JP3820609B2 - Method for forming filter duct in tunnel type clean room - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体工場、精密機械工場、薬品製造工場等の無塵室或いは無菌室に適用されるトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
例えば、半導体工場に於ては、超LSIの高集積化・超微細化に伴なう製造技術の高度化への対応として超清浄度空間の必要性が増大し、クラス1〜100の清浄度を有するトンネル式のクリーンルームが要求されている。
【0003】
この要求に応えるものとしては、垂直層流方式のクリーンルームとトンネル方式のクリーンルームとがある。
処で、垂直層流方式のクリーンルームは、天井の全面に高性能フィルタを施設すると共に、温湿度を室全体として制御する必要があり、室内の各生産装置毎の温度制御の不均衡を起こす虞があった。
【0004】
これに対し、トンネル方式のクリーンルームは、そのエリア分けにより作業部毎に高精度に制御することができる可能性があるという利点を有する。
このトンネル方式のクリンルームとしては、例えば、特開昭61−282742号公報がある。
これを図10により説明する。
【0005】
図に於て、1はトンネル方式のクリーンルームである。このトンネル式のクリーンルーム1には垂れ壁2により高い清浄度を必要とする高速流域Aと境界域Cと低速流域Bとが区画されている。
高速流域Aには、高性能フィルタ3が施設されている。この高性能フィルタ3は、トンネル状室内の天井側に設けた給気チャンバ4に取り付けてある。
【0006】
高性能フィルタ3の下方には、クリンルーム1の床5上に配置された生産機械6が位置している。
低速流域B側の垂れ壁2と天井7との間には、吹出口8が設けられている。この吹出口8は、2つの高性能フィルタ9,10と、両高性能フィルタ9,10に清浄空気を送る給気チャンバ11と、給気チャンバ11内に位置し垂れ壁2よりの高性能フィルタ9の上部に設けたダンパ12とで構成されている。
【0007】
境界域Cは、高性能フィルタ9からの吹出によって形成される。
このトンネル式のクリーンルーム1によれば、高性能フィルタ3を介して高速流域Aの全域に亘って清浄空気をほぼ鉛直下向きに0.3〜0.4m/sec程度の速度で層流状に吹き出し、低速流域Bでは、清浄空気を高性能フィルタ10を介して拡散的に0.05〜0.2m/sec程度の室内平均降下風速になるように吹き出している。
【0008】
そして、境界域Cに於ては、ダンパ12を操作して清浄空気をほぼ鉛直下向きに0.3〜0.4m/sec程度の速度で吹き出している。
この境界域Cに於ける高速流域Aの気流流れと同じ気流流れを高性能フィルタ9とダンパ12によって形成するため、境界域C側に位置する作業員からの発塵の巻き込みを防止することができる。
【0009】
図11は、同じく特開昭61−282742号公報に記載されてあるトンネル方式のクリーンルームである。
この場合には、高性能フィルタ13を天井側に施設し、1つの吹出口14に境界域用14aと低速流域用14bとを設けたものである。
このトンネル式のクリーンルームに於ても、図10と同様に境界域C側に位置する作業員からの発塵の巻き込みを防止することができる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
処が、図10に示すトンネル式のクリーンルームでは、ダンパ12によって境界域Cの風速を調整するものであるため、ダンパ12の調整に手間取ると共に、高性能フィルタ9,10が、それぞれ直線で形成され、高性能フィルタ9,10の為す角がかなり大きな角度を持つため、高性能フィルタ9,10の夫々から吹き出す気流により、新たな境界域ができる。それにより、境界域Cは、高性能フィルタ9の幅の分だけ位置がずれただけに過ぎないことになる可能性が大きい。
【0011】
又、図11に示すトンネル式のクリーンルームでは、高性能フィルタ13から吹出口14内に動圧が掛かるため、清浄空気は横向きの低速流域用14bよりも下向きの境界域用14aから出やすくなり、高速流域Aの流速よりも速くなる可能性がある。その場合には、境界域C側に位置する作業員からの発塵の巻き込みを防止することができない。
【0012】
本発明は斯かる従来の問題点を解決するために為されたもので、その目的は、境界領域に位置する作業員からの発塵を高速流域に巻き込むことを防止することができるトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明は、床に全面又は部分的に穿孔されたパンチングパネルが施設され、垂れ壁により高い清浄度を必要とする高速流域と低速流域とに区画し、前記高速流域にファンフィルタユニットを設け、前記低速流域に断面略1/4楕円弧形状を為す全面がフィルタで構成される、フィルタダクトを設けたトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法において、前記断面略1/4楕円弧形状のフィルタダクトは、前記低速流域への吹出口の曲率及び作業員が位置する前記高速流域と前記低速流域との境界域への吹出口の曲率を、前記高速流域と前記低速流域の風速比に応じて円弧形状を経て縦楕円弧形状から横楕円弧形状まで断面形状を変化させて形成すると共に、前記境界域で下向きの均一方向を持つ流れになるように、前記境界域への吹出口からは前記境界域が前記高速流域から前記低速流域の速度まで漸減した速度で吹き出すと共に、前記低速域への吹出口からは前記低速域が0.05から0.2m/secの室内平均降下風速で吹き出すように形成することを特徴とする。
【0014】
請求項2の発明は、請求項1記載のトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法において、前記高速流域に設けたファンフィルタユニットが、垂れ壁の下端高さと略等しい高さに位置するものである。
請求項3の発明は、請求項1記載のトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法において、前記高速流域に設けたファンフィルタユニットは、昇降自在となっているものである。
請求項4の発明は、請求項1乃至請求項3の何れかに記載のトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法において、前記高速流域に設けたファンフィルタユニットは、筒状のユニット本体の下端開口部にフィルタを配置するとともに、前記ユニット本体の上面の中心に形成される吸気用開口部に軸流型のファンを配置し、前記ファンの下方に該ファンの下方に向けて窪む正方形状の遮音板を配置し、前記ユニット本体の内周の上部に内方に向けて突出し前記ファンの回転により発生する旋回流の旋回を抑制する複数の整流板を配置して成るものである。
【0015】
請求項5の発明は、請求項1乃至請求項4の何れかに記載のトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法において、前記垂れ壁の下方の前記高速流域と前記低速流域との境界部の吹出速が、前記高速流域と略等速になっているものである。
請求項6の発明は、請求項1乃至請求項5の何れかに記載のトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法において、前記低速流域に設けた前記断面略1/4楕円弧状のフィルタダクトは、作業域の高速域と隣り合うエリア部分の吹出速度が前記高速流域から離れるに従って低速になっているものである。
【0016】
(作用)
請求項1乃至6の発明に於ては、高速流域では従来と同様に生産機械に向かって流れる高速層流を形成し、低速流域と境界域では断面円弧状のフィルタダクトから均一方向を持つ中低速流を形成することができる。
【0017】
そのため、境界域や室内の隅部に於て、上昇気流が起こらず、室内が安定した下向きの気流が得られる。
請求項2の発明に於ては、生産機械に対する高速層流による渦領域での圧力場が上昇し、渦中の塵埃濃度減衰時間を短くすることができる。
請求項3の発明に於ては、高速流域に設けたファンフィルタユニットが、用途に応じて昇降することができる。
【0018】
請求項4の発明に於ては、高速流を容易に形成することができる。
請求項5及び6の発明に於ては、高速流域への作業者からの発塵の巻込を防止することができる。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図面に示す実施の形態に基づいて説明する。
【0020】
図1は、請求項1、4乃至6に係るトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法の一実施の形態を示す。
図に於て、21はトンネル方式のクリーンルームである。このトンネル式のクリーンルーム21には垂れ壁22により高い清浄度を必要とする高速流域Aと境界域Cと低速流域Bとが区画されている。
【0021】
トンネル式のクリーンルーム21は、天井23側にトンネル式のクリーンルーム21内に清浄空気を吹き出す高性能フィルタユニット24が取り付けられ、床25には全面や部分的に穿孔されたパンチングメタルが施設されている。そして、天井空間26と床下空間27とは、空調機28を介して連絡している。床上には生産機械29が配置されている。
【0022】
高速流域Aには、ファンフィルタユニット30が配置されている。このファンフィルタユニット30は図3及び図4に示すように、横断面正方形形状で筒状のユニット本体31の下端開口部33には、ULPAフィルタ,HEPAフィルタ等の高性能フィルタ35が配置されている。
【0023】
ユニット本体31の上面37の中心には、吸気用開口部39が形成され、この吸気用開口部39に軸流型ファン41が配置されている。
この軸流型ファン41は、吸気用開口部39に嵌挿されるべルマウス43を有している。
べルマウス43の中央には、ボス部45が配置され、ボス部45の外周に羽根47が固定されている。
【0024】
ボス部45には、モータ49が連結され、モータ49は、ブラケット51を介してべルマウス43に固定されている。
そして、ボス部45には、吸い込み方向に向けて突出する先端先細り状の気流案内カバー53が装着されている。
ユニット本体31の内周の上部には、内方に向けて突出し軸流型ファン41の回転により発生する旋回流の旋回を抑制する複数の整流板55が固定されている。
【0025】
この整流板55には、グラスウールから成る吸音材57が装着されている。
ユニット本体31の軸流型ファン41の下方には、遮音板59が配置されている。
この遮音板59は、正方形状をしており、その中心が軸流型ファン41の下方に位置されている。
【0026】
遮音板59には、グラスウールから成る吸音材61が装着されており、遮音板59は、ブラケット63によりユニット本体31の内面に固定されている。
遮音板59の中心部には、下方に向けて窪む正方形状の凹部65が形成されている。
そして、凹部65の内周面が、底面側に向けて傾斜する傾斜面67とされている。
【0027】
ユニット本体31の遮音板59の下方には、矩形環状の外側遮音板69が配置されている。
この外側遮音板69は、その内周部が遮音板59に重なるように配置されている。
そして、外側遮音板69には、グラスウールから成る吸音材71が装着されている。
【0028】
図1に於て、80は断面円弧状のフィルタダクトを表す。このフィルタダクト80は、ULPAフィルタ,HEPAフィルタ等の高性能フィルタを高速流域Aと低速流域Bの風速比Va/Vbや、フィルタダクトの取付ピッチ距離xに応じて断面略1/4縦楕円弧形状〜断面略1/4円弧形状〜断面略1/4横楕円形状に変化させて形成したものである。
【0029】
このVa/Vbが大きくなるほど、低速流域Bよりも境界域Cに多風量を与えなければならず、フィルタダクトの取付ピッチ距離xが大きくなるほど、低速流域Bに多風量を与えなければならない。
そこで、吹出口81の曲率を(1/ρ)81、吹出口82の曲率を(1/ρ)82とすると、次のような関数となる。
Va/Vb×α ・1/x ∝ β×(1/ρ)81/(1/ρ)82
ここで、α,βは係数である。
この関数から明らかなように、Va/Vbが大きくなるほど、(1/ρ) 81 /(1/ρ) 82 の値を大きくする必要があり、そのようにすることにより、境界域Cに多風量を与えることができる。そして、フィルタダクトの取付ピッチ距離xが大きい場合には(1/ρ) 81 /(1/ρ) 82 の値が小となるように調整して低速流域Bへの流量を増加させることができる。
【0030】
フィルタダクト80は低速流域B側への吹出口81と境界域Cへの吹口82とで構成されている。吹出口81には、パンチングの抵抗体を取り付けるか、或いは高性能フィルタの折り密度や折り高さを変化させることができる。吹出口82より吹出口81のフィルタの曲率を大きくすることによって、吹出口82を吹出口81より濾材面積を増加させることもできる。このように濾材面積を増加させることにより、フィルタダクト80は低速流域B側への吹出口81よりも境界域Cへの吹出口82からの風量を増加させたものとされる。
【0031】
次に、本実施の形態の作用を説明する。
空調機28を駆動して清浄空気をファンフィルタユニット30,高性能フィルタユニット24及びフィルタダクト80へ供給することによって、トンネル式のクリーンルーム21へ清浄空気を供給する。
その際、ファンフィルタユニット30では、軸流型ファン41により吸気用開口部39から吸引された空気が、旋回流とされた後、この旋回流が、外周部に於て整流板55に衝突し抑制され、下方に向かう流れになり、遮音板59と外側遮音板69との間を通過した後高性能フィルタ35に達し、高性能フィルタ35で浄化された後、高速流域A内に0.3〜0.4m/sec程度の高速で吹き出される。
【0032】
一方、高性能フィルタユニット24からは、0.05〜0.2m/sec程度の室内平均降下風速になるような低速で清浄空気が吹き出される。
そして、フィルタダクト80では、吹出口が全面フィルタで形成されているので、動圧の影響を受けずに、各部フィルタの圧力損失の違いにより、境界域Cへの吹出口82からは高速流域Aの速度〜低速流域Bの速度まで漸減した速さの清浄空気を吹き出すと共に、低速流域B側への吹出口81からは0.05〜0.2m/sec程度の室内平均降下風速になるような低速で清浄空気を吹き出すことができる。
【0033】
そのため、高速流域Aと境界域Cとの間では、下向きの安定した気流が形成され、上昇気流が発生しない。
即ち、境界域Cでの作業者からの発塵を高速流域A内に巻き込むことがない。
而も、従来のように、ダンパを操作するという煩雑な操作を必要としないためトンネル式のクリーンルームの管理が容易である。
【0034】
加えて、境界域Cにフィルタダクト80を設置するだけで済むため、構造が簡単である。
又、上述したファンフィルタユニット30では、軸流型ファン41の使用により軸流型ファン41の外方に向けて旋回流が発生するが、この旋回流が、外周部に於てユニット本体31の内周の上部に配置される複数の整流板55に衝突し抑制され、下方に向かう流れになり、高性能フィルタ35を介して室内に吹き出されるため、高性能フィルタ35からの吐出風速分布を均一にすることができる。
【0035】
又、整流用多孔板等によって気流の方向を変える必要がなくなるため、吐出抵抗が増大することを防止できる。
更に、軸流型ファン41と高性能フィルタ35との間に配置される遮音板59により、軸流型ファン41から発生する騒音を確実に遮音することができる。
又、上述したファンフィルタユニット30では、ユニット本体31を横断面正方形形状にし、その中心に軸流型ファン41および正方形状の遮音板59の中心を配置したので、高性能フィルタ35の四方から同一条件で空気が吐出されることになり、高性能フィルタ35からの吐出風速分布をより均一にすることができる。
【0036】
更に、遮音板59の中心部に下方に向けて窪む正方形状の凹部65を形成し、凹部65の内周面を底面側に向けて傾斜したので、凹部65の底面に衝突した空気が、傾斜面67に案内されて外側に向けて円滑に流れ気流が乱されることがなくなり、高性能フィルタ35からの吐出風速分布をより均一にすることができる。
又、上述したファンフィルタユニット30では、ユニット本体31の遮音板59の下方に、外側遮音板69の内周が重なるように配置したので、軸流型ファン41から発生する騒音が直接高性能フィルタ35に達することが防止され、消音効果を向上することができる。
【0037】
更に、軸流型ファン41のボス部45に気流案内カバー53を配置したので、空気の流れが円滑になり、軸流型ファン41の騒音を低減し、又、軸流型ファン41の効率を向上することができる。
尚、ファンフィルタユニットは、図示するものに限らず、ファンと高性能フィルタとが組み合わされたものであれば如何なるものでも良い。
【0038】
図5は、図1に示すトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法の変形例を示す。
本実施の形態では、高性能フィルタユニット24及びフィルタダクト80にもファン83,84を設けたものである。
【0039】
本実施の形態も上記実施の形態と同様の作用効果を奏することができる。
図6は、請求項2に係るトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法の一実施の形態を示す。
ファンフィルタユニット30が、フィルタダクト80の境界域Cの近傍まで下降されている。
図7のようにファンフィルタユニット30と生産機械29との距離L1を1050mmに近づけた場合と、図8のようにファンフィルタユニット30と生産機械29との距離L2を2550mmに遠ざけた場合に於ける生産装置29上部の渦領域と塵埃排出能力とについて実験した。
【0040】
塵埃粒径0.05μm、100,000個/minが30,000個/minになるまでの塵埃減衰時間(塵埃濃度が30%まで低下する時間)を測定した。
図7の場合には6.31秒、図8の場合は9.96秒であった。
以上のように、ファンフィルタユニット30を生産機械29に近づけた方が浄化能力が大きいことが判明した。
【0041】
これは、生産装置29近傍にファンフィルタユニット30を設けることで、天井面からの圧力損失が少なくなり、渦領域Xでの圧力場が上昇するためである。
3次元数値解析(シミュレーション)結果からも塵埃濃度大の領域が少なくなっている。これも渦領域Xの圧力場が上昇するためと思われる。
本実施の形態に於ては、上記実施の形態の作用効果に加えて塵埃減衰時間を短縮できるという効果がある。
【0042】
図9は、図6に示すトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法の変形例を示す。
本実施の形態では、高性能フィルタユニット24及びフィルタダクト80にもファン85,86を設けたものである。
本実施の形態も上記実施の形態と同様の作用効果を奏することができる。
尚、上記各実施の形態では、トンネル式のクリーンルームの要部について説明したが、全体的な構成は、例えば、特開昭61−282742号公報の第1図に示されているようなクリーントンネルと同様の形態を為している。
【0043】
又、ファンフィルタユニット30は、上記各実施の形態のように所定の箇所に固定されたものでも、或いは、任意の昇降装置を介して目的に応じて所定の位置に固定できるようにしても良い(請求項3)。
【0044】
【発明の効果】
以上述べたように、請求項1乃至6のトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法では、従来のトンネル式のクリーンルームのように境界域にダンパを設けて低速流域との流速を調整するという複雑な操作が不要となる。
【0045】
又、ダンパによる切替装置を必要としないので、装置が簡単となる。
更に、ファンフィルタユニットが、生産装置に近い位置に設けられるので、塵埃減衰時間が短くなり、即ち、生産装置に発生する渦領域に於ける塵埃濃度大の領域が小さくなり、浄化能力が大きくなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 請求項1、4乃至6に係るトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法の一実施の形態を示す説明図である。
【図2】 図1のトンネル式のクリーンルームの清浄空気の流れを示す説明図である。
【図3】 図1のトンネル式のクリーンルームに用いたファンフィルタユニットを示す断面図である。
【図4】 図3の断面図である。
【図5】 請求項1、4乃至6に係るトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法の別の実施の形態を示す説明図である。
【図6】 請求項2に係るトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法の一実施の形態を示す説明図である。
【図7】 図6のトンネル式のクリーンルームの作用説明図である。
【図8】 図6のトンネル式のクリーンルームの作用説明図である。
【図9】 請求項2に係るトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法の別の実施の形態を示す説明図である。
【図10】 従来のトンネル式のクリーンルームを示す説明図である。
【図11】 従来のトンネル式のクリーンルームを示す説明図である。
【符号の説明】
21 トンネル方式のクリーンルーム
22 垂れ壁
23 天井
24 高性能フィルタユニット
25 床
26 天井空間
27 床下空間
28 空調機
29 生産機械
30 ファンフィルタユニット
31 ユニット本体
35 高性能フィルタ
41 軸流型ファン
80 断面円弧状のフィルタダクト
81,82 吹出口
A 高速流域
B 低速流域
C 境界域[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a filter duct forming method for a tunnel type clean room applied to a dust-free room or a sterilized room such as a semiconductor factory, a precision machine factory, and a chemical manufacturing factory.
[0002]
[Prior art]
For example, in semiconductor factories, the need for a super clean space has increased as a response to the sophistication of manufacturing technology associated with the high integration and ultra miniaturization of VLSI, and the cleanliness of
[0003]
In order to meet this requirement, there are a vertical laminar flow type clean room and a tunnel type clean room.
However, in a vertical laminar flow type clean room, it is necessary to install a high-performance filter on the entire surface of the ceiling and to control the temperature and humidity as a whole room, which may cause imbalance in temperature control for each production device in the room. was there.
[0004]
On the other hand, a tunnel type clean room has an advantage that there is a possibility that it can be controlled with high accuracy for each working unit by dividing the area into areas.
An example of this tunnel type clean room is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-282742.
This will be described with reference to FIG.
[0005]
In the figure, 1 is a tunnel type clean room. The tunnel type
In the high speed basin A, a
[0006]
Below the high-
An air outlet 8 is provided between the hanging wall 2 on the low-speed basin B side and the
[0007]
The boundary region C is formed by blowing from the
According to this tunnel type
[0008]
In the boundary region C, the damper 12 is operated to blow clean air almost vertically downward at a speed of about 0.3 to 0.4 m / sec.
Since the same air flow as that of the high-speed basin A in the boundary region C is formed by the high-
[0009]
FIG. 11 shows a tunnel type clean room described in Japanese Patent Laid-Open No. 61-282742.
In this case, the high-
Also in this tunnel type clean room, it is possible to prevent entrainment of dust generation from workers located on the boundary region C side as in FIG.
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the tunnel type clean room shown in FIG. 10, since the damper 12 adjusts the wind speed in the boundary region C, it takes time to adjust the damper 12, and the high-
[0011]
Moreover, in the tunnel type clean room shown in FIG. 11, since dynamic pressure is applied from the high-
[0012]
The present invention has been made in order to solve such a conventional problem, and the object of the present invention is a tunnel type that can prevent dust generated from workers located in the boundary region from being caught in the high-speed basin. The object is to provide a method for forming a filter duct in a clean room.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
The invention of
[0014]
According to a second aspect of the present invention, in the tunnel type clean room filter duct forming method according to the first aspect , the fan filter unit provided in the high-speed flow area is positioned at a height substantially equal to a lower end height of the drooping wall. .
According to a third aspect of the present invention, in the tunnel type clean room filter duct forming method according to the first aspect , the fan filter unit provided in the high-speed basin is freely movable up and down.
According to a fourth aspect of the present invention, in the tunnel-type clean room filter duct forming method according to any one of the first to third aspects, the fan filter unit provided in the high-speed flow area has a lower end opening of a cylindrical unit body. A filter is disposed in the unit, and an axial flow type fan is disposed in the intake opening formed at the center of the upper surface of the unit body, and a square shape that is recessed below the fan. A sound insulating plate is arranged, and a plurality of rectifying plates are arranged on the inner periphery of the unit body so as to protrude inward and suppress swirling of the swirling flow generated by the rotation of the fan.
[0015]
According to a fifth aspect of the present invention, in the tunnel type clean room filter duct forming method according to any one of the first to fourth aspects, the blowout of the boundary portion between the high-speed flow area and the low-speed flow area below the hanging wall The speed is substantially equal to that of the high-speed basin.
The invention of claim 6 is the tunnel-type clean room filter duct forming method according to any one of
[0016]
(Function)
According to the first to sixth aspects of the present invention, a high-speed laminar flow that flows toward the production machine is formed in the high-speed flow area as in the conventional case, and a medium-circular filter duct having a uniform direction is formed in the low-speed flow area and the boundary area. A slow flow can be formed.
[0017]
Therefore, no upward airflow occurs in the boundary area or the corner of the room, and a downward airflow with a stable room is obtained.
In the invention of claim 2, the pressure field in the vortex region due to the high-speed laminar flow with respect to the production machine rises, and the dust concentration decay time in the vortex can be shortened.
In the invention of
[0018]
In the invention of
In the inventions according to
[0019]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.
[0020]
FIG. 1 shows an embodiment of a filter duct forming method for a tunnel type clean room according to
In the figure, 21 is a tunnel type clean room. The tunnel type
[0021]
The tunnel-type
[0022]
A
[0023]
An
The axial
A
[0024]
A
The
A plurality of rectifying
[0025]
A
A
The
[0026]
A sound absorbing material 61 made of glass wool is attached to the
A square-shaped
And the internal peripheral surface of the recessed
[0027]
A rectangular annular outer
The outer
A
[0028]
In FIG. 1,
[0029]
The larger the Va / Vb, the more air flow must be given to the boundary region C than the low-speed flow region B. The larger the filter duct mounting pitch distance x, the more air flow must be given to the low-speed flow region B.
Therefore , if the curvature of the
Va / Vb × α 1 / x ∝ β × (1 / ρ) 81 / (1 / ρ) 82
Here, α and β are coefficients.
As is clear from this function, it is necessary to increase the value of (1 / ρ) 81 / (1 / ρ) 82 as Va / Vb increases. Can be given. When the filter duct mounting pitch distance x is large , the flow rate to the low-speed basin B can be increased by adjusting the value of (1 / ρ) 81 / (1 / ρ) 82 to be small. .
[0030]
The
[0031]
Next, the operation of the present embodiment will be described.
By driving the
At that time, in the
[0032]
On the other hand, clean air is blown out from the high-
And in the
[0033]
Therefore, a downward stable airflow is formed between the high-speed flow area A and the boundary area C, and no upward airflow is generated.
That is, the dust generation from the worker in the boundary area C is not involved in the high-speed flow area A.
However, unlike the conventional case, since the complicated operation of operating the damper is not required, the management of the tunnel type clean room is easy.
[0034]
In addition, since it is only necessary to install the
In the
[0035]
In addition, since it is not necessary to change the direction of the air flow with a rectifying perforated plate or the like, it is possible to prevent the discharge resistance from increasing.
Furthermore, noise generated from the
In the
[0036]
Further, since the
Further, in the
[0037]
Further, since the
The fan filter unit is not limited to the illustrated one, and any fan filter unit may be used as long as the fan and the high-performance filter are combined.
[0038]
FIG. 5 shows a modification of the filter duct forming method for the tunnel type clean room shown in FIG.
In the present embodiment, the high
[0039]
This embodiment can achieve the same effects as those of the above embodiment.
FIG. 6 shows an embodiment of a filter duct forming method for a tunnel type clean room according to claim 2.
The
When the distance L 1 between the
[0040]
The dust attenuation time until the dust particle size was 0.05 μm and 100,000 / min became 30,000 / min (the time during which the dust concentration decreased to 30%) was measured.
In the case of FIG. 7, it was 6.31 seconds, and in the case of FIG. 8, it was 9.96 seconds.
As described above, it has been found that the purification capacity is greater when the
[0041]
This is because by providing the
From the results of the three-dimensional numerical analysis (simulation), the region having a large dust concentration is reduced. This is also because the pressure field in the vortex region X rises.
In the present embodiment, there is an effect that the dust attenuation time can be shortened in addition to the operational effects of the above embodiment.
[0042]
FIG. 9 shows a modification of the tunnel-type clean room filter duct forming method shown in FIG.
In this embodiment, the high
This embodiment can achieve the same effects as those of the above embodiment.
In the above embodiments, the main part of the tunnel type clean room has been described. However, the overall configuration is, for example, a clean tunnel as shown in FIG. 1 of Japanese Patent Laid-Open No. 61-282742. It has a similar form.
[0043]
The
[0044]
【The invention's effect】
As described above, in the tunnel type clean room filter duct forming method according to the first to sixth aspects, the damper is provided in the boundary region as in the conventional tunnel type clean room to adjust the flow velocity with the low speed basin. No operation is required.
[0045]
In addition, since a switching device using a damper is not required, the device is simplified.
Further, since the fan filter unit is provided at a position close to the production apparatus, the dust attenuation time is shortened, that is, the area of high dust concentration in the vortex area generated in the production apparatus is reduced, and the purification capability is increased. .
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an explanatory view showing an embodiment of a method for forming a filter duct of a tunnel type clean room according to
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a flow of clean air in the tunnel type clean room of FIG. 1;
3 is a cross-sectional view showing a fan filter unit used in the tunnel type clean room of FIG. 1. FIG.
4 is a cross-sectional view of FIG. 3. FIG.
FIG. 5 is an explanatory view showing another embodiment of a filter duct forming method for a tunnel type clean room according to
6 is an explanatory view showing an embodiment of a filter duct forming method for a tunnel type clean room according to claim 2. FIG.
7 is an operation explanatory diagram of the tunnel type clean room of FIG. 6; FIG.
8 is an operation explanatory diagram of the tunnel type clean room of FIG. 6;
FIG. 9 is an explanatory view showing another embodiment of a filter duct forming method for a tunnel type clean room according to claim 2;
FIG. 10 is an explanatory view showing a conventional tunnel type clean room.
FIG. 11 is an explanatory view showing a conventional tunnel type clean room.
[Explanation of symbols]
21 Tunnel-type
Claims (6)
前記断面略1/4楕円弧形状のフィルタダクトは、前記低速流域への吹出口の曲率及び作業員が位置する前記高速流域と前記低速流域との境界域への吹出口の曲率を、前記高速流域と前記低速流域の風速比に応じて円弧形状を経て縦楕円弧形状から横楕円弧形状まで断面形状を変化させて形成すると共に、
前記境界域で下向きの均一方向を持つ流れになるように、前記境界域への吹出口からは前記境界域が前記高速流域から前記低速流域の速度まで漸減した速度で吹き出すと共に、前記低速域への吹出口からは前記低速域が0.05から0.2m/secの室内平均降下風速で吹き出すように形成する
ことを特徴とするトンネル式のクリーンルームのフィルタダクト形成方法。A punching panel that is fully or partially perforated on the floor is provided, and is divided into a high-speed basin and a low-speed basin that require high cleanliness by a hanging wall, and a fan filter unit is provided in the high-speed basin, In the method for forming a filter duct of a tunnel type clean room provided with a filter duct , the entire surface having a substantially elliptical arc shape in section is constituted by a filter.
Filter duct of the cross section 1/4 elliptical arc shape, the outlet curvature of the boundary zone between the high-speed basin and the slow basin outlet curvature and workers to the slow basin is positioned, the high-speed While changing the cross-sectional shape from the vertical elliptical arc shape to the horizontal elliptical arc shape through the arc shape according to the wind speed ratio of the basin and the low-speed basin ,
The boundary area blows out from the outlet to the boundary area at a speed that gradually decreases from the high-speed flow area to the speed of the low-speed flow area so that the flow has a uniform downward direction in the boundary area. A tunnel-type clean room filter duct forming method , characterized in that the low-speed region is blown out at an indoor average descending wind speed of 0.05 to 0.2 m / sec.
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