JP3683370B2 - 電子ビーム露光装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は電子ビーム露光装置に係り、特に、電子ビームをスリット組立体を通して断面が矩形の形状に整形してウェハ上に投影するブロック露光又は可変矩形型電子ビーム露光装置に関する。
【０００２】
現在、ブロック露光電子ビーム露光装置においては、ＬＳＩの回路パターンの微細化に対応すべく、回路パターンをより精度良く描画すること、及び、高生産性のために、ＬＳＩの回路パターンをより高速で描画することが求められている。
【０００３】
【従来の技術】
図１０（Ａ），（Ｂ）及び図１１は、従来のブロック露光型電子ビーム露光装置のうち電子銃の次の段の個所に配設してある第１のスリット１０を示す。第１のスリット１０は、ハウジング１１内に、台座１２が固定してあり、台座１２にベアリング１３を介してステージ１４が垂直軸１５に関して回動可能に支持してあり、ステージ１４上にスリット組立体１６が固定してあり、且つ、ステージ１４に関してウォームギヤ機構１７が設けてある構成である。スリット組立体１６はスリット形成部材２６が４つ井桁状に組み合わされた構造であり、中央に約２００μｍ角のスリット２５が形成してある。スリット形成部材２６は、耐熱性に優れているモリブデン製である。ウォームギヤ機構１７は、ステージ１４と一体のウォームホイール１８と、台座１２に支持されているウォーム１９とよりなる。ウォーム１９は、ハウジング１１の外側のモータ２０によって回転される。ハウジング１１内は、排気ポート２１を介して真空吸引されている。スリット組立体１６は、台座１２に固定された十字形のカバー２３によって覆われている。カバー２３は、中央に孔２２を有する。
【０００４】
電子銃から放射された電子ビームは、孔２２を通り、スリット組立体１６の個所で、周囲部分をスリット組立体１６によって遮蔽されてスリット２５を通り、スリット２５を通った電子ビームは、断面が矩形に整形される。第１のスリット１０からは、断面が矩形に整形された電子ビームが出、この電子ビームがウェハ上に投影されて、ＬＳＩの回路パターンが描画される。
【０００５】
なお、ステージ１４を垂直軸１５に関して回動させるのは、第１のスリット１０によって断面が矩形に整形された電子ビームと後述する第２のスリットの位相が微妙に回転しているため、この回転に対応した調整をする必要があるためである。ステージ１４を垂直軸１５に関して回動させて行う調整は、露光前に、モータ２０を適宜駆動して、ウォームギヤ機構１７を介してステージ１４を数度の範囲で回動させ、第２のスリットの辺との平行性、垂直性を所定の範囲におさめるように調整する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
電子銃から放射された電子ビームの周囲部分がスリット組立体１６を照射し、これによってスリット組立体１６が加熱される。スリット組立体１６の熱は、ステージ１４→台座１２→ハウジング１１と伝導されて放熱される。
【０００７】
ここで、ステージ１４から台座１２への熱の伝導路は、符号３０で示すように、ベアリング１３の個所だけに限定されており、しかも、ベアリング１３の個所の接触は、接触面積が狭く、且つ、不安定となり易い。よって、熱伝導路３０の熱抵抗が大きく、スリット組立体１６の熱の台座１２への熱伝導がよくない。このため、スリット組立体１６が高温になり易く、スリット組立体１６が欠損等の物理的破損を起こし易い。スリット組立体１６が物理的破損を起こすと、回路パターンの描画精度が低下してしまう。
【０００８】
また、スリット組立体１６が高温になり易いため、回路パターンの描画速度を増すべく、電子ビームの電流量を上げることは困難であった。
また、電子ビーム露光装置のコラム内のチャージアップを排除するためにコラム内にオゾンを流した場合には、スリット組立体１６が高温になっているため、スリット組立体１６がオゾンに触れて簡単に酸化してしまう。スリット組立体１６が酸化すると、ナイフエッジが直線でなくなり、回路パターンの描画精度が低下してしまう。
【０００９】
また、ウォームギヤ機構１７が有するバックラッシュの影響がステージ１４の回動方向の微少な位置変動として表れ易い。ステージ１４の回動方向位置が変動すると、ウェハ上に投影されたスリット像が回動方向に振れて、回路パターンの描画精度が低下してしまう。
【００１０】
そこで、本発明は上記課題を解決した電子ビーム露光装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、電子ビーム源よりの電子ビームを第１のスリットを通して所定の断面形状の電子ビームとして試料上に投影する電子ビーム露光装置において、上記スリット装置は、台座と、該台座にベアリングを介して回動可能に支持されたステージと、上記所定の断面形状とされた第２のスリット上の第１のスリットの像の回転誤差を補正すべく該ステージを回動させて調整するステージ回動調整機構と、該ステージに固定してあり、電子ビーム源よりの電子ビームを上記所定の断面形状の電子ビームとするスリット組立体と、上記ステージと上記台座との間に存在しており、該ステージ回動調整機構による該ステージの回動を可能とし、且つ該ステージの熱を伝導して該台座に逃がすための熱伝導路手段とよりなる構成としたものである。
【００１２】
請求項２の発明は、電子ビーム源よりの電子ビームを第１のスリットを通して所定の断面形状の電子ビームとして試料上に投影する電子ビーム露光装置において、上記スリット装置は、台座と、該台座にベアリングを介して回動可能に支持されたステージと、上記所定の断面形状とされた第２のスリット上の第１のスリットの像の回転誤差を補正すべく該ステージを回動させて調整するステージ回動調整機構と、該ステージに固定してあり、電子ビーム源よりの電子ビームを上記所定の断面形状の電子ビームとするスリット組立体とよりなり、該ステージは、該スリット組立体が固定されるステージ本体と、該ステージ本体より外側のフランジ部と、該ステージ本体と該フランジ部との間に存在しており、弾性変形して該ステージ本体が該フランジ部に対して少しの角度の範囲内で回動可能とすると共に該ステージ本体の熱を該フランジ部に熱伝導させるばね部とよりなり、該フランジ部が上記台座に固定してある構成としたものである。
【００１３】
請求項３の発明は、上記ばね部は、周方向上等分に配され、一端が上記ステージ本体に繋がっており、他端が上記フランジ部に繋がっている、複数の曲線状のばね片よりなる構成としたことものである。
請求項４の発明は、上記ばね部は、一周しており、一端が上記ステージ本体に繋がっており、他端が上記フランジ部に繋がっている、単一のつる巻きばね片よりなる構成としたものである。
【００１４】
請求項５の発明は、上記曲線状のばね片は、板状である構成としたものである。
請求項６の発明は、上記単一のつる巻きばね片は、板状である構成としたものである。
【００１５】
請求項７の発明は、上記スリット装置は、上記ばね部が弾性変形した状態で、電子ビーム露光が行われる構成としたものである。
請求項８の発明は、請求項１乃至請求項７のうちいづれか一項記載の電子ビーム露光装置を使用して、試料を露光する構成としたものである。
【００１６】
【発明の実施の形態】
図２は本発明の一実施例になるブロック露光型電子ビーム露光装置４０を示す。電子ビーム露光装置４０は、コラム（図示せず）の最上部に電子ビーム源としての電子銃４１、最下部に電子レンズＬ５を有し、その間に、上部から順に、電子レンズＬ１ａ、第１のスリット４２、電子レンズＬ１ｂ、スリット偏向器４３、第１の偏向器４４、電子レンズＬ２ａ、第２の偏向器４４、マスクステージ４６により移動される第２のスリット４７、電子レンズＬ２ｂ、第３の偏向器４８、ブランキング４９、第４の偏向器５０、倍率及び回転のための電子レンズＬ３、アパーチャ５１、電子レンズＬ４、電磁式の主偏向器５２、静電式の副偏向器５３が配設された構成である。
【００１７】
電子銃４１より発射された電子ビーム５５は、電子レンズＬ１ａによって平行の電子ビームとされ、第１のスリット４２を通過して断面が矩形に整形される。断面が矩形に整形された電子ビーム５５ａは、電子レンズＬ１ｂ、スリット偏向器４３、第１の偏向器４４、電子レンズＬ２ａ、第２の偏向器４４を経て適宜偏向され、第２のスリット４７に形成してある複数の開口部のうち所定の開口部４７ａに向かい、その開口部４７ａを通過して、断面が開口部４７ａの形状と同じ形状に整形される。
【００１８】
整形された電子ビーム５５ｂは、電子レンズＬ２ｂ、第３の偏向器４８、ブランキング４９、第４の偏向器５０、電子レンズＬ３、アパーチャ５１、電子レンズＬ４、電子レンズＬ５を通過して、ステージ６０上に保持された試料としてのウェハ６１の上面に集束される。電子ビーム５５ｂは、主偏向器５２と副偏向器５３とによって偏向されて、ウェハ６１上を走査し、ウェハ６１の表面のレジスト膜が電子ビームによって露光される。
【００１９】
次に、本発明の要部をなす第１のスリット４２について、図１、図３、図４、及び図５を参照して説明する。
第１のスリット４２は、ステージ７０の構造以外は、図１０及び図１１の第１のスリット１０と実質上同じであり、対応する部分には同じ符号を付す。図３（Ａ），（Ｂ）に示すように、第１のスリット４２は、ハウジング１１を有する。ハウジング１１内に、銅製の台座１２が固定してあり、ハウジング１１外にモータ２０が取り付けてある。ハウジング１１内は、排気ポート２１を介して真空吸引されている。
【００２０】
台座１２に、ベアリング１３を介して、ステージ７０が垂直軸１５に関して回動可能に支持してある。ステージ７０上にスリット組立体１６Ａが固定してある。ステージ７０に関してウォームギヤ機構１７が設けてある。このウォームギヤ機構１７及びモータ２０が、ステージ回動調整機構を構成する。
【００２１】
図４及び図５に示すように、ステージ７０はベリリウム銅製であり、上面に凹部７０ｂを有し、中心に貫通孔７０ｃを有する円柱形状のステージ本体７０ａと、ステージ本体７０ａの上部側の環状のフランジ部７０ｄと、ステージ本体７０ａとフランジ部７０ｄとの間の環状部分のばね部７０ｅとよりなる。ばね部７０ｅは、周方向上均等に配された略Ｓ字状の８個のばね片７０ｆよりなる。各ばね片７０ｆは、一端がステージ本体７０ａと繋がっており、周方向上Ｓ字を描くように配され、他端がフランジ部７０ｄの内周に繋がっている。各ばね片７０ｆのステージ本体７０ａ及びフランジ部７０ｄと繋がっている部分は折れ曲がらないようになっており、且つ、ステージ本体７０ａ及びフランジ部７０ｃよりステージ７０の直径方向に突き出すようになっている。このばね部７０ｄは、ステージ本体７０ａより張り出した厚さｔ１が約５ｍｍのフランジ部の内周側の部分を放電加工等でくり抜き、ばね片７０Ａｆに相当する部分を残すことによって形成される。
【００２２】
ベアリング１３は、複数の鋼球７１と、ステージ７０のステージ本体７０ａの外周のＶ溝７０ｇよりなるインナーレース７２と、台座１２の穴１２ａの面取り部１２ｂと台座１２の下面にねじ止めされたリング７３の面取り部７３ａとよりなるアウターレース７４とよりなる。
【００２３】
ステージ７０は、ステージ本体７０ａが台座１２の穴１２ａを貫通しベアリング１３によって回動可能に支持されて、図４に示すように、フランジ部７０ｄがねじ７５によって台座１２の上面に押しつけられて固定されて、台座１２に取付けられている。
【００２４】
各ばね片７０ｆが、図６（Ａ）に示すように、Ｓ字が引き延ばされるように弾性変形することによって、ステージ本体７０ａは、フランジ部７０ｄに対して、図６（Ｂ）に示す位置から時計方向（Ｃ方向）に数度の範囲で回動可能である。また、各ばね片７０ｆが、図６（Ｃ）に示すように、Ｓ字が偏平となるように押し縮められて弾性変形することによって、ステージ本体７０ａは、フランジ部７０ｄに対して、図６（Ｂ）に示す位置から反時計方向（ＣＣ方向）に数度の範囲で回動可能である。
【００２５】
ここで、各ばね片７０ｆは均等に撓むため、ステージ本体７０ａが回動しても、ステージ本体７０ａの中心Ｏの位置は変化しない。よって、ステージ本体７０ａが回動しても、ベアリング１３にラジアル方向の力が作用することがなく、片当たり等の状態とはならず、ベアリング１３に悪影響を与えない。また、弾性変形しているばね片７０ｆが図６（Ｂ）に示す自然の状態に戻ろうとするばね力によって、回動したステージ本体７０ａには図６（Ｂ）に示す位置に戻ろうとする回動復帰力Ｆが作用している。
【００２６】
後述するように、ばね部７０ｅ（８個のばね片７０ｆ）は、熱の伝導路として機能する。
ステージ本体７０ａの下端に、ウォームホイール１８が固定してある。ウォーム１９が、台座１２の下面に固定してある軸受７６に支持されて、台座１２の下面側に設けてある。ウォーム１９がウォームホイール１８と噛合している。ウォーム１９は、ハウジング１１の外側のモータ２０によって回転される。ウォーム１９とウォームホイール１８とがウォームギヤ機構１７を構成する。
【００２７】
スリット組立体１６Ａは、ステージ本体７０ａの上面の凹部７０ｂ内に嵌合してねじ止めされて固定してある。スリット組立体１６Ａは、特に図５に示すように、中心孔を有するＭｏ又はＷ製の円盤８０上に、４つのスリット形成部材８１を井桁状に組んで固定したものであり、各スリット形成部材８１のナイフエッジ部８１ａが約２００μｍ角のスリット２５が形成してある。各スリット形成部材８１は、例えば、Ｗ製である。スリット形成部材８１の材質がＷ製で足りるのは、後述するようにスリット組立体１６Ａの放熱性が改善されたためである。
【００２８】
なお、スリット組立体１６Ａは、台座１２に固定された十字形のカバー２３Ａによって覆われている。カバー２３Ａは、中央に孔２２Ａを有する。
次に、上記構成の第１のスリット４２の動作及び特性について説明する。
電子銃から放射された電子ビームは、孔２２Ａを通り、スリット組立体１６Ａの個所で、周囲部分をスリット形成部材８１のナイフエッジ部８１ａによって遮蔽されてスリット２５を通り、スリット２５を通った電子ビームは、断面が矩形に整形される。第１のスリット４２からは、断面が矩形に整形された電子ビームが出、この電子ビームがウェハ上に投影されて、ＬＳＩの回路パターンが描画される。
【００２９】
従来の場合と同じく、例えば、露光前に、モータ２０を適宜駆動して、ウォームギヤ機構１７を介してステージ７０のステージ本体７０ａ（スリット組立体１６Ａ）を数度の範囲で回動させ、所定の断面形状とされた第２のスリット４７上の第１のスリット４２の像との回転誤差するように、換言すれば、第１のスリット４２の像の辺と第２のスリット４７の開口の辺との平行性、垂直性を所定の範囲におさめるように微調整する。ステージ７０のステージ本体７０ａは、図６（Ａ）、（Ｂ）に示すように、ばね部７０ｅ（８個のばね片７０ｆ）を厚さｔ１の方向に弾性変形させて回動される。
【００３０】
電子銃から放射された電子ビームの周囲部分がスリット形成部材８１のうちスリット２５に臨む個所を照射し、これによってスリット形成部材８１、特にスリット形成部材８１のナイフエッジ部８１ａが加熱される。図１に示すように、スリット形成部材８１の熱は、円盤８０→ステージ７０→台座１２と伝導され、台座１２内に拡がって放熱される。
【００３１】
ここで、ステージ７０から台座１２への熱の伝導路についてみる。熱の伝導路は、ベアリング１３の個所を経由する既存の熱伝導路３０に加えて、ばね片７０ｆ及びフランジ部７０ｄを経由する、熱伝導路手段としての新たな熱伝導路９０が形成されている。
【００３２】
よって、スリット形成部材８１の熱は、上記の二つの熱伝導路３０、９０を並行に通って逃がされるため、熱の伝導路が熱伝導路３０だけだった従来に比べて、良好に逃がされる。
また、新たな熱伝導路９０は、ばね片７０ｆ及びフランジ部７０ｄを経由する構成であり、且つばね片７０ｆは、線状ではなく板状であり、図１中にａ−ａ断面に示すように、高さ方向が幅であり、フランジ部７０ｄの厚さｔ１に対応する幅ｗを有しており、断面積Ｓが比較的大きいため、熱伝導路９０の熱抵抗は、鋼球７１とインナーレース７２及びアウターレース７４との接触部分を含んでいる既存の熱伝導路３０の熱抵抗に比べて格段に低い。このことによっても、スリット形成部材８１の熱は、従来に比べて、良好に逃がされる。
【００３３】
新たな熱伝導路９０が形成され、しかも、この熱伝導路９０の熱抵抗が低いことによって、スリット形成部材８１の最高温度が、従来の場合の最高温度より低く抑えられ、よって、スリット形成部材８１のナイフエッジ部８１ａが例えば欠損等の物理的破損を起こすことが抑制される。スリット形成部材８１のナイフエッジ部８１ａが物理的破損を起こすことが抑制されるため、回路パターンの描画精度は高い状態に維持される。
【００３４】
また、スリット形成部材８１の最高温度が従来の場合より低く抑えられるため、スリット形成部材８１を例えばモリブデン製とした場合には、電子銃４１が発射する電子ビームの電流量を従来の場合より増やすことが出来、これによって、回路パターンを描画する速度を従来の場合より上げることが出来、よって、ＬＳＩのスループットを上げることが出来る。
【００３５】
また、電子ビーム露光装置４０のコラム（図示せず）内の塵埃を排除するためにコラム内にオゾンを流しているけれども、スリット形成部材８１の温度が従来の場合より低く抑えられているため、スリット形成部材８１は酸化しにくい。よって、回路パターンの描画精度が低下してしまうことがなく、回路パターンの描画精度は高い状態に維持される。
【００３６】
また、第１のスリット４２は、ステージ７０のステージ本体７０ａ（スリット組立体１６Ａ）を調整したときに、ばね部７０ｅが図６（Ｂ）に示す自然の状態から少し変形して図６（Ａ）又は図６（Ｃ）に示す状態となるように構成してある。この図６（Ａ）又は図６（Ｃ）に示す状態では、ステージ本体７０ａには図６（Ｂ）に示す位置に戻ろうとする回動復帰力Ｆが作用している。このステージ本体７０ａの回動復帰力Ｆがウォームホイール１８を一方向に寄せ、ウォームギヤ機構１７が有するバックラッシュを吸収して、バックラッシュの影響がステージ１４の回動方向の微少な位置変動として表れないようになっている。よって、ウェハ上に投影されたスリット像が回動方向に振れることなく、安定し、回路パターンの描画精度は良好に維持される。
【００３７】
次に、ステージ７０、特に、ばね部７０ｅの変形例について説明する。
図７は第１の変形例になるステージ７０Ａを示す。本体７０Ａａとフランジ部７０Ａｄとの間の環状部分のばね部７０Ａｅは、略逆Ｌ状の４個のばね片７０Ａｆが周方向上均等に配された構成である。ばね部７０Ａｅは、フランジ部の内周側の部分を放電加工等でくり抜き、ばね片７０Ａｆに相当する部分を残すことによって形成したものである。
【００３８】
図８は第２の変形例になるステージ７０Ｂを示す。本体７０Ｂａとフランジ部７０Ｂｄとの間の環状部分のばね部７０Ｂｅは、つる巻き形状の一つのばね片７０Ａｆが一周した構成である。ばね部７０Ｂｅは、フランジ部の内周側の部分を放電加工等でくり抜き、ばね片７０Ｂｆに相当する部分を残すことによって形成したものである。
【００３９】
図９は第３の変形例になるステージ７０Ｃを示す。本体７０Ｃａとフランジ部７０Ｃｄとの間の環状部分のばね部７０Ｃｅは、ジグザグ状の８個のばね片７０Ｃｆが周方向上均等に配された構成である。ばね部７０Ｃｅは、フランジ部の内周側の部分を放電加工等でくり抜き、ばね片７０Ｃｆに相当する部分を残すことによって形成したものである。
【００４０】
上記各ステージ７０Ａ，７０Ｂ，７０Ｃにおいて、ばね部７０Ａｅ，７０Ｂｅ，７０Ｃｅは、前記のステージ７０のばね部７０ｅと同じく作用する。
【００４１】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１の発明によれば、ステージと台座との間に、ステージの少しの回動を可能とし、且つステージの熱を伝導して台座に逃がすための熱伝導路手段を設けた構成であるため、電子ビーム源よりの電子ビームの周囲の部分を照射されて加熱されるスリット組立体の熱を速やかに台座に逃がすことが出来、よって、電子ビーム露光動作中のスリット組立体の温度を従来の場合の温度より低く抑えることが出来る。よって、スリット組立体の物理的損傷及び酸化を抑えることが出来、よって、回路パターンの描画精度が無用に低下することを防止出来る。
【００４２】
また、スリット組立体の温度上昇を抑えることが出来るため、耐熱性の材料を使用する部分を減らすことが出来、その分、電子ビーム露光装置の製造コストを安価に出来る。
また、耐熱性に優れた材料で作ったスリット組立体を使用した場合には、スリット組立体の温度上昇を抑えることが出来るため、電子源が発射する電子ビームの電流量を増やすことが出来、これによって、回路パターンを描画する速度を上げることが出来、よって、ＬＳＩのスループットを上げることが出来る。
【００４３】
請求項２の発明によれば、ステージが、ステージ本体とフランジ部との間に弾性変形してステージ本体がフランジ部に対して少しの角度の範囲内で回動可能とすると共にステージ本体の熱を該フランジ部に熱伝導させるばね部とよりなる構成であり、フランジ部が台座に固定してある構成であるため、電子ビーム源よりの電子ビームの周囲の部分を照射されて加熱されるスリット組立体の熱を上記のばね部を通して速やかに台座に逃がすことが出来、請求項１の発明による効果と同じ効果を有する。
【００４４】
また、ばね部は、ステージの一部であるため、部品を追加せずに実現出来る。請求項３及び請求項４の発明によれば、各ばね片が均等に撓むため、ステージ本体が回動しても、ステージ本体の中心の位置は変化せず、よって、ベアリングの片当たり等は発生せず、ベアリングが悪影響を受けないようにすることが出来る。
【００４５】
請求項５及び請求項６の発明によれば、各ばね片が板状であるため、一般の線状である場合に比べて断面積を大きく出来、よって、熱伝導に対する抵抗を小さく出来、よって、スリット組立体の熱をばね部を通して速やかに台座に逃がすことが出来る。
【００４６】
請求項７の発明によれば、ばね部が弾性変形した状態で、電子ビーム露光が行われる構成としたため、ステージ本体は元の位置に戻ろうとする力が作用しておりこの力が作用する方向に寄せられた状態となり、よって、ステージ回動調整機構にバックラッシュ等の遊びがある場合でも、ステージ本体ががたつくことを防止出来、よって、回路パターンの描画精度を従来より高めることが出来る。
【００４７】
請求項８の発明によれば、回路パターンを精度良く描画することが出来、また、より高速で描画することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】図３（Ａ）中、Ｉ−Ｉ線に沿う、ステージ周りを拡大して示す断面図である。
【図２】本発明の一実施例になるブロック露光型電子ビーム露光装置をしめす図である。
【図３】図２中の第１のスリットを示す図である。
【図４】図３中、ステージの部分の斜視図である。
【図５】図３中、ステージの部分の分解斜視図である。
【図６】ステージ本体の回動を説明する図である。
【図７】ステージの第１の変形例の平面図である。
【図８】ステージの第２の変形例の平面図である。
【図９】ステージの第３の変形例の平面図である。
【図１０】従来の第１のスリットを示す図である。
【図１１】図１０（Ｂ）中、ステージ周りを拡大して示す図である。
【符号の説明】
１２ 台座
１３ ベアリング
１６Ａ スリット組立体
１７ ウォームギヤ機構
１８ ウォームホイール
１９ ウォーム
２５ スリット
３０ 熱伝導路
４０ ブロック露光型電子ビーム露光装置
４１ 電子銃
４２ 第１のスリット
４７ 第２のスリット
５５ 電子ビーム
７０、７０Ａ，７０Ｂ，７０Ｃ ステージ
７０ａ，７０Ａａ，７０Ｂａ，７０Ｃａ ステージ本体
７０ｄ，７０Ａｄ，７０Ｂｄ，７０Ｃｄ フランジ部
７０ｅ，７０Ａｅ，７０Ｂｅ，７０Ｃｅ ばね部
７０ｆ，７０Ａｆ，７０Ｂｆ，７０Ｃｆ ばね片
７５ ねじ
８０ 円盤
８１ スリット形成部材
９０ 熱伝導路
【発明の属する技術分野】
本発明は電子ビーム露光装置に係り、特に、電子ビームをスリット組立体を通して断面が矩形の形状に整形してウェハ上に投影するブロック露光又は可変矩形型電子ビーム露光装置に関する。
【０００２】
現在、ブロック露光電子ビーム露光装置においては、ＬＳＩの回路パターンの微細化に対応すべく、回路パターンをより精度良く描画すること、及び、高生産性のために、ＬＳＩの回路パターンをより高速で描画することが求められている。
【０００３】
【従来の技術】
図１０（Ａ），（Ｂ）及び図１１は、従来のブロック露光型電子ビーム露光装置のうち電子銃の次の段の個所に配設してある第１のスリット１０を示す。第１のスリット１０は、ハウジング１１内に、台座１２が固定してあり、台座１２にベアリング１３を介してステージ１４が垂直軸１５に関して回動可能に支持してあり、ステージ１４上にスリット組立体１６が固定してあり、且つ、ステージ１４に関してウォームギヤ機構１７が設けてある構成である。スリット組立体１６はスリット形成部材２６が４つ井桁状に組み合わされた構造であり、中央に約２００μｍ角のスリット２５が形成してある。スリット形成部材２６は、耐熱性に優れているモリブデン製である。ウォームギヤ機構１７は、ステージ１４と一体のウォームホイール１８と、台座１２に支持されているウォーム１９とよりなる。ウォーム１９は、ハウジング１１の外側のモータ２０によって回転される。ハウジング１１内は、排気ポート２１を介して真空吸引されている。スリット組立体１６は、台座１２に固定された十字形のカバー２３によって覆われている。カバー２３は、中央に孔２２を有する。
【０００４】
電子銃から放射された電子ビームは、孔２２を通り、スリット組立体１６の個所で、周囲部分をスリット組立体１６によって遮蔽されてスリット２５を通り、スリット２５を通った電子ビームは、断面が矩形に整形される。第１のスリット１０からは、断面が矩形に整形された電子ビームが出、この電子ビームがウェハ上に投影されて、ＬＳＩの回路パターンが描画される。
【０００５】
なお、ステージ１４を垂直軸１５に関して回動させるのは、第１のスリット１０によって断面が矩形に整形された電子ビームと後述する第２のスリットの位相が微妙に回転しているため、この回転に対応した調整をする必要があるためである。ステージ１４を垂直軸１５に関して回動させて行う調整は、露光前に、モータ２０を適宜駆動して、ウォームギヤ機構１７を介してステージ１４を数度の範囲で回動させ、第２のスリットの辺との平行性、垂直性を所定の範囲におさめるように調整する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
電子銃から放射された電子ビームの周囲部分がスリット組立体１６を照射し、これによってスリット組立体１６が加熱される。スリット組立体１６の熱は、ステージ１４→台座１２→ハウジング１１と伝導されて放熱される。
【０００７】
ここで、ステージ１４から台座１２への熱の伝導路は、符号３０で示すように、ベアリング１３の個所だけに限定されており、しかも、ベアリング１３の個所の接触は、接触面積が狭く、且つ、不安定となり易い。よって、熱伝導路３０の熱抵抗が大きく、スリット組立体１６の熱の台座１２への熱伝導がよくない。このため、スリット組立体１６が高温になり易く、スリット組立体１６が欠損等の物理的破損を起こし易い。スリット組立体１６が物理的破損を起こすと、回路パターンの描画精度が低下してしまう。
【０００８】
また、スリット組立体１６が高温になり易いため、回路パターンの描画速度を増すべく、電子ビームの電流量を上げることは困難であった。
また、電子ビーム露光装置のコラム内のチャージアップを排除するためにコラム内にオゾンを流した場合には、スリット組立体１６が高温になっているため、スリット組立体１６がオゾンに触れて簡単に酸化してしまう。スリット組立体１６が酸化すると、ナイフエッジが直線でなくなり、回路パターンの描画精度が低下してしまう。
【０００９】
また、ウォームギヤ機構１７が有するバックラッシュの影響がステージ１４の回動方向の微少な位置変動として表れ易い。ステージ１４の回動方向位置が変動すると、ウェハ上に投影されたスリット像が回動方向に振れて、回路パターンの描画精度が低下してしまう。
【００１０】
そこで、本発明は上記課題を解決した電子ビーム露光装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、電子ビーム源よりの電子ビームを第１のスリットを通して所定の断面形状の電子ビームとして試料上に投影する電子ビーム露光装置において、上記スリット装置は、台座と、該台座にベアリングを介して回動可能に支持されたステージと、上記所定の断面形状とされた第２のスリット上の第１のスリットの像の回転誤差を補正すべく該ステージを回動させて調整するステージ回動調整機構と、該ステージに固定してあり、電子ビーム源よりの電子ビームを上記所定の断面形状の電子ビームとするスリット組立体と、上記ステージと上記台座との間に存在しており、該ステージ回動調整機構による該ステージの回動を可能とし、且つ該ステージの熱を伝導して該台座に逃がすための熱伝導路手段とよりなる構成としたものである。
【００１２】
請求項２の発明は、電子ビーム源よりの電子ビームを第１のスリットを通して所定の断面形状の電子ビームとして試料上に投影する電子ビーム露光装置において、上記スリット装置は、台座と、該台座にベアリングを介して回動可能に支持されたステージと、上記所定の断面形状とされた第２のスリット上の第１のスリットの像の回転誤差を補正すべく該ステージを回動させて調整するステージ回動調整機構と、該ステージに固定してあり、電子ビーム源よりの電子ビームを上記所定の断面形状の電子ビームとするスリット組立体とよりなり、該ステージは、該スリット組立体が固定されるステージ本体と、該ステージ本体より外側のフランジ部と、該ステージ本体と該フランジ部との間に存在しており、弾性変形して該ステージ本体が該フランジ部に対して少しの角度の範囲内で回動可能とすると共に該ステージ本体の熱を該フランジ部に熱伝導させるばね部とよりなり、該フランジ部が上記台座に固定してある構成としたものである。
【００１３】
請求項３の発明は、上記ばね部は、周方向上等分に配され、一端が上記ステージ本体に繋がっており、他端が上記フランジ部に繋がっている、複数の曲線状のばね片よりなる構成としたことものである。
請求項４の発明は、上記ばね部は、一周しており、一端が上記ステージ本体に繋がっており、他端が上記フランジ部に繋がっている、単一のつる巻きばね片よりなる構成としたものである。
【００１４】
請求項５の発明は、上記曲線状のばね片は、板状である構成としたものである。
請求項６の発明は、上記単一のつる巻きばね片は、板状である構成としたものである。
【００１５】
請求項７の発明は、上記スリット装置は、上記ばね部が弾性変形した状態で、電子ビーム露光が行われる構成としたものである。
請求項８の発明は、請求項１乃至請求項７のうちいづれか一項記載の電子ビーム露光装置を使用して、試料を露光する構成としたものである。
【００１６】
【発明の実施の形態】
図２は本発明の一実施例になるブロック露光型電子ビーム露光装置４０を示す。電子ビーム露光装置４０は、コラム（図示せず）の最上部に電子ビーム源としての電子銃４１、最下部に電子レンズＬ５を有し、その間に、上部から順に、電子レンズＬ１ａ、第１のスリット４２、電子レンズＬ１ｂ、スリット偏向器４３、第１の偏向器４４、電子レンズＬ２ａ、第２の偏向器４４、マスクステージ４６により移動される第２のスリット４７、電子レンズＬ２ｂ、第３の偏向器４８、ブランキング４９、第４の偏向器５０、倍率及び回転のための電子レンズＬ３、アパーチャ５１、電子レンズＬ４、電磁式の主偏向器５２、静電式の副偏向器５３が配設された構成である。
【００１７】
電子銃４１より発射された電子ビーム５５は、電子レンズＬ１ａによって平行の電子ビームとされ、第１のスリット４２を通過して断面が矩形に整形される。断面が矩形に整形された電子ビーム５５ａは、電子レンズＬ１ｂ、スリット偏向器４３、第１の偏向器４４、電子レンズＬ２ａ、第２の偏向器４４を経て適宜偏向され、第２のスリット４７に形成してある複数の開口部のうち所定の開口部４７ａに向かい、その開口部４７ａを通過して、断面が開口部４７ａの形状と同じ形状に整形される。
【００１８】
整形された電子ビーム５５ｂは、電子レンズＬ２ｂ、第３の偏向器４８、ブランキング４９、第４の偏向器５０、電子レンズＬ３、アパーチャ５１、電子レンズＬ４、電子レンズＬ５を通過して、ステージ６０上に保持された試料としてのウェハ６１の上面に集束される。電子ビーム５５ｂは、主偏向器５２と副偏向器５３とによって偏向されて、ウェハ６１上を走査し、ウェハ６１の表面のレジスト膜が電子ビームによって露光される。
【００１９】
次に、本発明の要部をなす第１のスリット４２について、図１、図３、図４、及び図５を参照して説明する。
第１のスリット４２は、ステージ７０の構造以外は、図１０及び図１１の第１のスリット１０と実質上同じであり、対応する部分には同じ符号を付す。図３（Ａ），（Ｂ）に示すように、第１のスリット４２は、ハウジング１１を有する。ハウジング１１内に、銅製の台座１２が固定してあり、ハウジング１１外にモータ２０が取り付けてある。ハウジング１１内は、排気ポート２１を介して真空吸引されている。
【００２０】
台座１２に、ベアリング１３を介して、ステージ７０が垂直軸１５に関して回動可能に支持してある。ステージ７０上にスリット組立体１６Ａが固定してある。ステージ７０に関してウォームギヤ機構１７が設けてある。このウォームギヤ機構１７及びモータ２０が、ステージ回動調整機構を構成する。
【００２１】
図４及び図５に示すように、ステージ７０はベリリウム銅製であり、上面に凹部７０ｂを有し、中心に貫通孔７０ｃを有する円柱形状のステージ本体７０ａと、ステージ本体７０ａの上部側の環状のフランジ部７０ｄと、ステージ本体７０ａとフランジ部７０ｄとの間の環状部分のばね部７０ｅとよりなる。ばね部７０ｅは、周方向上均等に配された略Ｓ字状の８個のばね片７０ｆよりなる。各ばね片７０ｆは、一端がステージ本体７０ａと繋がっており、周方向上Ｓ字を描くように配され、他端がフランジ部７０ｄの内周に繋がっている。各ばね片７０ｆのステージ本体７０ａ及びフランジ部７０ｄと繋がっている部分は折れ曲がらないようになっており、且つ、ステージ本体７０ａ及びフランジ部７０ｃよりステージ７０の直径方向に突き出すようになっている。このばね部７０ｄは、ステージ本体７０ａより張り出した厚さｔ１が約５ｍｍのフランジ部の内周側の部分を放電加工等でくり抜き、ばね片７０Ａｆに相当する部分を残すことによって形成される。
【００２２】
ベアリング１３は、複数の鋼球７１と、ステージ７０のステージ本体７０ａの外周のＶ溝７０ｇよりなるインナーレース７２と、台座１２の穴１２ａの面取り部１２ｂと台座１２の下面にねじ止めされたリング７３の面取り部７３ａとよりなるアウターレース７４とよりなる。
【００２３】
ステージ７０は、ステージ本体７０ａが台座１２の穴１２ａを貫通しベアリング１３によって回動可能に支持されて、図４に示すように、フランジ部７０ｄがねじ７５によって台座１２の上面に押しつけられて固定されて、台座１２に取付けられている。
【００２４】
各ばね片７０ｆが、図６（Ａ）に示すように、Ｓ字が引き延ばされるように弾性変形することによって、ステージ本体７０ａは、フランジ部７０ｄに対して、図６（Ｂ）に示す位置から時計方向（Ｃ方向）に数度の範囲で回動可能である。また、各ばね片７０ｆが、図６（Ｃ）に示すように、Ｓ字が偏平となるように押し縮められて弾性変形することによって、ステージ本体７０ａは、フランジ部７０ｄに対して、図６（Ｂ）に示す位置から反時計方向（ＣＣ方向）に数度の範囲で回動可能である。
【００２５】
ここで、各ばね片７０ｆは均等に撓むため、ステージ本体７０ａが回動しても、ステージ本体７０ａの中心Ｏの位置は変化しない。よって、ステージ本体７０ａが回動しても、ベアリング１３にラジアル方向の力が作用することがなく、片当たり等の状態とはならず、ベアリング１３に悪影響を与えない。また、弾性変形しているばね片７０ｆが図６（Ｂ）に示す自然の状態に戻ろうとするばね力によって、回動したステージ本体７０ａには図６（Ｂ）に示す位置に戻ろうとする回動復帰力Ｆが作用している。
【００２６】
後述するように、ばね部７０ｅ（８個のばね片７０ｆ）は、熱の伝導路として機能する。
ステージ本体７０ａの下端に、ウォームホイール１８が固定してある。ウォーム１９が、台座１２の下面に固定してある軸受７６に支持されて、台座１２の下面側に設けてある。ウォーム１９がウォームホイール１８と噛合している。ウォーム１９は、ハウジング１１の外側のモータ２０によって回転される。ウォーム１９とウォームホイール１８とがウォームギヤ機構１７を構成する。
【００２７】
スリット組立体１６Ａは、ステージ本体７０ａの上面の凹部７０ｂ内に嵌合してねじ止めされて固定してある。スリット組立体１６Ａは、特に図５に示すように、中心孔を有するＭｏ又はＷ製の円盤８０上に、４つのスリット形成部材８１を井桁状に組んで固定したものであり、各スリット形成部材８１のナイフエッジ部８１ａが約２００μｍ角のスリット２５が形成してある。各スリット形成部材８１は、例えば、Ｗ製である。スリット形成部材８１の材質がＷ製で足りるのは、後述するようにスリット組立体１６Ａの放熱性が改善されたためである。
【００２８】
なお、スリット組立体１６Ａは、台座１２に固定された十字形のカバー２３Ａによって覆われている。カバー２３Ａは、中央に孔２２Ａを有する。
次に、上記構成の第１のスリット４２の動作及び特性について説明する。
電子銃から放射された電子ビームは、孔２２Ａを通り、スリット組立体１６Ａの個所で、周囲部分をスリット形成部材８１のナイフエッジ部８１ａによって遮蔽されてスリット２５を通り、スリット２５を通った電子ビームは、断面が矩形に整形される。第１のスリット４２からは、断面が矩形に整形された電子ビームが出、この電子ビームがウェハ上に投影されて、ＬＳＩの回路パターンが描画される。
【００２９】
従来の場合と同じく、例えば、露光前に、モータ２０を適宜駆動して、ウォームギヤ機構１７を介してステージ７０のステージ本体７０ａ（スリット組立体１６Ａ）を数度の範囲で回動させ、所定の断面形状とされた第２のスリット４７上の第１のスリット４２の像との回転誤差するように、換言すれば、第１のスリット４２の像の辺と第２のスリット４７の開口の辺との平行性、垂直性を所定の範囲におさめるように微調整する。ステージ７０のステージ本体７０ａは、図６（Ａ）、（Ｂ）に示すように、ばね部７０ｅ（８個のばね片７０ｆ）を厚さｔ１の方向に弾性変形させて回動される。
【００３０】
電子銃から放射された電子ビームの周囲部分がスリット形成部材８１のうちスリット２５に臨む個所を照射し、これによってスリット形成部材８１、特にスリット形成部材８１のナイフエッジ部８１ａが加熱される。図１に示すように、スリット形成部材８１の熱は、円盤８０→ステージ７０→台座１２と伝導され、台座１２内に拡がって放熱される。
【００３１】
ここで、ステージ７０から台座１２への熱の伝導路についてみる。熱の伝導路は、ベアリング１３の個所を経由する既存の熱伝導路３０に加えて、ばね片７０ｆ及びフランジ部７０ｄを経由する、熱伝導路手段としての新たな熱伝導路９０が形成されている。
【００３２】
よって、スリット形成部材８１の熱は、上記の二つの熱伝導路３０、９０を並行に通って逃がされるため、熱の伝導路が熱伝導路３０だけだった従来に比べて、良好に逃がされる。
また、新たな熱伝導路９０は、ばね片７０ｆ及びフランジ部７０ｄを経由する構成であり、且つばね片７０ｆは、線状ではなく板状であり、図１中にａ−ａ断面に示すように、高さ方向が幅であり、フランジ部７０ｄの厚さｔ１に対応する幅ｗを有しており、断面積Ｓが比較的大きいため、熱伝導路９０の熱抵抗は、鋼球７１とインナーレース７２及びアウターレース７４との接触部分を含んでいる既存の熱伝導路３０の熱抵抗に比べて格段に低い。このことによっても、スリット形成部材８１の熱は、従来に比べて、良好に逃がされる。
【００３３】
新たな熱伝導路９０が形成され、しかも、この熱伝導路９０の熱抵抗が低いことによって、スリット形成部材８１の最高温度が、従来の場合の最高温度より低く抑えられ、よって、スリット形成部材８１のナイフエッジ部８１ａが例えば欠損等の物理的破損を起こすことが抑制される。スリット形成部材８１のナイフエッジ部８１ａが物理的破損を起こすことが抑制されるため、回路パターンの描画精度は高い状態に維持される。
【００３４】
また、スリット形成部材８１の最高温度が従来の場合より低く抑えられるため、スリット形成部材８１を例えばモリブデン製とした場合には、電子銃４１が発射する電子ビームの電流量を従来の場合より増やすことが出来、これによって、回路パターンを描画する速度を従来の場合より上げることが出来、よって、ＬＳＩのスループットを上げることが出来る。
【００３５】
また、電子ビーム露光装置４０のコラム（図示せず）内の塵埃を排除するためにコラム内にオゾンを流しているけれども、スリット形成部材８１の温度が従来の場合より低く抑えられているため、スリット形成部材８１は酸化しにくい。よって、回路パターンの描画精度が低下してしまうことがなく、回路パターンの描画精度は高い状態に維持される。
【００３６】
また、第１のスリット４２は、ステージ７０のステージ本体７０ａ（スリット組立体１６Ａ）を調整したときに、ばね部７０ｅが図６（Ｂ）に示す自然の状態から少し変形して図６（Ａ）又は図６（Ｃ）に示す状態となるように構成してある。この図６（Ａ）又は図６（Ｃ）に示す状態では、ステージ本体７０ａには図６（Ｂ）に示す位置に戻ろうとする回動復帰力Ｆが作用している。このステージ本体７０ａの回動復帰力Ｆがウォームホイール１８を一方向に寄せ、ウォームギヤ機構１７が有するバックラッシュを吸収して、バックラッシュの影響がステージ１４の回動方向の微少な位置変動として表れないようになっている。よって、ウェハ上に投影されたスリット像が回動方向に振れることなく、安定し、回路パターンの描画精度は良好に維持される。
【００３７】
次に、ステージ７０、特に、ばね部７０ｅの変形例について説明する。
図７は第１の変形例になるステージ７０Ａを示す。本体７０Ａａとフランジ部７０Ａｄとの間の環状部分のばね部７０Ａｅは、略逆Ｌ状の４個のばね片７０Ａｆが周方向上均等に配された構成である。ばね部７０Ａｅは、フランジ部の内周側の部分を放電加工等でくり抜き、ばね片７０Ａｆに相当する部分を残すことによって形成したものである。
【００３８】
図８は第２の変形例になるステージ７０Ｂを示す。本体７０Ｂａとフランジ部７０Ｂｄとの間の環状部分のばね部７０Ｂｅは、つる巻き形状の一つのばね片７０Ａｆが一周した構成である。ばね部７０Ｂｅは、フランジ部の内周側の部分を放電加工等でくり抜き、ばね片７０Ｂｆに相当する部分を残すことによって形成したものである。
【００３９】
図９は第３の変形例になるステージ７０Ｃを示す。本体７０Ｃａとフランジ部７０Ｃｄとの間の環状部分のばね部７０Ｃｅは、ジグザグ状の８個のばね片７０Ｃｆが周方向上均等に配された構成である。ばね部７０Ｃｅは、フランジ部の内周側の部分を放電加工等でくり抜き、ばね片７０Ｃｆに相当する部分を残すことによって形成したものである。
【００４０】
上記各ステージ７０Ａ，７０Ｂ，７０Ｃにおいて、ばね部７０Ａｅ，７０Ｂｅ，７０Ｃｅは、前記のステージ７０のばね部７０ｅと同じく作用する。
【００４１】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１の発明によれば、ステージと台座との間に、ステージの少しの回動を可能とし、且つステージの熱を伝導して台座に逃がすための熱伝導路手段を設けた構成であるため、電子ビーム源よりの電子ビームの周囲の部分を照射されて加熱されるスリット組立体の熱を速やかに台座に逃がすことが出来、よって、電子ビーム露光動作中のスリット組立体の温度を従来の場合の温度より低く抑えることが出来る。よって、スリット組立体の物理的損傷及び酸化を抑えることが出来、よって、回路パターンの描画精度が無用に低下することを防止出来る。
【００４２】
また、スリット組立体の温度上昇を抑えることが出来るため、耐熱性の材料を使用する部分を減らすことが出来、その分、電子ビーム露光装置の製造コストを安価に出来る。
また、耐熱性に優れた材料で作ったスリット組立体を使用した場合には、スリット組立体の温度上昇を抑えることが出来るため、電子源が発射する電子ビームの電流量を増やすことが出来、これによって、回路パターンを描画する速度を上げることが出来、よって、ＬＳＩのスループットを上げることが出来る。
【００４３】
請求項２の発明によれば、ステージが、ステージ本体とフランジ部との間に弾性変形してステージ本体がフランジ部に対して少しの角度の範囲内で回動可能とすると共にステージ本体の熱を該フランジ部に熱伝導させるばね部とよりなる構成であり、フランジ部が台座に固定してある構成であるため、電子ビーム源よりの電子ビームの周囲の部分を照射されて加熱されるスリット組立体の熱を上記のばね部を通して速やかに台座に逃がすことが出来、請求項１の発明による効果と同じ効果を有する。
【００４４】
また、ばね部は、ステージの一部であるため、部品を追加せずに実現出来る。請求項３及び請求項４の発明によれば、各ばね片が均等に撓むため、ステージ本体が回動しても、ステージ本体の中心の位置は変化せず、よって、ベアリングの片当たり等は発生せず、ベアリングが悪影響を受けないようにすることが出来る。
【００４５】
請求項５及び請求項６の発明によれば、各ばね片が板状であるため、一般の線状である場合に比べて断面積を大きく出来、よって、熱伝導に対する抵抗を小さく出来、よって、スリット組立体の熱をばね部を通して速やかに台座に逃がすことが出来る。
【００４６】
請求項７の発明によれば、ばね部が弾性変形した状態で、電子ビーム露光が行われる構成としたため、ステージ本体は元の位置に戻ろうとする力が作用しておりこの力が作用する方向に寄せられた状態となり、よって、ステージ回動調整機構にバックラッシュ等の遊びがある場合でも、ステージ本体ががたつくことを防止出来、よって、回路パターンの描画精度を従来より高めることが出来る。
【００４７】
請求項８の発明によれば、回路パターンを精度良く描画することが出来、また、より高速で描画することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】図３（Ａ）中、Ｉ−Ｉ線に沿う、ステージ周りを拡大して示す断面図である。
【図２】本発明の一実施例になるブロック露光型電子ビーム露光装置をしめす図である。
【図３】図２中の第１のスリットを示す図である。
【図４】図３中、ステージの部分の斜視図である。
【図５】図３中、ステージの部分の分解斜視図である。
【図６】ステージ本体の回動を説明する図である。
【図７】ステージの第１の変形例の平面図である。
【図８】ステージの第２の変形例の平面図である。
【図９】ステージの第３の変形例の平面図である。
【図１０】従来の第１のスリットを示す図である。
【図１１】図１０（Ｂ）中、ステージ周りを拡大して示す図である。
【符号の説明】
１２ 台座
１３ ベアリング
１６Ａ スリット組立体
１７ ウォームギヤ機構
１８ ウォームホイール
１９ ウォーム
２５ スリット
３０ 熱伝導路
４０ ブロック露光型電子ビーム露光装置
４１ 電子銃
４２ 第１のスリット
４７ 第２のスリット
５５ 電子ビーム
７０、７０Ａ，７０Ｂ，７０Ｃ ステージ
７０ａ，７０Ａａ，７０Ｂａ，７０Ｃａ ステージ本体
７０ｄ，７０Ａｄ，７０Ｂｄ，７０Ｃｄ フランジ部
７０ｅ，７０Ａｅ，７０Ｂｅ，７０Ｃｅ ばね部
７０ｆ，７０Ａｆ，７０Ｂｆ，７０Ｃｆ ばね片
７５ ねじ
８０ 円盤
８１ スリット形成部材
９０ 熱伝導路
Claims (8)
- 電子ビーム源よりの電子ビームを第１のスリットを通して所定の断面形状の電子ビームとして試料上に投影する電子ビーム露光装置において、
上記第１のスリットは、
台座と、
該台座にベアリングを介して回動可能に支持されたステージと、
上記所定の断面形状とされた第２のスリット上の第１のスリットの像の回転誤差を補正すべく該ステージを回動させて調整するステージ回動調整機構と、
該ステージに固定してあり、電子ビーム源よりの電子ビームを上記所定の断面形状の電子ビームとするスリット組立体と、
上記ステージと上記台座との間に存在しており、該ステージ回動調整機構による該ステージの回動を可能とし、且つ該ステージの熱を伝導して該台座に逃がすための熱伝導路手段とよりなる構成としたことを特徴とする電子ビーム露光装置。 - 電子ビーム源よりの電子ビームを第１のスリットを通して所定の断面形状の電子ビームとして試料上に投影する電子ビーム露光装置において、
上記第１のスリットは、
台座と、
該台座にベアリングを介して回動可能に支持されたステージと、
上記所定の断面形状とされた第２のスリット上の第１のスリットの像の回転誤差を補正すべく該ステージを回動させて調整するステージ回動調整機構と、
該ステージに固定してあり、電子ビーム源よりの電子ビームを上記所定の断面形状の電子ビームとするスリット組立体とよりなり、
該ステージは、該スリット組立体が固定されるステージ本体と、該ステージ本体より外側のフランジ部と、該ステージ本体と該フランジ部との間に存在しており、弾性変形して該ステージ本体が該フランジ部に対して少しの角度の範囲内で回動可能とすると共に該ステージ本体の熱を該フランジ部に熱伝導させるばね部とよりなり、該フランジ部が上記台座に固定してある構成としたことを特徴とする電子ビーム露光装置。 - 上記ばね部は、周方向上等分に配され、一端が上記ステージ本体に繋がっており、他端が上記フランジ部に繋がっている、複数の曲線状のばね片よりなる構成としたことを特徴とする請求項２記載の電子ビーム露光装置。
- 上記ばね部は、一周しており、一端が上記ステージ本体に繋がっており、他端が上記フランジ部に繋がっている、単一のつる巻きばね片よりなる構成としたことを特徴とする請求項２記載の電子ビーム露光装置。
- 上記曲線状のばね片は、板状である構成としたことを特徴とする請求項３記載の電子ビーム露光装置。
- 上記単一のつる巻きばね片は、板状である構成としたことを特徴とする請求項４記載の電子ビーム露光装置。
- 上記スリット装置は、上記ばね部が弾性変形した状態で、電子ビーム露光が行われる構成としたことを特徴とする請求項２記載の電子ビーム露光装置。
- 請求項１乃至請求項７のうちいづれか一項記載の電子ビーム露光装置を使用して、試料を露光することを特徴とする電子ビーム露光方法。
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