JP3807487B2 - 半導体素子の装着装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ヒートシンク又はセラミック基板に半導体素子を装着する半導体素子の装着装置に関する。詳述すれば、搬送装置により間欠送りされるヒートシンクやセラミック基板等のワークが供給装置により供給ステーションで搬送路上に供給され、はんだ塗布ステーションで前記ワーク上にはんだ塗布装置によりはんだが塗布され、装着ステーションで装着装置により半導体素子が前記ワーク上にはんだを介して装着され、排出ステーションで排出取出し装置により前記半導体素子が装着されたワークが取出される半導体素子の装着装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
かかる半導体素子の装着装置においては、半導体素子と基板等との接合に高温下ではんだ材料を使用したり、又は金共晶を行なうような場合には高温下でのワーク(ヒートシンク又はセラミック基板)の酸化防止対策が必要となる。
【0003】
そして、従来はキャリア等を使用して間欠送りされるワークに対して、接合材の供給部、半導体素子の装着部等の必要箇所において、窒素やこれに水素ガスを加えたものを吹付けることで酸化防止や還元対策を行なってきた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述せる方法では、局所的に雰囲気を作り出すことは可能であるが、その前後の搬送中でも酸化の可能性があるにも拘わらず、完全な雰囲気を作ることは困難である。
【0005】
そこで本発明は、ワークの搬送路を含む装着装置本体内に密閉空間を形成し、この密閉空間に少なくとも窒素を含むガスを供給することにより形成された酸化防止雰囲気を損なうことなく、各種の作業を行なえるようにした半導体素子の装着装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を計決するための手段】
このため第1の発明は、搬送装置により間欠送りされるヒートシンクやセラミック基板等のワークが供給装置により供給ステーションで搬送路上に供給され、はんだ塗布ステーションで前記ワーク上にはんだ塗布装置によりはんだが塗布され、装着ステーションで装着装置により半導体素子が前記ワーク上にはんだを介して装着され、排出ステーションで排出取出し装置により前記半導体素子が装着されたワークが取出される半導体素子の装着装置において、前記ワークの搬送路を含む装着装置本体内に密閉空間を形成し、少なくとも窒素を含むガスを前記密閉空間に供給すると共に、前記供給ステーションにおいて前記供給装置により前記密閉空間の上面に形成された開口を介して前記ワークを供給する際に前記開口を開閉するシャッターを前記装着装置本体に設けたことを特徴とする。
【0009】
また第2の発明は、同半導体素子の装着装置において、前記ワークの搬送路を含む装着装置本体内に密閉空間を形成し、少なくとも窒素を含むガスを前記密閉空間に供給すると共に、前記排出ステーションにおいて前記排出取出し装置により前記密閉空間の上面に形成された開口を介して前記半導体素子が装着されたワークを取出す際に前記開口を開閉するシャッターを前記装着装置本体に設けたことを特徴とする。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下図面に基づき、本発明の実施の形態を説明する。1は半導体素子の装着装置で、この装着装置1外から供給されるヒートシンクやセラミック基板等のワーク3を搬送装置2により間欠送りしながら、このワーク3上に所定作業を施した後、装着装置1外に取出されるものである。
【0011】
前記装着装置1は、上流から供給ステーションI、はんだ塗布ステーションII、装着ステーションIII及び排出ステーションIVを有して、図2の各ステーションにおける前記装着装置1の縦断側面図及び図3の各ステーション間の装着装置1の縦断側面図に示すように、装置本体1Aには密閉空間4が形成される。
【0012】
前記密閉空間4内に設けられる前記搬送装置2は、前記ワーク3の搬送方向に沿って設けられるトランスファ5と、搬送路6上の各ワーク3に係止して移動させるために該トランスファ5に所定間隔毎に設けられる複数の送り爪7と、前記トランスファ5を所定長さの1ピッチずつ往復動させる往復駆動源(図示せず)と、該駆動源によりトランスファ5を1ピッチ往動作により移動させた後下端を支点として揺動させてワーク3と送り爪7との係止を解除する揺動駆動源(図示せず)とを備えている。
【0013】
図3において、10は前記密閉空間4内の前記ワーク3の酸化を防止したり還元させるために窒素ガスや、窒素及び水素の混合ガスを前記密閉空間4内に供給する複数の供給パイプで、この各供給パイプ10は図示しないガス供給源に各流量調節器を介して接続されている。
【0014】
そして、図2の装着ステーションIIIにおける装着装置1の縦断側面図に示すように、前記密閉空間4の上面に開口11を形成して、該開口11をシリンダー12により開閉するシャッター13を設けるが、この構成は前記供給ステーションI、はんだ塗布ステーションII及び排出ステーションIVにおいても同様な構成である。
また、各ステーション間には透明なガラス窓14を設けて、この窓14を介して装置本体1A内、例えばワイヤはんだの塗布状態やベアチップなどの半導体素子の装着状態などを作業者が覗くことができる。
【0015】
先ず、供給ステーションIでは、トレイ15上に整列されて収納されている前記ワーク3を供給装置の吸着ノズル5が図示しない駆動源により平面方向及び上下方向に移動しながら取出して、前記シリンダー12によりシャッター13を移動させて開口11を介して搬送路6上に順次供給し、この供給後シャッター13を移動させて開口11を閉塞する。そして、前述したように搬送装置2により搬送路6上のワークを順次1ピッチずつ間欠送りすることとなる。
【0016】
次のはんだ塗布ステーションIIでは、前記シリンダー12によりシャッター13を移動させて開口11を介して搬送路6上のワーク3上に図示しないはんだ塗布装置により接合材であるワイヤはんだを塗布し、この塗布後シャッター13を移動させて開口11を閉塞する。尚、このはんだ塗布装置は、平面方向及び上下方向に図示しない駆動源により移動可能な構成である。また、図示しないヒータが埋設されたヒータブロックが設けられ、搬送路6の形成ブロック6Aを介してワーク3を加熱し、前記ワイヤはんだを溶融しながら塗布することとなるものである。
【0017】
次の装着ステーションIIIでは、装着装置の吸着ノズル16が図示しない駆動源により平面方向及び上下方向に移動しながら半導体供給装置よりベアチップなどの半導体素子を取出して、前記シリンダー12によりシャッター13を移動させて開口11を介して搬送路6上の前記ワーク3上にワイヤはんだを介して装着し、この装着後シャッター13を移動させて開口11を閉塞する。
【0018】
最後の排出ステーションIVでは、前記シリンダー12によりシャッター13を移動させて開口11を介して搬送路6上の前記半導体素子が装着されたワーク3が図示しない駆動源により平面方向及び上下方向に移動する排出取出し装置の吸着ノズル17により取出され、収納装置であるトレイ18上に収納されるが、前記取出し後シャッター13を移動させて開口11を閉塞する。
【0019】
以上説明したように、供給ステーションIで供給された搬送路6上の前記ワーク3を搬送装置2により順次1ピッチずつ間欠送りしながら、各作業、即ちワーク3上にワイヤはんだを塗布したり、該ワーク3上に半導体素子を装着したり、該ワーク3を搬送路6上から取出して収納したりするものである。
【0020】
しかも、装置本体1Aには密閉空間4を形成して、前述したようなワーク供給、ワイヤはんだ塗布、半導体素子の装着、ワーク取出し作業を行うときのみ、前記シリンダー12によりシャッター13を移動させて開口11を開くようにするため、酸化防止雰囲気を損なうことなく、各種の作業を行なうことができる。
【0021】
次に図4に基づき、はんだ塗布装置の他の実施形態について説明する。先ず、基台20上に沿ってX軸モータ(図示せず)によりX方向に移動可能なXテーブル21上に、Y軸モータ22によりY方向に移動可能なYテーブル23を設け、このYテーブル23にワイヤはんだ駆動部24を固定する。
【0022】
前記ワイヤはんだ駆動部24は、はんだ供給ローラ(図示せず)に巻かれたワイヤはんだ25を駆動モータ26により回転する駆動ローラ27及び従動ローラ28にて塗布ノズル29を介して繰り出すものである。
【0023】
そして、装置本体1Aの密閉空間4内の搬送路6上のワーク3上に、前記駆動モータ26により塗布ノズル29を介してワイヤはんだ25を繰り出しながら、Xテーブル21及びYテーブル23を平面方向に移動させて、描画する如くワイヤはんだ25を塗布するものである。
【0024】
このとき、前記密閉空間4の上面を形成するステンレス製の装置本体1Aに開口30を形成して、該開口30を前記塗布ノズル29が貫通した状態の少なくとも下面を平滑な面とした蓋体31で閉塞する構成とする。従って、前記蓋体31は少なくとも開口30の周囲の面を平滑な面とした装置本体1A上面を摺動可能であり、かつ前記塗布ノズル29が該蓋体31を上下動可能に貫通しているので、前記Xテーブル21及びYテーブル23が平面方向に移動してワイヤはんだ25を塗布する際でも、前記開口30内のどこに移動しても該開口30を閉塞できる面積(大きさ)を有する円板状の蓋体31で開口30を閉塞しているから、酸化防止雰囲気を損なうことがない。
【0025】
尚、はんだの塗布確認のため、鋼鉄製の塗布ノズル29とワーク3との接地確認を行なうので、この確認を阻害することがないよう前記蓋体31は絶縁性の良好な材料、例えばガラス、セラミックなどの材料で作製するが、特に透明なガラスで構成すれば前記確認に便宜である。
【0026】
また、33はヒータが埋設されたヒータブロックで、搬送路6の形成ブロック34を介してワーク3を加熱し、前記ワイヤはんだ25を溶融しながら塗布することとなるものである。
【0027】
以上本発明の実施態様について説明したが、上述の説明に基づいて当業者にとって種々の代替例、修正又は変形が可能であり、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲で前述の種々の代替例、修正又は変形を包含するものである。
【0028】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、ワークの搬送路を含む装着装置本体内に密閉空間を形成し、ワークの供給ステーションまたは排出ステーションには、密閉空間の上面に形成された開口を介して供給装置によりワークを供給する際、或いは排出取出し装置により半導体素子が装着されたワークを密閉空間の上面に形成された開口を介して取出す際に開口を開閉するシャッターを装着装置本体に設けたので、密閉空間に少なくとも窒素を含むガスを供給することにより形成された酸化防止雰囲気を損なうことなく、密閉空間の上面に形成された開口を介してワークの供給または取り出しの作業を行なえるようにした半導体素子の装着装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】半導体素子の装着装置の平面図である。
【図2】装着ステーションIIIにおける装着装置1の縦断右側面図である。
【図3】各ステーション間の縦断右側面図である。
【図4】はんだ塗布装置の他の実施形態を示す縦断右側面
【図5】はんだ塗布ステーションの要部平面図である。
【符号の説明】
1 半導体素子の装着装置
1A 装置本体
2 搬送装置
3 ワーク
4 密閉空間
5 吸着ノズル
6 搬送路
10 供給パイプ
11 開口
13 シャッター
16 吸着ノズル
17 吸着ノズル
Claims (2)
- 搬送装置により間欠送りされるヒートシンクやセラミック基板等のワークが供給装置により供給ステーションで搬送路上に供給され、はんだ塗布ステーションで前記ワーク上にはんだ塗布装置によりはんだが塗布され、装着ステーションで装着装置により半導体素子が前記ワーク上にはんだを介して装着され、排出ステーションで排出取出し装置により前記半導体素子が装着されたワークが取出される半導体素子の装着装置において、前記ワークの搬送路を含む装着装置本体内に密閉空間を形成し、少なくとも窒素を含むガスを前記密閉空間に供給すると共に、前記供給ステーションにおいて前記供給装置により前記密閉空間の上面に形成された開口を介して前記ワークを供給する際に前記開口を開閉するシャッターを前記装着装置本体に設けたことを特徴とする半導体素子の装着装置。
- 搬送装置により間欠送りされるヒートシンクやセラミック基板等のワークが供給装置により供給ステーションで搬送路上に供給され、はんだ塗布ステーションで前記ワーク上にはんだ塗布装置によりはんだが塗布され、装着ステーションで装着装置により半導体素子が前記ワーク上にはんだを介して装着され、排出ステーションで排出取出し装置により前記半導体素子が装着されたワークが取出される半導体素子の装着装置において、前記ワークの搬送路を含む装着装置本体内に密閉空間を形成し、少なくとも窒素を含むガスを前記密閉空間に供給すると共に、前記排出ステーションにおいて前記排出取出し装置により前記密閉空間の上面に形成された開口を介して前記半導体素子が装着されたワークを取出す際に前記開口を開閉するシャッターを前記装着装置本体に設けたことを特徴とする半導体素子の装着装置。
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