JP3731616B2 - Coating apparatus and coating method, and color filter manufacturing apparatus and manufacturing method - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、平坦な枚葉部材などの被塗布部材の表面に塗布液を塗布し、その塗膜を形成するための塗布装置および塗布方法、並びに、これら塗布装置および塗布方法を用いたカラー液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造装置および製造方法に関する。
【0002】
【関連する背景技術】
カラー液晶ディスプレイ用のカラーフィルタは、被塗布部材としてのガラス基板上に3原色の細かな格子模様を有しており、このような格子模様はガラス基板上に黒色の塗膜を形成した後に、赤、青、緑の塗膜を順次形成していき、これにより、ガラス基板上を3原色に塗り分けて得られる。
【0003】
それゆえ、カラーフィルタの製造には、ガラス基板上に黒、赤、青、緑の塗布液を順次塗布して、その塗膜を形成していく形成工程が必要不可欠となる。この種の塗膜の形成工程には従来、塗布装置としてのスピナー、バーコータあるいはロールコータなどが使用されていたが、塗布液の消費を削減し、また、塗膜の物性を向上する上で、近年に至ってはダイコータの使用が検討されている。
【0004】
この種のダイコータ(流体塗布装置)はたとえば特開平6-339659号公報に開示されており、この公知のダイコータは水平方向に往復動可能なテーブルと、このテーブルの上方に塗布アームを介して昇降可能に設けられた塗布ヘッドとを備えている。塗布ヘッドは塗布アームとともに、テーブル上に載置されたガラス基板の板厚に応じて所定の位置まで下降し、塗布ヘッドとガラス基板との間に所定のクリアランスが確保される。この状態で、テーブルとともにガラス基板を一定の速度で移動させて、塗布ヘッドの直下を通過させ、そして、同時に、その塗布ヘッド下面の吐出口から塗布液をガラス基板上に吐出させることで、ガラス基板上に塗布液の塗膜が形成されることになる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
上述したタイプのダイコータにおいて、その形成すべき塗膜の膜厚を均一にするには、塗布ヘッドつまり塗布器の吐出口とガラス基板の上面との間に規定される前記クリアランスを一定にしなければならない。
しかしながら、公知のダイコータは前記クリアランスの設定にあたり、ガラス基板の板厚は考慮しているものの、塗布アームに対する塗布器の取り付けに関しては何ら考慮されていない。このため、塗布アームへの塗布器の取り付けに誤差が発生したり、また、塗布器自体の大きさ、つまり、その高さ寸法が異なる場合には、前記クリアランスを一定に維持することができず、その調整に多大な手間と労力を必要とする。
【0006】
この発明は、上述の事情に基づいてなされたもので、その目的とするところは、塗布器が交換された場合にあっても、塗布器の吐出口と被塗布部材との間に確保すべきクリアランスを正確に得ることができる塗布装置および塗布方法、並びに、これら塗布装置および塗布方法を用いたカラーフィルタの製造装置および製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記の目的はこの発明の塗布装置によって達成され、請求項1の塗布装置は、塗布液を供給する供給手段と、この供給手段からの塗布液の供給を受け、一方向に延びる吐出口から塗布液を吐出可能な塗布器と、被塗布部材が載置可能なステージと、前記塗布器を前記被塗布部材に近接させる近接手段と、この近接手段による前記塗布器の移動を介して、前記ステージに載置された被塗布部材と前記塗布器の吐出口との間に所定のクリアランスを確保するクリアランス設定手段と、前記塗布器および前記ステージのうち少なくとも一方を相対的に移動させる移動手段とを備えている。
【0008】
そして、請求項1の塗布装置の場合、クリアランス設定手段は、塗布器または該塗布器を保持するホルダ参照レベル位置を決定するセッティング手段と、この参照レベルを基準点として被塗布部材の厚みおよびクリアランスに基づき、塗布器またはホルダの移動目標レベル位置を演算する演算手段と、移動目標レベル位置に塗布器またはホルダの実レベル位置を一致させるべく、近接手段の作動を制御する制御手段とを含んでいる。
【0009】
上述した請求項1の塗布装置によれば、たとえば塗布器が交換されると、塗布器または塗布器を保持するホルダの参照レベル位置が先ず決定され、この後、その参照レベル位置を基準として、被塗布部材の厚みや確保すべきクリアランスに基づき演算して求めた塗布器またはホルダの目標移動レベル位置にその実レベル位置が一致され、この結果、被塗布部材と塗布器の吐出口との間に正確なクリアランスが確保される。
【0010】
さらに、請求項1の塗布装置の場合、参照レベルのセッティング手段は、ホルダに塗布器が保持されている状態で、塗布器の吐出口または吐出口と同一の面内の別の被測定面を検出してステージの上面と塗布器の吐出口との間の離間距離を測定し、その離間距離値を出力する距離測定手段と、ホルダに塗布器が取付けられたときにステージの上面に載置され、距離測定手段の較正に使用される検定ブロックと、離間距離の検出時、ホルダのレベル位置を検出し、そのレベル位置値を出力するレベル検出手段と、離間距離値とレベル位置値とに基づき、塗布器の吐出口がステージ上にあると仮定したときの前記ホルダのレベル位置を参照レベルとして算出する算出手段と有する。
【0011】
請求項1の塗布装置によれば、塗布器が交換されたとき、先ず、距離測定手段の較正が行われた後、ホルダとともに塗布器が所定の位置まで移動され、この時点での塗布器の吐出口とステージの上面との間の離間距離およびホルダのレベル位置がそれぞれ検出される。そして、これら検出されたレベル位置値と離間距離値とに基づき、ホルダの参照レベル、つまり、塗布器の吐出口がステージの上面に接触するまで移動した時点でのホルダのレベル位置が参照レベルとして算出される。
【0012】
このようにしてホルダの参照レベルが求められると、前述したようにその参照レベルに基準として、ホルダの移動目標レベル位置が決定され、被塗布部材と塗布器の吐出口との間に正確なクリアランスが確保される。
【0013】
請求項2の塗布装置の場合、その距離測定手段は、一対の測定器を備えており、これら測定器はステージ側に配置され、塗布器における吐出口両端での離間距離をそれぞれ検出し、そして、その近接手段は、塗布器の吐出口とほぼ直交する方向に延びる回転軸線を有し、この回転軸線を中心としてホルダをほぼ垂直面内で回転自在に支持する支持手段と、各測定器からの出力に基づいてホルダを回転させ、塗布器の吐出口をステージの表面と平行に調整する調整手段とをさらに備えている。
【0014】
請求項2の塗布装置によれば、塗布器の吐出口とステージの表面との間の離間距離がその吐出口両端にてそれぞれ検出され、その検出の結果、これら左右の軸間距離値が相違する場合、ホルダが回転されることにより、塗布器の吐出口は被塗布部材と平行に調整され、そして、この時点での左右の離間距離がホルダの参照レベルの算出に使用される。
【0015】
請求項3の塗布装置の場合、その距離測定手段の各測定器は、検出精度の粗い第1センサと、この第1センサよりも検出精度の高い第2センサとからなっている。請求項3の塗布装置によれば、先ず、第1センサからの出力に基づき、ホルダの回転角位置が粗調整され、この後、第2センサからの出力に基づき、ホルダの回転角位置が微調整される結果、塗布器における吐出口の平行調整が迅速に行われる。
【0016】
請求項4の塗布装置の場合、距離測定手段は、その離間距離の測定を助けるために被測定面を備えており、この被測定面は塗布器に形成され、塗布器の吐出口と同一の面内に位置付けられている。請求項4の塗布装置によれば、離間距離の検出にあたり、塗布器の吐出口とステージ表面との間の距離を直接に測定する必要がなく、また、その被測定面には所望の面積が確保される。
【0017】
請求項5の塗布装置の場合、その制御手段は近接手段によるホルダの移動速度を10 m/min以下に制限しており、この場合、ホルダの移動停止時、塗布器の吐出口から塗布液が不所望にして漏れ出すことはない。
請求項6のカラーフィルタの製造装置は、上述した請求項1〜5のいずれかの塗布装置を使用してカラーフィルタを製造し、この場合、高品質なカラーフィルタが得られる。
【0018】
請求項7の塗布方法は、ステージに載置された被塗布部材に対し、塗布器またはホルダにより保持された塗布器を移動させ、塗布器の一方向に延びる吐出口と被塗布部材との間に所定のクリアランスを確保するクリアランス設定工程と、塗布器の吐出口から塗布液を吐出しながら、塗布器および被塗布部材のうち少なくとも一方を相対的に移動させることにより、被塗布部材の表面に塗布液の塗膜を形成する形成工程とを備えている。
【0019】
そして、請求項7の塗布方法の場合、そのクリアランス設定工程は、塗布器またはホルダの参照レベル位置を決定するセッティングステップと、参照レベルを基準点として被塗布部材の厚みおよびそのクリアランスに基づき、塗布器またはホルダの移動目標レベル位置を演算する演算ステップと、移動目標レベル位置に塗布器またはホルダの実レベル位置を一致させるべく、塗布器またはホルダの移動を制御する制御ステップとを含んでいる。
【0020】
さらに、請求項7の塗布方法の場合、そのセッティングステップは、ホルダに塗布器が保持されている状態で、塗布器の吐出口または吐出口と同一の面内の別の被測定面を検出してステージの上面と塗布器の吐出口との間の離間距離を測定し、その離間距離値を出力する距離測定プロセスと、ホルダに塗布器が取付けられたときにステージの上面に検定ブロックを載置し、離間距離を測定する測定器の較正を行う較正プロセスと、離間距離の測定時、ホルダのレベル位置を検出し、そのレベル位置値を出力するレベル検出プロセスと、検出された離間距離値とレベル位置値とに基づき、塗布器の吐出口が前記ステージ上にあると仮定したときのホルダのレベル位置を参照レベルとして算出する算出プロセスと含んでいる。
【0021】
この場合、上述した請求項7の塗布方法は、請求項1の塗布装置と同様な作用を発揮する。
請求項8の塗布方法の場合、その距離測定プロセスでは、一対の測定器により塗布器における吐出口の両端にて、それらの離間距離が検出され、そして、クリアランス設定工程は、セッティングステップに先立ち、一対の測定器からの出力に基づき、ホルダの回転を介して塗布器の前記吐出口をステージの表面と平行に調整する準備ステップをさらに含んでいる。
【0022】
この場合、請求項8の塗布方法は、請求項2の塗布装置と同様な作用を発揮する。
【0023】
請求項9の塗布方法の場合、その距離測定プロセスでは、検出精度の粗い第1センサと、この第1センサよりも検出精度の高い第2センサとが使用され、この場合、その塗布方法は、請求項3の塗布装置と同様な作用を発揮する。
請求項10の塗布方法の場合、その距離測定プロセスでは、塗布器に設けられ、その吐出口と同一の面内に位置した被測定面とステージの上面との間隔が離間距離として検出される。この場合、その塗布方法は、請求項4の塗布装置と同様な作用を発揮する。
【0024】
請求項11の塗布方法の場合、その制御ステップでは、ホルダの移動速度が10 m/min以下に制限され、この場合、その塗布方法は、請求項5の塗布装置と同様な作用を発揮する。
請求項12のカラーフィルタの製造方法は、請求項7〜11のいずれかの塗布方法を使用してカラーフィルタを製造し、この場合、高品質なカラーフィルタが得られる。
【0025】
【発明の実施の形態】
図1を参照すると、カラー液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造に適用される塗布装置いわゆるダイコータが示されており、このダイコータは基台2を備えている。基台2上には一対のガイド溝レール4が設けられており、これらガイド溝レール4にはステージ6が配置され、このステージ6の上面はサクション面として構成されている。ステージ6は一対のスライド脚8を介してガイド溝レール4上を水平方向に往復動自在となっている。
【0026】
本実施例では、ステージ6が往復動するようにしたが、後述するスリットダイ40がステージ6に対して往復動する構成であってもよい。要は、ステージ6およびスリットダイ40のうちの少なくとも一方が往復動すればよい。
【0027】
一対のガイド溝レール4間には送り機構を内蔵したケーシング12が配置されており、ケーシング12はガイド溝レール4に沿って延びている。送り機構は、図2に示されているようにボールねじからなるフィードスクリュー14を有しており、フィードスクリュー14はステージ6の下面に固定されたナット状のコネクタ16にねじ込まれ、このコネクタ16を貫通して延びている。フィードスクリュー14の両端部は図示しない軸受に回転自在に支持されており、その一端にはACサーボモータ18が連結されている。なお、ケーシング12の上面にはコネクタ16の移動を許容する開口が形成されているが、図1にはその開口が省略されている。
【0028】
基台2の上面にはその一端側に位置してセンサ柱20が配置されている。センサ支柱20は逆L字形をなし、その先端は一方のガイド溝レール4の上方まで延びている。センサ支柱20の先端には電動型の昇降アクチュエータ21が取り付けられており、この昇降アクチュエータ21に厚みセンサ22が下向きして取り付けられている。
【0029】
図3に示されているように厚みセンサ22はケーシング23を有し、このケーシング23の下面にはその一部に三角形状の突出部25が形成されている。ケーシング23にはレーザ光などの測定光の光源27が内蔵されており、この光源27からの測定光Pはケーシング23の平坦な下面部を通じて、突出部25側かつ斜め下方に向けて出射されるようになっている。また、ケーシング23の突出部25には受光部29およびこの受光部29に電気的に接続された測定回路(図示しない)が内蔵されており、この受光部29はたとえば多数の受光素子を配列した受光アレイからなっている。
【0030】
今、ステージ6上に設置された枚葉部材である被塗布部材としてのガラス基板Aに向けて厚みセンサ22が降下され、これら厚みセンサ22とガラス基板Aとの間に所定の間隔が確保されているとする。この状態で、厚みセンサ22の光源27から測定光Pが出射されると、この測定光はガラス基板Aの上面及び下面にてそれぞれ反射され、これら反射光が厚みセンサ22における突出部25の外面を通じて受光部29に入射される。測定回路では、受光部29に入射した反射光の入射位置を検出し、これら入射位置の差に基づき、ガラス基板の厚みを測定し、その厚みに対応した厚み信号を出力するようになっている。なお、厚みセンサ22としては上述のタイプに限らず、レーザ変位計、電子マイクロ変位計、超音波厚さ計などを使用することができる。
【0031】
図1を再度参照すると、基台2の上面にはセンサ支柱20よりも基台2の中央側に位置してダイ支柱24が配置されており、このダイ支柱24もまた逆L字形をなしている。ダイ支柱24の先端には昇降機構26が取り付けられており、昇降機構26は図4および図5から明らかなように昇降ブラケット31を備えており、この昇降ブラケット31は一対のガイドロッド33に昇降自在に取り付けられている。これらガイドロッド33の上部はダイ支柱24側に支持されている。ガイドロッド33間にはボールねじからなるフィードスクリュー35が配置されており、このフィードスクリュー35の下端は、昇降ブラケット31内のナット型のコネクタ(図示しない)にねじ込まれている。このコネクタは昇降ブラケット31に回転不能にして固定されている。フィードスクリュー35の上端部はガイドロッド33およびフィードスクリュー35を収容したケーシング28(図1参照)に軸受(図示しない)を介して回転自在に支持されており、その上端にはACサーボモータ30(図1参照)が連結されている。
【0032】
昇降ブラケット31には支持軸37を介してダイホルダ32が取り付けられており、このダイホルダ32は図1に示すように平面方向矢視でコ字形をなし、かつ、一対のガイド溝レール4の上方をこれらレール4間に亘って水平に延びている。支持軸37は昇降ブラケット31内にて回転自在に支持されており、これにより、ダイホルダ32は支持軸37とともに垂直面内で回転することができる。
【0033】
昇降ブラケット31には、ダイホルダ32の上方に位置して水平バー36が固定されており、この水平バー36はダイホルダ32に沿って延びている。水平バー36の両端部には、電磁作動型のリニアアクチュエータ38aとばね付きロッド38bとがそれぞれ取り付けられている。これらリニアアクチュエータ38aおよびばね付きロッド38bは水平バー36の下面から突出する伸縮ロッド38cを有しており、これら伸縮ロッド38cがダイホルダ32の両端にそれぞれ当接されている。ばね付きロッド38bの伸縮ロッド38cは、ケーシング内の圧縮ばね(図示省略)によって、その動きが規制されている。すなわち、リニアアクチュエータ38aの伸縮ロッド38cが伸縮し、支持軸37を中心にダイホルダ32が回転すれば、これに応じてばね付きロッド38bの伸縮ロッド38cがばねの作用によって伸縮する。ダイホルダ32の傾きが定まれば、ブレーキ(図示せず)がダイホルダ32を保持する。
【0034】
ダイホルダ32内には塗布器としてのスリットダイ40が取り付けられている。このスリットダイ40からは図2に示されているように塗布液の供給ホース42が延びており、この供給ホース42の先端はシリンジポンプ44、つまり、その電磁切換え弁46の供給ポートに接続されている。電磁切換え弁46の吸引ポートからは吸引ホース48が延びており、この吸引ホース48の先端部はタンク50内に挿入されている。なお、タンク50には塗布液が蓄えられている。
【0035】
シリンジポンプ44のポンプ本体52は、電磁切換え弁46の切換え作動により、供給ホース42および吸引ホース48の一方に選択的に接続可能となっている。そして、これら電磁切換え弁48およびポンプ本体52はコンピュータ54に電気的に接続されており、このコンピュータ54からの制御信号を受けて、それらの作動が制御されるようになっている。また、コンピュータ54は前述した昇降アクチュエータ22および厚みセンサ22もまた電気的に接続されている。
【0036】
さらに、シリンジポンプ44の作動を制御するため、コンピュータ54にはシーケンサ56もまた電気的に接続されている。このシーケンサ54は、ステージ6側のフィードスクリュー14のACサーボモータ18や、昇降機構26側のACサーボモータ30やリニアアクチュエータ38aの作動をシーケンス制御するものであり、そのシーケンス制御のために、シーケンサ56にはACサーボモータ18,30の作動状態を示す信号、ステージ6の移動位置を検出する位置センサ58からの信号、スリットダイ40の作動状態を検出するセンサ(図示しない)からの信号などが入力され、一方、シーケンサ56からはシーケンス動作を示す信号がコンピュータ54に出力されるようになっている。なお、位置センサ58を使用する代わりに、ACサーボモータ18にエンコーダを組み込み、このエンコーダから出力されるパルス信号に基づき、シーケンサ56にてステージ6の位置を検出することも可能である。さらに、シーケンサ56にコンピュータ54による制御を組み込むことも可能である。
【0037】
図示されていないけれども、ダイコータにはステージ6上にカラーフィルタのためにガラス基板Aを供給するためのローダや、ステージ6からガラス基板Aを取り外すためのアンローダが備えられており、これらローダ、アンローダにはその主要構成部分にたとえば円筒座標系産業用ロボットを使用することができる。図4から明らかなように、前述したスリットダイ40はステージ6の往復動方向と直交する方向、つまり、ダイホルダ32の長手方向に水平に延び、その両端にてダイホルダ32に支持されている。
【0038】
図5に示されているように、スリットダイ40は長尺なブロック形状をなすフロントリップ58およびリアリップ60を有しており、これらリップはステージ6の往復動方向に配置されており、図示しない複数の連結ボルトにより相互に一体的に結合されている。両リップ58,60の結合により、スリットダイ40の下面にはノズル部62が形成され、このノズル部62は下方に向けて突出しかつその幅方向に延びている。なお、フロントリップ58はステージ6の往復動方向でみて往動側に位置し、これに対し、リアリップ60は複動側に位置している。
【0039】
リアリップ60の内表面にはその中央部分に位置してマニホールド64が形成されており、このマニホールド64はスリットダイ40の幅方向、すなわち、ステージ6の往復動方向と直交する方向に水平に延びる溝から構成されている。マニホールド64は前述した塗布液の供給ホース42に内部通路(図示しない)を介して常時接続され、これにより、マニホールド64は塗布液の供給を受けることができる。
【0040】
スリットダイ40の内部には上端がマニホールド64に連通し、下端がノズル部62の下面に開口したスリット66が形成されており、このスリット66の下端開口は吐出口68として規定されている。スリット66は、フロントリップ58とリアリップ60との間に挟み込まれたシム70によって形成され、これにより、吐出口68もまたスリットダイ40の幅方向に延びている。
【0041】
さらに、フロントリップ58の両端部からは突起72が下方に向けて一体的に突出しており、これら突起72の下面は被測定面74として形成されている。これら突起72の被測定面74は前述した吐出口68と同一の面内、すなわち、水平面内に位置付けられている。
そして、ステージ6の前端縁には一対の測定器76が設けられており、これら測定器76はステージ6の前端縁において、その両側部分にそれぞれ配置されている。各測定器76は、ステージ6の往復動方向でみて前後に位置した第1および第2距離センサ78,80を有しており、これら距離センサ78,80はブラケット82を介してステージ6に取り付けられている。第1距離センサ78は、たとえば渦電流式の非接触型センサであって、ステージ6の上面から測定対象までの距離を検出し、その検出信号を出力する。第1距離センサ78の検出範囲は2mmであり、その分解能は10μmである。なお、第1距離センサ78としては光電センサや超音波センサなどの非接触型センサをも使用することができる。一方、第2距離センサ80はたとえば差動トランス式の接触型センサであり、この第2距離センサ80もまたステージ6の上面から測定対象までの距離を検出し、その検出信号を出力する。第2距離センサ80の検出精度は第1距離センサ78のものよりも高く、その検出範囲および分解能はそれぞれ1mm、1μmとなっている。なお、測定器76には脱着自在なカバー84により覆われており、図5中、カバー84は1点鎖線で示されている。
【0042】
この実施例の場合、スリットダイ40側の被測定面74は、測定器76、つまり、第1および第2距離センサ78,80を同時に十分に覆う大きさ、たとえば10×10mm程度に設定されている。
さらに、図5および図7に示されているようにスリットダイ40側の前述した昇降ブラケット31とダイ支柱24との間には光学式のリニアスケール86が設けられており、このリニアスケール84は昇降ブラケット31つまりダイホルダ32のレベル位置を検出し、その検出信号を出力するものとなっている。
【0043】
上述した一対の測定器76およびリニアスケール86は、図2に示されているように前述したコンピュータ54に電気的に接続されており、このコンピュータ54は測定器76およびリニアスケール86から出力された検出信号を受け取ることができる。
次に、カラーフィルタの製造に係わる一工程、つまり、上述したダイコータを使用して行われる塗布方法を説明する。
【0044】
ダイホルダ32にスリットダイ40が取り付けられた直後にあっては、まず、各測定器76の第2距離センサ80に関して、その較正工程が行われる。この較正工程では図6に示されているように検定ブロック88が使用される。この検定ブロック88はL字形をなし、水平面上に伏せて置かれたとき、その水平面から既知の距離L(L<1mm)だけ離間した検定面90を有している。したがって、ステージ6の上面において、その前端部に検定ブロック88を伏せて載置し、その検定面90を第2距離センサ80の検出子に接触させると、第2距離センサ80から検出信号が出力されることになるが、このときの検出信号が距離Lに対応したものとなるように第2距離センサ80の出力調整が行われる。なお、この較正は各測定器76の第2距離センサ80に対して行われ、また、このとき、測定器76のカバー84が取り外されていることは言うまでもない。
【0045】
この後、ステージ6上から検定ブロック88が取り外されると、ステージ6はスリットダイ40の直前まで往動されて停止し、この状態で、昇降機構26のACサーボモータ30が駆動されることにより、スリットダイ40は各測定器76に向けて所定の位置まで降下される。具体的には、スリットダイ40側の各被測定面74が第1距離センサ78の検出範囲内にあり、そして、図7に示されているように第2距離センサ80、つまり、その検出子と接触するまで降下される。それ故、このとき、スリットダイ40の吐出口68とステージ6の上面との間には2mm以下の間隔Kが確保されている。
【0046】
この状態で、左右の一対の測定器76、つまり、その第1および第2距離センサ78,80からコンピュータ54にそれぞれの検出信号が供給されると、このコンピュータ54では左右の第1距離センサ78からの検出信号に基づき、左右の第1間隔K1L,K1Rをそれぞれ測定し、また、左右の第2距離センサ80からの検出信号に基づき、左右の第2間隔K2L,K2Rをそれぞれ測定する。
【0047】
この測定結果に基づき、第1間隔K1L,K1R間の差が所定値以上であると、コンピュータ54はシーケンサ56を介して昇降機構26におけるリニアアクチュエータ38aを駆動し、第1間隔K1L,K1R間の差が所定値以内に収まるべくダイホルダ32を図4中矢印Rで示すように回転させる。これにより、ダイホルダ32に取り付けられたスリットダイ40の吐出口68はその幅方向でみてほぼ水平となるように粗調整される(準備ステップ)。
【0048】
この後、コンピュータ54は第2間隔K2L,K2Rの差をたとえば3μm以内に収めるべく、リニアアクチュエータ38aを駆動してダイホルダ32の回転角位置を微調整し、これにより、スリットダイ40の吐出口68は水平に調整される。調整が終了すれば、ブレーキ(図示せず)がダイホルダ32を固定する。
このようにしてスリットダイ40における吐出口68の水平調整が完了すると、コンピュータ54はこの時点での第2間隔K2を離間距離K3として設定し(距離測定プロセス)、同時にリニアスケール86からの検出信号に基づき、ダイホルダ32のレベル位置Zを読み込む(レベル検出プロセス)。
【0049】
そして、コンピュータ54は、離間距離K3およびレベルZに基づき、参照レベYを次式に基づいて算出する(算出プロセス)。
Y=Z−K3
ここで、参照レベルYは上式から明らかなようにスリットダイ40の吐出口68がステージ6の上面まで降下したとき、リニアスケール86から出力される検出信号、つまり、ダイホルダ32のレベル位置を示している。
【0050】
上述したようにして参照レベルYが決定されると(セッティングステップ)、各測定器76はカバー84により覆われ、そして、スリットダイ40およびステージ6は原点復帰される。つまり、スリットダイ40は所定の位置まで上昇され、ステージ6は初期位置まで復動される。
ダイホルダ32の参照レベルYを設定するにあたり、昇降機構26およびステージ6の作動制御は、前述したシーケンサ56本来のシーケンス制御とは独立して実施される。
【0051】
なお、参照レベルYのセッティング工程を実施する前に、スリットダイ40にタンク50から吸引ホース48および供給ホース42を経て塗布液を供給し、そのマニホールド68およびスリット72内、また、これらに至る塗布液の供給経路内は塗布液を満たした状態にしておくのが好ましい。
この状態で、ローダ(図示されていない)からステージ6上にガラス基板Aが供給されると、このガラス基板Aはステージ6上にサクション圧を受けて保持される。ここで、ガラス基板Aは、スリットダイ40の幅、つまり、その吐出口68の吐出幅よりも広い幅寸法を有しているが、同じであってもよい。
【0052】
ガラス基板Aのローディングが完了すると、厚みセンサ22がステージ6上のガラス基板Aに向けて所定の位置まで下降され、厚みセンサ22はガラス基板Aの厚みを検出し、その検出信号をコンピュータ54に供給する。この後、厚みセンサ22は元の位置まで上昇して待機する。
上述したガラス基板Aのローディングの開始と同時に、シリンジポンプ44の電磁切換え弁46がポンプ本体52と吸引ホース48とを接続すべく切換え作動され、そして、ポンプ本体52にタンク50内の塗布液を吸引ホース48を通じて吸引する吸引動作を行わせる。シリンジポンプ44内に所定量の塗布液が吸引されると、シリンジポンプ44の電磁切換弁46はポンプ本体52と供給ホース42とを接続すべく切換え作動される。そして、ステージ6はスリットダイ40に向けて往動され、ガラス基板Aの上面において、塗膜の形成を開始すべきスタートラインをスリットダイ40の吐出口68の直下に位置付け、停止する。
【0053】
ステージ6の往動中、コンピュータ54では、ダイホルダ32の参照レベルY、厚みセンサ22からの検出信号つまりガラス基板Aの厚さT、また、ガラス基板Aとスリットダイ40の吐出口68との間に確保すべきクリアランスH(たとえば0.1mm)とに基づき、ホルダ32の目標レベル位置Xを演算する(演算ステップ)。具体的には、目標レベル位置Xは次式により求められる。
【0054】
X=Y+T+H
目標レベル位置Xが演算されると、コンピュータ54はリニアスケール86から出力に基づき、シーケンサ56を介して昇降機構26のACサーボモータ30を制御し、ダイホルダ32の実レベル位置が目標レベル位置Xに一致すべく、ダイホルダ32、すなわち、スリットダイ40を下降させる(制御ステップ)。この結果、図8に示されているようにスリットダイ40の吐出口68とガラス基板Aの上面との間にはクリアランスHが正確に確保され、この時点で、クリアランス設定工程が完了する。この場合、クリアランスHの誤差は2μm以内に収められている。
【0055】
スリットダイ40を降下させるとき、コンピュータ54はその下降速度を10m/min以下に制限しており、これにより、スリットダイ40の下降が停止されても、その吐出口68からの塗布液の液漏れを確実に防止することができる。
クリアランスの設定後、シリンジポンプ44に塗布液の吐出動作を開始させ、塗布液をスリットダイ40に向けて供給する。したがって、スリットダイ40の吐出口68からガラス基板A上に塗布液が吐出される。ここで、吐出口68の間隙幅はスリットダイ40の幅方向、つまり、ステージ6の往復動方向に沿って一定であり、それゆえ、吐出口68からはガラス基板Aのスタートラインに沿って一様に塗布液が吐出され、この結果、スリットダイ40とガラス基板Aとの間にはビードと称される液溜まりC(図2参照)がスタートラインに沿って形成される。
【0056】
このような液溜まりCの形成と同時に、吐出口68からの塗布液の吐出を継続しながら、ステージ6を一定の速度で往動方向に進行させると、図2に示されているようにガイド基板Aの上面に塗布液の塗膜Dが連続して形成され(形成工程)、この場合、塗膜Dの膜厚はたとえば20μmである。
なお、塗膜Dの形成にあたっては、ステージ6の往動を一旦停止することなく、ガラス基板Aのスタートラインがスリットダイ40の吐出口68を通過するタイミングにて、その吐出口68から塗布液を吐出するようにしてもよい。
【0057】
ステージ6の進行に伴い、ガラス基板A上にて塗膜Dの形成を終了すべきフィニッシュラインがスリットダイ40の吐出口68の直前位置に到達すると、この時点で、シリンジポンプ44の吐出動作が停止される。このようにしてスリットダイ40の吐出口68からの塗布液の吐出が停止されても、ガラス基板A上においてはその液溜まりCの塗布液を消費(スキージ)しながら、塗膜Dの形成がフィニッシュラインまで継続される。なお、ガラス基板A上のフィニッシュラインがスリットダイ40の吐出口68を通過した時点で、シリンジポンプ44の吐出動作を停止するようにしてもよい。
【0058】
ガラス基板A上のフィニッシュラインが吐出口68を通過する時点または通過した時点で、シリンジポンプ44の吸引動作がわずかに行われ、これにより、スリットダイ40におけるスリット66内の塗布液はマニホールド64側に吸引される。
この後、スリットダイ40は元の位置まで上昇され、スリットダイ40からの塗布液の吐出工程が終了する。なお、スリットダイ40の上昇位置にて、その下端面に付着している塗布液はクリーナ(図示しない)により拭き取られる。
【0059】
一方、ステージ6の往動は、塗布液の吐出工程が終了しても継続されており、ステージ6がガイド溝レール4の終端に到達した時点で、その往動が停止される。この状態で、塗膜Dが形成されたガラス基板Aはアンローダによりステージ6上から取り外される。この後、ステージ6は復動され、図1に示す初期位置に戻されて一連の塗布工程が終了する。なお、初期位置にて、ステージ6は新たなガラス基板がローディングされるまで待機する。
【0060】
上述したガラス基板A上への塗膜Dの形成に関し、スリットダイ40の吐出口68はその長手方向に沿って水平であり、しかも、吐出口68とガラス基板Aとの間のクリアランスHもまた正確に設定されているので、ガラス基板A上に形成された塗膜Dはその膜厚が均一となる。したがって、膜厚のむらによって塗膜Dにすじが発生することもなく、安定した塗膜Dを得ることができる。
【0061】
また、ダイホルダ32にスリットダイ40が取り付けられたときには、左右の測定器76からの検出信号に基づき、リニアアクチュエータ38aを介してダイホルダ32を回転させるようにしたから、スリットダイ40における吐出口68の水平調整を容易に行うことができる。しかも、この水平調整はまず、左右の第1距離センサ78からの検出信号に基づき粗く行った後、左右の第2距離センサ80からの検出信号に基づき精密に行われるので、その水平調整を迅速かつ高精度に行うことができる。
【0062】
さらに、スリットダイ40にはその吐出口68と同一の水平面内に被測定面74を有しているので、左右の測定器76はその被測定面74を測定対象とすることにより、吐出口68とステージ6の上面との間の離間距離K3を正確に検出することができる。つまり、スリットダイ40の吐出口68、つまり、ノズル部62の下面は塗布液の特性から非常に狭くすることもあり、そのような下面を測定対象として吐出口68とステージ6との間の離間距離K3を検出することは困難であるので、スリットダイ40に被測定面74を設けておくことで、離間距離K3を簡単かつ正確に検出することができる。
【0063】
そして、検出した離間距離K3とその時点でのリニアスケール86からの検出信号に基づき、ダイホルダ32の参照レベルYを求め、このダイホルダ32の参照レベルYを基準点として目標レベル位置Xを演算するようにしたから、この目標レベル位置Xにダイホルダ32の実レベル位置を一致させるべく、ダイホルダ32を下降させれば、スリットダイ40が異なっても、そのスリットダイ40の吐出口68とステージ6上のガラス基板Aとの間に所望のクリアランスHを正確に確保できる。
【0064】
また、ダイホルダ32、つまり、スリットダイ40を下降させるとき、その下降速度を10m/min以下に制限しているので、その下降が停止されたき、スリットダイ40の吐出口68からガラス基板A上に塗布液が垂れ落ちるのを防止でき、ステージ6が塗布液により汚れてしまうこともない。
この発明は、上述の実施態様に制限されるものではなく、以下に述べる実施態様とすることもできる。
【0065】
たとえば、測定器76による測定は、スリットダイ40の吐出口68とは別の被測定面74で行っているが、これを直接吐出口68またはスリットダイ40の一部分で行ってもよい。
また、被測定面74は、各々1つのセンサを覆う程度の大きさでもよい。このような比較的狭い被測定面や、吐出口68を測定するときは、測定する面の下にまず、第1距離センサ78が位置するようにステージ6を移動させ、前述の手順でダイホルダ32の位置を粗調整し、この完了後、第2距離センサ80が測定する面の下に位置するようにステージ6を移動させ、ダイホルダ32の位置を微調整すればよい。
【0066】
上記の実施例では、第2距離センサ80を被測定面74に接触させ、測定しながらダイホルダ32を移動させていたが、傷つき易い吐出口68を接触式のセンサで測定する場合は、測定とダイホルダ32の移動を分離させた方が良い。この場合は、ダイホルダ32をリニアスケール86上のある一定位置レベルに下降停止させて、第2間隔K2L、K2Rを測定し、これらの測定後、第2距離センサ80に吐出口68が接触しない位置までダイホルダ32を上昇させ、第2間隔K2L、K2Rの偏差分だけダイホルダ32を回転させて調整する。以降、第2間隔K2L、K2Rの偏差が許容値内の収まるまで以上の手順を繰り返す。
【0067】
この場合、吐出口68の傾き度合いが非常に大きかったり、ダイホルダ32の支持部から吐出口68までの長さがスリットダイ40によって大きく異なって、上記の一定の位置レベル値が不適切である場合には、吐出口68が第2距離センサ80の可動範囲を越え、両者が衝突することがある。
このような場合に非接触の第1距離センサ78を使用して、粗調整しておけば、センサが非接触であるので、測定しながら調整しても吐出口68を傷つけ無いし、第1距離間隔K1L,K1Rとリニアスケール86からの検出信号から第2距離センサの使用時に、ダイホルダ32を下降停止する位置レベルを適正に定めることができる。
【0068】
以上の態様では、2種類の距離センサを使用する例を示したが、これは好ましい態様であって1種類でも十分に機能することは勿論である。そのときに使用するセンサは接触式でも非接触式でもよい。
ただし、測定する面が5×5mm以下の場合、スリットダイ40の材質や測定面の状況が一定しない場合、センサを設置するスペースが小さい場合等には、接触式のセンサが精度上適している。
【0069】
測定面が吐出口で、大きさが小さく、しかも傷つけてはいけない場合は、第1距離センサ78に非接触センサを、第2距離センサ80に接触式センサを使用するのが好ましい。
接触式センサだけを使用し、ダイホルダ32を下降させ、吐出口68の左右の一方が測定範囲に収まったら一度ダイホルダ32を停止させて、その時のセンサの測定値とリニアスケール86からの検出信号から、スリットダイ40の再上昇時のダイホルダ32の回転調整量や、参照レベルを算出することも可能であるが、吐出口68の傾きがセンサの測定範囲よりも著しく大きい場合には、多数回にわたって、この動作を行わなければならない。したがって、非接触式センサを第1距離センサ78として距離を測定しながら、ダイホルダの回転角度を粗調整した後、以上の方法で接触式の第2距離センサでダイホルダ32の回転角度を微調整した方が遥かに速く調整できるので好ましい。
【0070】
以上の実施態様では、スリットダイ40の吐出口68の位置制御は、スリットダイ40を保持するダイホルダ32を介して行っているが、これは最も好まし態様であって、ダイホルダ32に代えて直接にスリットダイ40を制御してもよいことは勿論であり、このような態様も本発明に含まれる。
【0071】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明の請求項1,7の塗布装置および塗布方法によれば、塗布器または塗布器に対応したホルダの参照レベルを求めるようにしたから、この参照レベルを基準として演算した塗布器またはホルダの移動目標レベル位置に基づき、塗布器またはホルダを移動させれば、塗布器の吐出口とステージ表面の被塗布部材との間に所望のクリアランスを正確に設定することができる。
【0072】
請求項2,8の塗布装置および塗布方法によれば、ホルダを回転可能にしてあるから、左右一対の測定器からの検出信号に基づき、塗布器の吐出口を簡単にして水平に調整できる。
請求項3,9の塗布装置および塗布方法によれば、左右の各測定器がその検出精度の異なる第1および第2距離センサからなっているので、これらの距離センサを分けて使用することにより、塗布器における吐出口の平行調整を迅速かつ効率的に行うことができる。
【0073】
請求項4,9の塗布装置および塗布方法によれば、塗布器自体にその吐出口と同一の面内に位置した一対の被測定面を設けてあるので、その被測定面とステージとの間の間隔を離間距離として検出でき、その離間距離を正確に求めることができる。
請求項5,10の塗布装置および塗布方法によれば、ホルダの移動速度を制限してあるから、塗布器の移動が停止されたとき、その吐出口からの塗布液の垂れ落ちを防止することができる。
【0074】
請求項6,12のカラーフィルタの製造装置および製造方法によれば、ガラス基板などの被塗布部材の表面に均一な塗膜を形成できるから、高品質なカラーフィルタを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】ダイコータを示した概略斜視図である。
【図2】図1のダイコータを塗布液の供給系をも含めて示した概略構成図である。
【図3】図1の厚みセンサを示した拡大図である。
【図4】図1のスリットダイおよびその昇降機構の一部を示した正面図である。
【図5】図1のスリットダイおよびその昇降機構の一部を示した側面図である。
【図6】図5に示した第2距離センサの較正工程を説明するための図である。
【図7】スリットダイの吐出口とステージとの間の離間距離を検出する工程を示した図である。
【図8】スリットダイの吐出口とステージ上のガラス基板との間に確保すべきクリアランスが設定された状態を示す図である。
【符号の説明】
6 ステージ
14 フィードスクリュー
22 厚みセンサ
26 昇降機構
32 ダイホルダ
38 リニアアクチュエータ
40 スリットダイ(塗布器)
44 シリンジポンプ(供給手段)
50 タンク
58 フロントリップ
60 リアリップ
68 吐出口
70 シム
72 突出部
74 被測定面
76 測定器
78 第1距離センサ
80 第2距離センサ
86 リニアスケール
A ガラス基板(枚葉部材)[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a coating apparatus and a coating method for coating a coating liquid on the surface of a member to be coated such as a flat sheet member and forming a coating film thereof, and a color liquid crystal using the coating apparatus and the coating method. The present invention relates to a display color filter manufacturing apparatus and manufacturing method.
[0002]
[Related background]
A color filter for a color liquid crystal display has a fine lattice pattern of three primary colors on a glass substrate as a member to be coated. After such a lattice pattern forms a black coating film on the glass substrate, Red, blue, and green coatings are formed in sequence, thereby obtaining the three primary colors on the glass substrate.
[0003]
Therefore, for the production of a color filter, a forming process is required in which black, red, blue, and green coating liquids are sequentially applied onto a glass substrate to form the coating film. Conventionally, a spinner, a bar coater, or a roll coater as a coating apparatus has been used in the process of forming this type of coating film, but in order to reduce the consumption of the coating liquid and improve the physical properties of the coating film, In recent years, the use of a die coater has been studied.
[0004]
This type of die coater (fluid coating device) is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-339659. This known die coater includes a table that can reciprocate in a horizontal direction, and an elevator that moves up and down via the coating arm. And a coating head provided as possible. The coating head moves down together with the coating arm to a predetermined position in accordance with the thickness of the glass substrate placed on the table, and a predetermined clearance is ensured between the coating head and the glass substrate. In this state, the glass substrate is moved together with the table at a constant speed to pass directly under the coating head, and at the same time, the coating liquid is discharged onto the glass substrate from the discharge port on the lower surface of the coating head. A coating film of the coating solution is formed on the substrate.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
In the above-described type die coater, in order to make the film thickness to be formed uniform, the clearance defined between the coating head, that is, the discharge port of the applicator and the upper surface of the glass substrate must be constant. Don't be.
However, in the known die coater, the thickness of the glass substrate is taken into consideration when setting the clearance, but nothing is considered regarding the attachment of the applicator to the application arm. For this reason, if the error occurs in the attachment of the applicator to the applicator arm or the size of the applicator itself, that is, the height dimension thereof is different, the clearance cannot be maintained constant. The adjustment requires a lot of labor and labor.
[0006]
The present invention has been made based on the above-described circumstances, and the object thereof is to ensure between the discharge port of the applicator and the member to be coated even when the applicator is replaced. An object of the present invention is to provide a coating apparatus and a coating method capable of accurately obtaining a clearance, and a color filter manufacturing apparatus and a manufacturing method using the coating apparatus and the coating method.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
The above object is achieved by a coating apparatus according to the present invention. The coating apparatus according to
[0008]
In the coating apparatus according to
[0009]
According to the coating apparatus of
[0010]
further,
[0011]
[0012]
When the reference level of the holder is obtained in this way, the movement target level position of the holder is determined based on the reference level as described above, and an accurate clearance is provided between the member to be coated and the discharge port of the applicator. Is secured.
[0013]
[0014]
[0015]
Claim 3 In the case of this coating apparatus, each measuring device of the distance measuring means includes a first sensor having a coarse detection accuracy and a second sensor having a detection accuracy higher than that of the first sensor. Claim 3 According to this coating apparatus, first, the rotational angle position of the holder is roughly adjusted based on the output from the first sensor, and then the rotational angle position of the holder is finely adjusted based on the output from the second sensor. As a result, the parallel adjustment of the discharge port in the applicator is performed quickly.
[0016]
[0017]
Claim 5 In this case, the control means limits the moving speed of the holder by the proximity means to 10 m / min or less. In this case, when the holder stops moving, the coating liquid is made undesired from the discharge port of the applicator. Will not leak.
[0018]
Claim 7 In this coating method, the applicator held by the applicator or the holder is moved with respect to the member to be coated placed on the stage, and a predetermined gap is formed between the discharge port extending in one direction of the applicator and the member to be coated. A clearance setting step for securing clearance and a relative movement of at least one of the applicator and the member to be coated while discharging the coating liquid from the discharge port of the applicator allows the coating liquid to be applied to the surface of the member to be coated. And a forming step for forming a coating film.
[0019]
And claims 7 In the application method, the clearance setting step includes a setting step for determining the reference level position of the applicator or holder, and the movement of the applicator or holder based on the thickness of the member to be applied and the clearance with the reference level as a reference point. The calculation step includes calculating a target level position, and a control step for controlling the movement of the applicator or the holder so that the actual level position of the applicator or the holder coincides with the movement target level position.
[0020]
further, Claim 7 In the case of the application method, its setting step Is In a state where the applicator is held in the holder, Detect the dispensing device outlet or another surface to be measured in the same plane as the outlet. On stage Up The separation distance between the surface and the discharge port of the applicator Measurement And a distance measuring process for outputting the distance value; A calibration process for calibrating the measuring instrument to place the verification block on the top surface of the stage when the applicator is mounted on the holder and measure the separation distance; Separation distance Measurement Time , Based on the level detection process of detecting the level position of the holder and outputting the level position value, and the detected separation distance value and the level position value, it is assumed that the discharge port of the applicator is on the stage Holder level Place And a calculation process for calculating as a reference level.
[0021]
In this case, the above-mentioned claim 7 The application method of
[0022]
In this case, the
[0023]
Claim 9 In the case of this coating method, in the distance measurement process, a first sensor having a coarse detection accuracy and a second sensor having a detection accuracy higher than that of the first sensor are used. 3 Exhibits the same effect as the coating device.
[0024]
[0025]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Referring to FIG. 1, there is shown a coating apparatus so-called die coater that is applied to manufacture of a color filter for a color liquid crystal display, and this die coater includes a
[0026]
In the present embodiment, the
[0027]
A
[0028]
A
[0029]
As shown in FIG. 3, the
[0030]
Now, the
[0031]
Referring again to FIG. 1, a
[0032]
A
[0033]
A
[0034]
A slit die 40 as an applicator is attached in the
[0035]
The
[0036]
In addition, a
[0037]
Although not shown, the die coater is provided with a loader for supplying the glass substrate A for the color filter on the
[0038]
As shown in FIG. 5, the slit die 40 has a
[0039]
A manifold 64 is formed on the inner surface of the
[0040]
A slit 66 having an upper end communicating with the manifold 64 and a lower end opened on the lower surface of the
[0041]
Further,
A pair of measuring
[0042]
In the case of this embodiment, the measured
Further, as shown in FIGS. 5 and 7, an optical
[0043]
The pair of measuring
Next, one process related to the production of the color filter, that is, a coating method performed using the above-described die coater will be described.
[0044]
Immediately after the slit die 40 is attached to the
[0045]
Thereafter, when the
[0046]
In this state, when the respective detection signals are supplied to the
[0047]
Based on this measurement result, if the difference between the first intervals K1L and K1R is greater than or equal to a predetermined value, the
[0048]
Thereafter, the
When the horizontal adjustment of the
[0049]
Then, the
Y = Z-K3
Here, the reference level Y indicates a detection signal output from the
[0050]
When the reference level Y is determined as described above (setting step), each measuring
In setting the reference level Y of the
[0051]
Before performing the setting process of the reference level Y, the coating liquid is supplied to the slit die 40 from the
In this state, when the glass substrate A is supplied onto the
[0052]
When the loading of the glass substrate A is completed, the
Simultaneously with the start of loading of the glass substrate A described above, the
[0053]
During the forward movement of the
[0054]
X = Y + T + H
When the target level position X is calculated, the
[0055]
When the slit die 40 is lowered, the
After setting the clearance, the syringe pump 44 is started to discharge the coating liquid, and the coating liquid is supplied toward the slit die 40. Accordingly, the coating liquid is discharged onto the glass substrate A from the
[0056]
When the
In forming the coating film D, the forward movement of the
[0057]
As the
[0058]
When the finish line on the glass substrate A passes or passes through the
Thereafter, the slit die 40 is raised to the original position, and the coating liquid discharge process from the slit die 40 is completed. In addition, the coating liquid adhering to the lower end surface is wiped off by a cleaner (not shown) at the rising position of the slit die 40.
[0059]
On the other hand, the forward movement of the
[0060]
Regarding the formation of the coating film D on the glass substrate A described above, the
[0061]
When the slit die 40 is attached to the
[0062]
Further, since the slit die 40 has a measured
[0063]
Based on the detected separation distance K3 and the detection signal from the
[0064]
Further, when the
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and may be an embodiment described below.
[0065]
For example, the measurement by the measuring
Further, each
[0066]
In the above embodiment, the
[0067]
In this case, the degree of inclination of the
In such a case, if the non-contact
[0068]
In the above embodiment, an example in which two types of distance sensors are used has been described. However, this is a preferable embodiment, and it is a matter of course that even one type functions sufficiently. The sensor used at that time may be a contact type or a non-contact type.
However, if the surface to be measured is 5 × 5 mm or less, the material of the slit die 40 or the condition of the measurement surface is not constant, or the space for installing the sensor is small, the contact type sensor is suitable for accuracy. .
[0069]
When the measurement surface is a discharge port, the size is small, and it should not be damaged, it is preferable to use a non-contact sensor as the
Using only the contact sensor, the
[0070]
In the above embodiment, the position of the
[0071]
【The invention's effect】
As described above, the claims of the
[0072]
Claim 3,9 According to the coating apparatus and the coating method, since the left and right measuring devices are composed of the first and second distance sensors having different detection accuracy, by using these distance sensors separately, Parallel adjustment of the outlet can be performed quickly and efficiently.
[0073]
[0074]
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a die coater.
2 is a schematic configuration diagram showing the die coater of FIG. 1 including a coating solution supply system. FIG.
FIG. 3 is an enlarged view showing the thickness sensor of FIG. 1;
4 is a front view showing a part of the slit die of FIG. 1 and its lifting mechanism. FIG.
FIG. 5 is a side view showing a part of the slit die of FIG. 1 and its lifting mechanism.
6 is a diagram for explaining a calibration process of the second distance sensor shown in FIG. 5; FIG.
FIG. 7 is a diagram illustrating a process of detecting a separation distance between a discharge port of a slit die and a stage.
FIG. 8 is a view showing a state in which a clearance to be secured is set between the discharge port of the slit die and the glass substrate on the stage.
[Explanation of symbols]
6 stages
14 Feed screw
22 Thickness sensor
26 Lifting mechanism
32 Die holder
38 Linear actuator
40 Slit die (applicator)
44 Syringe pump (supply means)
50 tanks
58 Front lip
60 rear lip
68 Discharge port
70 Sim
72 Protrusion
74 surface to be measured
76 Measuring instrument
78 First distance sensor
80 Second distance sensor
86 Linear scale
A Glass substrate (sheet-fed member)
Claims (12)
前記供給手段からの塗布液の供給を受け、一方向に延びる吐出口から塗布液を吐出可能な塗布器と、
被塗布部材が載置可能なステージと、
前記塗布器を前記被塗布部材に近接させる近接手段と、
前記近接手段による前記塗布器の移動を介して、前記ステージに載置された被塗布部材と前記塗布器の吐出口との間に所定のクリアランスを確保するクリアランス設定手段と、
前記塗布器および前記ステージのうち少なくとも一方を相対的に移動させる移動手段とを具備する塗布装置において、
前記クリアランス設定手段は、前記塗布器または該塗布器を保持するホルダの参照レベル位置を決定するセッティング手段と、前記参照レベルを基準点として前記被塗布部材の厚みおよび前記クリアランスに基づき、前記塗布器または前記ホルダの移動目標レベル位置を演算する演算手段と、前記移動目標レベル位置に前記塗布器または前記ホルダの実レベル位置を一致させるべく、前記近接手段の作動を制御する制御手段とを含み、
前記セッティング手段は、
A. 前記ホルダに塗布器が保持されている状態で、前記塗布器の吐出口または前記吐出口と同一の面内の別の被測定面を検出して前記ステージの上面と前記塗布器の吐出口との間の離間距離を測定し、その離間距離値を出力する距離測定手段と、
B. 前記ホルダに塗布器が取付けられたときに前記ステージの上面に載置され、前記距離測定手段の校正に使用される検定ブロックと、
C. 前記離間距離の測定時、前記ホルダのレベル位置を検出し、そのレベル位置値を出力するレベル検出手段と、
D. 前記離間距離値と前記レベル位置値とに基づき、前記塗布器の吐出口が前記ステージ上にあると仮定したときの前記ホルダのレベル位置を参照レベルとして算出する算出手段とを有する
ことを特徴とする塗布装置。Supply means for supplying a coating liquid;
An applicator that receives the supply of the coating liquid from the supply means and can discharge the coating liquid from a discharge port extending in one direction;
A stage on which a member to be coated can be placed;
Proximity means for bringing the applicator close to the member to be coated;
Clearance setting means for securing a predetermined clearance between a member to be applied placed on the stage and a discharge port of the applicator through movement of the applicator by the proximity means;
In a coating apparatus comprising a moving means for relatively moving at least one of the applicator and the stage,
The clearance setting means includes a setting means for determining a reference level position of the applicator or a holder for holding the applicator, and the applicator based on the thickness of the member to be applied and the clearance with the reference level as a reference point. or a calculating means for calculating a moving target level position of the holder, in order to match the actual level position of the applicator or the holder to the moving target level position, seen including a control means for controlling operation of said proximity means ,
The setting means includes
A. With the applicator held by the holder, the discharge port of the applicator or another surface to be measured in the same plane as the discharge port is detected, and the upper surface of the stage, the discharge port of the applicator, Distance measuring means for measuring a separation distance between the two and outputting the separation distance value;
B. A verification block that is placed on the upper surface of the stage when the applicator is attached to the holder and used for calibration of the distance measuring means;
C. Level measurement means for detecting the level position of the holder and outputting the level position value when measuring the separation distance;
D. Calculation means for calculating, based on the separation distance value and the level position value, the level position of the holder when the discharge port of the applicator is assumed to be on the stage as a reference level. An applicator characterized by that.
前記近接手段は、前記吐出口とほぼ直交する方向に延びる回転軸線を有し、この回転軸線を中心として前記ホルダをほぼ垂直面内で回転自在に支持する支持手段と、前記各測定器からの出力に基づいて前記ホルダを回転させ、前記塗布器の吐出口と前記ステージの表面とを平行に調整する調整手段とをさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の塗布装置。The distance measuring means includes a pair of measuring devices that are arranged on the stage side and detect the separation distances at both ends of the discharge port,
The proximity means has a rotation axis extending in a direction substantially orthogonal to the discharge port, and a support means for rotatably supporting the holder in a substantially vertical plane around the rotation axis, and from each measuring instrument based on the output rotating the holder, characterized in that it further comprises an adjustment means for adjusting in parallel with the applicator of the discharge port and the surface of the stage, the coating apparatus of claim 1.
前記塗布器の吐出口から塗布液を吐出しながら、前記塗布器および前記被塗布部材のうち少なくとも一方を相対的に移動させることにより、前記被塗布部材の表面に塗布液の塗膜を形成する形成工程とを備える塗布方法において、
前記クリアランス設定工程は、前記塗布器または前記ホルダの参照レベル位置を決定するセッティングステップと、前記参照レベルを基準点として前記被塗布部材の厚みおよび前記クリアランスに基づき、前記塗布器または前記ホルダの移動目標レベル位置を演算する演算ステップと、前記移動目標レベル位置に前記塗布器または前記ホルダの実レベル位置を一致させるべく、前記塗布器または前記ホルダの移動を制御する制御ステップとを含み、
前記セッティングステップは、
A. 前記ホルダに塗布器が保持されている状態で、前記塗布器の吐出口または前記吐出口と同一の面内の別の被測定面を検出して前記ステージの上面と前記塗布器の吐出口との間の離間距離を検出し、その離間距離値を出力する距離測定プロセスと、
B. 前記ホルダに塗布器が取付けられたときに前記ステージの上面に検定ブロックを載置し、前記離間距離を測定する測定器の校正を行う較正プロセスと、
C. 前記離間距離の測定時、前記ホルダのレベル位置を検出し、そのレベル位置値を出力するレベル検出プロセスと、
D. 前記離間距離値と前記レベル位置値とに基づき、前記吐出口が前記ステージ上にあると仮定したときの前記ホルダのレベル位置を参照レベルとして算出する算出プロセスと有する
ことを特徴とする塗布方法。The applicator or the applicator held by the holder is moved with respect to the member to be coated placed on the stage, and a predetermined clearance is secured between the discharge port extending in one direction of the applicator and the member to be coated. A clearance setting process,
A coating film of the coating liquid is formed on the surface of the coated member by relatively moving at least one of the coating device and the coated member while discharging the coating liquid from the discharge port of the coating device. In a coating method comprising a forming step,
The clearance setting step includes a setting step for determining a reference level position of the applicator or the holder, and a movement of the applicator or the holder based on the thickness of the member to be applied and the clearance with the reference level as a reference point. a calculating step for calculating a target level position, in order to match the actual level position of the applicator or the holder to the moving target level position, seen including a control step for controlling the movement of the applicator or the holder,
The setting step includes
A. With the applicator held by the holder, the discharge port of the applicator or another surface to be measured in the same plane as the discharge port is detected, and the upper surface of the stage, the discharge port of the applicator, A distance measurement process for detecting a separation distance between the two and outputting the separation distance value;
B. A calibration process for calibrating the measuring device for placing the verification block on the upper surface of the stage when the applicator is attached to the holder and measuring the separation distance;
C. A level detection process for detecting the level position of the holder and outputting the level position value when measuring the separation distance;
D. A calculation process for calculating, as a reference level, a level position of the holder when it is assumed that the discharge port is on the stage based on the separation distance value and the level position value. How to apply.
前記クリアランス設定工程は、前記セッティングステップに先立ち、前記一対の測定器からの出力に基づき、前記ホルダの回転を介して前記塗布器の前記吐出口を前記ステージの表面と平行に調整する準備ステップをさらに含むことを特徴とする、請求項7に記載の塗布方法。In the distance measuring process, a pair of measuring devices respectively detect the separation distances at both ends of the discharge port,
Prior to the setting step, the clearance setting step includes a preparation step of adjusting the discharge port of the applicator in parallel with the surface of the stage through rotation of the holder based on outputs from the pair of measuring devices. The coating method according to claim 7 , further comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01453896A JP3731616B2 (en) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | Coating apparatus and coating method, and color filter manufacturing apparatus and manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01453896A JP3731616B2 (en) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | Coating apparatus and coating method, and color filter manufacturing apparatus and manufacturing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09206652A JPH09206652A (en) | 1997-08-12 |
JP3731616B2 true JP3731616B2 (en) | 2006-01-05 |
Family
ID=11863938
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP01453896A Expired - Lifetime JP3731616B2 (en) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | Coating apparatus and coating method, and color filter manufacturing apparatus and manufacturing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3731616B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105473238A (en) * | 2013-08-23 | 2016-04-06 | 欧利生电气株式会社 | Die head and coating liquid application method |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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KR100700181B1 (en) | 2004-12-31 | 2007-03-27 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Slit coater having standby unit of nozzle and method of coating using thereof |
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KR100675643B1 (en) | 2004-12-31 | 2007-02-02 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Slit coater |
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- 1996-01-30 JP JP01453896A patent/JP3731616B2/en not_active Expired - Lifetime
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JPH09206652A (en) | 1997-08-12 |
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