JP3626833B2 - 成膜装置および成膜方法 - Google Patents
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Description
【発明が属する技術分野】
本発明は、例えばTi膜などの薄膜を成膜する成膜装置に関し、特にクリーニングの際にチャンバー内で発生したクリーニング副生物が排気系に悪影響を及ぼさない成膜装置および成膜方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体デバイスにおいては、金属配線層や、下層のデバイスと上層の配線層との接続部であるコンタクトホール、上下の配線層同士の接続部であるビアホールなどの層間の電気的接続のための埋め込み層、さらには埋め込み層形成に先立って拡散防止のために形成される、Ti(チタン)膜およびTiN(窒化チタン)膜の2層構造のバリア層など金属系の薄膜が用いられる。
【0003】
このような金属系の薄膜は物理的蒸着(PVD)を用いて成膜されていたが、最近のようにデバイスの微細化および高集積化が特に要求され、デザインルールが特に厳しくなって、それにともなって線幅やホールの開口径が一層小さくなり、しかも高アスペクト比化されるにつれ、特に、バリア層を構成するTi膜やTiN膜においてはPVD膜ではホール底に成膜することが困難となってきた。
【0004】
そこで、バリア層を構成するTi膜およびTiN膜を、より良質の膜を形成することが期待できる化学的蒸着(CVD)で成膜することが行われている。そして、CVDによりTi膜を成膜する場合には、反応ガスとしてTiCl4(四塩化チタン)およびH2(水素)が用いられ、TiN膜を成膜する場合には、反応ガスとしてTiCl4とNH3(アンモニア)またはMMH(モノメチルヒドラジン)とが用いられる。
【0005】
ところで、CVDによって上記のような薄膜を成膜する場合には、被成膜基板である半導体ウエハに膜が堆積するとともに、チャンバー壁にも堆積物が付着する。このため、成膜終了後、次の成膜に先だってチャンバー内をクリーニングする。この際のクリーニングにおいては、近時、チャンバー壁およびサセプターを加熱するとともにClF3ガスをチャンバー内に導入して堆積物を分解する方法が採用されている。
【0006】
しかしながら、Ti膜成膜後のクリーニングに際しては、TiF4が副生物として発生し、これが排気系に付着してしまう。そこで従来は、特開平8−176829号公報に開示されているような、排気管のトラップに至るまでの部分を所定の温度に加熱する方法を用いて、TiF4が排気系に付着することを防止している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、排気管のトラップに至る部分にはドラッグポンプが設けられており、排気管を加熱する際にドラッグポンプも加熱されるが、TiF4が付着しない温度まで加熱するとドラッグポンプのローターのクリープ破壊が生じやすいという問題点がある。
【0008】
このような問題点を回避するため、トラップをドラッグポンプの前段に配置し、ドラッグポンプの加熱を回避する方法も考えられるが、このような方法では、ドラッグポンプの容量を大きくする必要があり、またトラップから発生した蒸気がチャンバーに影響を与えるおそれがある。
【0009】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであって、クリーニング時の排気の際に、クリーニング副生物の処理に伴う問題が発生しない成膜装置および成膜方法を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、第1発明は、被処理基板を収容するためのチャンバーと、
前記チャンバー内で被処理基板に対し成膜処理を施す成膜手段と、
前記チャンバー内をクリーニングするクリーニング手段と、
前記チャンバー内を排気する排気手段と
を具備し、
前記排気手段は、前記チャンバーに接続された主排気ラインと、前記主排気ラインの前段側に設けられたドラッグポンプと、前記主排気ラインの後段側に設けられたドライポンプと、前記主排気ラインから前記ドラッグポンプをバイパスして主排気ラインの前記ドライポンプ前段側に接続されるバイパスラインと、前記バイパスラインに設けられたトラップとを有するとともに、前記ドラッグポンプは前記チャンバーが収容される装置本体に設けられ、前記ドライポンプおよびトラップは装置本体の外側に設けられており、前記バイパスラインは、装置本体の内側で前記主排気ラインと合流し、装置本体の外側で再び主排気ラインから分岐していることを特徴とする成膜装置を提供する。
【0011】
第2発明は、第1発明において、前記バイパスラインの前記トラップに至るまでの部分を加熱する加熱手段を備えたことを特徴とする成膜装置を提供する。
【0012】
第3発明は、第2発明において、前記主排気ライン側と前記バイパスライン側とで排気経路を切り換える切り換え手段を備えたことを特徴とする成膜装置を提供する。
【0013】
第4発明は、第1発明ないし第3発明のいずれかにおいて、前記成膜手段は、前記チャンバー内に成膜ガスを供給する成膜ガス供給系を有し、前記クリーニング手段は、前記チャンバー内にクリーニングガスを供給するクリーニングガス供給系を有することを特徴とする成膜装置を提供する。
【0014】
第5発明は、第4発明において、前記成膜ガス供給系はチャンバー内にチタン含有ガスを供給し、前記クリーニングガス供給系はチャンバー内にフッ素含有ガスを供給することを特徴とする成膜装置を提供する。
【0015】
第6発明は、第1発明ないし第5発明のいずれかの成膜装置を用いて、被処理基板に対して成膜処理を行い、その後チャンバー内のクリーニング処理を行う成膜方法であって、成膜処理の際は、前記主排気ラインを通って排気を行い、クリーニング処理の際は、前記バイパスラインを所定温度に加熱しながら、バイパスラインを通って排気を行うことを特徴とする成膜方法を提供する。
【0016】
第1発明においては、排気手段が、チャンバーに接続された主排気ラインと、主排気ラインの前段側に設けられたドラッグポンプと、主排気ラインの後段側に設けられたドライポンプと、主排気ラインからドラッグポンプをバイパスして主排気ラインのドライポンプ前段側に接続されるバイパスラインと、バイパスラインに設けられたトラップと、を有するので、成膜処理の際は、主排気ラインを通って排気を行い、クリーニング処理の際は、バイパスラインを所定温度に加熱しながらバイパスラインを通って排気を行うことができる。したがって、主排気ラインに影響を与えずにクリーニング副生物を処理することができ、クリーニング副生物の処理に伴う上記問題を回避することができる。
また、ドラッグポンプがチャンバーが収容される装置本体に設けられ、ドライポンプおよびトラップは装置本体の外側に設けられているので、トラップ交換等のメンテナンスの際に、装置本体の外側の部分を取り外せばよく、メンテナンス性が良好である。
さらに、バイパスラインが、装置本体の内側において主排気ラインと合流し、装置本体の外側で再び主排気ラインから分岐させることにより、トラップ交換等のメンテナンスの際に、装置本体の出口の一箇所を取り外せばよく、メンテナンス性が一層良好となる。
【0017】
第4発明のように、成膜手段がチャンバー内に成膜ガスを供給する成膜ガス供給系を有し、クリーニング手段がチャンバー内にクリーニングガスを供給するクリーニングガス供給系を有する成膜装置の場合に、上記効果が大きいものとなる。
【0018】
また、第5発明においては、第4発明において成膜ガスとしてチタン含有ガスを用い、クリーニングガスとしてフッ素含有ガスを用いるので、クリーニング副生物としてフッ化チタンが生じるが、上述したように成膜処理の際に主排気ラインを通って排気を行い、クリーニング処理の際は、バイパスラインを所定温度に加熱しながら、バイパスラインを通って排気を行うことができるので、クリーニング副生物として生成するフッ化チタンを主排気ラインに影響を与えずに加熱して処理することができ、クリーニング副生物の処理に伴う上記問題を回避することができる。
【0019】
第6発明によれば、第1発明ないし第5発明のいずれかの成膜装置を用いて、被処理基板に対して成膜処理を行い、その後チャンバー内のクリーニング処理を行うにあたり、成膜処理の際は、前記主排気ラインを通って排気を行い、クリーニング処理の際は、前記バイパスラインを所定温度に加熱しながら、バイパスラインを通って排気を行うので、主排気ラインに影響を与えずにクリーニング副生物を処理することができ、クリーニング副生物の処理に伴う上記問題を回避することができる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係るCVD−Ti成膜装置を示す断面図である。この成膜装置は、気密に構成された略円筒状のチャンバー1を有しており、その中には被処理体である半導体ウエハWを水平に支持するためのサセプター2が円筒状の支持部材3により支持された状態で配置されている。サセプター2の外縁部には半導体ウエハWをガイドするためのガイドリング4が設けられている。また、サセプター2にはヒーター5が埋め込まれており、このヒーター5は電源6から給電されることにより被処理体である半導体ウエハWを所定の温度に加熱する。電源6にはコントローラー7が接続されており、これにより図示しない温度センサーの信号に応じてヒーター5の出力が制御される。
【0021】
チャンバー1の天壁1aには、シャワーヘッド10がサセプター2に支持された半導体ウエハWと対向するように設けられており、そのウエハWと対向する下面には多数のガス吐出孔10aが形成されている。シャワーヘッド10の内部には空間11が形成されており、その中に水平に多数の孔が形成された分散板12が設けられている。チャンバー1の天壁1aの中央にはシャワーヘッド10内部の空間11にガスを導入するガス導入口13が形成されており、このガス導入口13にはガス供給管15が接続されている。
【0022】
ガス供給管15には、H2源16、Ar源17、TiCl4源18、ClF3源19が配管15aを介して接続されており、これらガス源から所望のガスがガス供給管15およびシャワーヘッド10を通ってチャンバー1内に供給される。成膜の際には、H2源16、Ar源17およびTiCl4源18から、それぞれH2ガス、ArガスおよびTiCl4ガスが供給され、これらにより半導体ウエハWにTi膜が形成される。さらに、チャンバー1内をクリーニングする場合には、ClF3源19からClF3ガスが供給される。なお、各ガス源からの配管15aには、いずれもバルブ26およびマスフローコントローラー27が設けられている。
【0023】
チャンバー1の天壁1aにはマッチング回路22を介して高周波電源23が接続されており、この高周波電源23から天壁1aに高周波電力が印可され得るようになっている。この高周波電力により、チャンバー1内に成膜ガスのプラズマが形成される。なお、チャンバー1の天壁1aとチャンバー1の側壁との間は、絶縁部材14により電気的に絶縁されており、チャンバー1は接地されている。
【0024】
チャンバー1の底壁1bには、排気ポート8が設けられており、この排気ポート8にはチャンバー1内を排気するための排気系9が接続されている。
この排気系9は、図2に示すように、主排気ライン31を備えており、この主排気ライン31がチャンバー1の排気ポート8に接続されている。そして、この主排気ライン31の前段にはドラッグポンプ33が設けられ、後段にはドライポンプ34が設けられていて、ドライポンプ34で粗引きを行い、ドラッグポンプ33でさらに高真空まで真空引きを行う。
【0025】
主排気ライン31のドラッグポンプ33の上流側の部分(分岐点A)にはバイパスライン32が分岐して設けられており、このバイパスライン32はドラッグポンプ33をバイパスして主排気ライン31のドライポンプ34前段部分に接続されている。このバイパスライン32は装置本体側の前段部32aと装置本体の外側の後段部32bとを有しており、後段部32bにはガス内の反応生成物を捕捉するためのトラップ35が設けられている。また、バイパスライン32のトラップ35までに至る部分および主排気ライン31の分岐点Aの上流部分には、これら部分を加熱する加熱装置36が設けられている。
【0026】
バイパスライン32は装置本体内側の外壁41の出口付近において、主排気ライン31と合流して1本の配管となった合流部32cを有しており、装置本体の外側の部分(分岐点B)において再び主排気ライン31から分岐し、その分岐した部分が上記後段部32bとなっている。また、排気系9のうち、ドラッグポンプ33は装置本体側に設けられており、ドライポンプ34およびトラップ35は装置本体の外側に設けられている。そして、排気系9の装置本体の外側の部分は、合流部32cにおいて取り外し可能となっている。
【0027】
主排気ライン31およびバイパスライン32の分岐点A近傍下流側には、それぞれバルブ37およびバルブ38が設けられており、分岐点B近傍下流側には、それぞれバルブ39およびバルブ40が設けられていて、これらバルブにより、排気経路を主排気ライン31側とバイパスライン32側とで切り換えるようになっている。そして、チャンバー1内で半導体ウエハWに対して成膜処理を行う際には、バルブ37および39を開にして主排気ライン31を通ってドライポンプ34およびドラッグポンプ33により所定の真空度まで排気を行い、クリーニング処理を行う際には、バルブ38および40を開にして加熱装置36で加熱しながらバイパスライン32を通ってドライポンプ34のみで排気を行う。
【0028】
このように構成される装置においては、まず、チャンバー1内に半導体ウエハWを装入し、ヒーター5によりウエハWを例えば450〜600℃の温度に加熱しながら、排気系9のバルブ37および39を開にし、バルブ38および40を閉じて、排気経路を主排気ライン31側にした状態で、ドライポンプ34およびドラッグポンプにより真空引きして高真空状態にし、チャンバー1内を例えば0.1〜1Torrにし、Arガス、H2ガスおよびTiCl4ガスを所定の流量で5〜20秒間程度プリフローし、引き続き同じ条件でガスをフローさせてTi膜の成膜を所定時間行う。そして、成膜終了後、半導体ウエハWをチャンバー1から搬出する。
【0029】
成膜後のチャンバー1およびサセプター2にはTiが堆積しているため、チャンバー1内のクリーニングを行う。このクリーニングに際しては、成膜用のTiCl4ガスおよびH2ガスの供給を停止し、チャンバー1内へClF3ガスを供給する。この際に、サセプター2のヒーター5およびチャンバーの壁部に設けられたヒーター(図示せず)によりサセプター2およびチャンバー壁を例えば300℃程度に加熱する。ClF3は反応性が高いため、このように加熱するのみでTiと反応して所定温度以上でガス化する四フッ化チタン(TiF4)を生成し、チャンバー外へ排出することができる。すなわちクリーニングガスとしてClF3を用いることによりプラズマレスクリーニングが可能であり、極めて簡便にクリーニングを行うことができる。
【0030】
この場合に、排気系9のバルブ38および40を開にし、バルブ37および39を閉じて、排気経路をバイパスライン32側にした状態で、バイパスライン32のトラップ35までに至る部分および主排気ライン31の分岐点Aの上流部分を加熱装置36でTiF4のガス化温度以上に加熱してTiF4の付着を防止しつつ、バイパスライン32を通ってドライポンプ34のみで排気を行う。バイパスライン32に導かれた排ガス中のTiF4はトラップ35で捕捉される。
【0031】
このように、クリーニングの際の排気をバイパスライン32により行うようにしたので、クリーニング副生ガスであるTiF4を主排気ラインに影響を与えずに処理することができ、従来TiF4を処理する際に問題となっていたドラッグポンプが加熱されることに伴うローターのクリープ破壊や、ドラッグポンプの容量を大きくすること、およびトラップから発生した蒸気がチャンバーに影響を与えることを回避することができる。
【0032】
また、排気系9のうち、ドラッグポンプ33は装置本体側に設けられており、ドライポンプ34およびトラップ35は装置本体の外側に設けられているので、トラップ35を交換する等のメンテナンスの際に、装置本体の外側の部分を取り外せばよくメンテナンス性が良好である。
【0033】
さらに、バイパスライン32は装置本体の外壁41の出口において、主排気ライン31と合流して1本の配管となった合流部32cを有し、装置本体の外側の部分(分岐点B)において再び主排気ライン31から分岐しており、かつ合流部32cにおいて排気系9の装置本体の外側の部分を取り外すことができるので、トラップ35の交換等のメンテナンスの際に、装置本体の出口の一箇所を取り外せばよく、メンテナンス性が一層良好となる。
【0034】
なお、本発明は、上記実施の形態に限定されることなく種々変形可能である。例えば上記実施の形態では、CVDによってTi膜を成膜し、ClF3ガスでクリーニングする例を示したが、これに限るものではなく、特に、成膜の際には排気系の付着が問題にならないが、クリーニングの際に排気系に付着するクリーニング副生物を生成する場合に有効である。
【0035】
また、上記実施の形態では装置本体出口において、バイパスラインと主排気ラインとを合流させて1本の配管としたが、これに限るものではなく、図3に示すように、バイパスライン32を一本化し、バルブ37および38のみで排気路の切り換えを行うようにしてもよい。さらに、被処理基板としては、半導体ウエハに限らずLCD基板等他のものであってもよく、また、基板上に他の層を形成したものであってもよい。
【0036】
【発明の効果】
以上説明したように、第1発明によれば、成膜処理の際は主排気ラインを通って排気を行い、クリーニング処理の際はバイパスラインを所定温度に加熱しながらバイパスラインを通って排気を行うので、主排気ラインに影響を与えずにクリーニング副生物を処理することができ、クリーニング副生物の処理に伴う従来の問題を回避することができる。
また、ドライポンプおよびトラップは装置本体の外側に設けられているので、トラップ交換等のメンテナンスの際に、装置本体の外側の部分を取り外せばよくメンテナンス性が良好である。
【0037】
さらに、バイパスラインが、装置本体の出口において主排気ラインと合流し、装置本体の外側で再び主排気ラインから分岐しているので、トラップ交換等のメンテナンスの際に、装置本体の出口の一箇所を取り外せばよく、メンテナンス性が一層良好となる。
【0038】
第4発明のように、成膜手段がチャンバー内に成膜ガスを供給する成膜ガス供給系を有し、クリーニング手段がチャンバー内にクリーニングガスを供給するクリーニングガス供給系を有する成膜装置を用いることにより、上記効果が大きいものとなる。
【0039】
また、第5発明によれば、第4発明において成膜ガスとしてチタン含有ガスを用い、クリーニングガスとしてフッ素含有ガスを用いるので、クリーニング副生物としてフッ化チタンが生じるが、上述したように成膜処理の際に主排気ラインを通って排気を行い、クリーニング処理の際は、バイパスラインを所定温度に加熱しながら、バイパスラインを通って排気を行うことができるので、クリーニング副生物として生成するフッ化チタンを主排気ラインに影響を与えずに加熱して処理することができ、クリーニング副生物の処理に伴う従来の問題を回避することができる。
【0040】
第6発明によれば、前記バイパスラインを所定温度に加熱しながら、バイパスラインを通って排気を行うので、主排気ラインに影響を与えずにクリーニング副生物を処理することができ、クリーニング副生物の処理に伴う従来の問題を回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る成膜装置を示す断面図。
【図2】図1の成膜装置の排気系を示す図。
【図3】排気系の他の例を示す図。
【符号の説明】
1……チャンバー
2……サセプター
8……排気ポート
9……排気系
10……シャワーヘッド
10a……ガス吐出孔
16……H2源
17……Ar源
18……TiCl4源
19……ClF3源
23……高周波電源
31……主排気ライン
32……バイパスライン
33……ドラッグポンプ
34……ドライポンプ
35……トラップ
36……加熱装置
37,38,39,40……バルブ
W……半導体ウエハ
Claims (6)
- 被処理基板を収容するためのチャンバーと、
前記チャンバー内で被処理基板に対し成膜処理を施す成膜手段と、
前記チャンバー内をクリーニングするクリーニング手段と、
前記チャンバー内を排気する排気手段と
を具備し、
前記排気手段は、前記チャンバーに接続された主排気ラインと、前記主排気ラインの前段側に設けられたドラッグポンプと、前記主排気ラインの後段側に設けられたドライポンプと、前記主排気ラインから前記ドラッグポンプをバイパスして主排気ラインの前記ドライポンプ前段側に接続されるバイパスラインと、前記バイパスラインに設けられたトラップとを有するとともに、前記ドラッグポンプは前記チャンバーが収容される装置本体に設けられ、前記ドライポンプおよびトラップは装置本体の外側に設けられており、前記バイパスラインは、装置本体の内側で前記主排気ラインと合流し、装置本体の外側で再び主排気ラインから分岐していることを特徴とする成膜装置。 - 前記バイパスラインの前記トラップに至るまでの部分を加熱する加熱手段を備えたことを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
- 前記主排気ライン側と前記バイパスライン側とで排気経路を切り換える切り換え手段を備えたことを特徴とする請求項2に記載の成膜装置。
- 前記成膜手段は、前記チャンバー内に成膜ガスを供給する成膜ガス供給系を有し、前記クリーニング手段は、前記チャンバー内にクリーニングガスを供給するクリーニングガス供給系を有することを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の成膜装置。
- 前記成膜ガス供給系はチャンバー内にチタン含有ガスを供給し、前記クリーニングガス供給系はチャンバー内にフッ素含有ガスを供給することを特徴とする請求項4に記載の成膜装置。
- 請求項1ないし請求項5のいずれかの成膜装置を用いて、被処理基板に対して成膜処理を行い、その後チャンバー内のクリーニング処理を行う成膜方法であって、成膜処理の際は、前記主排気ラインを通って排気を行い、クリーニング処理の際は、前記バイパスラインを所定温度に加熱しながら、バイパスラインを通って排気を行うことを特徴とする成膜方法。
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