JP3779087B2 - キシレノール異性体の分離精製方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、医薬や農薬の中間体として有用な、少なくとも１種のキシレノール異性体の分離精製方法に関し、さらに詳しくはゲスト化合物である特定の少なくとも１種のキシレノール異性体に対し、選択的にホストゲスト錯体（以下単に錯体という）を形成するホスト化合物として１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンを用いることによって、前記特定のキシレノール異性体と少なくとも１種の他の有機物とを含む混合物中から特定のキシレノール異性体を分離精製する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
特定のキシレノール異性体の１種を、それ以外のキシレノール異性体１種またはそれ以上および／または非キシレノール有機物１種またはそれ以上と共に含む混合物から、前記特定キシレノール異性体を分離精製するために、例えば、単純に再結晶により特定のキシレノール異性体を精製する方法、特開昭６４−３１３６号公報や特開平０１−２２８３２号公報に示されるように、２，４−キシレノールと２，５−キシレノールとの混合物から２，５−キシレノールをアルデヒド類と選択的に反応させて、２，５−キシレノールを除く方法、特開平０８−２６８９４２号公報に示されるように吸着分離により各キシレノール異性体を分離する方法、特開昭６４−３１３７号公報に示されるように、２，４−キシレノールをジアミン化合物との錯体形成により２，４−キシレノールを選択的に回収する方法など、さまざまな方法が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の単純な再結晶による分離では、結晶性の高い２，５−キシレノールでは分離精製が可能であるが、結晶性の低い２，４−キシレノールの分離精製は困難である。また、再結晶により微細結晶が発生した場合、工業的には濾過が困難となる。さらには得られる製品の純度も充分ではないと言う問題がある。
また、前記アルデヒド類と特定のキシレノール異性体との選択的反応を利用する方法では、２，４−キシレノールの精製のみが可能であり、２，５−キシレノールはアルデヒドと反応して副生成物として失われてしまうと言う問題がある。
【０００４】
前記吸着分離法の場合には、各異性体の回収は可能であるが、その工業的な方法であるクロマト分取、あるいはこれを連続化した擬似移動床による分離精製のためには、複雑で高価な専用設備が必要であり、多大な費用が発生すると言う問題がある。
また、ジアミン化合物との錯体形成を利用する方法では、ジアミン化合物と錯体を形成する２，４−キシレノールの分離精製は可能であるが、他のキシレノール異性体の分離精製は困難となる。また、毒性の高いジアミン化合物を使用せねばならないという問題がある。
従って本発明の目的は上記従来技術の問題点を解決し、簡単な手段で、特定キシレノール異性体を高純度で分離精製する方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、少なくとも１種の特定のキシレノール異性体と該特定のキシレノール異性体以外のキシレノール異性体を含む混合物を、ホスト化合物である１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンと接触させて、ゲスト化合物である前記特定のキシレノール異性体と上記ホスト化合物との錯体を生成させ、該錯体から前記特定のキシレノール異性体を分離することを特徴とするキシレノール異性体の分離精製方法を提供する。
【０００６】
本発明者らはフェノール系化合物の分離技術として知られている錯体を利用した分離精製方法に着目して鋭意研究を行った結果、１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンが、キシレノール異性体を、その濃度に従って選択的に包接することを見出して本発明を完成させた。
【０００７】
【発明の実施の形態】
次に好ましい実施の形態を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。
本発明を適用する少なくとも１種の特定のキシレノール異性体と該特定のキシレノール異性体以外のキシレノール異性体を含む混合物は、タール蒸留より得られる混合石炭酸、石炭ガス化時に生じる油状成分、石油精製過程で除去される酸性油成分、クレゾールのメチル化反応生成物、あるいはこれらの分留成分などとして入手することができる。
【０００８】
また、本発明方法でホスト化合物として用いる１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンは、シクロヘキサンとフェノールから工業的に製造されており、容易に入手することができる。その製造法の詳細は、例えば、特開昭６２−２６３１３５号公報に記載されている。この化合物は常温で白色固体の結晶であり、融点は１７５℃以上である。
【０００９】
本発明の対象となる原料混合物は、２種類以上のキシレノール異性体を含む混合物である。
【００１０】
従って、本発明の方法を適用しうる原料混合物中には、少なくとも１種のキシレノール異性体のほかに、他の有機物として他のキシレノール異性体を含む。これらの他の有機物の濃度は、合計で通常５０重量％以下、好ましくは２５重量％以下、特に好ましくは１０重量％以下である。
【００１１】
６種類存在するキシレノールの異性体のうち、２，４−キシレノールと２，５−キシレノールとは、とりわけそれらの沸点が近く、蒸留によっては極めて分離しにくい異性体である。本発明の方法は、このような従来の方法では成分の分離が困難な混合物に対して特に有用であるので、以下２，４−キシレノールと２，５−キシレノールとの混合物の場合を代表例としてさらに詳しく説明する。
【００１２】
原料混合物が、２，４−キシレノールと２，５−キシレノールとの両者を含む混合物の場合、２，４−キシレノールの分離精製を目的とする場合の混合物中の２，４−キシレノールの濃度は、通常キシレノール全量の７５モル％超、好ましくは８５モル％以上が適当である。２，５−キシレノールの分離精製を目的とする場合の混合物中の２，５−キシレノールの濃度は、通常キシレノール全量の２５モル％以上、好ましくは５０モル％以上、特に好ましくは８０モル％以上が適当である。
【００１３】
また、原料混合物の大部分が２，４−キシレノールおよび２，５−キシレノールであるときは、２，４−キシレノール濃度がキシレノール全量の約７５モル％、且つ２，５−キシレノール濃度がキシレノール全量の約２５モル％という組成を境に、より２，４−キシレノールの濃度が高い場合には、ホスト化合物によって２，４−キシレノールが選択的に包接分離され、約２５モル％より２，５−キシレノール濃度が高い場合には、ホスト化合物によって２，５−キシレノールが選択的に包接分離される。この選択性の逆転は２，４−キシレノールと２，５−キシレノールとの量比に対して敏感に起こるため、本発明方法は２，４−キシレノールと２，５−キシレノールとの混合物からそれらのキシレノール異性体を分離精製するのに特に有効である。
さらに、２，５−キシレノールは原料混合物中のその濃度が比較的低い場合、例えば、２５〜６０重量％程度であっても、ホスト化合物によって選択性よく包接分離されるため、本発明方法は２，５−キシレノールの分離精製に特に有効である。
【００１４】
本発明方法において、前記キシレノールと前記ホスト化合物から錯体を形成させるには、通常は原料となるキシレノール異性体混合物と、前記ホスト化合物とを混合し、加熱溶解して均一な溶液とした後、冷却して生成した錯体を析出させる。この錯体形成は、錯体の結晶形状や生成速度を調節したり、錯体の回収操作を容易にするために、溶媒の存在下に行うことが好ましいが、原料混合物が液体である場合や原料混合物を加熱融解した場合など、特に溶媒を必要としない場合は無溶媒で行うこともできる。
【００１５】
錯体形成時に使用する溶媒としては、ホスト化合物によって包接分離されずに残った原料成分をよく溶解し、且つ熱時にはホスト化合物を溶解するが、冷時にはホスト化合物を溶解しないものが好ましい。例としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類、アセトン、ブタノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、オクタン、デカン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類、あるいはこれらの混合物などが挙げられる。これらの溶媒の使用量は任意であるが、一般的には原料混合物１００重量部当たり約１〜１００重量部の範囲であることが望ましい。
【００１６】
錯体形成時における原料混合物とホスト化合物との混合割合は、特に制限されないが、極端に原料混合物の割合が大きい場合には、処理した原料混合物に対する分離されたキシレノール異性体の割合が小さくなり、分離精製方法が非効率となる。また、原料混合物に対して極端にホスト化合物の割合が大きい場合には、使用するホスト化合物に対する分離されたキシレノール異性体の割り合いが小さく、分離精製方法が非効率であり、包接の選択性も低下する。従って、原料混合物とホスト化合物を極端に高いまたは低い比率で使用することは好ましくない。ホスト化合物の適当な混合割合は、分離すべきキシレノール異性体１モル当たり、ホスト化合物０．０５〜１０モル、好ましくは０．２〜２モルの範囲である。
【００１７】
本発明において、錯体形成時に原料混合物とホスト化合物とを混合し、加熱溶解する温度は、混合物が均一な溶液となり、分離すべきキシレノール異性体やホスト化合物が著しく揮散しない範囲であれば特に支障がないが、通常４０〜２００℃、好ましくは８０〜１６０℃の範囲が適当である。また、錯体形成時に錯体を析出させる温度は、使用する原料混合物、溶媒などの条件により異なるが、通常は室温でよい。必要に応じて、錯体の回収量を高めるために強制冷却や冷媒による冷却により室温以下の温度としてもよく、また、工程の簡略化のために、充分な錯体の回収量が得られる範囲内で室温以上の温度としてもよい。錯体形成時の操作圧力は通常大気圧でよい。使用する溶媒の沸点によっては加圧あるいは減圧条件とすることもできる。
【００１８】
錯体形成時の雰囲気は、使用する原料混合物、ホスト化合物、溶媒、あるいは回収するキシレノール異性体の品質を損なわない程度に不活性である必要があるが、通常は空気雰囲気でよい。必要に応じて窒素、炭酸ガス、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気とすることもできる。錯体形成に要する時間は、実施するスケール、使用する装置、加熱、冷却条件などにより異なるが、おおむね１０分間〜４８時間程度である。
【００１９】
錯体形成を行う方法の例としては、上記以外にも、原料混合物とホスト化合物とを溶媒に溶解した後、溶媒の一部を蒸留などにより除去して錯体を析出させる方法、原料混合物とホスト化合物とを溶媒に溶解した後、冷却して錯体を析出させる方法、原料混合物とホスト化合物を良溶媒に溶解した後、貧溶媒を加えて錯体を析出させる方法、原料混合物とホスト化合物とを良溶媒と貧溶媒との混合物に溶解した後、良溶媒を蒸留などにより除去して錯体を析出させる方法、原料混合物が液体である場合には、ホスト化合物を原料混合物に溶解させた後、冷却や貧溶媒の添加により錯体を析出させる方法などを挙げることができる。
【００２０】
本発明方法で析出した錯体を固液分離するには、濾過またはデカンテーションによればよく、通常用いられる自然濾過、吸引濾過、加圧濾過、遠心濾過、フィルタープレス、スクリュープレス、遠心分離、遠心デカンテーションなどの手法を用いることができる。分離後に得られた錯体は、包接分離されずに残った原料成分を除去して、回収されるキシレノール異性体の品質を向上させるために、必要に応じて溶媒により洗浄を行うことが望ましい。洗浄用の溶媒は錯体形成時と同様のものが使用できる。固液分離の雰囲気は通常は空気雰囲気でよい。必要に応じて窒素、炭酸ガス、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気とすることもできる。
【００２１】
本発明方法で特定のキシレノール異性体を含んだ錯体から、そのキシレノール異性体を回収するには当該錯体を加熱することにより分解し、含まれているキシレノール異性体を気化および回収する方法が簡便である。このキシレノール異性体の回収のための熱分解は、錯体が分解してキシレノール異性体を放出し、ホスト化合物自体の熱分解が生じない温度領域で行うことが望ましい。適当な温度範囲は通常１００〜２５０℃、好ましくは１５０〜２００℃である。
【００２２】
このキシレノール異性体回収のための錯体の熱分解は、適当な条件下で行い、放出されるキシレノール異性体を、錯体の熱分解と同時に蒸留回収することができる。また、ホスト化合物である１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンは、キシレノール異性体回収後の熱分解残渣として回収され、特に精製操作を行うことなく再使用することができる。
【００２３】
さらに、錯体からキシレノール異性体を回収する方法として、キシレノール異性体よりもホスト化合物と錯体を作りやすい化合物を、キシレノール異性体の脱着剤として添加し、ゲストとして錯体中に包接されているキシレノール異性体を、添加した脱着剤により置換してキシレノール異性体を液相へ移し、その後、脱着剤とホスト化合物との錯体を固液分離することで、濾液中にあるキシレノール異性体を回収する方法を挙げることができる。
添加する脱着剤の例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｔ−ブタノールなどのアルコール類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリルなどが挙げられる。これらの脱着剤は、錯体形成時と同様の溶媒で希釈して用いることができる。
【００２４】
この脱着剤による錯体中のキシレノール異性体の置換は、脱着剤またはその溶液により、キシレノール異性体をゲストとして含む錯体を洗浄および濾過することにより行うことができる。洗浄は、機械的攪拌を加えてもよいし、錯体を静置したまま、リンシングによって行なってもよい。また、錯体を脱着剤またはその溶液中で再結晶をすることによっても、錯体中のキシレノール異性体を脱着剤と置換してキシレノール異性体を放出させることができる。
【００２５】
この脱着剤によるキシレノール異性体の回収を行った場合には、ホスト化合物は、脱着剤をゲストとして含む［脱着剤／ホスト化合物］錯体として回収される。この錯体は別途加熱により分解し、脱着剤を放出させることで、ホスト化合物を再生することができる。また、脱着剤として低沸点の化合物を用いた場合には、脱着剤とホスト化合物との錯体の形成時に充分に加熱することにより、脱着剤は錯体から分離して蒸留除去されるため、特に再生操作を行わずとも、ホスト化合物を再生することができる。
【００２６】
【実施例】
次に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。尚、文中の「％」とあるのは特に断りのない限り重量基準である。
実施例１
１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン１．０ｇと、２，４−キシレノール１０．７％、２，５−キシレノール８５．８％、その他３．５％からなる混合キシレノール１．０ｇと、溶媒としてメシチレン２０ｇとを混合し、１５０℃に加熱して溶解させ、均一な溶液とした。この溶液を室温で６時間放置して錯体を析出させた。これを吸引濾過し、錯体をトルエンおよびヘキサンで充分に洗浄した後、風乾して錯体１．３８ｇを得た。この錯体を２００℃／２０ｔｏｒｒの条件下に加熱したところ、０．３４ｇのキシレノールが回収された。この回収キシレノールの組成を、ガスクロマトグラフを用いて分析したところ、２，５−キシレノール９９．５％以上であり、２，４−キシレノールは検出されなかった。
【００２７】
実施例２
１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン１．０ｇと実施例１と同じ混合キシレノール１．０ｇとを混合し、１６０℃に加熱して融解させて均一相とした。この混合物を室温で６時間放置して固化させた。得られた固体をトルエンで十分洗浄した後、吸引濾過し、さらにヘキサンで洗浄し、風乾して錯体１．３８ｇを得た。この錯体を２００℃／２０ｔｏｒｒの条件下に加熱したところ、０．３３ｇのキシレノールが回収された。この回収キシレノールの組成をガスクロマトグラフを用いて分析したところ、２，５−キシレノール９９．５％以上であり、２，４−キシレノールは検出されなかった。
【００２８】
実施例３〜６
実施例１と同様の原料、溶媒および操作条件において、使用する混合キシレノールの量のみを変化させて試験を行った。試験条件と結果を表１に示す。表中、２，４−体は２，４−キシレノールを、２，５−体は２，５−キシレノールを表す。尚、実施例１の試験条件と結果も同時に示す。
【００２９】
【表１】
表１：試験条件および結果（実施例１、実施例３〜６）
【００３０】
実施例７
１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン１．０ｇと、２，４−キシレノール８８．１％、２，５−キシレノール９．８％、その他２．１％からなる混合キシレノール１．０ｇと、溶媒としてデカン２０ｇとを混合し１５０℃に加熱して溶解させ、均一な溶液とした。この溶液を室温で６時間放置して錯体を析出させた。これを吸引濾過し、錯体をヘキサンで充分洗浄した後、風乾して錯体を１．３７ｇを得た。この錯体を２００℃／２０ｔｏｒｒの条件下に加熱したところ、０．３２ｇのキシレノールが回収された。この回収キシレノールの組成を、ガスクロマトグラフを用いて分析したところ、２，４−キシレノール９９．１％、２，５−キシレノール０．７％であった。
【００３１】
実施例８
原料として使用する混合キシレノールを、２，４−キシレノール７８．５％、２，５−キシレノールを１９．６％、その他１．９％の組成のものに変更した以外は実施例７と同様の条件および操作で試験を行ったところ、１．１８ｇの錯体が得られた。この錯体を実施例７と同様に処理したところ、０．１２ｇのキシレノールが回収され、２，４−キシレノールおよび２，５−キシレノール含有量は９５．１％、４．７％であった。
【００３２】
実施例９
１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン１．０ｇと、２，４−キシレノール６８．７％、２，５−キシレノール２９．４％、その他１．９％からなる混合キシレノール１．０ｇと、溶媒としてメシチレン２０ｇとを混合して、１５０℃に加熱して溶解させ、均一な溶液とした。この溶液を室温で６時間放置して錯体を析出させた。これを吸引濾過し、錯体をトルエンおよびヘキサンで充分に洗浄した後、風乾して錯体１．２８ｇを得た。この錯体を実施例７と同様に処理したところ、０．２３ｇのキシレノールが回収され、２，４−キシレノールおよび２，５−キシレノールの含有量は５．５％および９４．３％であった。
【００３３】
実施例１０〜１５
原料として使用する混合キシレノールを、各種組成のものに変更した以外は、実施例９と同様の条件および操作で試験を行った。試験条件と結果を表２に示す。表中の「Ｘｙ」はキシレノールを、２，４−体は２，４−キシレノールを、２，５−体は２，５−キシレノールを表す。また、実施例７〜１５で使用した混合キシレノール中の２，５−キシレノールの含有量と、そこで得られた回収キシレノール組成との関係を図１に示す。
【００３４】
【表２】
表２：試験条件および結果（実施例７〜１５）
【００３５】
実施例１６
１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン１．０ｇと、２，３−キシレノール４９．２％、２，４−キシレノール４９．６％、その他１．２％からなる混合キシレノール１．０ｇと、溶媒としてデカン２０ｇとを混合し１５０℃に加熱して溶解させ、均一な溶液とした。この溶液を室温で６時間放置して錯体を析出させた。これを吸引濾過し、錯体をヘキサンで充分洗浄した後、風乾して錯体を１．１１ｇ得た。この錯体を２００℃／２０ｔｏｒｒの条件下に加熱したところ、０．１１ｇのキシレノールが回収された。この回収キシレノールの組成を、ガスクロマトグラフを用いて分析したところ、２，３−キシレノール８７％、２，４−キシレノール１３％であった。
【００３６】
実施例１７〜２３
原料として使用する混合キシレノールを実施例１１のように約１：１のキシレノール異性体組成で混合して調製し、混合するキシレノール異性体の種類を変化させ、溶媒はメシチレンではなくデカンを使用して実施例１６と同様の条件および操作で試験を行った。試験条件と結果を表３に示す。尚、実施例１１および実施例１６の結果も表３に示す。表中の「Ｘｙ」はキシレノールを、２，３−体は２，３−キシレノールを、２，４−体は２，４−キシレノールを、２，５−体は２，５−キシレノールを、２，６−体は２，６−キシレノールを、３，４−体は３，４−キシレノールを、３，５−体は３，５−キシレノールを表す。
【００３７】
実施例２４〜２９
原料として使用する混合キシレノールを実施例１１のように約１：１のキシレノール異性体組成で混合して調製し、混合するキシレノール異性体の種類を変えて実施例１６と同様の条件および操作で試験を行った。試験条件と結果を表３に示す。表中の「Ｘｙ」はキシレノールを、２，３−体は２，３−キシレノールを、２，４−体は２，４−キシレノールを、２，５−体は２，５−キシレノールを、２，６−体は２，６−キシレノールを、３，４−体は３，４−キシレノールを、３，５−体は３，５−キシレノールを表す。
【００３８】
【表３】
表３：試験条件および結果（実施例１１、実施例１６〜２９）
【００３９】
実施例３０
１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン１００．４ｇと、実施例１と同じ２，４−キシレノール１０．７％、２，５−キシレノール８５．８％、その他３．５％からなる混合キシレノール１０１．４ｇと、溶媒としてメシチレン４００ｇとを混合し、実施例１と同様の操作で、錯体１３８．８ｇを得た。この錯体のうちの５０．１ｇを採り、脱着剤であるｎ−ブタノール７５ｇを加えて３０分間攪拌して錯体中のキシレノールを脱着剤で置換した後、吸引濾過し、さらに［脱着剤／ホスト化合物］錯体をヘキサンで充分に洗浄した。この錯体を風乾して、［脱着剤／ホスト化合物］錯体４０．６ｇを回収した。得られた濾液、洗浄液は全て回収し、減圧下に濃縮、さらに減圧蒸留してキシレノール１１．５ｇを回収した。この回収キシレノールの組成をガスクロマトグラフで分析したところ２，５−キシレノールは９９．５％以上であり、２，４−キシレノールは検出されなかった。
【００４０】
実施例３１
実施例３０で回収した［脱着剤／ホスト化合物］錯体のうちの１５．０ｇと、実施例１と同じ混合キシレノール１５．０ｇと、溶媒としてメシチレン８０ｇとを混合し、メシチレンが沸騰するまで加熱し、均一な溶液とした。２０ｇの溶媒分を留出させた後、溶液を冷却し、室温で６時間放置して錯体を析出させた。この処理によって［脱着剤／ホスト化合物］錯体中の脱着剤がキシレノールによって置換された。ガスクロマトグラフ分析より、上記の留出させた溶媒分は２１．５％のｎ−ブタノールを含んでいた。得られた錯体を実施例１と同様に操作して、錯体１５．２ｇを得た。さらにこの錯体を、実施例１と同様に熱分解して、キシレノール４．３ｇを得た。この回収キシレノールの組成をガスクロマトグラフで分析したところ２，５−キシレノールは９９．５％以上であり、２，４−キシレノールは検出されなかった。
【００４１】
実施例３２
実施例３０で得られた錯体のうちの５０．２ｇを５００ｍｌビーカーに取り、このなかに、脱着剤としてのｉ−プロパノールとヘキサンの１対１重量混合物７５ｇを静かに加え、３０分間静置して錯体中のキシレノールを脱着剤で置換した後、吸引濾過し、さらに［脱着剤／ホスト化合物］錯体をヘキサンで充分に洗浄した。得られた濾液、洗浄液は全て回収し、減圧下に濃縮、さらに減圧蒸留してキシレノール１１．２ｇを回収した。この回収キシレノールの組成をガスクロマトグラフで分析したところ２，５−キシレノールは９９．５％以上であり、２，４−キシレノールは検出されなかった。
【００４３】
【発明の効果】
本発明の方法によれば、特定のキシレノール異性体を少なくとも１種の他のキシレノール異性体と共に含む混合物から、高純度で特定のキシレノール異性体を簡便に回収することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例７〜１５で使用された混合キシレノール中の２，５−キシレノールの含有量と、それらの実施例で回収されたキシレノールの組成との関係を示すグラフ。
【発明が属する技術分野】
本発明は、医薬や農薬の中間体として有用な、少なくとも１種のキシレノール異性体の分離精製方法に関し、さらに詳しくはゲスト化合物である特定の少なくとも１種のキシレノール異性体に対し、選択的にホストゲスト錯体（以下単に錯体という）を形成するホスト化合物として１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンを用いることによって、前記特定のキシレノール異性体と少なくとも１種の他の有機物とを含む混合物中から特定のキシレノール異性体を分離精製する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
特定のキシレノール異性体の１種を、それ以外のキシレノール異性体１種またはそれ以上および／または非キシレノール有機物１種またはそれ以上と共に含む混合物から、前記特定キシレノール異性体を分離精製するために、例えば、単純に再結晶により特定のキシレノール異性体を精製する方法、特開昭６４−３１３６号公報や特開平０１−２２８３２号公報に示されるように、２，４−キシレノールと２，５−キシレノールとの混合物から２，５−キシレノールをアルデヒド類と選択的に反応させて、２，５−キシレノールを除く方法、特開平０８−２６８９４２号公報に示されるように吸着分離により各キシレノール異性体を分離する方法、特開昭６４−３１３７号公報に示されるように、２，４−キシレノールをジアミン化合物との錯体形成により２，４−キシレノールを選択的に回収する方法など、さまざまな方法が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の単純な再結晶による分離では、結晶性の高い２，５−キシレノールでは分離精製が可能であるが、結晶性の低い２，４−キシレノールの分離精製は困難である。また、再結晶により微細結晶が発生した場合、工業的には濾過が困難となる。さらには得られる製品の純度も充分ではないと言う問題がある。
また、前記アルデヒド類と特定のキシレノール異性体との選択的反応を利用する方法では、２，４−キシレノールの精製のみが可能であり、２，５−キシレノールはアルデヒドと反応して副生成物として失われてしまうと言う問題がある。
【０００４】
前記吸着分離法の場合には、各異性体の回収は可能であるが、その工業的な方法であるクロマト分取、あるいはこれを連続化した擬似移動床による分離精製のためには、複雑で高価な専用設備が必要であり、多大な費用が発生すると言う問題がある。
また、ジアミン化合物との錯体形成を利用する方法では、ジアミン化合物と錯体を形成する２，４−キシレノールの分離精製は可能であるが、他のキシレノール異性体の分離精製は困難となる。また、毒性の高いジアミン化合物を使用せねばならないという問題がある。
従って本発明の目的は上記従来技術の問題点を解決し、簡単な手段で、特定キシレノール異性体を高純度で分離精製する方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、少なくとも１種の特定のキシレノール異性体と該特定のキシレノール異性体以外のキシレノール異性体を含む混合物を、ホスト化合物である１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンと接触させて、ゲスト化合物である前記特定のキシレノール異性体と上記ホスト化合物との錯体を生成させ、該錯体から前記特定のキシレノール異性体を分離することを特徴とするキシレノール異性体の分離精製方法を提供する。
【０００６】
本発明者らはフェノール系化合物の分離技術として知られている錯体を利用した分離精製方法に着目して鋭意研究を行った結果、１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンが、キシレノール異性体を、その濃度に従って選択的に包接することを見出して本発明を完成させた。
【０００７】
【発明の実施の形態】
次に好ましい実施の形態を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。
本発明を適用する少なくとも１種の特定のキシレノール異性体と該特定のキシレノール異性体以外のキシレノール異性体を含む混合物は、タール蒸留より得られる混合石炭酸、石炭ガス化時に生じる油状成分、石油精製過程で除去される酸性油成分、クレゾールのメチル化反応生成物、あるいはこれらの分留成分などとして入手することができる。
【０００８】
また、本発明方法でホスト化合物として用いる１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンは、シクロヘキサンとフェノールから工業的に製造されており、容易に入手することができる。その製造法の詳細は、例えば、特開昭６２−２６３１３５号公報に記載されている。この化合物は常温で白色固体の結晶であり、融点は１７５℃以上である。
【０００９】
本発明の対象となる原料混合物は、２種類以上のキシレノール異性体を含む混合物である。
【００１０】
従って、本発明の方法を適用しうる原料混合物中には、少なくとも１種のキシレノール異性体のほかに、他の有機物として他のキシレノール異性体を含む。これらの他の有機物の濃度は、合計で通常５０重量％以下、好ましくは２５重量％以下、特に好ましくは１０重量％以下である。
【００１１】
６種類存在するキシレノールの異性体のうち、２，４−キシレノールと２，５−キシレノールとは、とりわけそれらの沸点が近く、蒸留によっては極めて分離しにくい異性体である。本発明の方法は、このような従来の方法では成分の分離が困難な混合物に対して特に有用であるので、以下２，４−キシレノールと２，５−キシレノールとの混合物の場合を代表例としてさらに詳しく説明する。
【００１２】
原料混合物が、２，４−キシレノールと２，５−キシレノールとの両者を含む混合物の場合、２，４−キシレノールの分離精製を目的とする場合の混合物中の２，４−キシレノールの濃度は、通常キシレノール全量の７５モル％超、好ましくは８５モル％以上が適当である。２，５−キシレノールの分離精製を目的とする場合の混合物中の２，５−キシレノールの濃度は、通常キシレノール全量の２５モル％以上、好ましくは５０モル％以上、特に好ましくは８０モル％以上が適当である。
【００１３】
また、原料混合物の大部分が２，４−キシレノールおよび２，５−キシレノールであるときは、２，４−キシレノール濃度がキシレノール全量の約７５モル％、且つ２，５−キシレノール濃度がキシレノール全量の約２５モル％という組成を境に、より２，４−キシレノールの濃度が高い場合には、ホスト化合物によって２，４−キシレノールが選択的に包接分離され、約２５モル％より２，５−キシレノール濃度が高い場合には、ホスト化合物によって２，５−キシレノールが選択的に包接分離される。この選択性の逆転は２，４−キシレノールと２，５−キシレノールとの量比に対して敏感に起こるため、本発明方法は２，４−キシレノールと２，５−キシレノールとの混合物からそれらのキシレノール異性体を分離精製するのに特に有効である。
さらに、２，５−キシレノールは原料混合物中のその濃度が比較的低い場合、例えば、２５〜６０重量％程度であっても、ホスト化合物によって選択性よく包接分離されるため、本発明方法は２，５−キシレノールの分離精製に特に有効である。
【００１４】
本発明方法において、前記キシレノールと前記ホスト化合物から錯体を形成させるには、通常は原料となるキシレノール異性体混合物と、前記ホスト化合物とを混合し、加熱溶解して均一な溶液とした後、冷却して生成した錯体を析出させる。この錯体形成は、錯体の結晶形状や生成速度を調節したり、錯体の回収操作を容易にするために、溶媒の存在下に行うことが好ましいが、原料混合物が液体である場合や原料混合物を加熱融解した場合など、特に溶媒を必要としない場合は無溶媒で行うこともできる。
【００１５】
錯体形成時に使用する溶媒としては、ホスト化合物によって包接分離されずに残った原料成分をよく溶解し、且つ熱時にはホスト化合物を溶解するが、冷時にはホスト化合物を溶解しないものが好ましい。例としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類、アセトン、ブタノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、オクタン、デカン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類、あるいはこれらの混合物などが挙げられる。これらの溶媒の使用量は任意であるが、一般的には原料混合物１００重量部当たり約１〜１００重量部の範囲であることが望ましい。
【００１６】
錯体形成時における原料混合物とホスト化合物との混合割合は、特に制限されないが、極端に原料混合物の割合が大きい場合には、処理した原料混合物に対する分離されたキシレノール異性体の割合が小さくなり、分離精製方法が非効率となる。また、原料混合物に対して極端にホスト化合物の割合が大きい場合には、使用するホスト化合物に対する分離されたキシレノール異性体の割り合いが小さく、分離精製方法が非効率であり、包接の選択性も低下する。従って、原料混合物とホスト化合物を極端に高いまたは低い比率で使用することは好ましくない。ホスト化合物の適当な混合割合は、分離すべきキシレノール異性体１モル当たり、ホスト化合物０．０５〜１０モル、好ましくは０．２〜２モルの範囲である。
【００１７】
本発明において、錯体形成時に原料混合物とホスト化合物とを混合し、加熱溶解する温度は、混合物が均一な溶液となり、分離すべきキシレノール異性体やホスト化合物が著しく揮散しない範囲であれば特に支障がないが、通常４０〜２００℃、好ましくは８０〜１６０℃の範囲が適当である。また、錯体形成時に錯体を析出させる温度は、使用する原料混合物、溶媒などの条件により異なるが、通常は室温でよい。必要に応じて、錯体の回収量を高めるために強制冷却や冷媒による冷却により室温以下の温度としてもよく、また、工程の簡略化のために、充分な錯体の回収量が得られる範囲内で室温以上の温度としてもよい。錯体形成時の操作圧力は通常大気圧でよい。使用する溶媒の沸点によっては加圧あるいは減圧条件とすることもできる。
【００１８】
錯体形成時の雰囲気は、使用する原料混合物、ホスト化合物、溶媒、あるいは回収するキシレノール異性体の品質を損なわない程度に不活性である必要があるが、通常は空気雰囲気でよい。必要に応じて窒素、炭酸ガス、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気とすることもできる。錯体形成に要する時間は、実施するスケール、使用する装置、加熱、冷却条件などにより異なるが、おおむね１０分間〜４８時間程度である。
【００１９】
錯体形成を行う方法の例としては、上記以外にも、原料混合物とホスト化合物とを溶媒に溶解した後、溶媒の一部を蒸留などにより除去して錯体を析出させる方法、原料混合物とホスト化合物とを溶媒に溶解した後、冷却して錯体を析出させる方法、原料混合物とホスト化合物を良溶媒に溶解した後、貧溶媒を加えて錯体を析出させる方法、原料混合物とホスト化合物とを良溶媒と貧溶媒との混合物に溶解した後、良溶媒を蒸留などにより除去して錯体を析出させる方法、原料混合物が液体である場合には、ホスト化合物を原料混合物に溶解させた後、冷却や貧溶媒の添加により錯体を析出させる方法などを挙げることができる。
【００２０】
本発明方法で析出した錯体を固液分離するには、濾過またはデカンテーションによればよく、通常用いられる自然濾過、吸引濾過、加圧濾過、遠心濾過、フィルタープレス、スクリュープレス、遠心分離、遠心デカンテーションなどの手法を用いることができる。分離後に得られた錯体は、包接分離されずに残った原料成分を除去して、回収されるキシレノール異性体の品質を向上させるために、必要に応じて溶媒により洗浄を行うことが望ましい。洗浄用の溶媒は錯体形成時と同様のものが使用できる。固液分離の雰囲気は通常は空気雰囲気でよい。必要に応じて窒素、炭酸ガス、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気とすることもできる。
【００２１】
本発明方法で特定のキシレノール異性体を含んだ錯体から、そのキシレノール異性体を回収するには当該錯体を加熱することにより分解し、含まれているキシレノール異性体を気化および回収する方法が簡便である。このキシレノール異性体の回収のための熱分解は、錯体が分解してキシレノール異性体を放出し、ホスト化合物自体の熱分解が生じない温度領域で行うことが望ましい。適当な温度範囲は通常１００〜２５０℃、好ましくは１５０〜２００℃である。
【００２２】
このキシレノール異性体回収のための錯体の熱分解は、適当な条件下で行い、放出されるキシレノール異性体を、錯体の熱分解と同時に蒸留回収することができる。また、ホスト化合物である１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンは、キシレノール異性体回収後の熱分解残渣として回収され、特に精製操作を行うことなく再使用することができる。
【００２３】
さらに、錯体からキシレノール異性体を回収する方法として、キシレノール異性体よりもホスト化合物と錯体を作りやすい化合物を、キシレノール異性体の脱着剤として添加し、ゲストとして錯体中に包接されているキシレノール異性体を、添加した脱着剤により置換してキシレノール異性体を液相へ移し、その後、脱着剤とホスト化合物との錯体を固液分離することで、濾液中にあるキシレノール異性体を回収する方法を挙げることができる。
添加する脱着剤の例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｔ−ブタノールなどのアルコール類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリルなどが挙げられる。これらの脱着剤は、錯体形成時と同様の溶媒で希釈して用いることができる。
【００２４】
この脱着剤による錯体中のキシレノール異性体の置換は、脱着剤またはその溶液により、キシレノール異性体をゲストとして含む錯体を洗浄および濾過することにより行うことができる。洗浄は、機械的攪拌を加えてもよいし、錯体を静置したまま、リンシングによって行なってもよい。また、錯体を脱着剤またはその溶液中で再結晶をすることによっても、錯体中のキシレノール異性体を脱着剤と置換してキシレノール異性体を放出させることができる。
【００２５】
この脱着剤によるキシレノール異性体の回収を行った場合には、ホスト化合物は、脱着剤をゲストとして含む［脱着剤／ホスト化合物］錯体として回収される。この錯体は別途加熱により分解し、脱着剤を放出させることで、ホスト化合物を再生することができる。また、脱着剤として低沸点の化合物を用いた場合には、脱着剤とホスト化合物との錯体の形成時に充分に加熱することにより、脱着剤は錯体から分離して蒸留除去されるため、特に再生操作を行わずとも、ホスト化合物を再生することができる。
【００２６】
【実施例】
次に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。尚、文中の「％」とあるのは特に断りのない限り重量基準である。
実施例１
１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン１．０ｇと、２，４−キシレノール１０．７％、２，５−キシレノール８５．８％、その他３．５％からなる混合キシレノール１．０ｇと、溶媒としてメシチレン２０ｇとを混合し、１５０℃に加熱して溶解させ、均一な溶液とした。この溶液を室温で６時間放置して錯体を析出させた。これを吸引濾過し、錯体をトルエンおよびヘキサンで充分に洗浄した後、風乾して錯体１．３８ｇを得た。この錯体を２００℃／２０ｔｏｒｒの条件下に加熱したところ、０．３４ｇのキシレノールが回収された。この回収キシレノールの組成を、ガスクロマトグラフを用いて分析したところ、２，５−キシレノール９９．５％以上であり、２，４−キシレノールは検出されなかった。
【００２７】
実施例２
１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン１．０ｇと実施例１と同じ混合キシレノール１．０ｇとを混合し、１６０℃に加熱して融解させて均一相とした。この混合物を室温で６時間放置して固化させた。得られた固体をトルエンで十分洗浄した後、吸引濾過し、さらにヘキサンで洗浄し、風乾して錯体１．３８ｇを得た。この錯体を２００℃／２０ｔｏｒｒの条件下に加熱したところ、０．３３ｇのキシレノールが回収された。この回収キシレノールの組成をガスクロマトグラフを用いて分析したところ、２，５−キシレノール９９．５％以上であり、２，４−キシレノールは検出されなかった。
【００２８】
実施例３〜６
実施例１と同様の原料、溶媒および操作条件において、使用する混合キシレノールの量のみを変化させて試験を行った。試験条件と結果を表１に示す。表中、２，４−体は２，４−キシレノールを、２，５−体は２，５−キシレノールを表す。尚、実施例１の試験条件と結果も同時に示す。
【００２９】
【表１】
表１：試験条件および結果（実施例１、実施例３〜６）
実施例７
１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン１．０ｇと、２，４−キシレノール８８．１％、２，５−キシレノール９．８％、その他２．１％からなる混合キシレノール１．０ｇと、溶媒としてデカン２０ｇとを混合し１５０℃に加熱して溶解させ、均一な溶液とした。この溶液を室温で６時間放置して錯体を析出させた。これを吸引濾過し、錯体をヘキサンで充分洗浄した後、風乾して錯体を１．３７ｇを得た。この錯体を２００℃／２０ｔｏｒｒの条件下に加熱したところ、０．３２ｇのキシレノールが回収された。この回収キシレノールの組成を、ガスクロマトグラフを用いて分析したところ、２，４−キシレノール９９．１％、２，５−キシレノール０．７％であった。
【００３１】
実施例８
原料として使用する混合キシレノールを、２，４−キシレノール７８．５％、２，５−キシレノールを１９．６％、その他１．９％の組成のものに変更した以外は実施例７と同様の条件および操作で試験を行ったところ、１．１８ｇの錯体が得られた。この錯体を実施例７と同様に処理したところ、０．１２ｇのキシレノールが回収され、２，４−キシレノールおよび２，５−キシレノール含有量は９５．１％、４．７％であった。
【００３２】
実施例９
１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン１．０ｇと、２，４−キシレノール６８．７％、２，５−キシレノール２９．４％、その他１．９％からなる混合キシレノール１．０ｇと、溶媒としてメシチレン２０ｇとを混合して、１５０℃に加熱して溶解させ、均一な溶液とした。この溶液を室温で６時間放置して錯体を析出させた。これを吸引濾過し、錯体をトルエンおよびヘキサンで充分に洗浄した後、風乾して錯体１．２８ｇを得た。この錯体を実施例７と同様に処理したところ、０．２３ｇのキシレノールが回収され、２，４−キシレノールおよび２，５−キシレノールの含有量は５．５％および９４．３％であった。
【００３３】
実施例１０〜１５
原料として使用する混合キシレノールを、各種組成のものに変更した以外は、実施例９と同様の条件および操作で試験を行った。試験条件と結果を表２に示す。表中の「Ｘｙ」はキシレノールを、２，４−体は２，４−キシレノールを、２，５−体は２，５−キシレノールを表す。また、実施例７〜１５で使用した混合キシレノール中の２，５−キシレノールの含有量と、そこで得られた回収キシレノール組成との関係を図１に示す。
【００３４】
【表２】
表２：試験条件および結果（実施例７〜１５）
実施例１６
１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン１．０ｇと、２，３−キシレノール４９．２％、２，４−キシレノール４９．６％、その他１．２％からなる混合キシレノール１．０ｇと、溶媒としてデカン２０ｇとを混合し１５０℃に加熱して溶解させ、均一な溶液とした。この溶液を室温で６時間放置して錯体を析出させた。これを吸引濾過し、錯体をヘキサンで充分洗浄した後、風乾して錯体を１．１１ｇ得た。この錯体を２００℃／２０ｔｏｒｒの条件下に加熱したところ、０．１１ｇのキシレノールが回収された。この回収キシレノールの組成を、ガスクロマトグラフを用いて分析したところ、２，３−キシレノール８７％、２，４−キシレノール１３％であった。
【００３６】
実施例１７〜２３
原料として使用する混合キシレノールを実施例１１のように約１：１のキシレノール異性体組成で混合して調製し、混合するキシレノール異性体の種類を変化させ、溶媒はメシチレンではなくデカンを使用して実施例１６と同様の条件および操作で試験を行った。試験条件と結果を表３に示す。尚、実施例１１および実施例１６の結果も表３に示す。表中の「Ｘｙ」はキシレノールを、２，３−体は２，３−キシレノールを、２，４−体は２，４−キシレノールを、２，５−体は２，５−キシレノールを、２，６−体は２，６−キシレノールを、３，４−体は３，４−キシレノールを、３，５−体は３，５−キシレノールを表す。
【００３７】
実施例２４〜２９
原料として使用する混合キシレノールを実施例１１のように約１：１のキシレノール異性体組成で混合して調製し、混合するキシレノール異性体の種類を変えて実施例１６と同様の条件および操作で試験を行った。試験条件と結果を表３に示す。表中の「Ｘｙ」はキシレノールを、２，３−体は２，３−キシレノールを、２，４−体は２，４−キシレノールを、２，５−体は２，５−キシレノールを、２，６−体は２，６−キシレノールを、３，４−体は３，４−キシレノールを、３，５−体は３，５−キシレノールを表す。
【００３８】
【表３】
表３：試験条件および結果（実施例１１、実施例１６〜２９）
実施例３０
１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン１００．４ｇと、実施例１と同じ２，４−キシレノール１０．７％、２，５−キシレノール８５．８％、その他３．５％からなる混合キシレノール１０１．４ｇと、溶媒としてメシチレン４００ｇとを混合し、実施例１と同様の操作で、錯体１３８．８ｇを得た。この錯体のうちの５０．１ｇを採り、脱着剤であるｎ−ブタノール７５ｇを加えて３０分間攪拌して錯体中のキシレノールを脱着剤で置換した後、吸引濾過し、さらに［脱着剤／ホスト化合物］錯体をヘキサンで充分に洗浄した。この錯体を風乾して、［脱着剤／ホスト化合物］錯体４０．６ｇを回収した。得られた濾液、洗浄液は全て回収し、減圧下に濃縮、さらに減圧蒸留してキシレノール１１．５ｇを回収した。この回収キシレノールの組成をガスクロマトグラフで分析したところ２，５−キシレノールは９９．５％以上であり、２，４−キシレノールは検出されなかった。
【００４０】
実施例３１
実施例３０で回収した［脱着剤／ホスト化合物］錯体のうちの１５．０ｇと、実施例１と同じ混合キシレノール１５．０ｇと、溶媒としてメシチレン８０ｇとを混合し、メシチレンが沸騰するまで加熱し、均一な溶液とした。２０ｇの溶媒分を留出させた後、溶液を冷却し、室温で６時間放置して錯体を析出させた。この処理によって［脱着剤／ホスト化合物］錯体中の脱着剤がキシレノールによって置換された。ガスクロマトグラフ分析より、上記の留出させた溶媒分は２１．５％のｎ−ブタノールを含んでいた。得られた錯体を実施例１と同様に操作して、錯体１５．２ｇを得た。さらにこの錯体を、実施例１と同様に熱分解して、キシレノール４．３ｇを得た。この回収キシレノールの組成をガスクロマトグラフで分析したところ２，５−キシレノールは９９．５％以上であり、２，４−キシレノールは検出されなかった。
【００４１】
実施例３２
実施例３０で得られた錯体のうちの５０．２ｇを５００ｍｌビーカーに取り、このなかに、脱着剤としてのｉ−プロパノールとヘキサンの１対１重量混合物７５ｇを静かに加え、３０分間静置して錯体中のキシレノールを脱着剤で置換した後、吸引濾過し、さらに［脱着剤／ホスト化合物］錯体をヘキサンで充分に洗浄した。得られた濾液、洗浄液は全て回収し、減圧下に濃縮、さらに減圧蒸留してキシレノール１１．２ｇを回収した。この回収キシレノールの組成をガスクロマトグラフで分析したところ２，５−キシレノールは９９．５％以上であり、２，４−キシレノールは検出されなかった。
【００４３】
【発明の効果】
本発明の方法によれば、特定のキシレノール異性体を少なくとも１種の他のキシレノール異性体と共に含む混合物から、高純度で特定のキシレノール異性体を簡便に回収することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例７〜１５で使用された混合キシレノール中の２，５−キシレノールの含有量と、それらの実施例で回収されたキシレノールの組成との関係を示すグラフ。
Claims (9)
- 少なくとも１種の特定のキシレノール異性体と該特定のキシレノール異性体以外のキシレノール異性体を含む混合物を、ホスト化合物である１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンと接触させて、ゲスト化合物である前記特定のキシレノール異性体と上記ホスト化合物との錯体を生成させ、該錯体から前記特定のキシレノール異性体を分離することを特徴とするキシレノール異性体の分離精製方法。
- 前記少なくとも１種の特定のキシレノール異性体と、それ以外のキシレノール異性体が、２，４−キシレノールと２，５−キシレノールである請求項１に記載の分離精製方法。
- ２，５−キシレノールの含有量が、キシレノール全量の２５モル％以上であり、２，５−キシレノールを分離精製する請求項２に記載の分離精製方法。
- ２，５−キシレノールの含有量が、キシレノール全量の２５モル％未満であり、２，４−キシレノールを分離精製する請求項２に記載の分離精製方法。
- キシレノール異性体の分離を溶媒中で行う請求項１に記載の分離精製方法。
- 溶媒が、熱時ホスト化合物を溶解し、冷時ホスト化合物を析出する溶媒である請求項５に記載の分離精製方法。
- 分離を目的とするキシレノール異性体１モルあたり、ホスト化合物を０．０５〜１０モルの範囲で使用する請求項１に記載の分離精製方法。
- 分離を目的とするキシレノール異性体１モルあたり、ホスト化合物を０．２〜２モルの範囲で使用する請求項１に記載の分離精製方法。
- 前記混合物が、タール蒸留により得られる混合石炭酸またはその蒸留物である請求項１に記載の分離精製方法。
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