JP3656992B2 - 成形物の処理方法及び処理装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、光ディスク基板などになる成形物を冷却すると共に、反りを低減する処理方法及び処理装置に関する。
【０００２】
【従来技術】
一般に、ＤＶＤ基板やコンパクトディスク基板のような光ディスク基板は射出成形される。ディスク基板の成形について、図３により説明すると、一対の金型１０、１１内にディスク基板となる樹脂材料が射出され、成形ディスク基板１’が成形される。このとき、成形ディスク基板１’の一方の面に所定の情報が記録される。次に、同図（Ｂ）に示すように金型１０、１１が両側に開き、取り出し機構（図示せず）の取り出しアーム１２が前進して金型１０と１１との間に入り、温度が高くて未だ柔らかい成形ディスク基板１’を吸着保持すると後退し、金型１０、１１外に取り出す。
【０００３】
次に、同図（Ｃ）に示すように、金型１０、１１外に取り出された成形ディスク基板１’は、ある位置で直接搬送機構の搬送アーム１３に吸着保持され、搬送アーム１３によって次の冷却用ステージ１４に搬送される。この点についてもう少し詳しく説明すると、金型１０、１１外に取り出され、取り出しアーム１２の先端部の吸着部１２ａに吸着保持されている成形ディスク基板１’は、取り出しアーム１２に吸着保持された面とは反対の面を、搬送アーム１３の先端部に設けられた吸着保持部１３ａにより吸着される。このとき、ほぼ同時に取り出しアーム１２の吸着部１２ａは吸着を解除する。しかる後、搬送アーム１３は成形ディスク基板１’を吸着保持した状態でほぼ１８０度旋回し、成形ディスク基板１’を冷却用ステージ１４に移載する。成形ディスク基板１’は冷却用ステージ１４で冷却され、その樹脂材料は固化して、ディスク基板１となる。例えば、その固化温度は９０℃程度である。
【０００４】
前述のように、成形機の金型から取り出された直後の成形ディスク基板１’は温度が高く、十分に柔らかい状態にあるため、冷却されてその樹脂材料が固化し、ディスク基板１となる過程でかなりの変形、つまり反りが発生することが分かっている。この反りを低減するために、従来では金型の温度を調整したり、あるいは金型１０と金型１１間に温度差を付けて低減したり、又は樹脂材料を射出する際の圧力を調整するなど、射出成形時の種々の条件を調整していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、前述のようにして反りの小さい成形ディスク基板１’が得られたとしても、成形機の金型から取り出された直後の成形ディスク基板１’は温度が高く、十分に柔らかい状態にあるため、成形ディスク基板１’を金型から取り出すとき、及び搬送機構により冷却用ステージに搬送する過程で反ってしまうという問題があることが分かった。また、冷却過程でも反りが大きくなる。この点について図４を用いて説明する。図４（Ａ）は、成形機の金型から成形ディスク基板１’を取り出すために、取り出しアーム１２の吸着部１２ａが成形ディスク基板１’を吸着保持したとき、又は搬送アーム１３の吸着保持部１３ａが成形ディスク基板１’を吸着保持したときを示す。成形ディスク基板１’は温度が高く、十分に柔らかい状態にあるため、成形ディスク基板１’の中央部を吸着するとき、その吸着力で吸着側とは反対方向に曲がってしまうことを確認した。特に、ＤＶＤでは厚みが０．６ｍｍ程度と薄いので、厚みが１．２ｍｍのコンパクトディスクに比べて、前述の湾曲の大きさが顕著になる。また、図４（Ｂ）に示すように、取り出しアーム１２や搬送アーム１３が成形ディスク基板１’を吸着保持した状態で比較的高速で旋回したり、移動することにより、そのときの風圧で反りが発生することも確認された。さらに、図４（Ｃ）に示すように、成形ディスク基板１’が冷却用ステージ１４のディスク受台１５に載置され冷却されている期間に、その自重で反りが発生する場合があることも確認した。さらにまた、成形ディスク基板１’が冷却用ステージで冷却されるとき、冷却用ステージの構造によっては成形ディスク基板１’が部分的に変形することもあった。
【０００６】
以上の反りは、成形ディスク基板１’が有する中央穴（図示せず）を中心に放射外方向にほぼ対称的に生じる反りであるが、その中央穴を通る１〜３本の線に対してほぼ対照的に左右に曲がる反りもあり、そしてこの反りは、ディスク基板の製造サイクルタイムが短縮するのに伴い顕著に現れ、ディスク基板の反りを大きくしてしまうという問題もある。
本発明はこのような従来の問題点を解決するため、成形物の状態、つまり成形機から取り出した柔らかい状態の成形物の温度ができる限り低下しない内に高速回転させて遠心力を働かせ、反りや変形を低減すると同時に冷却することにより、反りや変形が許容範囲内の小さな、あるいは実質的に反りや変形の無い成形物を得ると共に、冷却ラインを短くすることを課題としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決するため、請求項１の発明は、成形機から取り出された温度の高い円形板状の基板からなる成形物を処理する方法において、前記成形物の板状面の方向を変えることなく同一方向に向けたままの状態で、前記成形物を前記成形機から回転機構に搬送し、前記回転機構において、前記成形物の前記板状面の方向を前記搬送時と同じ方向に向けた状態で、前記成形物を３０００ｒｐｍ以上の回転速度で高速回転させ、その遠心力で前記成形物の反りを低減、及び／又は冷却することを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理方法を提案するものである。この発明によれば、成形物を早期に高速回転できるので、柔らかい状態の成形物に遠心力による引っ張り力を与えて反りを低減すると共に、効率良く冷却を行える。
【０００８】
請求項２の発明は、上記課題を解決するため、請求項１において、前記成形物の前記板状面を鉛直方向に向けて前記成形物を高速回転させることを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理方法を提案するものである。請求項２によれば、成形機に合わせて、成形物を早期に高速回転でき、成形物の低減と冷却を効率良く行える。
【０００９】
請求項３の発明は、上記課題を解決するため、請求項１又は請求項２において、前記成形物が軟化している間に前記高速回転を行うことを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理方法を提案するものである。請求項３によれば、確実に成形物の低減と冷却を効率良く行える。
【００１０】
請求項４の発明は、上記課題を解決するため、請求項１ないし請求項３のいずれかにおいて、前記高速回転は、好ましくは４，０００ｒｐｍ以上であることを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理方法を提案するものである。成形ディスク基板を４，０００ｒｐｍ以上で高速回転させるので、冷却は勿論のこと、有効に反りを低減できる遠心力を与えることが可能である。
【００１１】
請求項５の発明では、上記課題を解決するため、請求項１ないし請求項４のいずれかにおいて、前記成形物を、固化しない内に回転させ、固化した後に前記高速回転を停止することを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理方法を特徴とする成形物の処理方法を提案するものである。請求項５によれば、確実に成形物の低減と冷却を効率良く行える。
【００１２】
請求項６の発明は、上記課題を解決するため、請求項１ないし請求項５のいずれかにおいて、前記成形物の前記板状面に沿ってその板状面と平行に気体の気流を流すことを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理方法を提案するものである。請求項６によれば、回転中における成形物が波打つのを防ぐことができ、より品質の高い光ディスクが得られることにつながる。
【００１３】
請求項７の発明は、上記課題を解決するため、請求項１ないし請求項６のいずれかにおいて、前記成形物が前記高速回転された後に、前記成形物の前記板状面の方向を変更することを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理方法を提案するものである。成形物が固化した後に方向変更するので、その方向変更時に反りが発生することはない。
【００１４】
請求項８の発明は、上記課題を解決するため、成形機から温度の高い円形板状の基板からなる成形物を取り出す搬送機構と、前記成形物を高速回転させる回転機構とを備える装置において、前記搬送機構は、前記成形機から取り出された前記成形物の板状面の方向を変えることなく同一方向に向けたままの状態で、前記成形物を前記回転機構まで搬送し、前記回転機構は、前記成形物の前記板状面の方向を前記搬送機構による搬送時と同じ方向に向けた状態で、前記成形物を３０００ｒｐｍ以上の回転速度で高速回転させることを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理装置を提案するものである。この発明によれば、成形物を早期に高速回転できるので、柔らかい状態の成形物に遠心力による引っ張り力を与えて反りを低減すると共に、効率良く冷却を行える。
【００１５】
請求項９の発明は、上記課題を解決するため、請求項８において、前記搬送機構は、平面又は立体方向に駆動可能な駆動アーム部と、該駆動アームの先端部に取り付けられて２本のアームを有する搬送アーム部と、これら各搬送アームの先端部に備えられた前記成形物を保持するための保持具とを備え、前記回転機構は、２個以上の成形物受台と、該成形物受台を高速回転させるための回転駆動装置とを備え、一方の前記搬送アームの前記保持具が前記成形物受台から冷却された前記成形物を受け取って別の成形物受台に載置すると同時に、その成形物受台に他方の前記搬送アームの前記保持具が保持している冷却前の前記成形物を受け渡すことを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理装置を提案するものである。請求項９の発明では、効率良く成形物を十分に高速回転させることができるので、成形物の反りの低減と冷却を十分に行える。
【００１６】
請求項１０の発明は、上記課題を解決するため、請求項９において、前記各搬送アームの前記保持具の中心点間の距離と、前記回転機構の前記成形物受台の中心点と前記別の成形物受台の中心点との間の距離とが実質的に等しいことを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理装置を提案する。請求項１０によれば、成形物の高速搬送が可能であり、また装置の簡略化が図れる。
【００１７】
請求項１１の発明は、上記課題を解決するため、請求項８ないし請求項１０のいずれかにおいて、前記成形物の前記板状面に沿ってその板状面と平行に気体の気流を流す気体供給手段を備えたことを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理装置を提案するものである。請求項１１によれば、回転中における成形物が波打つのを防ぐことができ、より品質の高い光ディスクが得られることにつながる。
【００１８】
請求項１２の発明は、上記課題を解決するため、請求項８ないし請求項１１のいずれかにおいて、前記成形物が前記高速回転された後に、前記成形物の前記板状面の方向を変更する方向変更機構を備えることを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理装置を特徴とする成形物の処理装置を提案するものである。請求項１２によれば、成形物が固化した後に方向変更するので、その方向変更時に反りが発生することはない。
【００１９】
【発明の実施の形態及び実施例】
前述のように成形機の金型から取り出された直後の成形物は温度が高く、十分に柔らかい状態にあるため、特に製造のサイクルタイムが速くなると、図３、図４に示したように成形物の円周方向の反りが搬送時の風圧、吸着保持による応力、成形時の応力、あるいは自重により大きくなる。したがって、本発明は、成形機から成形物を搬送するときに従来のように風圧などの力を成形物にできるだけ与えないことと、及び図１に示すように成形物１が高温の状態、つまりその成形材料の温度ができる限り高い状態で高速回転させるため、前記成形機から取り出された成形物の方向を変えることなく、その取り出したままの方向で高速回転させるところに大きな特徴がある。
【００２０】
図１において、２は不図示の成形機の金型で成形されたばかりの成形物１を取り出す取り出しアームであり、取り出しアーム２はその成形機の動作と同期して動作する。３は多軸ロボットのような搬送機構であり、制御・駆動部３ａ、ベースアーム部３ｂの支点軸３ｃを中心に所定の範囲の角度で回転する第１の駆動アーム部３ｄ、第１の駆動アーム部３ｄの支点軸３ｅを中心に所定の範囲の角度で回転する第２の駆動アーム部３ｆ、第２の駆動アーム部３ｆの支点軸３ｇを中心に１８０°正逆方向に回転すると共に、紙面の表裏方向に動く回動部３ｈ、回動部３ｈにより１８０°正逆方向に回転すると共に、紙面の表裏方向に動くことができる搬送アーム部３ｉなどからなる。ここで、搬送アーム部３ｉは、回動部３ｈを中心に逆方向に延びる一対のアームＡ、Ｂを備え、各アームＡ、Ｂの先端部分には成形物１を吸着保持する保持具３ｊ、３ｋを有する。
【００２１】
次に、４は成形機から取り出されたばかりの成形物１を高速回転させて、冷却すると同時に反りを低減する高速回転機構であり、鉛直面をもつベース部４ａ、そのベース部４ａの鉛直面に取り付けられて高速回転を行う一対の成形物受台４ｂ、４ｃ、一対の成形物受台４ｂ、４ｃの中間におけるベース部４ａの鉛直面に設けられた隔壁部４ｄなどからなる。ここで、高速回転機構の一対の成形物受台４ｂ、４ｃのそれぞれの中心点と成形物受台６の中心点との間の距離は等しく、それらの距離は、搬送機構３の保持具３ｊ、３ｋのそれぞれの中心点と中心点との間の距離と等しくなっており、保持具３ｊ、３ｋは成形物受台４ｂ、４ｃのいずれか一方に載置されている成形物を受け取ると同時に、成形物受台４ｂ、４ｃの空いている他方に成形物を引き渡すことができるようになっている。なお、図示していないが、成形物受台４ｂ、４ｃはそれぞれ成形物１を吸着保持する吸着部を備え、それらは不図示の回転シャフトを通して真空ポンプ機構（図示せず）に結合されている。
【００２２】
５は高速回転機構４のベース部４ａの鉛直面に設けられた方向変更機構であり、方向変更機構５には基本位置、つまり成形物受台４ｂ又は４ｃから成形物１を受け取る位置では成形物受台４ｂ、４ｃと同方向に向いた成形物受台６が固定されており、先ず鉛直方向に成形物１を保持した状態で鎖線で示すように水平方向に９０°だけ回転し、更に鉛直方向に９０°だけ回転して成形物１を水平方向に向け、不図示のターンテーブルなどの成形物受台に載置する。
【００２３】
図２をも用いて高速回転機構４について更に説明すると、ベース部４ａには二つの成形物受台４ｂ、４ｃをそれぞれ高速回転させるモータのような回転駆動装置４ｅ、４ｆが取り付けられている。また、成形物受台４ｂ、４ｃの斜め下方向には気体噴出ノズル７、８が位置しており、これら気体噴出ノズルもベース部４ａに取り付けられている。気体噴出ノズル７、８はそれぞれの成形物受台４ｂ、４ｃの円筒部分に斜め下側から斜め上方向に気体を吹き付け、成形物受台４ｂ、４ｃの下面及びそれに吸着保持された成形物１の下面に沿って平行に気体を流すためのものである。成形物受台４ｂ、４ｃを３，０００ｒｐｍを越える回転数まで上昇させる過程で、成形物１がディスク基板のような合成樹脂製の薄い板の場合には波打つことがあり、成形物１の下面に沿って平行に気体を流すと、前記波打つのを防止又は低減することができと同時に、冷却効果を向上させることができる。
【００２４】
次に、この処理装置の動作について説明する。この実施例では、成形物１を後の貼り合わせ工程で互いに貼り合わされる、又は光透過層となる透明はフィルムと貼り合わされて光ディスクを形成する０．６ｍｍの厚みのディスク基板として説明する。搬送機構３が取り出しアーム２のディスク基板１を受け取るときには、保持具３ｊ、３ｋのいずれにもディスク基板１は保持されておらず、空の状態である。また、このとき、高速回転機構４の成形物受台４ｂ、４ｃのいずれか一方はディスク基板１を吸着保持しており、他方は吸着保持していない、つまり空の状態にある。
【００２５】
不図示の成形機の金型で成形されたばかりのディスク基板１は、前記金型が開いたときに取り出す取り出しアーム２により取り出され、所定位置で搬送機構３の保持具３ｊに受け渡される。搬送機構３は多軸ロボットからなり、制御・駆動部３ａは予め設定された制御手順、制御量などに従って、支点軸３ｃ、３ｅを中心に第１の駆動アーム部３ｄ、及び第２の駆動アーム部３ｆのそれぞれを設定角度だけ回転させると共に、支点軸３ｇを中心に回動部３ｈを設定角度だけ回転させると同時に紙面表裏方向に所定距離だけ移動させることにより、搬送アーム部３ｉを予め決められた角度と所定距離だけ動かす。
【００２６】
このような動作を行って取り出しアーム２からディスク基板１を保持具３ｊに受け取った搬送アーム部３ｉは、前述のような多軸ロボットの動作によって、保持具３ｊを高速回転機構４の一方の成形物受台４ｂに、また保持具３ｋを成形物受台４ｃに合わせ、回動部３ｈが紙面裏方向に動くことにより、保持具３ｊに吸着保持されたディスク基板１を成形物受台４ｂに受け渡すと同時に、保持具３ｋが高速回転機構４の他方の成形物受台４ｃに吸着保持された冷却済のディスク基板１を吸着保持する。そして、搬送機構３は所定の動作を行って、保持具３ｋに吸着保持された冷却済のディスク基板１を方向変更機構５に固定された成形物受台６に受け渡す。方向変更機構５は先ず鉛直方向にディスク基板１を保持した状態で鎖線で示すように水平方向に９０°だけ回転し、更に鉛直方向に９０°だけ回転してディスク基板１を水平方向に向ける。
【００２７】
高速回転機構４の回転駆動装置４ｅ、４ｆは、成形物受台４ｂ、成形物受台４ｃを、例えば１０，０００ｒｐｍまで回転させる能力を有する。本件出願人の先の出願、特願２００１−１９７７３８号の記載によれば、ディスク基板１の回転数が４，０００ｒｐｍ程度まで上昇するのに伴い、ディスク基板１の反りはますます低減されるが、回転数が４，０００ｒｐｍ程度を超えると、ディスク基板１の反りはほとんど低減されず、一定のままとなる。したがって、ディスク基板１の回転数は４，０００ｒｐｍ程度又はそれ以上の速度で回転させれば、反りを実質的に最も小さくできることになる。
【００２８】
しかし、ディスク基板１の回転数が４，０００ｒｐｍよりも低い場合にも、ディスク基板１の反りは低減されるので、反りの低減や冷却という面では回転数は４，０００ｒｐｍ程度以下でも十分な効果を得ることができる。気体噴出ノズル７、８が存在しない場合には、ディスク基板１の回転数が３，０００ｒｐｍよりも小さい場合には、ディスク基板１が回転中に上下に波打ち、水平に安定して回転しないが、気体噴出ノズル７、８の働きによりディスク基板１が回転中に上下に波打つことがなく、全体的な反りは低減される。貼り合わせてなるＤＶＤの反り角の許容値は０．３度であり、１枚のディスク基板については反り角の制限は無いが、回転数が３，０００ｒｐｍ程度では反り角は０．２以下とかなり小さく、これらを貼り合わせても許容値の０．３度よりも小さいＤＶＤが得られるので、ディスク基板１の回転数は３，０００ｒｐｍ程度以上が好ましく、更には４，０００ｒｐｍ程度、あるいはそれ以上であることが好ましい。
【００２９】
ここで、ディスク基板１はその回転によって強制空冷されることになるので、ディスク基板１の温度は自然放置による冷却に比べて急激に低下する。一例として、室温中で回転数が５，０００ｒｐｍのとき、その樹脂材料が固化の開始する９０℃程度の温度まで低下するのに２秒程度である。ディスク基板１の温度が９０℃程度よりも下がると、５，０００ｒｐｍの回転数によっても反りが実質的に低減されず、このことから９０℃程度がこの実施例で用いたディスク基板１の樹脂材料が固化する温度であることが分かる。
【００３０】
この実施例で重要なのは、第１点として、成形されたばかりの温度の高い柔らかいディスク基板１は、不図示の成形機から取り出された方向のまま、搬送機構３により高速回転機構４の成形物受台４ｂ、４ｃに搬送され、その方向のまま高速回転させるので、その高速回転により冷却されると同時に、その遠心力でディスク基板１の反りを低減できるところにある。したがって、ディスク基板１の温度が高く柔らかい状態では方向変更をしないので、温度が高く柔らかいディスク基板１を早期に高速搬送でき、反りをより小さくできる。このことは、温度が高く柔らかいディスク基板１の搬送速度を大きくでき、またディスク基板１の反りを低減でき、品質の高い光ディスクを得ることができることにつながる。
【００３１】
第２点として、単一の搬送機構３で、高速回転機構４の二つの成形物受台４ｂ、４ｃのいずれか一方に温度が高く柔らかい状態のディスク基板１を渡すと同時に、成形物受台４ｂ、４ｃのいずれか他方の冷却済のディスク基板１を受け取ることができるので、温度が高く柔らかい状態のディスク基板１を冷却し、反りを低減する時間を十分に取ることができ、しかも搬送機構３と高速回転機構４の動作を簡易なものにでき、搬送の高速化が可能になるために、単一の搬送機構３で成形物受台６までディスク基板１を搬送できる。
【００３２】
以上の具体的説明では、成形物１をディスク基板として説明したが、合成樹脂材料、金属材料、それらの混合材料などを成形してなる他の成形物でも勿論よく、また、搬送機構も取り出しアーム２の成形物１をそれぞれが成形物受台４ｂ、４ｃに搬送する搬送機構を二つ組み合わせたものでも良い。さらに以上の実施例では、冷却時間を十分に確保するために、高速回転機構４に２個の成形物受台４ｂ、４ｃを備えたが、反りの低減を主目的とする場合には１個でも良く、一方、更に長い冷却時間を確保したい場合には３個以上の成形物受台を、成形物受台４ｂ、４ｃと同等な条件下で備えても良い。なお、成形物が柔らかい状態で高速回転を行ったとき、成形物が材質によって放射外方向に延びることがあるような場合には、先ず成形物を影響のない程度の低い回転数で回転させて冷却、固化させ、しかる後に高速回転させても良い。
【００３３】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明では、反りの小さい又は反りの無い成形物を得ることができ、また成形物を効率良く冷却できるので、冷却ラインや冷却時間を短くでき、さらに成形物受台への成形物の搬送、成形物受台から成形物の他への搬送を効率良く行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る成形物の処理装置の一実施例を説明するための図である。
【図２】本発明の装置に用いられる高速回転機構の側面を示す図である。
【図３】従来のディスク基板の反りについて説明するための図である。
【図４】従来のディスク基板の反りについて説明するための図である。
【符号の説明】
１−成形物
２−取り出しアーム
３−搬送機構
３ａ−制御・駆動部 ３ｂ−ベースアーム部
３ｃ、３ｅ、３ｇ−支点軸 ３ｄ、３ｆ−第１、第２の駆動アーム部
３ｈ−回動部 ３ｉ−搬送ア−ム部
４−高速回転機構
４ａ−ベース部 ４ｂ、４ｃ−成形物受台
４ｄ−隔壁部 ４ｅ、４ｆ−回転駆動部
５−方向変更機構
６−成形物受台
７、８−気体噴出ノズル

Claims (12)

1. 成形機から取り出された温度の高い円形板状の基板からなる成形物を処理する方法において、
   前記成形物の板状面の方向を変えることなく同一方向に向けたままの状態で、前記成形物を前記成形機から回転機構に搬送し、
   前記回転機構において、前記成形物の前記板状面の方向を前記搬送時と同じ方向に向けた状態で、前記成形物を３０００ｒｐｍ以上の回転速度で高速回転させ、その遠心力で前記成形物の反りを低減、及び／又は冷却することを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理方法。
2. 請求項１において、
   前記成形物の前記板状面を鉛直方向に向けて前記成形物を高速回転させることを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理方法。
3. 請求項１又は請求項２において、
   前記成形物が軟化している間に前記高速回転を行うことを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理方法。
4. 請求項１ないし請求項３のいずれかにおいて、
   前記高速回転は、好ましくは４，０００ｒｐｍ以上であることを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理方法。
5. 請求項１ないし請求項４のいずれかにおいて、
   前記成形物を、固化しない内に回転させ、固化した後に前記高速回転を停止することを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理方法。
6. 請求項１ないし請求項５のいずれかにおいて、
   前記成形物の前記板状面に沿ってその板状面と平行に気体の気流を流すことを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理方法。
7. 請求項１ないし請求項６のいずれかにおいて、
   前記成形物が前記高速回転された後に、前記成形物の前記板状面の方向を変更することを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理方法。
8. 成形機から温度の高い円形板状の基板からなる成形物を取り出す搬送機構と、前記成形物を高速回転させる回転機構とを備える装置において、
   前記搬送機構は、前記成形機から取り出された前記成形物の板状面の方向を変えることなく同一方向に向けたままの状態で、前記成形物を前記回転機構まで搬送し、
   前記回転機構は、前記成形物の前記板状面の方向を前記搬送機構による搬送時と同じ方向に向けた状態で、前記成形物を３０００ｒｐｍ以上の回転速度で高速回転させることを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理装置。
9. 請求項８において、
   前記搬送機構は、平面又は立体方向に駆動可能な駆動アーム部と、該駆動アームの先端部に取り付けられて２本のアームを有する搬送アーム部と、これら各搬送アームの先端部に備えられた前記成形物を保持するための保持具とを備え、
   前記回転機構は、２個以上の成形物受台と、該成形物受台を高速回転させるための回転駆動装置とを備え、
   一方の前記搬送アームの前記保持具が前記成形物受台から冷却された前記成形物を受け取って別の成形物受台に載置すると同時に、その成形物受台に他方の前記搬送アームの前記保持具が保持している冷却前の前記成形物を受け渡すことを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理装置。
10. 請求項９において、
    前記各搬送アームの前記保持具の中心点間の距離と、前記回転機構の前記成形物受台の中心点と前記別の成形物受台の中心点との間の距離とが実質的に等しいことを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理装置。
11. 請求項８ないし請求項１０のいずれかにおいて、
    前記成形物の前記板状面に沿ってその板状面と平行に気体の気流を流す気体供給手段を備えたことを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理装置。
12. 請求項８ないし請求項１１のいずれかにおいて、
    前記成形物が前記高速回転された後に、前記成形物の前記板状面の方向を変更する方向変更機構を備えることを特徴とする円形板状の基板からなる成形物の処理装置。

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