JP3804279B2 - アルデヒドの製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はロジウム系触媒の存在下、オレフィンのヒドロホルミル化によりアルデヒドを製造する方法に関する。詳しくは、ヒドロホルミル化反応液から分離されたロジウム含有廃触媒液からロジウムを分離回収し、再使用する工程を伴うアルデヒドの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
オレフィン性二重結合へ水素及び一酸化炭素を付加させるヒドロホルミル化反応(オキソ反応)はアルデヒドあるいはアルコールの製造法としてよく知られている。ヒドロホルミル化反応の触媒としては、反応の活性及び選択性が優れているという理由で、高価であるにも拘わらず、ロジウムを含有する触媒が用いられる場合が多い。それ故、工業的に実施する際には、高価なロジウム触媒をリサイクル使用することが不可欠である。しかし、触媒を系内でリサイクル使用しているうちに、原料のオレフィン、水性ガス等から微量に混入する被毒物質の影響により触媒が徐々に失活してくるため、反応系から連続的あるいは間欠的に触媒を抜き出し、新たな触媒を補充する必要がある。この様な廃触媒、あるいは反応後の失活触媒から高価なロジウムを回収し、再使用する方法については既に、種々の方法が提案されている。
【0003】
例えば、特開昭54−26218号に示されるトリアリールホスファイトを配位子とするヒドロホルミル化反応の蒸留残留物からのロジウムの回収法は、酸素ガスを用いた酸化によりゼロ価のロジウムを沈殿物として回収する方法であるが、回収した金属を活性な触媒に再生するためには繁雑な化学処理が必要である。
特開昭57−72995号は第VIII族貴金属を含有する有機溶液を極性有機溶剤と水およびアルカリの存在下、空気酸化して金属錯体を晶析させて回収する方法であるが、このように晶析や沈殿により回収する方法は、ろ過設備を必要とし工業的に有利とは言えない。
特開平2−145439号にはロジウムとトリフェニルホスフィンのような非極性リン配位子との錯体の有機溶液に、トリフェニルホスフィントリスルホン酸(TPPTS)のような極性リン配位子の水性溶液を接触させて錯体を水溶液に抽出し、ついでこれらの極性リン配位子の錯体への配位力を減少させることができる状態調節試薬で処理したのち、非極性のリン配位子を含有する有機溶剤で再度抽出する方法が開示されている。しかし、この方法はTPPTSのような極性配位子を必要とする。また、この方法は有機相と水相の双方にロジウムと錯体を形成する配位子が含有されているため平衡となり回収率が低い。
【0004】
特開平3−146423号はヒドロホルミル化反応の蒸留残留物をカルボン酸およびカルボン酸アルカリ金属塩の存在下、酸素ガスで処理した後、水で抽出することによりロジウムを回収する方法であるが、工業的に回収した触媒金属をリサイクル使用する場合、反応系への混入成分に留意しなければならない。例えば、ヒドロホルミル化反応においてアルカリ金属塩の混入は高沸点物の生成を促進することが知られている。したがって回収した触媒金属をリサイクルするにあたっては、その前段階でほぼ完全な脱アルカリ金属をしなければならないが、完全なもしくは実質的に反応系に影響を与えない脱アルカリ金属は容易でない。
米国特許第4390473号は、低圧ヒドロホルミル化法において触媒として使用されたロジウム及びコバルトを含有する溶液をギ酸水溶液と接触させ、酸素を含有するガスを導通した後、相分離し、水相にロジウムおよびコバルトを回収する方法を示しているが、この方法は実際上はギ酸が還元的に作用するため、ロジウムが部分的に金属形で分離する。この金属形ロジウムは実質上損失である。
【0005】
特開平2−48419号にはヒドロホルミル化反応の蒸留残滓を酸化剤と反応させた後、水性ガスの存在下、水溶性ホスフィン等を含有する水溶液を用いて、水溶液中にロジウム錯体を抽出する方法が開示されている。しかし、これらの方法はいずれも水溶液中にロジウム錯体を調製する方法である。ヒドロホルミル化反応等においては原料が非水溶性の場合が多く、その反応は非水溶性の有機溶液中で行われることが多い。従って、水溶性の触媒では原料の水溶液への溶解度が低いために反応性が低い等の問題があり、これらの方法は有機溶液中での反応のための触媒の調製法としては不適である。
特開平2−145440号には、ロジウムおよび場合により配位子を含有する水溶液を、過剰の炭素数7から22のカルボン酸の水溶性塩の存在下、酸化剤で処理し水不溶性の化合物としてロジウムを分離し、水不溶性有機溶媒で抽出して回収する方法が開示されている。しかし、この方法は有機溶媒中のロジウムを回収するために、濾過等の操作を必要とし望ましくない。
【0006】
特表平8−505137号にはコバルト触媒を用いたヒドロホルミル化反応液から、水溶性リン配位子水溶液を用いて水相にコバルトを抽出し、この水溶液を水性ガスで処理することにより有機溶媒にコバルトを抽出する方法が開示されている。しかし、ロジウムについては何ら言及されていない。また、コバルトは一酸化炭素含有ガスで処理することにより比較的容易に安定なジコバルトオクタカルボニルが生成することが知られているが、ロジウムに関しては安定性の点でロジウムカルボニルの生成は困難である。
ヨーロッパ特許(EP)695734号には、同様にロジウムを用いたヒドロホルミル化反応液から、水溶性リン配位子水溶液を用いて水相にロジウムを抽出し、この水溶液を水性ガスで処理することにより有機溶媒にロジウムを抽出する方法が開示されている。しかし、水溶液および非水溶性有機溶媒液のどちらにもロジウムと錯体を形成しやすい有機リン化合物が存在する場合には、非水溶性有機溶媒液中のロジウムの回収率が低い等の問題点がある。
【0007】
上述の如く、ヒドロホルミル化反応液からロジウムを回収し触媒として再使用する方法については多くの提案が成されており、殆どの場合、ヒドロホルミル化反応液から分離されたロジウム含有液の酸化処理を伴っている。而してこれらの方法は、何れも工業的実施に際し問題を有しており、必ずしも満足し得るものではない。そこで本発明者等は、先に、従来技術の欠点を避け、ロジウムを含有するヒドロホルミル化反応液よりロジウムを効率的に回収し、再使用する方法として、ヒドロホルミル化反応工程から分離したロジウム含有液を促進剤を含有する水性媒体の存在下、酸化処理してロジウムを水相中に抽出し、該水相を、一酸化炭素を含有するガス雰囲気で、非水溶性第3級有機リン化合物の有機溶媒溶液と接触させ、ロジウムを第3級有機リン化合物錯体として有機溶媒中に抽出し、ヒドロホルミル化工程に循環するアルデヒドの製造方法を提案した(EP829300)。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、上述の如き、ヒドロホルミル化反応液から分離されたロジウム含有液を酸化処理してロジウムを回収し、触媒として再使用するアルデヒドの製造方法を、工業的有利に実施する方法、特により安全性を確保された方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、上記目的を達成するべく種々検討を重ね、酸化処理に付されるロジウム含有液にヒドロホルミル化反応溶媒等の低沸点成分が存在すると、少量であっても、酸化条件によっては、低沸点成分が爆鳴気を形成する危険性があることを見出した。特に、連続的なアルデヒド製造プロセスにかかる触媒回収再使用のプロセスを組み込む場合、前工程における誤操作などによって、酸化処理工程へ導入されるロジウム含有液中の低沸点成分の混入量が大幅に増加する場合が考えられ、この量を制御する機構を設ける必要があることを見出し、本発明に到達した。
【0010】
即ち本発明の要旨は、a)オレフィン性不飽和結合を有する化合物を、ロジウム錯体の存在下、一酸化炭素及び水素と反応させるヒドロホルミル化反応工程、b)ヒドロホルミル化反応工程からロジウム含有液を分離し、ロジウム回収工程へ供給する工程、
c)b工程から供給されるロジウム含有液中のロジウムを、促進剤の存在下、酸化する処理を経由して回収し、触媒としてヒドロホルミル化反応工程へ循環再使用する工程、を包含するアルデヒドの製造方法において、b)工程が、ヒドロホルミル化反応工程から分離したロジウム含有液から低沸点成分を除去する手段並びにc工程に供給するロジウム含有液中の低沸点成分濃度を検知してロジウム含有液の供給を制御する手段を有することを特徴とするアルデヒドの製造方法に存する。本発明方法は、上記a,b,cの工程を包含するアルデヒドの製造方法に広く適用可能であり、酸化処理液からロジウムを回収し触媒として再使用するまでの工程は特に限定されないが、特に上記EP829300号記載の方法と組み合わせて使用することが好ましい。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下本発明につき詳細に説明する。
本発明方法は、オレフィン性不飽和結合を有する化合物をロジウム錯体の存在下、非水溶性媒体中で一酸化炭素及び水素でヒドロホルミル化するアルデヒドの製造方法に適用される。原料となるオレフィン性不飽和結合を有する化合物としては、特に限定されるものではなく、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテン、2−ブテン、イソブテン、ブテン混合物、ブテンダイマー、ヘキセン、オクテン、ノネン、プロピレントリマー等の炭素数2〜20のオレフィン系炭化水素、あるいはそれらの混合物、またはアリルアルコール、酢酸ビニル、塩化ビニル等の官能基を持つオレフィン性化合物等が挙げられる。好ましくは、オレフィン系炭化水素である。
【0012】
触媒としては、ロジウムが、単独で、あるいは錯塩形成配位子と組み合わせて用いられる。錯塩形成配位子としては有機リン化合物、具体的には、第3級アルキル又はアリールホスフィンあるいは第3級アルキル又はアリールホスファイトが使用される。具体的には、例えば、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン等のトリアルキルホスフィン類、トリフェニルホスフィン、トリトルイルホスフィン、トリキシリルホスフィン等のトリアリールホスフィン類、ジフェニルプロピルホスフィン、フェニルジプロピルホスフィン等の第3級アルキルアリールホスフィン類が挙げられる。また、ホスファイトの例としては、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス(o−ターシャリーブチルフェニル)ホスファイト等の立体障害により加水分解性の低いホスファイト類が挙げられる。また、ホスフィンとホスファイトの混合物であってもよい。好ましくはトリアリールホスフィン、特に好ましくはトリフェニルホスフィンである。
【0013】
反応溶媒としては、オレフィン自身を溶媒としても良いし、生成アルデヒドや副生する高沸点生成物を使用することもできる。その他、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、2ーエチルヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類、トリグライム等のエーテル類、ジオクチルフタレート等のエステル類等、触媒を溶解し、反応に悪影響を与えない各種の溶媒が使用可能である。ヒドロホルミル化反応後、未反応ガスによるストリッピングあるいは蒸留等の手段で粗生成物を分離し、触媒は反応域に残留させたまま、あるいは一旦取り出してから反応域に再循環して反応に用いられる。何れの方法においても、失活した触媒金属あるいは高沸点物等の副生物の蓄積を避けるため、触媒を含有する廃触媒液が間欠的または連続的に反応域外に抜き出される。本発明は、ヒドロホルミル化反応工程から分離される、この様なロジウム含有液に適用される。
【0014】
ヒドロホルミル化工程から分離されたロジウム含有液には、原料、反応生成物及び副生物、反応溶媒等の任意の割合からなる溶液中にロジウムが溶解している。本発明方法は、生成アルデヒドを含有した反応液にも適用できるが、好ましくは、ストリッピングあるいは蒸留により実質的に全てのアルデヒドを留去した後の触媒液、さらには反応溶媒あるいは高沸点副生物を濃縮した後の触媒液、これら触媒液から配位子あるいは金属錯体を1部除去した後の残金属含有液等に適用される。より好ましくは、生成アルデヒド及び配位子を除いた溶液である。ロジウムの濃度は、特に限定されるものではないが、好ましくは、10から10,000ppm、より好ましくは50から1,000ppmである。
通常、ストリッピング或いは蒸留により実質的に全てのアルデヒドを留去した後の触媒液、さらには反応溶媒或いは高沸点副生物を除去した後の触媒液、又はこれら触媒液から配位子或いは金属錯体を一部除去した後の残金属含有液(以下これらを「抜出し触媒液」と称す)には、少量のヒドロホルミル化の反応溶媒などの低沸点成分が含有されている。この様な低沸点成分を少量含有する抜出し触媒液を、触媒回収工程に供給し、酸化処理される場合には、酸化処理条件によってこの低沸点成分が爆鳴気を形成する。特に、前工程における設備故障や誤操作で低沸点成分濃度が上昇する場合には、酸化処理時に爆鳴気の形成を引き起こす危険が大きい。
【0015】
低沸点成分が爆鳴気を形成する条件は、酸化処理の温度、圧力、酸化剤の種類によって異なるが、その条件下における低沸点成分の気相濃度とその低沸点成分の爆発限界範囲の関係で決まる。従って、次工程へ供給するロジウム含有液(抜出し触媒液)中の低沸点成分含有量を極力減少させることが不可欠である。抜出し触媒液中の低沸点成分の許容濃度は、低沸点成分毎に固有のものである。
低沸点成分を減少させる方法としては、蒸留又は単蒸留が採用される。即ち、抜き出し触媒液を酸化処理工程へ供給する直前に低沸点成分蒸留塔を設け、塔頂より低沸点成分を留去し塔底液を酸化処理工程へ供給する。この際、塔底液中の低沸点成分濃度を検知し、酸化処理工程に供給されるロジウム含有液が、酸化処理の際、爆鳴気を形成させ得る量の低沸点成分を含有している場合は、供給を停止させる手段を講じることも必要である。塔底液の低沸点成分濃度を監視する手段としては、直接的、間接的に濃度を検出する手段のいずれでも良いが、応答時間遅れが小さく信頼性も高い温度計を間接的濃度検出計として用いることが好ましい。具体的には、塔底液中の残留低沸点成分濃度と塔内温度の関係を予め測定しておき、塔内温度下限値で、次の酸化処理工程への供給系統に設置した遮断弁を制御する回路を設ける方法が挙げられる。
【0016】
ヒドロホルミル化工程から分離されたロジウム含有液(塔底液)は、次工程へ供給され、促進剤を含有する水性媒体の存在下で酸化処理される。ここに促進剤とは、ロジウムを酸化処理して水相中に抽出する反応を促進する水溶性の物質であって、カルボン酸、アミン又はアミン塩、アンモニア又はアンモニウム塩、無機酸又は無機酸塩等が使用される。
具体的には、カルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、マロン酸、リンゴ酸、グリコール酸、乳酸、ヒドロキシ酪酸等のモノ又はジカルボン酸あるいはその混合物等である。
水性媒体中のカルボン酸の濃度は5〜50重量%、好ましくは20〜40重量%である。
【0017】
促進剤として使用されるアミンとしては、水性媒体に溶解する脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環アミンが使用される。これらアミンの中、好ましくはロジウム含有液と接触させた時、水溶液中への分配が大きいアミンであり、窒素上の置換基にヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基等の極性官能基を有するアミンが好ましい。特に好ましくはアルカノールアミン類やジアミン類である。アルカノールアミン類の具体例としては、例えば、メタノールアミン、エタノールアミン、プロパノールアミン、ブタノールアミン、ジメタノールアミン、ジエタノールアミン、ジプロパノールアミン、トリメタノールアミン、トリエタノールアミン、トリプロパノールアミン等である。ジアミン類の具体例としては、例えば、エチレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミン等である。上記の脂肪族アミンの他、本発明において用いることができるアミンの例としては、アニリン等の芳香族アミン、ピリジン、ピロール、イミダゾール、オキサゾール等の複素環アミンが挙げられる。
【0018】
アミン塩としては、上記アミンの有機酸塩、無機酸塩から選ぶことができる。有機酸塩としては脂肪族のモノまたはジカルボン酸の塩あるいは芳香族のカルボン酸の塩である。適用できるカルボン酸は、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、オクチル酸、シュウ酸、マロン酸、リンゴ酸、グリコール酸、乳酸、ヒドロキシ酪酸など炭素数2〜8個のモノあるいはジカルボン酸である。無機酸塩としては硫酸、硝酸等の塩である。また、アミン塩は系内で生成させることも可能である。例えば、上記の酸とアミンを別々に加え系中で調製したり、ヒドロホルミル化反応溶液中に既に有機酸、無機酸が存在する場合にはアミンを加え塩を生成させることができる。水性媒体中のアミンあるいはアミン塩の濃度は0.01〜10mol/L、好ましくは0.1〜5mol/Lである。
【0019】
促進剤として使用されるアンモニウム塩としては、水性媒体に溶解する有機酸塩、無機酸塩から選ぶことができる。
有機酸塩としては、前述のアミン塩の場合と同様の有機酸の塩が挙げられる。無機酸塩としては、硫酸、硝酸、塩酸、炭酸、ほう酸、あるいはリン酸の塩が挙げられる。
水性媒体中のアンモニア又はアンモニウム塩の濃度は0.01〜10mol/L、好ましくは0.1〜5mol/Lである。アンモニアはアンモニア水でもガス状でのフィードでもよく、併用も可能である。また、アンモニウム塩は、酸とアンモニアから系中で生成させてもよい。
【0020】
無機酸又は無機酸塩としては硫酸、硝酸、塩酸、炭酸、ほう酸あるいはリン酸及びそのアルカリ金属塩が挙げられる。好ましくは硫酸塩又は炭酸塩である。水性媒体中の無機酸塩濃度は0.01〜10mol/L、好ましくは0.1〜5mol/Lである。
而して、これら促進剤の存在下、酸化処理してロジウムを抽出した水相中には、通常、促進剤が残存している。そして、促進剤の種類によっては、後工程で、非水溶性第3級有機リン化合物の有機溶媒溶液を用いて水相からロジウムを有機溶媒相に抽出する際、ロジウム錯体の回収率を低下させるので、残存量に注意を要する。この様な系にはカルボン酸を添加することにより、水相からロジウムを有機溶媒相へ抽出する際の回収率を向上させることができる。
上述の促進剤の中、好ましい促進剤はカルボン酸、特に、炭素数2〜4のカルボン酸である。具体的には酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸が好ましく、特に好ましいのは酢酸である。
促進剤を含有する水性溶液の使用量は処理されるロジウム含有液に対し、0.1〜10容量倍、好ましくは0.5〜4容量倍である。
【0021】
酸化処理は、酸化剤と接触させることにより実施される。酸化剤としては、過酸化水素等の無機過酸化物、t−ブチルパーオキサイド、オクテンパーオキサイド等の有機過酸化物、あるいは酸素又は酸素含有ガスから選ばれる。好ましくは、過酸化水素、あるいは酸素又は酸素含有ガス、特に好ましくは、酸素含有ガスである。酸素含有ガスの酸素濃度は任意に選ぶことができ、酸素を不活性ガスで希釈したものが使用できる。工業的には、空気が使用される。
酸素含有ガスのフィード形式は特に限定されるものではなく、バッチ方式、連続方式のいずれでもよい。必要酸素量はロジウム含有液中のロジウム、配位子、あるいは有機物等の酸化されるものの量によって決まるので、これらに対して過剰量あればよい。ただし、回収率は酸素の全体量だけでなく分圧にも依存するため加圧系が好ましい。その圧力はガス中の酸素濃度等の条件によって変わるが、例えば、空気の時は1〜150kg/cm2 G、好ましくは10から100kg/cm2 Gである。
【0022】
酸化剤処理は、ロジウム含有液と促進剤含有水性媒体を充分な攪拌状態で60〜160℃、好ましくは80〜150℃、より好ましくは100℃〜140℃で接触させることにより実施される。
反応方式は特に限定されるものではなく、バッチ式でも連続式でもよい。また、一度ロジウムを水相に抽出し、相分離した後の有機相を、再度促進剤を含有した水性媒体と接触させ、繰り返し酸化処理することも可能であり、ロジウムの回収率を向上させるために有効である。
【0023】
酸化剤処理におけるロジウム回収の機構に関して詳細は明らかではないが、以下のように考えられる。すなわち、酸化処理によって溶液中に存在する錯形成性配位子と結合したロジウム種から上記配位子を脱離させ、かつロジウムの酸化状態を増加させることにより、水相への溶解性を向上させる。この酸化処理の際に、有機相が単独で存在する場合に比べ、水性媒体が系中に同時に存在することにより、酸化されたロジウム種が水相へ移行するために、より効率的に酸化反応が進行すると考えられる。
【0024】
酸化処理後、ロジウムを含有する水相を分離して得られた水溶性ロジウム化合物は、直接、或いは適宜活性化した後触媒としてヒドロホルミル化工程へ循環される。好ましくは、ロジウムを含有す水相は、次の錯体調製工程へ供給し、一酸化炭素を含むガス雰囲気で非水溶性第3級有機リン化合物を含有する有機溶媒と接触させる。
非水溶性第3級有機リン化合物としては、使用する水溶液への溶解度が低く、有機溶媒に対する溶解度の高いものであれば良い。これらの第3級有機リン化合物としてはホスフィン、ホスファイトが挙げられる。好ましいホスフィン化合物としては、トリフェニルホスフィン、トリトルイルホスフィン、トリキシリルホスフィン等のトリアリールホスフィン、あるいはプロピルジフェニルホスフィン、ジプロピルフェニルホスフィン等のアルキルアリールホスフィン、またトリブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリベンジルホスフィンなどのアルキルホスフィンである。また、好ましいホスファイト化合物としては、トリフェニルホスファイト等のトリアリールホスファイト、トリス(o−ターシャリーブチルフェニル)ホスファイト等の立体障害により加水分解性のないホスファイト類が挙げられる。またこれらホスフィン、ホスファイト化合物の混合物であっても差し支えない。更に、ロジウム錯体溶液を触媒として用いる反応に非水溶性第3級有機リン化合物を用いる場合には、これと同じ有機リン化合物を用いるのが好ましい。非水溶性第3級有機リン化合物の有機溶媒中の濃度は0.1〜50重量%、好ましくは0.5〜30重量%である。
【0025】
有機溶媒としては、ロジウムを含有する水相と2相を形成し、第3級有機リン化合物及び生成する錯体を溶解できるものであればよく、具体的には、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族飽和炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素、ヘキセン、オクテン、ノネン等の脂肪族不飽和炭化水素、酢酸エチル等のエステル、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ブチルアデヒド、バレルアルデヒド、ノニルアルデヒド、デシルアルデヒト等のアルデヒド類及びそれらの混合物が挙げられる。またヒドロホルミル化反応の溶媒、反応混合液、又はその濃縮物も使用できる。好ましくはヒドロホルミル化反応の溶媒(反応液)又は芳香族炭化水素である。ロジウム含有水相と有機リン含有溶液の接触は、水相/油相(有機相)の体積比が0.1〜10、好ましくは1〜5の範囲で実施される。
【0026】
接触は一酸化炭素雰囲気下、好ましくは一酸化炭素及び水素ガス雰囲気下で行われる。水素と一酸化炭素ガスの体積比は0.1〜10の間で任意の範囲から選ばれ、好ましくは、水素と一酸化炭素の混合比が1:1の水性ガスがよい。水性ガスの圧力は常圧〜300kg/cm2 G、好ましくは5〜100kg/cm2 G、更に好ましくは10〜50kg/cm2 Gである。
この場合の一酸化炭素ガスの作用は明らかではないが、水相中のロジウムを有機溶媒へ溶解しやすい錯体への変換を促進しているものと考えられる。即ち、水溶性のロジウム化合物は3価のロジウム化合物が多いが、一酸化炭素ガスにより還元されて1価のロジウム錯体となること及び一酸化炭素の配位によりカルボニル錯体を生成することにより有機溶媒への溶解を促進し抽出率を向上させると考えられる。また、一酸化炭素ガス下の処理により、ヒドロホルミル化反応触媒としても活性が良好な錯体を得ることができる。
【0027】
カルボニル錯体調製温度は、常温から200℃、好ましくは80から150℃、更に好ましくは120から140℃である。処理時間は特に限定されるものではなく、有機溶媒中にロジウムが充分に抽出される時間、通常、0.5〜2時間である。
反応形式は回分式でもガスだけを流通させる半回分式あるいは連続式の何れでも差し支えない。また本反応は、気−液(水)−液(油)の3相系の反応であるためこれら3相の接触を充分に行わせることが必要である。3相の接触が充分に行われるならば、攪拌槽、充填式又は段塔式の向流又は並流連続抽出塔、スタティックミキサー等何れの反応器を用いてもかまわない。
一酸化炭素ガス下で処理した後、相分離により、水相を分離したロジウム錯体を含有する有機溶媒相は、そのまま、触媒としてヒドロホルミル化工程に循環することも出来るが、酸化処理時に使用した促進剤の残存量が多いと、触媒活性が低下するので、ヒドロホルミル化工程に循環する前に、促進剤を除去することがこのましい。促進剤の除去方法としては、除去剤として水を用いた抽出(以下水洗と称す)が好ましく、バッチ式或いは連続式のいずれでも良い。又2相(油ー水)の接触が十分に行えるならば、撹拌槽、充填式混合機、向流塔又はスタティックミキサーなど如何なる方法を用いても良い。水洗処理時の水油比は、通常0.5から10の間で選ばれる。促進剤除去の観点からは水油比は大きい方が好ましいが、水溶性促進剤を含有する廃水の減少を考慮すると、好ましくは、0.5から1の範囲である。
一方、有機溶媒相を分離した後の水相は促進剤を含有しており、酸化処理工程に循環再使用することができる。この際、全量再使用してもよいが、好ましくない成分の蓄積を防止するため、連続的又は間欠的に1部をパージしてもよく、促進剤の濃度を一定に保つため促進剤を補給してもよい。
【0028】
【実施例】
以下、本発明を実施例により、より詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に制約されるものではない。
実施例1
以下のプロセスシュミレーションを行った。
ヒドロホルミル化反応工程から分離した抜出し触媒液に相当する有機液を、図1の装置を用いて蒸留した。図1に於いて、管路(1)から下記組成の液を、20kg/hで蒸留塔(3)へ導入した。
【0029】
【表1】
【0030】
蒸留塔(3)は、3段の理論段を有し、塔頂圧力は100mmHgの真空蒸留で、還流比は1である。塔頂より留出するトルエンは、コンデンサ(4)、で凝縮後、還流槽(5)に導かれ、1部は還流として蒸留塔(3)に戻され、残部は管路(2)から系外へ留去される。塔底液は管路(6)より、酸化工程へ供給される。ここで塔底液に残留するトルエン(TL)濃度と塔底温度の関係は以下となった。
【0031】
【表2】
【0032】
一方、次の酸化抽出工程を以下の条件で行った時、
【0033】
【表3】
【0034】
LeChatelier の法則によって導かれた混合物の爆発下限界可燃物濃度と気相中の可燃物濃度の関係は以下の通りである。
【0035】
【表4】
【0036】
この様に抜出触媒液中のトルエン濃度が9重量%となると酸化抽出工程の気相中の可燃物濃度が爆発下限界可燃物濃度を越える。この場合、塔底に設置した温度スイッチ(7)の塔底温度下限値を120℃に設定した原料遮断回路(8)を設け、この遮断回路が作動して遮断弁(9)が閉じ、酸化抽出工程への供給を遮断する。この遮断回路によって、酸化抽出回路に供給されるトルエン量が制限され、常に混合物の爆発下限界可燃物濃度以下となる。
【0037】
実施例2
実施例1のトルエンの代わりにイソプロパノールを含有する有機液を用い、蒸留圧力を常圧とした以外、実施例1と同一条件で有機液を蒸留した場合の塔底液に残留するイソプロパノール(IP)濃度と塔底温度の関係は以下のとおりであった。
【0038】
【表5】
【0039】
実施例1と同じ酸化抽出工程の条件で、LeChatelierの法則によって導かれた混合物の爆発下限界可燃物濃度と気相中の可燃物濃度の関係は以下の通りである。
【0040】
【表6】
【0041】
この様に抜出触媒液中のイソプロパノール濃度が11重量%となると酸化抽出工程の気相中の可燃物濃度が爆発下限界可燃物濃度を越える。この場合、塔底に設置した温度スイッチ(7)の塔底温度下限値を120℃に設定した原料遮断回路(8)を設け、この遮断回路が作動して遮断弁(9)が閉じ、酸化抽出工程への供給を遮断する。
【0042】
【発明の効果】
本発明によれば、ロジウムを触媒とするヒドロホルミル化反応によりアルデヒドを製造する方法に於いて、ヒドロホルミル化反応液から分離した廃触媒等から、安全に且つ、効率よくロジウムを回収して、触媒として再使用することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明実施例で使用するヒドロホルミル化反応液から分離したロジウム含有液から低沸点成分を除去する蒸留塔と、該蒸留塔塔底液の低沸点成分濃度を検知し酸化抽出工程への供給を制御する回路を示す図
【符号の説明】
1 ロジウム含有液供給管
2 低沸点成分排出管
3 蒸留塔
4 コンデンサー
7 温度スイッチ
8 遮断回路
9 遮断弁
Claims (9)
- a)オレフィン性不飽和結合を有する化合物を、ロジウム錯体の存在下、一酸化炭素及び水素と反応させるヒドロホルミル化反応工程、
b)ヒドロホルミル化反応工程からロジウム含有液を分離し、ロジウム回収工程へ供給する工程、
c)b工程から供給されるロジウム含有液中のロジウムを、促進剤の存在下、酸化する処理を経由して回収し、触媒としてヒドロホルミル化反応工程へ循環再使用する工程、を包含するアルデヒドの製造方法において、b工程が、ヒドロホルミル化反応工程から分離したロジウム含有液から低沸点成分を除去する手段並びにc工程に供給するロジウム含有液中の低沸点成分濃度を検知してロジウム含有液の供給を制御する手段を有することを特徴とするアルデヒドの製造方法。 - c工程が、下記cー1、cー2及びcー3工程で構成されることを特徴とする請求項1記載のアルデヒドの製造方法。
cー1)b工程から供給されたロジウム含有液を、促進剤を含有する水性媒体の存在下、酸化処理してロジウムを水相中に抽出した後、水相と有機相を分離するロジウム酸化抽出工程、
cー2)cー1工程で分離されたロジウムの水溶性化合物を含有する水相を、一酸化炭素含有ガス雰囲気で、非水溶性第3級有機リン化合物の有機溶媒溶液と接触させ、水相中のロジウムを第3級有機リン化合物錯体として有機溶媒中に抽出した後、有機相と水相を分離するカルボニル錯体調製工程、
cー3)cー2工程で分離されたロジウム−第3級有機リン化合物錯体を含有する有機相をヒドロホルミル化工程に循環する工程、 - cー2工程で分離されたロジウムー第3級有機リン化合物錯体を含有する有機相から促進剤を除去した後ヒドロホルミル化工程に循環することを特徴とする請求項2記載のアルデヒドの製造方法。
- cー2工程で分離された促進剤を含有する水相を、cー1工程に循環することを特徴とする請求項2又は3記載のアルデヒドの製造方法。
- b工程において、ヒドロホルミル化反応工程から分離したロジウム含有液を蒸留塔で蒸留して低沸点成分を除去すると共にロジウムを含有する蒸留塔塔底液温度を検知して、c工程へ供給する塔底液を制御することを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載のアルデヒドの製造方法。
- 促進剤が炭素数2〜4のカルボン酸であることを特徴とする請求項1乃至5の何れかに記載のアルデヒドの製造方法。
- 促進剤がアンモニア或いはアンモニウム塩であることを特徴とする請求項1乃至5の何れかに記載のアルデヒドの製造方法。
- 促進剤がアミン又はアミン塩であることを特徴とする請求項1乃至5の何れかに記載のアルデヒドの製造方法。
- 酸化処理に酸素或いは酸素含有ガスを使用することを特徴とする請求項1〜8の何れかに記載のアルデヒドの製造方法。
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