JP3814526B2

JP3814526B2 - 処理方法及び処理装置

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Publication number: JP3814526B2
Application number: JP2001365128A
Authority: JP
Inventors: 庸之岡部
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2001-11-29
Filing date: 2001-11-29
Publication date: 2006-08-30
Anticipated expiration: 2021-11-29
Also published as: JP2003168648A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、処理方法及び処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体装置の製造においては、被処理体例えば半導体ウエハに各種の処理を施す工程があり、これらの工程を実行するために各種の処理装置が用いられている。この処理装置は、図６に示すように、被処理体を収容する処理容器に各種のガスを供給する複数のガス供給配管９_１，９_２，９_３を備え、各ガス供給配管９_１，９_２，９_３には流量を制御する流量制御器（マスフローコントローラ）８_１，８_２，８_３が設けられている。
【０００３】
ガス供給配管の一つ（９_１）は不活性ガスを供給して処理容器３内に残存する他のガスをパージ（掃気）するパージラインとされ、他のガス供給配管９_２，９_３は各種の処理ガスを供給する処理ガスラインとされている。処理ガス供給配管９_２，９_３にも不活性ガスを供給して管内に残存するガスをパージするために、パージライン９_１の流量制御器８_１の上流側が分岐され、その分岐管１７ａ，１７ｂが処理ガス供給配管９_２，９_３の流量制御器８_２，８_３の上流側に接続されている。
【０００４】
ところで、前記処理装置においては、ある程度使用すると、経年変化により流量制御器８_１，８_２，８_３の流量センサ部がドリフトしたり、あるいは、流量制御器８_２，８_３に処理ガスの副生成物が付着したり異物をかみ込んだりする場合があり、流量制御の精度および信頼性が低下する。このため、流量制御器８_２，８_３の上流に流量測定器（マスフローメータ）３０_２，３０_３を設け、パージ時に流量制御器８_２，８_３の出力値と流量測定器３０_２，３０_３の出力値とを比較して前記流量制御器８_２，８_３が正常か否かを定期的ないし所定期間使用毎に監視している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記処理装置ないし処理方法においては、流量制御器内部の熱式流量センサ自身の経年変化や劣化によるドリフトを根本的に監視することができないだけでなく、流量制御器と流量測定器とは共に同じセンサを採用しており、流量測定器のセンサは不活性ガス雰囲気にあって環境は良いが、どちらがドリフトしているかは不明であり、そもそもドリフトし易い同じ方式のセンサ同士の比較では信頼性が低いという問題があった。また、処理ガスライン毎に流量測定器を設けなければならないため、設置スペース及びコストの増大を余儀なくされる問題があった。
【０００６】
本発明は、前記事情を考慮してなされたもので、信頼性の向上が図れる処理方法及び処理装置を提供することを目的とする。また、他の目的は、設置スペース及びコストの低減が図れる処理方法及び処理装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明のうち、請求項１に係る発明は、各種のガスを所定流量で供給する流量制御器を有する複数のガス供給配管と、所定の圧力に真空引き可能な排気配管とが接続された処理容器に被処理体を収容して所定の処理を施す処理方法において、前記ガス供給配管の流量制御器の上流側に圧力計及び開閉弁を順に設け、ガス供給配管に処理容器をバイパスして前記排気配管と連通するバイパス配管を設け、校正された流量制御器の取付後にバイパス配管を真空引きし、ガス供給配管から固定された流量のガスを導入した状態で前記開閉弁を閉じてから前記圧力計により圧力降下と推移時間を各ガス供給配管毎に測定して初期値として記憶し、所定期間使用後に測定した測定値と前記初期値とを比較して流量制御器が正常か否かを監視することを特徴とする。
【００１１】
請求項２に係る発明は、各種のガスを所定流量で供給する流量制御器を有する複数のガス供給配管と、所定の圧力に真空引き可能な排気配管とが接続された処理容器に被処理体を収容して所定の処理を施す処理装置において、前記ガス供給配管の流量制御器の上流側に圧力計及び開閉弁を順に設け、ガス供給配管に処理容器をバイパスして前記排気配管と連通するバイパス配管を設け、校正された流量制御器の取付後にバイパス配管を真空引きし、ガス供給配管から固定された流量のガスを導入した状態で前記開閉弁を閉じてから前記圧力計により圧力降下と推移時間を各ガス供給配管毎に測定して初期値として記憶し、所定期間使用後に測定した測定値と前記初期値とを比較して流量制御器が正常か否かを監視するための制御ユニットを設けたことを特徴とする。
【００１２】
請求項３に係る発明は、請求項２記載の処理装置において、ガスの体積変化の要因となる温度変化による測定精度の低下を防止するために、前記流量制御器から上流側の開閉弁までの範囲をヒータ及び温度調整器により一定の温度に保つように構成されているか、または、前記圧力計に温度センサを併設して測定温度に基いて測定圧力に補正をかけるように構成されていることを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態を添付図面に基いて詳述する。図１は本発明の実施の形態を示す処理装置の構成図、図２は同処理装置の流量制御器を検査する場合の測定圧力の時間変化を示すグラフ、図３は流量制御器の一例を示す断面図である。
【００１４】
図１において、１は処理装置として例示した縦型熱処理装置で、被処理体例えば半導体ウエハｗを収容して所定の処理例えばＣＶＤ処理を施すための処理容器例えば石英製の反応管３を備えている。反応管３は、図示しないベースプレートに保持されていると共に、炉口として開放した下端開口部が蓋体４で気密に閉塞されるようになっている。
【００１５】
この蓋体４上には、多数枚例えば２５〜１５０枚程度のウエハｗを水平状態で上下方向に間隔をおいて多段に支持する保持具である石英製のボート５が保温筒６を介して載置されている。蓋体４は、図示しない昇降機構により、反応管３内へのボート５のロード（搬入）並びにアンロード（搬出）及び炉口の開閉を行うように構成されている。反応管３の周囲には、反応管３内を所定の温度例えば３００〜１２００℃に加熱制御可能なヒータ７が設けられている。
【００１６】
反応管３の下側部には、反応管３内に各種のガスＧ_１，Ｇ_２，Ｇ_３を所定流量で供給する流量制御器（マスフローコントローラ）８_１，８_２，８_３を有する複数のガス供給配管９_１，９_２，９_３と、反応管３内を所定の圧力に真空引き可能な真空ポンプ１０及び圧力制御弁１１を有する排気配管１２とが接続されている。圧力制御弁１１の上流側には反応管３内の圧力を検知する図示しない圧力計（圧力センサ）が設けられ、圧力制御弁１１と真空ポンプ１０との間には、排気中に含まれる反応副生成物やパーティクルを除去するトラップ１３が設けられている。
【００１７】
前記流量制御器８_１，８_２，８_３は、図３に示すように、入口から流入したガスを流量センサ部１４と層流素子バイパス部１５とに分流し、流量センサ部１４で質量流量に比例した温度変化をとらえて電気信号に変換し、外部からの設定信号と流量センサ部１４からの流量信号とを比較してその差信号がゼロになる方向に流量制御バルブ１６を駆動するように構成されている。
【００１８】
ガス供給配管の一つ（９_１）は不活性ガス例えば窒素ガスＧ_１を供給して処理容器内に残存する他のガスをパージ（掃気）するパージラインとされ、他のガス供給配管９_２，９_３は各種の処理ガスを供給する処理ガスラインとされている。処理ガスライン９_２，９_３にも不活性ガスＧ_１を供給して管内に残存するガスをパージするために、パージライン９_１の流量制御器８_１の上流側が分岐され、その分岐管１７ａ，１７ｂが処理ガス供給配管９_２，９_３の流量制御器８_２，８_３の上流側に接続されている。
【００１９】
各ガス供給配管８_１，８_２，８_３の流量制御器９_１，９_２，９_３の上流側には、開閉弁Ｖ_１，Ｖ_２，Ｖ_３、図示しないフィルタ、レギュレータ（圧力調整器）及び手動式開閉弁がそれぞれ設けられている。また、分岐管１７ａ，１７ｂにも、開閉弁Ｖ_４，Ｖ_５及び逆止弁１８ａ，１８ｂが設けられている。
【００２０】
前記ガス供給配管９_１，９_２，９_３には、反応管３をバイパスして前記排気配管１２と連通するバイパス配管１９が設けられ、このバイパス配管１９の下流側にバイパス配管１９内の圧力を検知する圧力計（圧力センサ）２０及び封止弁２１が順に設けられている。バイパス配管１９の上流側は、ガス供給配管９_１，９_２，９_３に対応して複数に分岐され、各分岐管２２ａ，２２ｂ，２２ｃが対応するガス供給配管９_１，９_２，９_３の下流側に接続されている。すなわち、バイパス配管１９は複数のガス供給配管９_１，９_２，９_３に対して共通の一本のバイパス配管とされている。
【００２１】
ガス供給配管９_１，９_２，９_３と分岐管２２ａ，２２ｂ，２２ｃとには、これらの接続部の下流近傍に切替弁としての開閉弁Ｖ_６〜Ｖ_１１がそれぞれ設けられている。バイパス配管１９の下流端は排気配管１２の真空ポンプ１０の上流側に接続されており、バイパス配管１９の下流側において封止弁２１の上流側に圧力計２０が設けられている。処理装置１は、所定の処理を実行すべく予め設定された処理プログラム及び入力されたデータ並びに圧力や温度等の入力信号に基き、ガス供給配管９_１，９_２，９_３の開閉弁Ｖ_１，Ｖ_２，Ｖ_３、排気配管１２の圧力制御弁１１やヒータ７等の処理装置全体を制御するための制御ユニット２３を備えている。
【００２２】
ところで、前記流量制御器８_１，８_２，８_３は、ある程度使用すると例えば処理ガスの副生成物が付着したり異物をかみ込んだりする場合があり、流量制御８_１，８_２，８_３の精度および信頼性が低下することがある。そこで、流量制御器８_１，８_２，８_３が正常か否かを監視するために、校正された流量制御器８_１，８_２，８_３の取付後にバイパス配管１９を真空引きし、封止弁２１を閉じて封止した後、ガス供給配管９_１，９_２，９_３から固定された流量のガスを導入しながら前記圧力計２０により圧力上昇値ΔＰと推移時間ΔＴを各ガス供給配管９_１，９_２，９_３毎に測定して初期値として記憶し、所定期間使用後（所定期間経過後）に測定した測定値と前記初期値とを比較して流量制御器８_１，８_２，８_３が正常か否かを定期的に例えばプロセス終了毎に監視する。
【００２３】
この監視方法は、各ガス供給配管９_１，９_２，９_３とバイパス配管１９とからなるバイパスラインの容積を利用し、各流量制御器８_１，８_２，８_３を通過する実流量を圧力として直接測定し、測定圧力の時間的変化により流量制御器８_１，８_２，８_３の流量センサ部１４が正常か否かを監視するものである。具体的には、例えば図１の左から２番目のガス供給配管９_２の流量制御器８_２を監視する場合には、校正された流量制御器８_２の取付後に開閉弁Ｖ_９及び封止弁２１を開に、他の開閉弁Ｖ_１，Ｖ_２，Ｖ_３，Ｖ_４，Ｖ_５，Ｖ_６，Ｖ_７，Ｖ_８，Ｖ_１０，Ｖ_１１及び圧力制御弁１１を閉にし、当該バイパスラインを真空ポンプ１０により真空引きする。この時の圧力計２０で測定した値を基準圧力として図２にＰ_０で示す。
【００２４】
次に、封止弁２１を閉じ、流量制御器９_２に所定の流量例えば１０ｃｃ／分を流すように信号を与えると共に開閉弁Ｖ_２を開にし、ガス供給配管９_２から固定された流量のガスをバイパス配管１９に導入しながら前記圧力計２０を用いて圧力上昇値ΔＰと推移時間ΔＴを測定し、その測定値を初期値として記憶する。図２において、Ｔ_０はガス導入開始時、Ｔ_１は一定流量安定後の測定開始時、Ｔ_２は測定終了時、Ｔ_３は封止弁を開にし次のラインの計測に切換える時点を示す。また、Ｐ_１は一定流量に安定後の測定開始時の測定圧力、Ｐ_２は測定終了時の測定圧力を示す。
【００２５】
Ｐ_２−Ｐ_１＝ΔＰ（圧力上昇値）とＴ_２−Ｔ_１＝ΔＴ（推移時間）を校正後の初期値として記憶する。このようにして各ラインについて測定した測定値を初期値として記憶しておく。この作業が終了したなら、反応管３に処理ガスを導入してプロセスを開始する。
【００２６】
そして、所定期間経過後に、前記と同じ動作すなわちバイパス配管１９を真空引きして封止した後、ガス供給配管９_１，９_２，９_３から固定された流量のガスを導入しながら圧力計２０を用いて圧力上昇値と推移時間を各ガス供給配管９_１，９_２，９_３毎に測定し、この測定値と前記初期値とを比較して流量制御器８_１，８_２，８_３が正常か否かを判別する。例えば、推移時間ΔＴを同じくして測定した測定値ΔＰ’と初期値ΔＰとを比較するか、圧力上昇値ΔＰを同じくして測定した測定値ΔＴ’と初期値ΔＴとを比較する。測定値と初期値が同じであれば、流量制御器８_１，８_２，８_３が正常であると判断し、測定値と初期値が異なれば、流量制御器８_１，８_２，８_３が異常であると判断する。
【００２７】
以上のようにして流量制御器８_１，８_２，８_３が正常か否かを定期的に監視する。このような監視を自動的に行うために前記制御ユニット２３が用いられており、制御ユニット２３には、前記監視を行うプログラムが設定されている。この場合、制御ユニット２３は、測定値と初期値とを比較して流量制御器８_１，８_２，８_３が正常か否かを判別（判断）し、その判別結果をディスプレイ装置等に出力表示するようになっている。
【００２８】
以上の構成からなる処理方法ないし処理装置によれば、各種のガスＧ_１，Ｇ_２，Ｇ_３を所定流量で供給する流量制御器８_１，８_２，８_３を有する複数のガス供給配管９_１，９_２，９_３と、所定の圧力に真空引き可能な排気配管１２とが接続された処理容器３に被処理体ｗを収容して所定の処理を施す処理方法ないし処理装置において、前記ガス供給配管９_１，９_２，９_３に処理容器３をバイパスして前記排気配管１２と連通するバイパス配管１９を設け、該バイパス配管１９の下流側に圧力計２０及び封止弁２１を順に設け、校正された流量制御器８_１，８_２，８_３の取付後にバイパス配管１９を真空引きして封止弁２１を閉じて封止した後、ガス供給配管９_１，９_２，９_３から固定された流量のガスを導入しながら前記圧力計２０により圧力上昇値と推移時間を各ガス供給配管９_１，９_２，９_３毎に測定して初期値として記憶し、所定期間使用後に測定した測定値と前記初期値とを比較して流量制御器８_１，８_２，８_３が正常か否かを監視するようにしたので、信頼性の向上が図れると共に、設置スペース及びコストの低減が図れる。
【００２９】
すなわち、バイパスラインの容積を利用して流量制御器８_１，８_２，８_３を通過する実ガスの実流量を圧力として直接測定するようにし、流量制御器８_１，８_２，８_３のセンサとは異なる圧力センサ（圧力計）２０を使用するため、同じ方式のセンサ同士を比較して流量制御器の異常を監視する従来の処理方法ないし処理装置と比べて信頼性の向上が図れる。また、共通のバイパス配管１９に圧力計２０を１つ設けるだけで良いため、設置スペース及びコストの低減が図れる。また、処理容器３を介さずにバイパスラインを使用するため、反応管３の蓋体４開放時やウエハ移載時などに平行して監視を行うことができ、処理装置のサイクルタイムに影響しない。更に、プロセス間に監視を毎回行うことも可能であり、プロセスの再現性や信頼性の向上が図れる。
【００３０】
なお、ガスの体積変化（熱膨張収縮）の要因となる温度変化による測定精度の低下を防止するために、測定系である前記流量制御器８_１，８_２，８_３から圧力系２０までの範囲を図示しないヒータ（加熱手段）及び温度調整器（温度制御手段）により一定の温度に保つように構成されているか、または、前記圧力計２０に図示しない温度センサを併設して測定温度に基いて測定圧力に補正をかけるように構成されていることが好ましい。測定系を一定の温度に保つ場合は、測定系にヒータを巻き付ける等により設け、このヒータの温度を温度調整器により一定の温度に制御する。本実施の形態の場合、測定容積範囲が広いので、流量制御器８_１，８_２，８_３から圧力計２０までの範囲をヒータと温度調整器により一定温度に維持するように構成することが好ましい。この場合、各ガス供給管９_１，９_２，９_３は室温よりも若干高い温度例えば４０℃程度に、または、蒸気圧の低いガスのガス供給管は気体状態を維持できる温度に、ヒータと温度調整器により一定に保つ。バイパス管９_１，９_２，９_３はガス供給管８_１，８_２，８_３の中で一番高い温度と同じ温度に設定するようにしても良い。このように測定系を略一定の温度に保つことにより、ガスの体積変化を抑制ないし防止することができ、測定精度の向上が図れる。
【００３１】
前記実施例では、不活性ガスを含む全てのガス供給管９_１，９_２，９_３の流量制御器８_１，８_２，８_３を監視するようにしたが、不活性ガスの流量制御器８_１は副生成物の付着がなく流量制御の精度が低下する可能性が他の流量制御器８_２，８_３と比べて低いため、不活性ガスの流量制御器８_１の監視は行わず、処理ガスの流量制御器８_２，８_３のみを監視するようにしても良い。
【００３２】
図４は本発明の他の実施の形態を示す処理装置の構成図、図５は同処理装置の流量制御器を検査する場合の測定圧力の時間変化を示すグラフである。図４の本実施の形態において、図１の実施の形態と同一部分は同一符号を付して説明を省略し、異なる部分について説明を加える。本実施の形態では、ガス供給配管９_１，９_２，９_３の流量制御器８_１，８_２，８_３の上流側に圧力計（圧力センサ）２５_１，２５_２，２５_３及び開閉弁Ｖ_１，Ｖ_２，Ｖ_３が順に設けられ、ガス供給配管９_１，９_２，９_３に処理容器３をバイパスして排気配管１２と連通するバイパス配管１９が設けられている。
【００３３】
各ガス供給配管９_１，９_２，９_３に流量制御器８_１，８_２，８_３及び開閉弁Ｖ_１，Ｖ_２，Ｖ_３が設けられている場合には、これら流量制御器８_１，８_２，８_３と開閉弁Ｖ_１，Ｖ_２，Ｖ_３との間に圧力計２５_１，２５_２，２５_３を設ければ良い。図示例では、バイパス配管１９の下流側に圧力計２０及び封止弁２１が設けられているが、その圧力計２０は今回は使用しないため、無くても良い。
【００３４】
前記流量制御器８_１，８_２，８_３が正常か否かを監視するために、校正された流量制御器８_１，８_２，８_３の取付後にバイパス配管１９を真空引きし、ガス供給配管９_１，９_２，９_３から固定された流量のガスを導入した状態で前記開閉弁Ｖ_１，Ｖ_２，Ｖ_３を閉じてから前記圧力計２５_１，２５_２，２５_３により圧力降下ΔＰと推移時間ΔＴを各ガス供給配管９_１，９_２，９_３毎に測定して初期値として記憶し、所定期間使用後（所定期間経過後）に測定した測定値と前記初期値とを比較して流量制御器８_１，８_２，８_３が正常か否かを定期的に例えばプロセス終了毎に監視する。
【００３５】
この監視方法は、各ガス供給配管９_１，９_２，９_３における流量制御器８_１，８_２，８_３と開閉弁Ｖ_１，Ｖ_２，Ｖ_３との間の容積を利用し、各流量制御器８_１，８_２，８_３を通過する実流量を圧力として直接測定し、測定圧力の時間的変化により流量制御器８_１，８_２，８_３の流量センサ部１４のドリフトを監視するものである。具体的には、例えば図４の左から２番目のガス供給配管９_２の流量制御器８_２を監視する場合には、校正された流量制御器８_２の取付後に開閉弁Ｖ_２，Ｖ_９及び封止弁２１を開に、他の開閉弁Ｖ_１，Ｖ_３，Ｖ_４，Ｖ_５，Ｖ_６，Ｖ_７，Ｖ_８，Ｖ_１０，Ｖ_１１及び圧力制御弁１１を閉にし、当該ガス供給配管９_２とバイパス配管１９とからなるバイパスラインを真空ポンプ１０により真空引きする。また、当該ガス供給配管９_２の流量制御器８_２に所定の流量例えば１０ｃｃ／分を流すように信号を与える。この一定流量で流れている時の前記圧力計２５_２で測定した基準圧力を図５にＰ_０で示す。
【００３６】
次に、当該ガス供給配管９_２の上流の開閉弁Ｖ_２を閉にし、前記圧力計２５_２を用いて圧力降下値ΔＰと推移時間ΔＴを測定し、その測定値を初期値として記憶する。図５において、Ｔ_０は開閉弁を閉にした時点、Ｔ_１は流量安定後の測定開始時、Ｔ_２は測定終了時、Ｔ_３は開閉弁を開にし次のラインの計測に切換える時点を示す。また、Ｐ_１は流量安定後の測定開始時の測定圧力、Ｐ_２は測定終了時の測定圧力を示す。
【００３７】
Ｐ_２−Ｐ_１＝ΔＰ（圧力降下値）とＴ_２−Ｔ_１＝ΔＴ（推移時間）を校正後の初期値として記憶する。このようにして各ラインについて測定した測定値を初期値として記憶しておく。この作業が終了したなら、反応管３に処理ガスを導入してプロセスを開始する。
【００３８】
そして、所定期間経過後に、前記と同じ動作すなわちバイパス配管１９を真空引きし、ガス供給配管９_１，９_２，９_３から固定された流量のガスを導入した状態で前記開閉弁Ｖ_１，Ｖ_２，Ｖ_３を閉じてから前記圧力計２５_１，２５_２，２５_３により圧力降下値と推移時間を各ガス供給配管９_１，９_２，９_３毎に測定し、この測定値と前記初期値とを比較して流量制御器８_１，８_２，８_３が正常か否かを判別する。例えば、推移時間ΔＴを同じくして測定した測定値ΔＰ’と初期値ΔＰとを比較するか、圧力降下値ΔＰを同じくして測定した測定値ΔＴ’と初期値ΔＴとを比較する。測定値と初期値が同じであれば、当該流量制御器８_１，８_２，８_３が正常であると判断し、測定値と初期値が異なれば、当該流量制御器８_１，８_２，８_３が異常であると判断する。
【００３９】
以上のようにして流量制御器８_１，８_２，８_３が正常か否かを定期的に監視する。このような監視を自動的に行うために制御ユニット２３が用いられており、制御ユニット２３には、前記監視を行うプログラムが設定されている。この場合、制御ユニット２３は、測定値と初期値とを比較して流量制御器８_１，８_２，８_３が正常か否かを判別（判断）し、その判別結果をディスプレイ装置等に出力表示するようになっている。
【００４０】
以上の構成からなる処理方法ないし処理装置によれば、各種のガスＧ_１，Ｇ_２，Ｇ_３を所定流量で供給する流量制御器８_１，８_２，８_３を有する複数のガス供給配管９_１，９_２，９_３と、所定の圧力に真空引き可能な排気配管１２とが接続された処理容器３に被処理体ｗを収容して所定の処理を施す処理方法ないし処理装置において、前記ガス供給配管９_１，９_２，９_３の流量制御器８_１，８_２，８_３の上流側に圧力計２５_１，２５_２，２５_３及び開閉弁Ｖ_１，Ｖ_２，Ｖ_３を順に設け、ガス供給配管９_１，９_２，９_３に処理容器３をバイパスして前記排気配管１２と連通するバイパス配管１９を設け、校正された流量制御器８_１，８_２，８_３の取付後にバイパス配管１９を真空引きし、ガス供給配管９_１，９_２，９_３から固定された流量のガスを導入した状態で前記開閉弁Ｖ_１，Ｖ_２，Ｖ_３を閉じてから前記圧力計２５_１，２５_２，２５_３により圧力降下値ΔＰと推移時間ΔＴを各ガス供給配管９_１，９_２，９_３毎に測定して初期値として記憶し、所定期間使用後に測定した測定値と前記初期値とを比較して流量制御器８_１，８_２，８_３が正常か否かを監視するようにしたので、信頼性の向上が図れる。
【００４１】
すなわち、流量制御器８_１，８_２，８_３と開閉弁Ｖ_１，Ｖ_２，Ｖ_３との間の容積を利用して流量制御器８_１，８_２，８_３を通過する実ガスの実流量を圧力として直接測定するようにし、流量制御器８_１，８_２，８_３のセンサとは異なる圧力センサ（圧力計）２５_１，２５_２，２５_３を使用するため、同じ方式のセンサ同士を比較して流量制御器の異常を監視する従来の処理方法ないし処理装置と比べて信頼性の向上が図れる。また、処理容器３を介さずにバイパスラインを使用するため、反応管３の蓋体４開放時やウエハ移載時などに平行して監視を行うことができ、処理装置のサイクルタイムに影響しない。更に、プロセス間に監視を毎回行うことも可能であり、プロセスの再現性や信頼性の向上が図れる。
【００４２】
本実施の形態においては、ガスの体積変化の要因となる温度変化による測定精度の低下を防止するために、測定系である前記流量制御器８_１，８_２，８_３から上流側の開閉弁Ｖ_１，Ｖ_２，Ｖ_３までの範囲をヒータ及び温度調整器により一定の温度に保つように構成されているか、または、前記圧力センサ２５_１，２５_２，２５_３に温度センサを併設して測定温度に基いて測定圧力に補正をかけるように構成されていることが好ましい（図示省略）。このように測定系を一定の温度に保つことによりガスの体積変化を抑制ないし防止することができ、測定精度の向上が図れる。また、測定系を一定の温度にしない場合には、温度センサによる測定温度に基いて測定圧力に補正をかけることにより、測定精度の向上が図れる。
【００４３】
前記実施例では、不活性ガスを含む全てのガス供給管９_１，９_２，９_３の全ての流量制御器８_１，８_２，８_３を監視するようにしたが、不活性ガスの流量制御器８_１は副生成物の付着がなく流量制御の精度が低下する可能性が他の流量制御器８_２，８_３と比べて低いため、不活性ガスの流量制御器８_１の監視は行わず（従って、圧力計系２５_１は設けなくても良い。）、処理ガスの流量制御器８_２，８_３のみを監視するようにしても良い。
【００４４】
以上、本発明の実施の形態を図面により詳述してきたが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の設計変更等が可能である。例えば、本発明は、縦型処理装置に限定されず、横形処理装置であっても良く、また、被処理体を１枚ずつ処理容器に収容して所定の処理を施す枚葉式であっても良い。
【００４５】
【発明の効果】
以上要するに本発明によれば、次のような効果を奏することができる。
【００４７】
（１）請求項１または２に係る発明によれば、各種のガスを所定流量で供給する流量制御器を有する複数のガス供給配管と、所定の圧力に真空引き可能な排気配管とが接続された処理容器に被処理体を収容して所定の処理を施す処理方法ないし処理装置において、前記ガス供給配管の流量制御器の上流側に圧力計及び開閉弁を順に設け、ガス供給配管に処理容器をバイパスして前記排気配管と連通するバイパス配管を設け、校正された流量制御器の取付後にバイパス配管を真空引きし、ガス供給配管から固定された流量のガスを導入した状態で前記開閉弁を閉じてから前記圧力計により圧力降下と推移時間を各ガス供給配管毎に測定して初期値として記憶し、所定期間使用後に測定した測定値と前記初期値とを比較して流量制御器が正常か否かを監視するようにしたので、信頼性の向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態を示す処理装置の構成図である。
【図２】同処理装置の流量制御器を検査する場合の測定圧力の時間変化を示すグラフである。
【図３】流量制御器の一例を示す断面図である。
【図４】本発明の他の実施の形態を示す処理装置の構成図である。
【図５】同処理装置の流量制御器を検査する場合の測定圧力の時間変化を示すグラフである。
【図６】従来の処理装置の一例を示す要部構成図である。
【符号の説明】
１処理装置
ｗ被処理体
３処理容器
８_１，８_２，８_３流量制御器
９_１，９_２，９_３ガス供給配管
１２排気配管
Ｖ_１，Ｖ_２，Ｖ_３開閉弁
１９バイパス配管
２０圧力計
２１封止弁
２３制御弁
２５_１，２５_２，２５_３圧力計

Claims

各種のガスを所定流量で供給する流量制御器を有する複数のガス供給配管と、所定の圧力に真空引き可能な排気配管とが接続された処理容器に被処理体を収容して所定の処理を施す処理方法において、前記ガス供給配管の流量制御器の上流側に圧力計及び開閉弁を順に設け、ガス供給配管に処理容器をバイパスして前記排気配管と連通するバイパス配管を設け、校正された流量制御器の取付後にバイパス配管を真空引きし、ガス供給配管から固定された流量のガスを導入した状態で前記開閉弁を閉じてから前記圧力計により圧力降下と推移時間を各ガス供給配管毎に測定して初期値として記憶し、所定期間使用後に測定した測定値と前記初期値とを比較して流量制御器が正常か否かを監視することを特徴とする処理方法。
各種のガスを所定流量で供給する流量制御器を有する複数のガス供給配管と、所定の圧力に真空引き可能な排気配管とが接続された処理容器に被処理体を収容して所定の処理を施す処理装置において、前記ガス供給配管の流量制御器の上流側に圧力計及び開閉弁を順に設け、ガス供給配管に処理容器をバイパスして前記排気配管と連通するバイパス配管を設け、校正された流量制御器の取付後にバイパス配管を真空引きし、ガス供給配管から固定された流量のガスを導入した状態で前記開閉弁を閉じてから前記圧力計により圧力降下と推移時間を各ガス供給配管毎に測定して初期値として記憶し、所定期間使用後に測定した測定値と前記初期値とを比較して流量制御器が正常か否かを監視するための制御ユニットを設けたことを特徴とする処理装置。
ガスの体積変化の要因となる温度変化による測定精度の低下を防止するために、前記流量制御器から上流側の開閉弁までの範囲をヒータ及び温度調整器により一定の温度に保つように構成されているか、または、前記圧力計に温度センサを併設して測定温度に基いて測定圧力に補正をかけるように構成されていることを特徴とする請求項２記載の処理装置。