JP3774395B2 - 凹凸パターン検知装置、凹凸パターン検知処理装置 - Google Patents

凹凸パターン検知装置、凹凸パターン検知処理装置 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラーブラウン管のシャドウパターンの欠陥検査装置、ICのマスタパターンの検査装置、凹凸テクスチャの品質管理装置等のように被検知面上に設けられた凹凸パターンの有無を検知する凹凸パターン検知装置及び凹凸パターン検知処理装置に関し、特に微小なパターンを検知できるものに関する。また、被検査面上の微小な凹凸パターンの有無を検出することにより、凹凸パターンの良否を判定する凹凸パターン検査装置に関する。さらに、シート状の検査対象物に対し精度の高い検査を行うことが可能な検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
板状体や紙等の被検体の表面(被検知面)にある微小な段差を検知するために段差検知装置が用いられている。例えば、特開平11−153411には、照明光に空間変調をかけることで郵便宛名ラベル等のエッジに破線状の特徴的な模様を発生させる手法が開示されている。図23はこのような段差検知装置の検知原理を示す説明図である。すなわち、結像レンズ10によるラインイメージセンサ11の撮像領域20をスリット12,13を用いて短い領域21,22に区切り、これらの領域21,22のうち奇数番目の領域を右側から、偶数番目の領域を左側からそれぞれ照明装置14,15を用いて照明ビームEa,Ebにより照明する。被検体30はラインイメージセンサ11の撮像領域20下を図中矢印の方向に搬送される。これにより、郵便物の宛名ラベルのエッジ等、段差の部分においてのみ図24に示すように破線状の特徴的な模様(図中斜線部分)が発生し、これを画像処理部40にて抽出することにより、段差の存在を検出できる。
【0003】
紙等のシートCの被検査面C1上に形成された微小な凹凸パターンPの有無を検出するために従来から様々な方法が採られている。図25の(a)〜(c)はその一例を示す図である。すなわち、左右斜方より向き合うように配置された一対の照明部51a,51bにより検査領域Dに光を照射する。各照明部51a,51bと検査領域Dとの間には、くし型に形成された一対のスリット52a,52bが配置されている。一対のスリット52a,52bは、図25の(b)に示すように左右それぞれで、光を通す部分と遮蔽する部分が異なる形状であることから、検査領域D上で、図25の(c)に示すように、照射方向が異なる複数の小領域に分割される。この検査領域DをCCDカメラ等の撮像部53にて撮像し、検査領域Dからの反射光を電気信号に変換する。検査領域D内に凹凸パターンPがあると、光の照射方向に応じて、凹凸パターンPの前後に輝線又は影が生じ、これらを検出することによって凹凸パターンPの有無を検出する。
【0004】
また、特開平11-179288に開示されているように、波長特性の異なる複数種の照明光を、それぞれ異なる方向から対象物に照射し、その反射光を波長毎に分岐する色分離手段、例えばダイクロイックミラーで分離して、複数の撮像手段によって各々画像を取得する。これにより、各波長毎に照射方向に応じて、凹凸の前後に輝線、影が生じ、それらを検出することによって、凹凸の有無を検出していた。
【0005】
一方、このようなシートCを撮像して何らかの物理量を検出する検出装置において、シートCを搬送する場合には、通常、検査装置の読取面において、平坦となっていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上述した従来の段差検知方法であると次のような問題があった。すなわち、宛名ラベルのように高さ100μm程度の大きな段差であれば解像度の低いイメージセンサでも検知することが可能であるが、これよりもさらに小さい段差が細かく密集しているような凹凸パターンの有無を検知する場合には、解像度の高いイメージセンサが必要となる。また、解像度の高いイメージセンサを用いると、検査・処理に時間がかかり、効率的な検知を行うことができない。
【0007】
一方、上述した凹凸パターン検査方法では、次のような問題があった。すなわち、照明光を小領域に分割する場合に、例えばくし型のスリットのような光を領域分割する手段が必要である。また、図26の(a)に示すように、縦方向すなわち光の照射方向に交差する方向に凹凸パターンPが形成されている場合には、その画像は図26の(b)に示すようなものとなり、照射方向の異なる小領域毎にそれぞれ影Sが生じる。この影Sに基づいて、凹凸パターンPを検出することができる。しかしながら、図26の(c)に示すように、横方向すなわち光の照射方向と同一の方向に凹凸パターンPが形成されている場合には、その画像は図26の(d)に示すようなものとなり、影が生じない。このように照明光を小領域に分割する方式では、凹凸パターンPの形状によっては検出ができないという問題があった。
【0008】
また、色分離をする方法の場合には、照明の種類に応じた複数の撮像手段が必要となり、装置の構造が大きく、かつ、複雑となる。また、照明の照射方向の組み合わせによっては、凹凸パターンが照射方向との関係により検出ができない場合がある。
【0009】
図27の(a)はシートCと照明部54との位置関係を示す説明図である。シートCに対し斜方入射する照明部54を用いた場合には、測定精度を高めるために、その入射角度に一定の角度θが必要となる。しかしながら、角度θを大きくすると、シートCと照明部54とが構造的に干渉することになり、照明部54の配置が困難となる。
【0010】
図27の(b)は搬送ベルトから構成された搬送系55に搬送されているシートCをその搬送方向から見た模式図、図27の(c)は斜め方向から見た説明図である。図27の(b)に示すように、シートCは搬送中に撓み易く、また、図27の(c)に示すように、搬送途中でばたつき、図中破線のようにシートCの厚さ方向の基準位置から離れることがある。これらの現象は特に高速搬送を行う際に顕著となる。検査の精度は、シートCと撮像部との距離の変動に影響を受けることから、このような搬送系は好ましくない。
【0011】
特に大入射角の斜方照明の場合には、厚さ方向の変化によりシートCの照射方向、照度といった特性に大きく影響することから、シートCを安定に検査位置の基準位置に位置決めすることが重要となる。
【0012】
そこで本発明は、低い解像度を有するイメージセンサであっても細かく密集した凹凸パターンを検知することができる凹凸パターン検知装置及び凹凸パターン検知処理装置を提供することを目的としている。また、検査対象物の凹凸パターンの方向に関わらず検査が可能な凹凸パターン検査装置を提供することを目的としている。さらに、シート状の検査対象物の安定した搬送を行うとともに、照明の入射角を充分にとることで精度の高い検査ができる検査装置を提供することを目的としている。
【0013】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決し目的を達成するために、本発明の凹凸パターン検知装置及び凹凸パターン検知処理装置は次のように構成されている。
【0014】
(1)被検知面上の所定のピッチを有する凹凸パターンの有無を検知する凹凸パターン検知装置において、第1の照射光を前記被検知面の第1の照射領域に照射し、前記第1の照射領域とは異な第2の照射領域に前記第1の照射光とは異なる方向から第2の照射光を照射する照明手段と、前記第1の照射領域および前記第2の照射領域を前記所定のピッチとは異なるピッチを有するマスクと重ね合せて撮像する撮像手段と、この撮像手段によって得られるモアレ画像の濃度変化を検出し、前記第1の照射領域と前記第2の照射領域とのモアレ画像の濃度変化の位相差を検知することで前記凹凸パターンの有無を判断する画像処理手段とを備えていることを特徴とする。
【0015】
(2)前記(1)に記載された凹凸パターン検知装置であって、前記凹凸パターンは一定のピッチを有し、前記マスクのパターンは一定のピッチを有するとともに、そのピッチが前記凹凸パターンのピッチの0.75倍以上1.25倍以下に設定されていることを特徴とする。
【0016】
(3)被検知面上の所定のピッチを有する凹凸パターンの有無を検知する凹凸パターン検知装置において、第1の照射光を前記被検知面の第1の照射領域に照射し、前記第1の照射領域とは異な第2の照射領域に前記第1の照射光とは異なる方向から第2の照射光を照射する照明手段と、前記第1の照射領域および前記第2の照射領域を前記所定のピッチとは異なる画素ピッチを有する複数の画素により撮像する撮像手段と、この撮像手段によって得られるモアレ画像の濃度変化を検出し、前記第1の照射領域と前記第2の照射領域とのモアレ画像の濃度変化の位相差を検知することで前記凹凸パターンの有無を判断する画像処理手段とを備えていることを特徴とする。
【0017】
(4)前記(3)に記載された凹凸パターン検知装置であって、前記凹凸パターンは所定方向について一定のピッチを有し、前記画素ピッチは前記所定方向について前記凹凸パターンのピッチの0.375倍以上0.625倍以下であることを特徴とする。
【0018】
(5)被検体の被検知面に設けられた所定のピッチを有する凹凸パターンの有無を検知する凹凸パターン検知装置において、第1の照射光を前記被検知面の第1の照射領域に照射し、前記第1の照射領域とは異な第2の照射領域に前記第1の照射光とは異なる方向から第2の照射光を照射する照明手段と、所定の搬送方向に搬送される前記被検体の前記被検知面に対して、前記搬送方向と交差するライン状の撮像領域の画像を前記所定のピッチとは異なる解像度で順次入力する撮像手段と、前記撮像手段によって得られるモアレ画像の濃度変化を検出し、前記第1の照射領域と前記第2の照射領域とのモアレ画像の濃度変化の位相差を検知することで前記凹凸パターンの有無を判断する画像処理手段とを備えていることを特徴とする。
【0019】
(6)前記(5)に記載された凹凸パターン検知装置であって、前記凹凸パターンは所定方向について一定のピッチを有し、前記解像度は前記所定方向について前記凹凸パターンのピッチの0.375倍以上0.625倍以下であることを特徴とする。
【0020】
(7)被検体の被検知面に設けられた所定のピッチを有する凹凸パターンの有無を検知することが可能な凹凸パターン検知処理装置において、第1の照射光を前記被検知面の第1の照射領域に照射し、前記第1の照射領域とは異な第2の照射領域に前記第1の照射光とは異なる方向から第2の照射光を照射する照明手段と、所定の搬送方向に搬送される前記被検体の被検知面に対して、前記搬送方向と交差するライン状の撮像領域の画像をモアレを発生させる解像度で順次入力する撮像手段と、前記撮像手段によって得られるモアレ画像の濃度変化を検出し、前記第1の照射領域および前記第2の照射領域とのモアレ画像の濃度変化の位相差を検知することで前記凹凸パターンの有無を判断する画像処理手段と、この画像処理手段による前記凹凸パターンの有無情報に基づいて前記被検体を処理する被検体処理手段とを備えていることを特徴とする。
【0032】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の第1の実施の形態に係る凹凸パターン検知装置100の全体の概略構成を示す図である。凹凸パターン検知装置100は、被検知面W上において100〜300μmピッチの縦縞からなる凹凸パターンQの有無を検知するものである。なお、被検知面Wに設けられる凹凸パターンQは、凸部分Xは濃色、凹部分Yは淡色である。なお、凸部分Xを黒色、凹部分Yを白色、あるいは、凸部分Xを不透明、凹部分を透明とするようにしてもよい。さらに、凸部分Xと凹部分Yとの関係を逆にしてもよい。
【0033】
凹凸パターン検知装置100は、被検知面Wに対して左右両方向から照明ビーム(照明光)E1,E2を所定の入射角(例えば45°)で照射する照明部200と、被検知面Wの画像に所定のマスクパターン(参照パターン)を重ねるためのマスク部300と、マスク部300を通過した被検知面Wからの画像を撮像する撮像部400と、この撮像部400で撮像された画像を処理し、所定のピッチQpを有する凹凸パターンQの有無を判断する画像処理部500とを備えている。
【0034】
照明部200は、多数の平行で等間隔な照明ビームE1,E2をそれぞれ発する一対の照明装置210,220を備えている。照明装置210は、被検知面Wに対して左側から斜め照明する光源211と、凹凸パターンQの縦縞パターンと直交する方向に形成された横縞パターンの透過孔を有するスリット212と、投影結像系213とを備え、スリット212のパターンを被検知面W上に投影する。また、照明装置220は、右側から斜め照明する光源221と、横縞状のスリット222と、投影結像系223とを備え、横縞状のスリット222のパターンを被検知面W上に投影する。
【0035】
このとき、スリット212とスリット222との相対的な位置関係を適切に設定することで、被検知面W上は図2に示されるように横縞状の小領域Wa,Wbに分割される。ここで、各々の小領域Wa,Wbは交互に、照明装置210からの照明ビームE1のみが照射される領域Waと、照明装置220からの照明ビームE2のみが照射される領域Wbとなる。
【0036】
マスク部300は、被検知面Wを結像させる結像レンズ310と、結像レンズ310による結像面上に置かれた縦縞状の透過部321及び不透過部322からなるパターンを有するマスク320とを備えている。マスク320のピッチφは、図4に示すように、検知対象の凹凸パターンQのピッチQpと後述するように僅かにずれており、モアレが発生しやすい値に設定してある。
【0037】
撮像部400は、マスク320上に現われた画像をCCDエリアイメージセンサ420上に結像する結像レンズ410と、CCDエリアイメージセンサ420とを備えている。画像処理部500は、CCDエリアイメージセンサ420により得られた画像を処理し、被検知面W上の凹凸パターンQの有無を判断する。
【0038】
このように構成された凹凸パターン検知装置100では、次のようにして被検知面W上における凹凸パターンQの有無を検知する。最初に、照明部200により、被検知面Wの領域Wa上に照明ビームE1、領域Wb上に照明ビームE2を照射する。
【0039】
図3に示すように、領域Waにおける凹凸パターンPの凸部Xのうち、照明ビームE1の入射側に近いエッジXbは、入射した照明ビームE1が散乱され、真上から見たときに白く見える。一方、照明ビームE1の入射側と反対側のエッジXaは、凹凸パターンQの盛り上がりによる影が生じ、黒く見える。従って、凹凸パターンQの凸部Xに斜めから照明した場合には、黒色に見える部分が本来の凸部Xが存在している位置よりもやや照明光の入射側と反対側に移動して見えることになる。したがって、被検知面W上に検知対象の凹凸パターンQがあった場合、そのパターンの左方向から照明される領域の部分の白黒縞模様は右に僅かにシフトした凹凸パターンQaとなる。
【0040】
一方、領域Wbでは、同様のことから右方向から照明される領域の部分の白黒縞模様は左に僅かにシフトした凹凸パターンQbとなる。なお、凹凸パターンQが存在しない場合や、平面的に黒白の縞模様のみが存在する場合はこの現象は生じない。
【0041】
次に、被検知面Wは結像レンズ310を介してマスク320上に結像される。一定方向にシフトした凹凸パターンQa,Qbの像に図4に示すようにマスク320を掛ける。これにより、透過部321を透過した部分の画像は白い部分と黒い部分とが併存又はいずれか一方を表す画像となる。これらの画像を不透過部322の部分を取り除いてつなぎ合せると、図5の(a),(b)に示すように明るさが周期的に変化する画像が得られる。なお、図5の(a)は領域Wa、図5の(b)は領域Wbを示しており、図5中τは透過部321の幅を示している。この画像は、マスク320と凹凸パターンQa,Qbの像との干渉により、モアレが発生したモアレ画像α,βである。すなわち、パターンの幅に長短が生じた画像が得られ、一定の長さでパターンの幅の変化を観察すると、濃色の多い部分と淡色の多い部分とで濃度変化が生じ、所定の周期が生じている。
【0042】
領域Wa上と領域Wb上でのモアレ画像の濃度変化の位相を、図6に示す。上述の右または左へのパターンのわずかな位置シフトにより、モアレ画像の濃度変化の位相は大きく異なったものとなる。
【0043】
モアレ画像α,βは結像レンズ410を介してCCDイメージセンサ420に入力される。ここで、モアレ画像αとモアレ画像βに基づいてモアレの位相差を検出する。モアレ画像αとモアレ画像βとの位相差が所定の値を超えている場合には、凹凸パターンQが存在し、所定の値以下であると凹凸パターンQが存在していない。
【0044】
ここで、CCDイメージセンサ420で必要となる解像度は、モアレ画像α,βの位相差を検出できる程度であるため、例えばモアレ画像α,βの周期の4分の1程度となる。すなわち、マスク320の周期や凹凸パターンQの周期より十分に大きいものとなる。
【0045】
次に、マスク320の周期の設定方法について説明する。凹凸パターンQの周期を2P、マスクの周期2kPの場合を想定する。モアレ現象の特性よりkが1に近い値であると、モアレ現象が発生しやすい。マスク周期2kPの前半部分のみ撮像部400に取り込む、あるいは前半部と後半部を別々のカメラに取り込んで差をとると、図6に示すようにモアレ画像α,βの濃度変化を表すなだらかなグラフが得られる。
【0046】
このグラフの周期Hはおよそ2kP/|1−k|となる。この2kP/|1−k|の周期の中にマスク320のパターンは1/|1−k|周期分入る。モアレ画像α,βの濃度変化の位相を90°以上の分解能で読み取るには、凹凸パターンQの1周期内にマスク320のパターンが4周期以上含まれることが望ましいことから、1/|1−k|≧4を満たす必要がある。これより、0.75≦k≦1.25となっているべきことがわかる。これより、マスク320のパターンの周期は凹凸パターンQの0.75倍以上1.25倍以下であることが望ましい。
【0047】
なお、被検知面W上に凹凸パターンQではなく、例えば黒と白の縦縞ラインが平面上に単に描かれている場合には、領域Wa,Wbで照明ビームE1,E2によるシフトが発生しないため、領域Wa,Wbのモアレ画像α,βで濃度変化に位相差が発生しない。
【0048】
したがって、画像処理部500では、2種類のモアレ画像α,βの周期の位相差が所定の値を超えていれば凹凸パターンQが有ると判断し、位相差が所定の値以下であれば、凹凸パターンQが無いと判断する。
【0049】
ここで、凹凸パターンQのシフト量、位相差の相互関係について具体例を挙げて説明する。凹凸の高さが40μm、1つのパターンの幅を150μmとした場合、左右のシフト量は40μm程度となる。このときの、モアレ濃度変化の位相差は、パターンの幅の数倍から数十倍となる。したがって、CCDイメージセンサ420に要求される解像度は数百μm〜1mmとなる。
【0050】
上述したように、本第1の実施の形態に係る凹凸パターン検知装置100によれば、凹凸パターンQを右ないし左から斜め照明したときに、凸部XのエッジXa,Xbに生じる影や輝線によって、パターン自体が僅かに左右にシフトしたように見えることを利用し、モアレ現象によるモアレ画像を生成し、その濃度変化の位相差を検知することで凹凸パターンQの有無を判断することができる。このとき、位相差がシフト量よりも十分に大きくなることから、凹凸パターンQやシフト量の変化を直接検出することができない低い解像度のCCDイメージセンサ420であっても凹凸パターンQの有無を判断することが可能となる。
【0051】
なお、凹凸の段差部を詳細に観察して、照明光の散乱や影を捉えることも可能ではあるが、このためには非常に高い解像度で画像を取得し、これに対して画像処理を掛ける必要がある。高い解像度での画像取得は、それだけ強力な光源が不可欠である。モアレ現象を用いた判定方法は、低い解像度で画像取得した場合でも高い精度で位置ずれを判定し、これにより凹凸パターンの有無の確実な判定を可能にする。
【0052】
(第2の実施の形態)
図7は、本発明の第2の実施の形態に係る被検知面W上において凹凸パターンQの有無を検知する凹凸パターン検知装置600の全体の構成が示されている。なお、図7において図1と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略した。
【0053】
凹凸パターン検知装置600は、被検知面Wに対して左右両方向から照明ビームE1,E2を所定の入射角で照射する照明部200と、被検知面Wからの像を分割し、所定のマスクパターンを掛けるマスク部330と、マスク部330を通過した被検知面Wからの画像を撮像する一対の撮像部400と、画像処理部500とを備えている。
【0054】
マスク部330は、被検知面Wを結像させる結像レンズ310と、結像レンズ310による結像面上に置かれ縦縞状の透過部341及び不透過部342からなるパターンを有するマスク340と、マスク340を透過した光が入力するハーフミラー331を備えている。ハーフミラー331を透過した光は結像レンズ410によりCCDエリアイメージセンサ420に入力される。また、ハーフミラー331により反射された光は結像レンズ410によりCCDエリアイメージセンサ420に入力される。
【0055】
本第2の実施の形態に係る凹凸パターン検知装置600によれば、2つのCCDエリアイメージセンサ420,420に導き、2つの取得画像の差をとっているので、1つのCCDエリアイメージセンサ420を用いる上述した凹凸パターン検知装置100に比べてモアレ画像の濃淡変化の位相差をより正確に測定できる。
【0056】
図8は凹凸パターン検知装置600の変形例を示す図である。なお、図8において図1と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略した。
【0057】
本変形例によれば、CCDエリアイメージセンサ420上に被検知面Wを結像させる結像レンズ360と、この光路中に配置されたハーフミラー331を備えており、ハーフミラー331を透過した光はCCDエリアイメージセンサ420に入力される。また、ハーフミラー331により反射された光はCCDエリアイメージセンサ420に入力される。ここで、CCDエリアイメージセンサ420の入力面には、マスク340,350が配置されている。
【0058】
マスク340,350のピッチは、検知対象の凹凸パターンQのピッチと後述するように僅かにずれており、モアレが発生しやすい値に設定してある。また、マスク340を透過する像は、マスク350を透過しないように設定され、また、マスク350を透過する像は、マスク340を透過しないように設定されている。
【0059】
本変形例においても上述した凹凸パターン検知装置600と同様の効果を得ることができる。
【0060】
(第3の実施の形態)
図9は、本発明の第3の実施の形態に係る被検知面W上において凹凸パターンQの有無を検知する凹凸パターン検知装置700の全体の構成が示されている。なお、図9において図1と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略した。
【0061】
凹凸パターン検知装置700は、照明部200と、撮像部400と、画像処理部500とを備えている。
【0062】
撮像部400は、この結像面320上に現われた画像をCCDエリアイメージセンサ420上に結像する結像レンズ410と、CCDエリアイメージセンサ420とから成る。CCDエリアイメージセンサ420の横方向の画素ピッチは、凹凸パターンQのピッチの半分から僅かにずれた大きさとなっており、凹凸パターンQによりモアレ現象を発生しやすい状態に設定されている。
【0063】
画像処理部500は、CCDエリアイメージセンサ420により得られた画像に基づいて、被検知面W面上の所定のパターンの有無を判定する。
【0064】
このように構成された凹凸パターン検知装置700では、次のようにして凹凸パターンQの検知を行う。すなわち、上述した凹凸パターン検知装置100と同様にして、領域Wa,Wbにおいて凹凸パターンQが存在すると、凸部Xがシフトし、領域Wa,WbにおいてそれぞれパターンQa,Qbが生じる。
【0065】
これに対して、CCDエリアイメージセンサ420の画素ピッチが適切に設定されていると、上述した第1の実施の形態に係る凹凸パターン検知装置100におけるマスク320を透過した像のみがCCDエリアイメージセンサ420で検知するのと同様の状態となり、モアレ現象によるモアレ画像α,βが得られる。したがって、このモアレ画像α,βの濃度変化の位相差を検知すれば、被検知面W上の検知対象の凹凸パターンQの有無を判定できる。
【0066】
なお、モアレ画像α,βの濃度変化の位相差は、横方向に連なる1ライン中において、隣接する奇数番画素の値から偶数番画素の値を引き算する等すれば、容易に知ることが可能である。CCDエリアイメージセンサ420の画素ピッチは、凹凸パターンの周期の0.375倍以上0.625倍以下であることが望ましい。
【0067】
この理由について説明する。すなわち、周期2Pをもつ凹凸パターンQを、画素ピッチkPをもつセンサで読み取ったとき、kが1に近い値であると、読み取った画像にモアレ現象が発生しやすくなる。画素を1画素おきに飛ばして読む、あるいは奇数番画素の値から右隣の偶数番画素の値を引くと、なだらかな濃度変化のグラフが得られる。
【0068】
これはモアレの変化を表すグラフであるが、この周期はおよそ2kP|1−klとなる。画素を1画素おきに飛ばして読むと、画素ピッチは2kPに広がり、この2kP/|1−k|の周期の中に画素は1/|1−k|個入る。モアレ画像の濃度変化の位相を90°以上の分解能で読み取るには1周期に4点以上の画素が望ましく、1/|1−k|≧4を満たす必要がある。
【0069】
これより、0.75≦k≦1.25となっているべきことがわかる。これより、センサの画素ピッチkPは凹凸パターン周期2Pの0.375倍以上0.625倍以下であることが要求される。
【0070】
上述したように本第3の実施の形態に係る凹凸パターン検出装置700によれば、第1の実施の形態に係る凹凸パターン検出装置100と同様の効果を得ることができる。
【0071】
(第4の実施形態)
図10には、本発明の第4の実施の形態に係る凹凸パターン検知処理装置800の構成が示されている。なお、図10において、上述した図1と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【0072】
凹凸パターン検知処理装置800は、搬送装置810と、照明部820と、撮像部830と、画像処理部840と、凹凸パターンQの有無に応じて被検体Fの次工程の処理を行う処理部850から構成されている。
【0073】
搬送装置810は、被検体Fを矢印L方向に搬送するものであり、被検体Fの被検知面Wを後述するCCDラインイメージセンサ831の読取りエリアHに通過させるように設定されている。
【0074】
照明部820は、被検知面Wに対して左または右方向から照明光を大入射角で照射するものであり、ハロゲンランプ及びライン型ライトガイド821と822から成る光源と、被検知面Wの直近に置いた櫛形のスリット823と824とから構成される。
【0075】
撮像部830は、CCDラインイメージセンサ831と、このCCDラインイメージセンサ831に像を結像する結像レンズ832とを備えている。
【0076】
被検知面Wは、搬送装置810により。被検知面W面上のCCDラインイメージセンサの読取りエリアHは、櫛形のスリットに対応する形で左側ライトガイド821からの照明ビームE3により左斜め上方から照明される領域Haと、右側ライトガイド822の出射口からの照明ビームE4により右斜め上方から照明される領域Hbとに分割される。
【0077】
CCDラインイメージセンサ831の領域Ha,Hb上における副走査方向解像度は、凹凸パターンQのピッチの半分から僅かにずれた大きさとなっており、凹凸パターンQによりモアレ現象を発生しやすい状態に設定されている。
【0078】
画像処理部840は、撮像部830によって得られたモアレ画像α,βに基づいて被検知面W上の凹凸パターンQの有無を判定する。
【0079】
このように構成された凹凸パターン検知装置800では、次のようにして凹凸パターンQの検知を行う。すなわち、上述した凹凸パターン検知装置100と同様にして、領域Wa,Wbにおいて凹凸パターンQが存在すると、凸部Xがシフトし、領域Wa,WbにおいてそれぞれパターンQa,Qbが生じる。
【0080】
これに対して、CCDラインイメージセンサ831の副走査方向の解像度が適切に設定されていると、上述した第3の実施の形態に係る凹凸パターン検知装置700と同様に、モアレ現象によるモアレ画像α,βが得られる。したがって、このモアレ画像α,βの濃度変化の位相差を検知すれば、被検知面W上の検知対象の凹凸パターンQの有無を判定できる。
【0081】
なお、モアレ画像α,βの濃度変化の位相差は、横方向に連なる1ライン中において、隣接する奇数番画素の値から偶数番画素の値を引き算する等した結果を比較すれば、容易に知ることが可能である。CCDラインイメージセンサ831の副走査方向の解像度は、凹凸パターンの周期の0.375倍以上0.625倍以下であることが望ましい。これについては、凹凸パターン検知装置700の画素ピッチを設定した理由と同じである。
【0082】
上述したように本第4の実施の形態に係る凹凸パターン検出装置800によれば、第3の実施の形態に係る凹凸パターン検出装置700と同様の効果を得ることができる。
【0083】
なお、本第4の実施の形態に係る凹凸パターン検知装置800の変形例としては、特定点における濃淡変化検知装置を追加し、その出力信号を参照してCCDラインイメージセンサ831の読み取り周期を決める制御信号(シフトパルス)を調整して搬送方向における読み取り周期を調整することも可能である。
【0084】
例えば、CCDラインイメージセンサ831の読取りエリアHの近傍の1点にレーザ光線を当て、この反射光を光検出器で受ける。この出力から、検知対象の凹凸パターンに近いと思われる周期の信号成分をバンドパスフィルタにより取り出し、その信号成分の周期とCCDラインイメージセンサ831のシフトパルスの周期とが僅かに異なるようにCCDラインイメージセンサ831のシフトパルスを調整する。これにより、被検体の個体差によりモアレ現象の発生条件に多少の揺らぎが生じても、安定的にモアレ現象を発生させて凹凸パターンQを検知できる。また、CCDラインイメージセンサ831のシフトパルスを調整するのではなく、被検体の搬送速度を調整するようにしてもよい。
【0085】
なお、本発明は上記第1〜第4の各実施の形態に限定されるものではない。すなわち、マスクのパターンは必ずしも縦縞模様である必要は無く、同心円状・放射状直線群・斜め交差の直線群2群等であってもよい。このようにすることにより、単に縦縞の凹凸パターンのみでなく、様々な凹凸パターンの有無を検知できる。
【0086】
また、照明方向は、左右2方向から斜め照明するものの他、ややスキュー角をつけた方向、例えば左上と右下の2方向から斜め照明するものでもよい。このようにすることにより、縦縞の凹凸パターンのみでなく、横縞の凹凸パターンについても影が発生し、凹凸パターン判別に用いることができる。また、向かい合った2方向ではなく、向き合わない2方向、例えば左上と右上の2方向から斜め照明するものでもよい。向かい合った2方向の場合には、凹凸の縞パターンの向きが、照明の向き合った角度と平行になった場合には影が発生せず、凹凸があることが全くわからないが、向き合わない2方向から照明すれば、どのような向きの凹凸パターンが入っても必ず影が発生する。
【0087】
さらに、照明方向は予め決められた静的な2方向ばかりでなく、時間的に変化する2方向であっても良い。例えば、向かい合った2方向から照明するときの、照明の向き合った角度が時間的に回転するものや、ある時間間隔で切り替わるもの等でも良い。このようにすることにより、どのような向きの凹凸の縞パターンが入っても必ず影が発生し、ある特定の向きの凹凸の縞パターンに対して感度が低いといったことが起こりにくくなる。
【0088】
さらにまた、照明方向は2方向に限らず、3方向以上であっても良い。このようにすることにより、どのような向きの凹凸の縞パターンが入っても必ず影が発生し、ある特定の向きの凹凸の縞パターンに対して感度が低いといったことが起こりにくくなる。この他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能であるのは勿論である。
【0089】
(第5の実施の形態)
図11は本発明の第5の実施の形態に係る凹凸パターン検査装置910の全体の概略構成を示すブロック図、図12の(a),(b)は凹凸パターン検出装置910の測定方法の概要を示す説明図、図13の(a)は凹凸パターン検査装置910に組み込まれたCCDラインセンサ931を示す下面図、図14は凹凸パターン検査装置910に組み込まれシートCを搬送する搬送機構950の要部を示す説明図である。なお、これらの図中MはシートCの搬送方向、M′は逆搬送方向、Nは被検査面C1上で搬送方向Mに直交する直交方向を示している。さらに、図中Dは被検査面C1上の検査領域を示している。また、シートCは例えば紙のように柔軟な性質を有するものである。
【0090】
凹凸パターン検査装置910は、検査対象物であるシートCの被検査面C1上において100〜300μmピッチの縦縞からなる凹凸パターンPの有無を検査するものである。なお、被検査面C1に設けられる凹凸パターンPは、凸部分Tが縦横に直交するパターンで、地部分Uは淡色系、例えば白色で、凸部分Tが濃色系、例えば黒色の色、形状を持つものである。なお、本発明はこれに限定されるものではなく、地部分Uに濃色系の模様が入ったり、凸部分Tが淡色系であっても、凹凸の検出は可能である。
【0091】
凹凸パターン検査装置910は、被検査面C1に対して逆搬送方向M′及び直交方向Nから照明光R1,B1を所定の入射角(例えば60〜65°)で照射する照明部920と、被検査面C1からの画像を撮像する撮像部930と、この撮像部930で撮像された画像を処理し、凹凸パターンPの有無を判断する画像処理部940と、シートCを所定の搬送方向に搬送する搬送機構950と、これら各部を連携動作させる制御部960とを備えている。
【0092】
図12の(a)に示すように、照明部920は、一対の照明装置921,922を備えている。照明装置921は、被検査面C1に対して逆搬送方向M′側から斜め照明する白色の光源921aと、赤色のフィルタ921bとを備えている。また、照明装置922は、直交方向N側から斜め照明する白色の光源922aと、青色のフィルタ922bとを備えている。すなわち、被検査面C1上では図12の(b)に示すように赤色光R1,青色光B1が照射されることになる。なお、光源921a,922aを白色ではなく、それぞれ赤色及び青色の光源とすることで、フィルタ921b,922bを省略してもよい。
【0093】
撮像部930は、図13の(a)に示すように、その走査方向が直交方向Nに設定されたCCDラインセンサ(撮像素子)931を備えている。なお、シートCを搬送機構950により搬送方向Mに搬送し、かつ、CCDラインセンサ931により繰り返し直交方向Nにおける走査を行うことにより、二次元の画像を得ることができる。また、CCDラインセンサ931は、赤色に反応する画素931a及び青色に反応する画素931bの2種類が交互に並べられて形成されている。
【0094】
画像処理部940は、CCDラインセンサ931により得られた二次元の画像を処理し、被検査面C1上の凹凸パターンPの有無及び形状を判断し、予め記憶された凹凸パターンPの形状と比較し、その良否を判別する機能を有している。
【0095】
搬送機構950は、図14の(a)に示すように、シートCを供給する供給部(不図示)とシートCを排出する排出部(不図示)との間に配置されたドラム951を備えている。シートCはドラム951に円弧状に巻き付くように供給されることで、シートCが屈曲されて搬送される。また、シートCが屈曲する位置が検査領域Dとなるように設定されている。これにより、照明部920と被検査面C1とが一定の角度θを有した場合であっても照明部920とシートCとが干渉することはない。
【0096】
このように構成された凹凸パターン検査装置910による検査方法について説明する。すなわち、搬送機構950により、シートCが検査領域Dまで搬送される。検査領域Dに到達したシートCは、ドラム951により上に凸に屈曲される。照明装置921及び照明装置922によりシートCの被検査面C1にそれぞれ赤色光R1、青色光B1がそれぞれ入射角θで照射される。
【0097】
図15〜図17は、凹凸パターン検査装置910の検査原理を示す説明図である。すなわち、照明装置21からは赤色光R1、照明装置922からは青色光B1が照射されることにより、シートCの検査領域D上では、凸部Tの照射方向の反対側に影が生ずる。すなわち、赤色光R1に対しては、直交方向Nに沿って形成された部位に対応した影S1が、青色光B1に対しては、搬送方向Mに沿って形成された部位に対応した影S2がそれぞれ地部分Uに生じる。このとき影S1,S2の長さは、照射する赤色光R1、青色光B1の入射角θと、凸部Tの高さHtによって決定される。
【0098】
一方、撮像部930においては検査領域Dを上方から撮像することにより、2種類の画像が得られる。第1の画像は、図16の(a)に示すように、赤色に感度を持つ画素による画像、すなわち凹凸パターンPの凸部T及びその影S1が暗く、その他の部分が明るい画像である。第2の画像は、図16の(b)に示すように、青色に感度を持つ画素による画像、すなわち凹凸パターンPの凸部T及びその影S2が暗く、その他の部分が明るい画像が得られる。これらの2種類の画像は画像処理部940に送られる。
【0099】
画像処理部940では、これら第1及び第2の画像に基づいて画像処理を行い、差分の画像を得る。差分の画像は、図16の(c)に示すように、凹凸パターンPの凸部Tの濃色部分は相殺され、凹凸パターンPの影S1,S2のみの画像が得られることになる。したがって、影S1,S2の有無と長さを求めることにより、凸部Tの有無と高さHtを求めることが可能となる。
【0100】
このように凹凸パターン検査装置910では、図17の(a)に示すように、凹凸パターンPが直交方向Nに延びている場合には、逆搬送方向M′からの赤色光による検査領域Dの反射画像において図17の(b)に示すように影Sが生じ、直交方向Nからの青色光による検査領域Dの反射画像においては図17の(c)に示すように影が生じない。このため、図17の(d)に示すように、これら反射画像の差分を取った画像においては影Sのみを抽出することができることとなり、凹凸パターンPの検出が可能となる。
【0101】
一方、図18の(a)に示すように、凹凸パターンPが搬送方向Mに延びている場合には、逆搬送方向M′からの赤色光による検査領域Dの反射画像においては図18の(b)に示すように影Sが生じず、直交方向Nからの青色光による検査領域Dの反射画像においては図18の(c)に示すように影S′が生じる。このため、図18の(d)に示すように、これら反射画像の差分を取った画像においては影S′のみを抽出することができることとなり、凹凸パターンPの検出が可能となる。
【0102】
すなわち、凹凸パターン検出装置910によれば、凹凸パターンPの凸部Tの延びる方向がどちらであっても凹凸パターンPの有無及び高さの検出が可能となる。
【0103】
上述したように本第5の実施の形態に係る凹凸パターン検査装置910によれば、簡単な構成で凹凸パターンPの形状に関わらずその検出が可能である。また、シートCを検査領域Dの位置で屈曲させているので、照明装置921,922からの照明光の検査領域Dへの入射角を十分に大きくとることができるとともに、シートCを安定して搬送できるので、より精度の高い検出が可能となる。
【0104】
図13の(b)は、上述した第5の実施の形態に係る凹凸パターン検出装置10に組み込まれた撮像部930の第1の変形例を示す図である。すなわち、画素が一列に設けられているCCDラインセンサ931の代わりに、画素が二列に設けられたCCDラインセンサ932を用いても良い。CCDラインセンサ932は、赤色に対応する画素が所定のピッチpで配置された画素列932aと、青色に対応する画素が所定のピッチpで配置された画素列932bが形成されている。この場合、各画素のピッチpを小さくすることができるので、CCDラインセンサ931を用いた場合に比べ、より高精度の検査を行うことが可能である。
【0105】
なお、CCDラインセンサ932においては、同一の検査領域Dを撮像するためには、画素列932a,932b間の間隔dを補正する必要がある。そこで、シートCの搬送速度をVとした場合、時間δだけ画像の取り込みを遅らせることで、同一の検査領域Dを撮像することが可能となる。
【0106】
この他、CCDラインセンサではなく、例えばCCDエリアイメージセンサを用いるようにしてもよい。この場合、検査領域Dを一度に撮像することにより、画像を取得することが可能である。
【0107】
図14の(b)は、上述した第5の実施の形態に係る凹凸パターン検査装置10に組み込まれた搬送機構950の変形例に係る搬送機構952を示す図である。搬送機構952は、ベルト搬送路952aとローラ952bとによってシートCを屈曲させるようにしてもよい。
【0108】
(第6の実施の形態)
図19及び図20は、図11に示した本発明の第6の実施の形態に係る凹凸パターン検査装置910Aの検査原理を示す説明図である。本凹凸パターン検査装置910Aでは撮像部930の代わりに撮像部980を用いている。すなわち、撮像部930では、色を識別できるCCDラインセンサ及びCCDエリアイメージセンサを用いているが、撮像部980では、カラーフィルタ981,982及びモノクロセンサを用いている。
【0109】
図19の(a)に示すようなカラーフィルタ981は、赤色(R)及び青色(B)の小フィルタ981a,981bが直交方向Nに沿って交互に配置されている。このようなカラーフィルタ981を用いた場合には、赤色光R1による検査領域Dの反射画像は小フィルタ981aを透過して、凸部T及び影S3を形成する。一方、青色光B1による検査領域Dの反射画像は小フィルタ981bを透過して、凸部T及び影S4を形成する。すなわち、凸部Tがいずれの画面でもモノクロセンサにより検出できるのに対し、影については小フィルタ981a,981b毎に照射光の方向によって、検出されたり、検出されなかったりすることになる。
【0110】
これら2つの画像の差分をとることにより、図19の(b)に示すような画像が形成される。これにより、凹凸パターンPを検出することができる。なお、小フィルタ981a,981bの大きさはモノクロセンサの画素と1対1で対応する必要は無く、複数の画素が1つの小フィルタに対応するようにしてもよい。
【0111】
図20の(a)に示すようなカラーフィルタ982は、赤色(R)及び青色(B)の小フィルタ982a,982bが直交方向N及び搬送方向Mに沿って桝目状に、かつ、交互に配置されている。このようなカラーフィルタ982を用いた場合には、赤色光R1による検査領域Dの反射画像は小フィルタ982aを透過して、凸部T及び影S5を形成する。一方、青色光B1による検査領域Dの反射画像は小フィルタ981bを透過して、凸部T及び影S6を形成する。すなわち、凸部Tがいずれの画面でもモノクロセンサにより検出できるのに対し、影については小フィルタ982a,982b毎に照射光の方向によって、検出されたり、検出されなかったりすることになる。
【0112】
これら2つの画像の差分をとることにより、図20の(b)に示すような画像が形成される。これにより、凹凸パターンPを検出することができる。
【0113】
(第7の実施の形態)
図21の(a)は本発明の第7の実施の形態に係る凹凸パターン検査装置910Aの要部構成を示す図である。図21において上述した図11,12と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【0114】
凹凸パターン検査装置910Aは、上述した凹凸パターン検査装置910の照明部920の代わりに照明部920A、撮像部930の代わりに撮像部930A、画像処理部940の代わりに画像処理部940Aを備えている。
【0115】
照明部920Aは、照明装置921,922に加え、照明装置923が設けられている。照明装置923は、被検査面C1に対して搬送方向M側から斜め照明する白色の光源923aと、緑色のフィルタ923bとを備えている。
【0116】
撮像部930Aは、CCDラインセンサは、赤色に反応する画素、青色に反応する画素、緑色に反応する画素の3種類が直交方向Nに沿って交互に並べられている。
【0117】
画像処理部940Aでは、図21の(b)に示すような論理回路にて色分離された画像信号が全ての画像の差分が得られるように処理される。
【0118】
このように構成された凹凸パターン検査装置910Aによる検査方法について説明する。ここでは図22の(a)に示すような搬送方向M及び直交方向Nの両方向に対し45°ずつずれた方向に延びる凸部Tが形成されている。すなわち、搬送機構により、シートCが検査領域Dまで搬送される。検査領域Dでは、照明装置921〜923によりシートCの被検査面C1にそれぞれ赤色光R1、青色光B1、緑色光G1が照射される。
【0119】
一方、撮像部930Aにおいては3種類の画像が得られる。1つ目の画像は、図22の(b)に示すように、赤色に感度を持つ画素による画像、すなわち凹凸パターンPの凸部T及びその影S10が得られる。2つ目の画像は、図22の(c)に示すように、青色に感度を持つ画素による画像、すなわち凹凸パターンPの凸部T及びその影S11が得られる。3つ目の画像は、図22の(d)に示すように、緑色に感度を持つ画素による画像、すなわち凹凸パターンPの凸部T及びその影S12が得られる。これらの3種類の画像の差分の画像を画像処理部940Aにて画像処理することにより、図22の(e)に示す画像、すなわち凸部Tは相殺され、影S13のみの画像が得られることになる。したがって、その有無と長さを求めることにより、凸部Tの有無と高さを求めることが可能となる。
【0120】
上述したように、第7の実施の形態に係る凹凸パターン検査装置910Aによれば、第5の実施の形態に係る凹凸パターン検査装置910の2つの照明装置921,922を用いた場合に検出できない斜め方向の凹凸パターンに対しても、効果的に影を抽出することができ、凹凸パターンPの検出が可能となる。
【0121】
なお、本発明は上記第5〜第7の各実施の形態に限定されるものではない。すなわち、上述した実施の形態の凹凸パターン検出装置ではシートにより屈曲させていたが、平面の状態であっても検出は可能である。また、シートを屈曲させて搬送する方法は凹凸パターン検出装置以外の検出・測定方法に適用しても良い。この他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能であるのは勿論である。
【0122】
【発明の効果】
本発明によれば、低い解像度を有するイメージセンサであっても細かく密集した凹凸パターンを検知することが可能となる。また、検査対象物の凹凸パターンの方向に関わらず検査が可能であり、また、シート状の検査対象物の安定した搬送を行うとともに、照明の入射角を充分にとることで精度の高い検査を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る凹凸パターン検知装置の概要を示す説明図。
【図2】同凹凸パターン検知装置による照射領域を示す説明図。
【図3】同凹凸パターン検知装置による検知原理を示す説明図。
【図4】同凹凸パターン検知装置による検知原理を示す説明図。
【図5】同凹凸パターン検知装置による検知原理を示す説明図。
【図6】同凹凸パターン検知装置によるモアレ画像の濃度変化の位相を示す説明図。
【図7】同凹凸パターン検知装置の変形例を示す説明図。
【図8】同凹凸パターン検知装置の別の変形例を示す説明図。
【図9】本発明の第3の実施の形態に係る凹凸パターン検知装置の概要を示す説明図。
【図10】本発明の第4の実施の形態に係る凹凸パターン検知処理装置の概要を示す説明図。
【図11】本発明の第1の実施の形態に係る凹凸パターン検査装置全体の概略構成を示すブロック図。
【図12】同凹凸パターン検査装置の測定方法の概要を示す説明図。
【図13】同凹凸パターン検査装置に組み込まれたCCDラインセンサを示す説明図。
【図14】同凹凸パターン検査装置に組み込まれた搬送機構の要部を示す説明図。
【図15】同凹凸パターン検査装置による検査原理を示す説明図。
【図16】同凹凸パターン検査装置による検査原理を示す説明図。
【図17】同凹凸パターン検査装置による検査原理を示す説明図。
【図18】同凹凸パターン検査装置による検査原理を示す説明図。
【図19】本発明の第2の実施の形態に係る凹凸パターン検出装置の検出原理を示す説明図。
【図20】同凹凸パターン検出装置の検出原理を示す説明図。
【図21】本発明の第3の実施の形態に係る凹凸パターン検査装置を示す図であって、(a)は概略構成を示すブロック図、(b)は検査原理を示す説明図。
【図22】同凹凸パターン検出装置の検出原理を示す説明図。
【図23】従来の段差検知装置の概要を示す説明図。
【図24】同段差検知装置による検知原理を示す説明図。
【図25】従来の凹凸パターン検査装置の一例を示す図。
【図26】同凹凸パターン検査装置の問題点を示す説明図。
【図27】同凹凸パターン検査装置の別の問題点を示す説明図。
【符号の説明】
100…凹凸パターン検知装置
200…照明部
300…マスク部
400…撮像部
500…画像処理部
910,910A…凹凸パターン検査装置
920,920A…照明部
921,922…照明装置
930,930A,980…撮像部
931,932…CCDラインセンサ
940,940A…画像処理部
950…搬送機構
960…制御部

Claims (7)

  1. 被検知面上の所定のピッチを有する凹凸パターンの有無を検知する凹凸パターン検知装置において、
    第1の照射光を前記被検知面の第1の照射領域に照射し、前記第1の照射領域とは異な第2の照射領域に前記第1の照射光とは異なる方向から第2の照射光を照射する照明手段と、
    前記第1の照射領域および前記第2の照射領域を前記所定のピッチとは異なるピッチを有するマスクと重ね合せて撮像する撮像手段と、
    この撮像手段によって得られるモアレ画像の濃度変化を検出し、前記第1の照射領域と前記第2の照射領域とのモアレ画像の濃度変化の位相差を検知することで前記凹凸パターンの有無を判断する画像処理手段とを備えていることを特徴とする凹凸パターン検知装置。
  2. 前記凹凸パターンは一定のピッチを有し、
    前記マスクのパターンは一定のピッチを有するとともに、そのピッチが前記凹凸パターンのピッチの0.75倍以上1.25倍以下に設定されていることを特徴とする請求項1記載の凹凸パターン検知装置。
  3. 被検知面上の所定のピッチを有する凹凸パターンの有無を検知する凹凸パターン検知装置において、
    第1の照射光を前記被検知面の第1の照射領域に照射し、前記第1の照射領域とは異な第2の照射領域に前記第1の照射光とは異なる方向から第2の照射光を照射する照明手段と、
    前記第1の照射領域および前記第2の照射領域を前記所定のピッチとは異なる画素ピッチを有する複数の画素により撮像する撮像手段と、
    この撮像手段によって得られるモアレ画像の濃度変化を検出し、前記第1の照射領域と前記第2の照射領域とのモアレ画像の濃度変化の位相差を検知することで前記凹凸パターンの有無を判断する画像処理手段とを備えていることを特徴とする凹凸パターン検知装置。
  4. 前記凹凸パターンは所定方向について一定のピッチを有し、
    前記画素ピッチは前記所定方向について前記凹凸パターンのピッチの0.375倍以上0.625倍以下であることを特徴とする請求項3記載の凹凸パターン検知装置。
  5. 被検体の被検知面に設けられた所定のピッチを有する凹凸パターンの有無を検知する凹凸パターン検知装置において、
    第1の照射光を前記被検知面の第1の照射領域に照射し、前記第1の照射領域とは異な第2の照射領域に前記第1の照射光とは異なる方向から第2の照射光を照射する照明手段と、
    所定の搬送方向に搬送される前記被検体の前記被検知面に対して、前記搬送方向と交差するライン状の撮像領域の画像を前記所定のピッチとは異なる解像度で順次入力する撮像手段と、
    前記撮像手段によって得られるモアレ画像の濃度変化を検出し、前記第1の照射領域と前記第2の照射領域とのモアレ画像の濃度変化の位相差を検知することで前記凹凸パターンの有無を判断する画像処理手段とを備えていることを特徴とする凹凸パターン検知装置。
  6. 前記凹凸パターンは所定方向について一定のピッチを有し、
    前記解像度は前記所定方向について前記凹凸パターンのピッチの0.375倍以上0.625倍以下であることを特徴とする請求項5記載の凹凸パターン検知装置。
  7. 被検体の被検知面に設けられた所定のピッチを有する凹凸パターンの有無を検知することが可能な凹凸パターン検知処理装置において、
    第1の照射光を前記被検知面の第1の照射領域に照射し、前記第1の照射領域とは異な第2の照射領域に前記第1の照射光とは異なる方向から第2の照射光を照射する照明手段と、
    所定の搬送方向に搬送される前記被検体の被検知面に対して、前記搬送方向と交差するライン状の撮像領域の画像をモアレを発生させる解像度で順次入力する撮像手段と、
    前記撮像手段によって得られるモアレ画像の濃度変化を検出し、前記第1の照射領域および前記第2の照射領域とのモアレ画像の濃度変化の位相差を検知することで前記凹凸パターンの有無を判断する画像処理手段と、
    この画像処理手段による前記凹凸パターンの有無情報に基づいて前記被検体を処理する被検体処理手段とを備えていることを特徴とする凹凸パターン検知処理装置。
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