JP3814608B2 - インクジェット記録ヘッドの製造方法 - Google Patents
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前記エネルギー発生素子が設けられ、前記エネルギー発生素子を覆うように保護膜が形成されたシリコン基板を準備する工程と、
前記保護膜の前記インク供給口に対応する部分を除去する工程と、
前記シリコン基板の前記保護膜が除去された領域を覆うように樹脂膜を形成する工程と、
前記シリコン基板の前記エネルギー発生素子が設けられた側の面とは反対の面側から、前記樹脂膜をエッチングストップ層としてウェットエッチングを行い前記インク供給口となる貫通口を前記シリコン基板に形成する工程と、
を有することを特徴とするものである。
また本発明は、インクを吐出する吐出口と、該吐出口に連通するインク流路と、前記インク流路内のインクを吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子と、少なくとも前記エネルギー発生素子を覆う保護膜と、前記インク流路に連通するインク供給口と、を有するインクジェットヘッドの製造方法であって、
前記エネルギー発生素子が設けられ、少なくとも前記エネルギー発生素子を覆うように保護膜が形成されたシリコン基板を準備する工程と、
前記保護膜が形成された前記シリコン基板の少なくとも前記インク供給口に対応する部分を覆うように樹脂膜を形成する工程と、
前記シリコン基板の前記エネルギー発生素子が設けられた側の面とは反対の面側からウェットエッチングを行い前記インク供給口となる貫通口を前記シリコン基板に形成する工程と、
前記樹脂膜を形成する工程より後に、前記シリコン基板上に前記インク流路を構成する流路構成部材を形成する工程と、を有し、
前記樹脂膜が、前記保護膜と前記流路構成部材との密着性を高めているとともに、
前記貫通口を形成する工程では、前記貫通口を少なくとも前記樹脂膜が覆っていることを特徴とするものである。
図1、2は、第1の実施形態による、インクジェット記録ヘッドの製造工程を説明するための図である。図3は、インクジェット記録ヘッドの製造工程を示すフロー図である。以下、第1の実施形態について図1〜3を参照して説明する。
HL-1200)を材料として、膜厚を2μmとしてもよい。流路パターン8の材料は、例えばODUR(東京応化工業(株)製)であってもよい。
(第2の実施形態)
第1の実施形態では、図1(a)に示すように、シリコン基板1上に酸化シリコン膜3と窒化シリコン膜4が順に成膜された前駆体20を用いた製造方法について説明したが、前駆体は以下のように種々変更可能である。なお図面を参照して以下に説明する前駆体21〜23において、第1の実施形態の前駆体20と同一の構造部には図1、2と同一の符号を付し、その説明は省略する。
2 エネルギー発生素子
3、23 窒化シリコン膜
4、14、24 酸化シリコン膜
5 熱酸化膜
6 ポリシリコン膜
7a、7b 樹脂膜
8 流路パターン
8a 流路
9 感光性樹脂膜
10 撥水層
11 吐出口
12 バリ
20、21、22、25 前駆体
50 インクジェット記録ヘッド
Claims (8)
- インクを吐出する吐出口と、該吐出口に連通するインク流路と、前記インク流路内のインクを吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子と、少なくとも前記エネルギー発生素子を覆う保護膜と、前記インク流路に連通するインク供給口と、を有するインクジェットヘッドの製造方法であって、
前記エネルギー発生素子が設けられ、前記エネルギー発生素子を覆うように保護膜が形成されたシリコン基板を準備する工程と、
前記保護膜の前記インク供給口に対応する部分を除去する工程と、
前記シリコン基板の前記保護膜が除去された領域を覆うように樹脂膜を形成する工程と、
前記シリコン基板の前記エネルギー発生素子が設けられた側の面とは反対の面側から、前記樹脂膜をエッチングストップ層としてウェットエッチングを行い前記インク供給口となる貫通口を前記シリコン基板に形成する工程と、
を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。 - インクを吐出する吐出口と、該吐出口に連通するインク流路と、前記インク流路内のインクを吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子と、少なくとも前記エネルギー発生素子を覆う保護膜と、前記インク流路に連通するインク供給口と、を有するインクジェットヘッドの製造方法であって、
前記エネルギー発生素子が設けられ、少なくとも前記エネルギー発生素子を覆うように保護膜が形成されたシリコン基板を準備する工程と、
前記保護膜が形成された前記シリコン基板の少なくとも前記インク供給口に対応する部分を覆うように樹脂膜を形成する工程と、
前記シリコン基板の前記エネルギー発生素子が設けられた側の面とは反対の面側からウェットエッチングを行い前記インク供給口となる貫通口を前記シリコン基板に形成する工程と、
前記樹脂膜を形成する工程より後に、前記シリコン基板上に前記インク流路を構成する流路構成部材を形成する工程と、を有し、
前記樹脂膜が、前記保護膜と前記流路構成部材との密着性を高めているとともに、
前記貫通口を形成する工程では、前記貫通口を少なくとも前記樹脂膜が覆っていることを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。 - 前記貫通口を形成する工程より後に、前記シリコン基板の前記エネルギー発生素子が設けられた側の面とは反対の面側から、前記貫通口上の領域の前記樹脂膜を除去する工程をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記樹脂膜を形成する工程より後に、前記シリコン基板上に前記インク流路を構成する流路構成部材を形成する工程を含み、
前記樹脂膜が、前記保護膜と前記流路構成部材との密着性を高めていることを特徴とする請求項1に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。 - 前記貫通口が形成された前記シリコン基板上の、前記貫通口上を含む位置に溶解可能な樹脂材料からなる流路パターンを形成する工程と、
前記流路パターンを覆うように感光性樹脂膜を形成する工程と、
該感光性樹脂膜に前記吐出口を形成する工程と、
前記流路パターンを溶出させて前記インク流路を形成する工程と、有することを特徴とする請求項3に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。 - 前記流路パターンを溶出させる工程は、前記樹脂膜を除去する工程より後に行われることを特徴とする請求項5に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記保護膜が無機材料からなる膜であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記樹脂膜を形成する樹脂がポリエーテルアミド樹脂であることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
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