅558mm、長さ500m、厚み75μm)(基材層:PETフィルム、ヤング率:3900MPa)を用意する。
(Preparation of AG film)
AG film (manufactured by NOF Corporation, brand: PET75AG-HC / PU-V, with a transparent adhesive layer formed on the opposite surface of the AG layer, width 558 mm, length 500 m, thickness 75 μm) (base material layer: PET film) , Young's modulus: 3900 MPa).

(EVAシートの用意)
エチレン酢酸ビニル共重合体(三井デュポンポリケミカル製、酢酸ビニル単位19wt%含有、MFR=2.5g/10分、JIS−A硬度=89、ヤング率:43MPa)ペレットを用い、押出し成形で、幅564mm、厚み0.23mm、0.36mm、0.93mm、1.3mm、2.1mmサイズのシートを作製する。これの片面に透明粘着層(色素無し、厚み0.01mm)を貼り合わせる。
(Preparation of EVA sheet)
Ethylene vinyl acetate copolymer (manufactured by DuPont Mitsui Polychemicals, containing 19 wt% of vinyl acetate units, MFR = 2.5 g / 10 min, JIS-A hardness = 89, Young's modulus: 43 MPa) A sheet having a size of 564 mm, a thickness of 0.23 mm, 0.36 mm, 0.93 mm, 1.3 mm, and 2.1 mm is prepared. A transparent adhesive layer (without dye, thickness 0.01 mm) is attached to one side of this.

(貼合わせ)
ロールツーロール方式によって、上記透明導電フィルムの粘着層側と2.1mm厚のEVAシートの粘着層と反対側を貼り合わせる。
(Lamination)
The adhesive layer side of the transparent conductive film and the side opposite to the adhesive layer of the 2.1 mm thick EVA sheet are bonded by a roll-to-roll method.

次いでロールツーロール方式により、上記積層体の透明導電層側とAGフィルムの粘着層側を貼り合わせる。なお、フィルムの幅方向位置に関しては、それぞれのフィルムの中心位置が一致するような位置とした。全体の厚みは約2.3mmである。  Next, the transparent conductive layer side of the laminate and the adhesive layer side of the AG film are bonded to each other by a roll-to-roll method. The position of the film in the width direction was set so that the center position of each film coincided. The total thickness is about 2.3 mm.

(切断)
上述の積層体を958mm*564mmサイズに切断する。
(Cut)
The above laminate is cut to a size of 958 mm * 564 mm.

(電極形成)
積層体の長辺部分に6mmの幅にわたって、スクリーン印刷法によって銀ペーストを塗布し、乾燥させることによってディスプレイ用フィルタ1を得た。塗布はAGフィルム側に実施した。
(Electrode formation)
A silver paste was applied to the long side portion of the laminate over a width of 6 mm by a screen printing method, and dried to obtain a display filter 1. The coating was performed on the AG film side.

(プラズマディスプレイパネルへの装着)
プラズマディスプレイパネル(NEC製 PX−42VP1)前面へ色素入り透明粘着層を介して、ディスプレイ用フィルタを取り付けた。プラズマディスプレイパネルにあらかじめ備え付けられているコンタクトを、ディスプレイ用フィルタの電極部分に接触させた。全周囲にわたって設けられている電極全てを覆うようにする。
(Attach to plasma display panel)
A display filter was attached to the front surface of a plasma display panel (PX-42VP1 manufactured by NEC) via a transparent adhesive layer containing a dye. The contact provided in advance on the plasma display panel was brought into contact with the electrode portion of the display filter. All the electrodes provided over the entire circumference are covered.

(電磁波遮断能力評価)
プラズマディスプレイパネルを動作させて、外部に放出される電磁波の強度をFCC規格 Part15Jに基づいて測定する。本フィルタはクラスA基準を満たしている。
(Evaluation of electromagnetic wave blocking ability)
By operating the plasma display panel, the intensity of electromagnetic waves emitted to the outside is measured based on FCC Part 15J. This filter meets the Class A criteria.

(落球衝撃試験)
ストーンテーブル上に日計電測製LC−20KNG702圧縮型ロードセル(定格容量20kN、定格出力1160*10−6strain)を固定し、ロードセル上中央部に上記フィルタを50mm*50mmサイズに切り出したサンプルを固定し、室温下、543gの鋼球を10cm高さから落下させる。その際の応力と時間は、上記ロードセルとNEC三栄社製AS2102型動ひずみ計、NEC三栄社製AP11−103型高速DCアンプ、NEC三栄社製RA1200型サーマルドットレコーダを接続して測定する。結果を表1に示す。
(Falling ball impact test)
A sample obtained by fixing a Nikkei Denso LC-20KNG702 compression type load cell (rated capacity 20 kN, rated output 1160 * 10 -6 strain) on a stone table and cutting the filter into a 50 mm * 50 mm size at the center of the load cell. After fixing, a 543 g steel ball is dropped from a height of 10 cm at room temperature. The stress and time at that time are measured by connecting the load cell to an AS2102 dynamic strain meter manufactured by NEC Sanei, an AP11-103 high-speed DC amplifier manufactured by NEC Sanei, and a RA1200 thermal dot recorder manufactured by NEC Sanei. Table 1 shows the results.

また、同じサンプルフィルムをプラズマディスプレイパネル(NEC製 PX−42VP1)上に固定し、543gの鋼球を10cmの高さから落下させてもPDPパネルは破損しない。  Also, the same sample film is fixed on a plasma display panel (PX-42VP1 manufactured by NEC), and the PDP panel is not damaged even if a 543 g steel ball is dropped from a height of 10 cm.

(実施例23)
EVAシートの代わりに商品名αジェル(ジェルテック製シリコーン系ゲル、厚み3mm、片面透明粘着剤付き)を用いた以外は実施例22と同様にしてサンプルシートの作製と落球衝撃試験を行う。結果を表13に示す。
(Example 23)
A sample sheet was prepared and a falling ball impact test was performed in the same manner as in Example 22 except that α gel (trade name: silicone gel made by Geltech, thickness: 3 mm, with a transparent adhesive on one side) was used instead of the EVA sheet. Table 13 shows the results.

(比較例4)
EVA、αジェルの代りにPETシート(厚さ:2mm、ヤング率:900MPa)を用いたこと以外は、実施例22と同様の方法でサンプルシートの作製と落球衝撃試験を行う。結果を表13に示す。
(Comparative Example 4)
Except that a PET sheet (thickness: 2 mm, Young's modulus: 900 MPa) was used instead of EVA and α gel, a sample sheet was prepared and a falling ball impact test was performed in the same manner as in Example 22. Table 13 shows the results.

Figure 2004181975
Figure 2004181975

次にJIS−A硬度が異なる2種以上の層からなる積層体の落球衝撃試験評価を行った場合について述べる。  Next, a case will be described in which a laminate made of two or more layers having different JIS-A hardnesses is evaluated for a falling ball impact test.

(実施例24)
厚み1mmのαジェルと厚み0.23mmのEVAと積層体を貼り合わせたサンプルシートを用いた以外は、実施例22と同様にして落球衝撃試験を行う。結果を表14に示す。
(Example 24)
A ball-drop impact test is performed in the same manner as in Example 22, except that a sample sheet in which an α gel having a thickness of 1 mm, an EVA having a thickness of 0.23 mm, and a laminate are used is used. Table 14 shows the results.

(実施例25)
(スチレン系熱可塑性エラストマー(SEBS)シートの用意)
シェル社のスチレン系熱可塑性エラストマー(商品名:クレイトンG1657、JIS−A硬度:55、ヤング率:1.2MPa)ペレットを用い、押出し成形で、幅564mm、厚み0.36mm、0.54mm、1.02mmサイズのシートを作製する。これの片面に透明粘着層(色素無し、0.01mm)を貼り合わせる。
(Example 25)
(Preparation of styrene thermoplastic elastomer (SEBS) sheet)
Using styrene-based thermoplastic elastomer (trade name: Clayton G1657, JIS-A hardness: 55, Young's modulus: 1.2 MPa) pellets of Shell Co., Ltd., extrusion molding, width 564 mm, thickness 0.36 mm, 0.54 mm, 1 A sheet having a size of .02 mm is prepared. A transparent adhesive layer (without dye, 0.01 mm) is attached to one side of this.

(貼り合わせ、落球衝撃試験)
厚み0.36mmのEVAシート、αジェルの代りに厚み0.93mmのSEBSを用いた以外は実施例24と同様にして貼り合わせと落球衝撃試験を行った。結果を表14に示した。
(Lamination, falling ball impact test)
Laminating and falling ball impact tests were performed in the same manner as in Example 24, except that an EVA sheet having a thickness of 0.36 mm and SEBS having a thickness of 0.93 mm were used instead of the α gel. The results are shown in Table 14.

(実施例26)
EVAシート厚みを0.23mmとし、サイズを縦横各々50mmとし電極印刷を行わなかった以外は実施例25と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
(Example 26)
A sample sheet was prepared and subjected to a falling ball impact test in the same manner as in Example 25, except that the thickness of the EVA sheet was set to 0.23 mm, the size was set to 50 mm for each of the length and width, and electrode printing was not performed. Table 14 shows the results.

(実施例27)
EVAシート厚みを0.94mmとし、SEBSシートの代わりに商品名αジェル(ジェルテック製シリコーン系ゲル、50mm*50mm*0.3mmサイズ片面透明粘着剤付き、JIS−A硬度<10)を用いた以外は実施例26と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
(Example 27)
The EVA sheet thickness was set to 0.94 mm, and instead of the SEBS sheet, α gel (trade name: silicone gel manufactured by Geltech, 50 mm * 50 mm * 0.3 mm with a single-sided transparent adhesive, JIS-A hardness <10) was used. Except for the above, a sample sheet was prepared and subjected to a falling ball impact test in the same manner as in Example 26. Table 14 shows the results.

(実施例28)
EVAシート厚みを0.23mmとし、αジェルを厚み1mmとした以外は実施例27と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
(Example 28)
A sample sheet was prepared and subjected to a falling ball impact test in the same manner as in Example 27 except that the thickness of the EVA sheet was 0.23 mm and the thickness of the α gel was 1 mm. Table 14 shows the results.

(実施例29)
EVAシート厚みを0.36mmとし、αジェルを厚み1mmとした以外は実施例28と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
(Example 29)
A sample sheet was prepared and subjected to a falling ball impact test in the same manner as in Example 28 except that the thickness of the EVA sheet was 0.36 mm and the α-gel was 1 mm. Table 14 shows the results.

(実施例30)
EVAシートの代わりにSEBSシート(厚み0.36mm)を用いた以外は実施例29と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
(Example 30)
A sample sheet was prepared and subjected to a falling ball impact test in the same manner as in Example 29 except that an SEBS sheet (thickness 0.36 mm) was used instead of the EVA sheet. Table 14 shows the results.

(実施例31)
SEBSシートを厚み0.93mm、αジェルを0.3mmとした以外は実施例30と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
(Example 31)
A sample sheet was prepared and subjected to a falling ball impact test in the same manner as in Example 30 except that the thickness of the SEBS sheet was 0.93 mm and the α-gel was 0.3 mm. Table 14 shows the results.

(実施例32)
(EVA/エチレンプロピレンターポリマ(EPT)共架橋物シートの準備)
EVAを40部、三井EPT(エチレン/プロピレン/エチリデンノルボルネン共重合体)を60重量部、シリカを25重量部、パラフィンオイルを27重量部に安定剤、シランカップリング剤、過酸化物、安定剤を添加して混練後、溶融プレス成形にて縦150mm、横150mm、厚み0.54mmと1.17mmのシートを得た(以後EVTと呼ぶ、JIS−A硬度:64、ヤング率:1.2MPa)。JIS−A硬度はいずれも64であった。この片面に上記の粘着剤(色素無し、厚み0.01mm)を貼り付けた。
(Example 32)
(Preparation of EVA / ethylene propylene terpolymer (EPT) co-crosslinked sheet)
40 parts by weight of EVA, 60 parts by weight of Mitsui EPT (ethylene / propylene / ethylidene norbornene copolymer), 25 parts by weight of silica, and 27 parts by weight of paraffin oil Stabilizer, silane coupling agent, peroxide, stabilizer Was added and kneaded, and a sheet having a length of 150 mm, a width of 150 mm, a thickness of 0.54 mm and 1.17 mm was obtained by melt press molding (hereinafter referred to as EVT, JIS-A hardness: 64, Young's modulus: 1.2 MPa). ). The JIS-A hardness was 64 in each case. The above-mentioned pressure-sensitive adhesive (no dye, thickness 0.01 mm) was stuck on one side of this.

(落球衝撃試験)
SEBSの代りに厚み0.54mmのEVT、αジェル(ジェルテック製シリコーン系ゲル、50mm*50mm*0.5mmサイズ片面透明粘着剤付き、JIS−A硬度<10)を用いた以外は実施例31と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
(Falling ball impact test)
Example 31 except that 0.54 mm thick EVT and α gel (silicone gel manufactured by Geltech, 50 mm * 50 mm * 0.5 mm size with a single-sided transparent adhesive, JIS-A hardness <10) were used instead of SEBS. A sample sheet was prepared in the same manner as described above, and a falling ball impact test was performed. Table 14 shows the results.

(実施例33)
αジェルの代わりに厚み0.36mmのSEBSを用いた以外は実施例32と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
(Example 33)
A sample sheet was prepared and subjected to a falling ball impact test in the same manner as in Example 32 except that SEBS having a thickness of 0.36 mm was used instead of α-gel. Table 14 shows the results.

(実施例34)
SEBSの代りにαジェルを厚み0.54mmとした以外は実施例33と同様にしてサンプルシートを作製、落球衝撃試験を行った。結果を表14に示す。
(Example 34)
A sample sheet was prepared and subjected to a falling ball impact test in the same manner as in Example 33, except that the thickness of the α gel was changed to 0.54 mm instead of SEBS. Table 14 shows the results.

Figure 2004181975
Figure 2004181975

(実施例35)
αゲルの厚みを0.5mm、EVAの厚みを0.36mmとした以外は実施例24と同様にしてサンプルシートの作製、落球衝撃試験を行った。結果を表15に示した。
(Example 35)
A sample sheet was prepared and a falling ball impact test was performed in the same manner as in Example 24 except that the thickness of the α-gel was 0.5 mm and the thickness of EVA was 0.36 mm. The results are shown in Table 15.

(実施例36)
αゲルの厚みを0.5mm、SEBSの厚みを0.5mmとした以外は実施例24と同様にしてサンプルシートの作製、落球衝撃試験を行った。結果を表15に示した。
(Example 36)
A sample sheet was prepared and a falling ball impact test was performed in the same manner as in Example 24 except that the thickness of the α-gel was 0.5 mm and the thickness of the SEBS was 0.5 mm. The results are shown in Table 15.

(実施例37)
SEBSの厚みを0.45mm、EVTの厚みを0.45mmとした以外は実施例24と同様にしてサンプルシートの作製、落球衝撃試験を行った。結果を表15に示した。
(Example 37)
A sample sheet was prepared and a falling ball impact test was performed in the same manner as in Example 24, except that the thickness of SEBS was 0.45 mm and the thickness of EVT was 0.45 mm. The results are shown in Table 15.

Figure 2004181975
Figure 2004181975

以上の結果より、1層以上の衝撃緩和層を設けT/F値が200以上であればパネルの破損が起こらないことが分かる。  From the above results, it can be seen that the panel is not damaged if one or more impact relaxation layers are provided and the T / F value is 200 or more.

本発明は、次の実施の形態が可能である。
(1)少なくとも透明粘着層と透明樹脂層とからなる厚みが3.5mm以下の積層体であって、
重量が530g〜550gの範囲にある鋼球を10cmの高さから落球させる落球衝撃試験における応力−時間曲線において、衝撃応力発生から第一のピークまでの間:T(μs)と
第一のピーク時の衝撃応力:F(kN)との間に、
T/F ≧ 200
の関係を満たすことを特徴とする積層体。
(2)衝撃吸収層をさらに含むことを特徴とする前記構成(1)記載の積層体。
The present invention is capable of the following embodiments.
(1) A laminate comprising at least a transparent adhesive layer and a transparent resin layer and having a thickness of 3.5 mm or less,
In a stress-time curve in a falling ball impact test in which a steel ball having a weight in the range of 530 g to 550 g is dropped from a height of 10 cm, from the occurrence of impact stress to the first peak: T (μs) and the first peak Impact stress when: between F (kN),
T / F ≧ 200
A laminate characterized by satisfying the following relationship:
(2) The laminate according to the above configuration (1), further comprising a shock absorbing layer.

(3)1層以上の透明粘着層と、
1層以上の透明樹脂層とを備えた積層体であって、下記の(I)〜(Iv)の少なくとも1つの要件を満たすことを特徴とする前記構成(1)記載の積層体。
(I)透明粘着層の少なくとも1層のヤング率が1×10〜1×10Pa、厚みが10〜500μmである。
(II)透明樹脂層の少なくとも1層のヤング率が1×10〜1×10Pa、厚みが10〜3000μmである。
(III) 衝撃吸収層を含み、衝撃吸収層の少なくとも1層の針入度が50〜200である。
(IV)透明樹脂層および/または衝撃吸収層を合計2層以上有し、JIS−A硬度の比が1.1以上の関係にある2層が存在する。
(3) one or more transparent adhesive layers;
A laminate comprising at least one transparent resin layer, wherein the laminate satisfies at least one of the following requirements (I) to (Iv):
(I) At least one of the transparent adhesive layers has a Young's modulus of 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa and a thickness of 10 to 500 μm.
(II) At least one transparent resin layer has a Young's modulus of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa and a thickness of 10 to 3000 μm.
(III) A shock absorbing layer is included, and at least one of the shock absorbing layers has a penetration of 50 to 200.
(IV) There are two or more transparent resin layers and / or shock absorbing layers in total, and two layers having a JIS-A hardness ratio of 1.1 or more.

(4)透明粘着層が、アクリル樹脂またはシリコン樹脂を主成分とすることを特徴とする前記構成(3)記載の積層体。  (4) The laminate according to the above configuration (3), wherein the transparent adhesive layer mainly contains an acrylic resin or a silicone resin.

(5)透明樹脂層が、ポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリウレタン、および透明性を有するエラストマから選ばれる1種以上を含むことを特徴とする前記構成(3)記載の積層体。  (5) The configuration according to (3), wherein the transparent resin layer includes at least one selected from a polyester resin, a polypropylene resin, an ethylene-vinyl acetate copolymer, polyethylene, polystyrene, polyurethane, and a transparent elastomer. )).

(6)衝撃吸収層が、シリコーン系ゲルを含むことを特徴とする前記構成(3)記載の積層体。  (6) The laminate according to the above configuration (3), wherein the shock absorbing layer contains a silicone-based gel.

(7)透明樹脂層、衝撃吸収層のJIS−A硬度が0〜98であることを特徴とする前記構成(3)記載の積層体。  (7) The laminate according to the above configuration (3), wherein the JIS-A hardness of the transparent resin layer and the impact absorbing layer is 0 to 98.

(8)透明樹脂層のうち少なくとも1層が、0.01〜30Ω/□の面抵抗を有する透明導電層または金属メッシュ層を含むことを特徴とする前記構成(1)記載の積層体。  (8) The laminate according to the above configuration (1), wherein at least one of the transparent resin layers includes a transparent conductive layer or a metal mesh layer having a sheet resistance of 0.01 to 30 Ω / □.

(9)透明樹脂層のうち少なくとも1層が、反射防止機能、防眩機能、防汚機能、静電防止機能、偏光機能、および位相差形成機能から選ばれる少なくとも1つの機能を有することを特徴とする前記構成(1)記載の積層体。  (9) At least one of the transparent resin layers has at least one function selected from an antireflection function, an antiglare function, an antifouling function, an antistatic function, a polarizing function, and a phase difference forming function. The laminate according to the above configuration (1).

(10)透明樹脂層は、電磁波の全領域、近赤外線領域および可視光領域のうち少なくとも1つ電磁波をフィルタリングするフィルタ機能を有することを特徴とする前記構成(1)記載の積層体。  (10) The laminate according to the above configuration (1), wherein the transparent resin layer has a filter function of filtering at least one of the whole electromagnetic wave region, the near infrared region, and the visible light region.

(11)前記構成(1)記載の積層体をディスプレイ視認面に設けたことを特徴する表示装置。  (11) A display device, wherein the laminate according to the configuration (1) is provided on a display viewing surface.

本発明は、その精神または主要な特徴から逸脱することなく、他のいろいろな形で実施することができる。したがって、前述の実施形態は、あらゆる点で単なる例示に過ぎず、本発明の範囲は、請求の範囲に示すものであって、明細書本文には何ら拘束されない。  The present invention may be embodied in various other forms without departing from its spirit or essential characteristics. Therefore, the above-described embodiment is merely an example in all aspects, and the scope of the present invention is set forth in the appended claims, and is not limited by the specification text.

さらに、請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、すべて本発明の範囲内のものである。  Furthermore, all modifications and changes belonging to the equivalent scope of the claims are within the scope of the present invention.

透明導電膜の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of a transparent conductive film. 本発明に係る積層体をPDPに装備した状態の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the state which equipped the laminated body which concerns on this invention in PDP. 本発明に係る積層体をPDPに装備した状態の他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of the state which equipped the laminated body which concerns on this invention in PDP. 本発明に係る積層体をOELDに装備した状態の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the state which equipped the laminated body which concerns on this invention in OELD. 本発明に係る積層体をPDPに装備した状態のさらに他の例を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing still another example of a state in which the laminate according to the present invention is mounted on a PDP. 本発明に係る積層体をPDPに装備した状態のさらに他の例を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing still another example of a state in which the laminate according to the present invention is mounted on a PDP. 本発明に係る積層体をOELDに装備した状態の他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of the state which equipped the laminated body which concerns on this invention in OELD. 本発明に係る積層体をPDPに装備した状態のさらに他の例を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing still another example of a state in which the laminate according to the present invention is mounted on a PDP. 本発明に係る積層体をPDPに装備した状態のさらに他の例を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing still another example of a state in which the laminate according to the present invention is mounted on a PDP. 本発明に係る積層体をPDPに装備した状態のさらに他の例を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing still another example of a state in which the laminate according to the present invention is mounted on a PDP. 本発明に係る積層体をOELDに装備した状態のさらに他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another example of the state which equipped the laminated body which concerns on this invention in OELD.

符号の説明Explanation of reference numerals

10 透明高分子フィルム
20 高屈折率薄膜層
30 金属薄膜層
40 プラズマディスプレイパネル
50 低い弾性に特徴づけられた透明粘着層
60 透明導電層
70 透明粘着層
80 透明高分子フィルム
90 反射防止層
100 電極
140 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Transparent polymer film 20 High refractive index thin film layer 30 Metal thin film layer 40 Plasma display panel 50 Transparent adhesive layer 60 characterized by low elasticity Transparent conductive layer 70 Transparent adhesive layer 80 Transparent polymer film 90 Anti-reflection layer 100 Electrode 140 Organic electroluminescent display

Claims (9)

1層以上の透明粘着層と、
1層以上の透明樹脂層とを備えた積層体であって、下記の(I)〜(III)の少なくとも1つの要件を満たすことを特徴とする積層体。
(I)透明粘着層の少なくとも1層のヤング率が1×10〜1×10Pa、厚みが10〜500μmである。
(II)透明樹脂層の少なくとも1層のヤング率が1×10〜1×10Pa、厚みが10〜3000μmである。
(III)衝撃吸収層を含み、衝撃吸収層の少なくとも1層の針入度が50〜200である。
One or more transparent adhesive layers,
A laminate comprising at least one transparent resin layer, wherein the laminate satisfies at least one of the following requirements (I) to (III).
(I) At least one of the transparent adhesive layers has a Young's modulus of 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa and a thickness of 10 to 500 μm.
(II) At least one transparent resin layer has a Young's modulus of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa and a thickness of 10 to 3000 μm.
(III) A shock absorbing layer is included, and at least one of the shock absorbing layers has a penetration of 50 to 200.
1層以上の透明粘着層と、
1層以上の透明樹脂層とを備えた積層体であって、下記の(I)〜(IV)の少なくとも1つの要件を満たすことを特徴とする積層体。
(I)透明粘着層の少なくとも1層のヤング率が1×10〜1×10Pa、厚みが10〜500μmである。
(II)透明樹脂層の少なくとも1層のヤング率が1×10〜1×10Pa、厚みが10〜3000μmである。
(III)衝撃吸収層を含み、衝撃吸収層の少なくとも1層の針入度が50〜200である。
(IV)透明樹脂層および/または衝撃吸収層を合計2層以上有し、JIS−A硬度の比が1.1以上の関係にある2層が存在する。
One or more transparent adhesive layers,
A laminate comprising at least one transparent resin layer, wherein the laminate satisfies at least one of the following requirements (I) to (IV).
(I) At least one of the transparent adhesive layers has a Young's modulus of 1 × 10 2 to 1 × 10 6 Pa and a thickness of 10 to 500 μm.
(II) At least one transparent resin layer has a Young's modulus of 1 × 10 3 to 1 × 10 8 Pa and a thickness of 10 to 3000 μm.
(III) A shock absorbing layer is included, and at least one of the shock absorbing layers has a penetration of 50 to 200.
(IV) There are two or more transparent resin layers and / or shock absorbing layers in total, and two layers having a JIS-A hardness ratio of 1.1 or more.
透明粘着層が、アクリル樹脂またはシリコン樹脂を主成分とすることを特徴とする請求項1または2記載の積層体。  The laminate according to claim 1, wherein the transparent adhesive layer contains an acrylic resin or a silicone resin as a main component. 透明樹脂層が、ポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリウレタン、および透明性を有するエラストマから選ばれる1種以上を含むことを特徴とする請求項1または2記載の積層体。  3. The transparent resin layer according to claim 1, wherein the transparent resin layer contains at least one selected from a polyester resin, a polypropylene resin, an ethylene-vinyl acetate copolymer, polyethylene, polystyrene, polyurethane, and a transparent elastomer. Laminate. 衝撃吸収層が、シリコーン系ゲルを含むことを特徴とする請求項1または2記載の積層体。  The laminate according to claim 1, wherein the impact absorbing layer includes a silicone-based gel. 透明樹脂層のうち少なくとも1層が、0.01〜30Ω/□の面抵抗を有する透明導電層または金属メッシュ層を含むことを特徴とする請求項1または2記載の積層体。  The laminate according to claim 1, wherein at least one of the transparent resin layers includes a transparent conductive layer or a metal mesh layer having a sheet resistance of 0.01 to 30 Ω / □. 透明樹脂層のうち少なくとも1層が、反射防止機能、防眩機能、防汚機能、静電防止機能、偏光機能、および位相差形成機能から選ばれる少なくとも1つの機能を有することを特徴とする請求項1または2記載の積層体。  At least one of the transparent resin layers has at least one function selected from an antireflection function, an antiglare function, an antifouling function, an antistatic function, a polarizing function, and a phase difference forming function. Item 3. The laminate according to Item 1 or 2. 透明樹脂層は、電磁波の全領域、近赤外線領域および可視光領域のうち少なくとも1つ電磁波をフィルタリングするフィルタ機能を有することを特徴とする請求項1または2記載の積層体。  3. The laminate according to claim 1, wherein the transparent resin layer has a filter function of filtering at least one of an electromagnetic wave, a near-infrared region, and a visible light region. 4. 請求項1または2記載の積層体をディスプレイ視認面に設けたことを特徴する表示装置。  A display device comprising the laminate according to claim 1 provided on a display viewing surface.
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