JP3621225B2 - 発光表示デバイス - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、蛍光体の背面に透過した光を観察する透過形の発光表示デバイスにかかわり、特に、ガラス基板上に光学フィルタを備えた発光表示デバイスに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
発光表示デバイスの1つである蛍光表示管は、少なくとも一面が透明な真空外囲器中で、カソード電極から放出された熱電子を蛍光体に衝突発光させ、所望のパターンを表示する電子管である。通常、電子の動きを制御するためのグリッドを備えた3極管構造のものが最も多く用いられている。
蛍光表示管には、カソード電極から放射された電子が蛍光体を励起した光を直接観察する直視形と、蛍光体の背面に透過した光を観察する透過形とがある。図3は、従来の透過形の平面形蛍光表示管の構成を示す断面図である。
同図に示すように、ガラス基板1上の所定の位置に顔料を含むフィルタ2が形成されている。さらに、ガラス基板1上には、フィルタ2を被覆するように、透光性を有する保護膜3が密着形成されている。
保護膜3上には、遮光性を有する絶縁層6が形成されている。そして、絶縁層6が開口している保護膜3上のフィルタ2に対応する位置に、透光性を有するアノード電極4が形成されている。このアノード電極4は、保護膜3と絶縁層6との間に形成されている配線層(図示せず)に接続されている。
アノード電極4上には蛍光体5が形成されている。この蛍光体5には、ZnO:Zn蛍光体等が使用される。蛍光体5の上方にはグリッド7が配置され、さらにその上方にはカソード電極8が配置されている。
また、ガラス基板1の端部には、スペーサガラス9が配置され、その上にガラス基板1に対向してフロントガラス10が配置されており、これらによって真空外囲器が構成されている。
【0003】
蛍光体5に使用されるZnO:Zn蛍光体は、帯域が広い光を発生する。この光をフィルタ2に通して色変換することにより、多色化が実現される。
しかし、フィルタ2のうち赤色光を得るための赤色フィルタは、外囲器の封止工程において高温(350〜500℃)の還元性雰囲気にさらされると、フィルタの色が黒化してしまう。赤色フィルタにはFe2 O3 からなる弁柄という顔料が使用されており、このFe2 O3 が還元されてFe3 O4 に変化するためだと考えられる。
そこで、赤色フィルタを還元性雰囲気から隔離して赤色フィルタの黒化を防止するために、赤色フィルタを保護膜3で被覆した。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、フィルタを被覆する保護膜は、焼成すると、縮もうとする向きの内部応力が発生する。このため、ガラス基板は、保護膜と接触する側にだけ張力を受けるので、ガラス基板はフィルタを形成した側の面(以下、内壁面という)から見て凹形に反ってしまう。
本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、その目的は、ガラス基板上にフィルタを備えた発光表示デバイスのガラス基板の反りを防止することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明は、ガラス基板上の所定の位置に形成された光学フィルタと、ガラス基板上に光学フィルタを被覆するように密着形成された透光性を有する第1の保護膜と、第1の保護膜の上方に配置された電子を放出する電子放出手段と、第1の保護膜と電子放出手段との間の光学フィルタに対応する位置に形成されて電子放出手段から放出された電子の衝突により発光する発光部と、この発光部に接触するように配置されて発光部に電圧を印加するアノード電極と、ガラス基板を含み以上の光学フィルタ、第1の保護膜、電子放出手段、発光部及びアノード電極を収容する真空外囲器と、ガラス基板の外壁面上に密着形成されて第1の保護膜と同じ向きに同程度の大きさの内部応力を有するとともに透光性を有する第2の保護膜とを備える。
また、発光部と電子放出手段との間に配置されて電子放出手段から放出された電子の動きを制御し発光部に衝突させるグリッドを備える。
また、第1、第2の保護膜は、ともに同じ材料及び同じ膜厚で形成される。
また、光学フィルタは、顔料を含む。
また、第2の保護膜の屈折率は、ガラス基板の屈折率より小さくする。
【0006】
上述したように、ガラス基板の両面にそれぞれ第1の保護膜と第2の保護膜を形成し、これら第1、第2の保護膜は同じ向きに同程度の大きさの内部応力を有するので、ガラス基板はその両面に、同じ向きに同程度の大きさの張力を受けることになる。このため、ガラス基板の反りを防止できる。
また、第1、第2の保護膜を同じ材料を用いて同じ膜厚で形成することによって、同じ向きに同程度の大きさの内部応力を有する第1、第2の保護膜を容易に形成できる。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明による発光表示デバイスの一実施の形態の断面図である。同図に示した発光表示デバイスは透過形の平面形蛍光表示管である。
同図に示すように、ガラス基板1上の所定の位置に、光学フィルタとして顔料を含むフィルタ2が形成されている。フィルタ2には、R(赤),G(緑),B(青)の各色フィルタがある。
【0008】
さらに、ガラス基板1上には、フィルタ2を被覆するように、透光性を有する第1の保護膜である保護膜3aが密着形成されている。保護膜3aは、後述する外囲器の封止工程において、フィルタ2を還元性雰囲気から隔離して、特に赤色フィルタの黒化を防止するためのものである。
この保護膜3aは、後述する成膜方法により異なるが、膜厚が50〜1500nm程度となるように形成される。特に、有機金属化合物から金属酸化膜を形成する方法では、膜厚を100〜500nm程度にする。膜厚が薄すぎると保護膜3aが島状になり、また膜厚が厚すぎると保護膜3aがひび割れてしまうため、いずれにせよ保護膜としての用をなさなくなる。
【0009】
保護膜3a上には、遮光性を有する絶縁層6が形成されている。そして、絶縁層6が開口している保護膜3a上のフィルタ2に対応する位置に、透光性を有するアノード電極4が形成されている。透光性を有するアノード電極4としては、例えばITO(Indium Tin Oxide)やメッシュ状にパターン整形されたAl薄膜が用いられる。このアノード電極4は、保護膜3aと絶縁層6との間に形成されている配線層(図示せず)に接続されている。
アノード電極4上には、発光部となる蛍光体5が表示すべきパターンの形状に塗布されている。この蛍光体5は、ZnO:Zn蛍光体等から構成されている。
【0010】
なお、例えばアノード電極4を蛍光体5を囲うように形成して、接触部分から蛍光体5に電圧を印加するようにすれば、アノード電極4に透光性は要求されない。
これら、フィルタ2,アノード電極4及び蛍光体5を1つのドットとしてマトリックス状に複数配置して用いれば、ドットマトリックス形の蛍光表示管を構成することができる。
【0011】
蛍光体5の上方には電子放出手段としてカソード電極8が配置されており、蛍光体5とカソード電極8との間にはグリッド7が配置されている。カソード電極8からは均一に熱電子が放出され、その熱電子はグリッド7によって動きを制御される。そして、100eV程度の熱電子の衝突により、蛍光体5が励起発光する。
また、ガラス基板1の端部には、スペーサガラス9が配置され、その上にガラス基板1に対向してフロントガラス10が配置されている。これらガラス基板1、スペーサガラス9及びフロントガラス10によって、上記した全ての構成要素を収容する外囲器が構成される。外囲器の内部は真空排気されている。
【0012】
一方、ガラス基板1のフィルタ2が形成されていない側の面(以下、外壁面という)には、第2の保護膜である保護膜3bが密着形成されている。保護膜3bは、保護膜3aと同じ向きに同じ大きさの内部応力を有するように形成される。このため、ガラス基板1が一方に反ることはない。
なお、保護膜3a,3bは同じ材料を用いて形成しても、異なる材料を用いて形成してもよい。同じ材料を用いる場合には、同じ膜厚の膜を形成することにより、ガラス基板1に対して同程度の張力を与える保護膜3a,3bを容易に形成することができる。
なお、蛍光体5の発光光は、アノード電極4、保護膜3a、フィルタ2、ガラス基板1及び保護膜3aを介して、外囲器の外部に放出される。
【0013】
次に、ガラス基板1の両面に形成する保護膜3a,3bについて、更に詳しく説明する。
保護膜3a,3bに必要な条件としては、透光性があること以外に、保護膜として緻密であること、耐熱性が高いことが挙げられる。以上の条件を満たす材料には、例えばSiO2 ,Al2 O3 ,TiO2 ,Ta2 O5 ,MgO,Si3 N4 ,MgF2 がある。
【0014】
保護膜3a,3bの成膜方法には、大きく分けて次の二つの方法がある。
第1の成膜方法は、有機金属化合物(例えば、金属アルコラート)を焼成して、金属酸化物からなる保護膜3a,3bを形成する方法である。
まず、金属アルコラートを液体状に調合した金属アルコラート溶液を、例えばスピンコート法、ロールコート法、ディップコート法などの塗布法によりガラス基板1の両面に塗布して、金属アルコラート膜を形成する。そして、酸化雰囲気中において400〜600℃の高温で数時間焼成することにより、金属酸化膜が形成される。
この成膜方法では、金属アルコラート膜を形成するのにスピンコート法を用いると、ガラス基板1の片面づつ計2回塗布する必要がある。また、ロールコート法又はディップコート法を用いると、ガラス基板1の両面同時に塗布することができる。
【0015】
第2の成膜方法は、蒸着法、スパッタリング法などの物理的成膜方法である。
この成膜方法では、ガラス基板1の両面に成膜する材料のもととなるソースを配置した構造の成膜装置を用いれば、ガラス基板1の両面同時に成膜することができる。
【0016】
なお、第1の成膜方法では、金属アルコラート膜上にアノード電極4及び蛍光体5を形成してから焼成して、金属酸化膜を形成してもよいし、あるいは、まず、金属アルコラート膜を焼成して金属酸化膜を形成し、その上にアノード電極4及び蛍光体5を形成して再度焼成してもよい。
【0017】
ところで、ガラス基板1の外壁面に形成された保護膜3bは、ガラス基板1の反りを防止するためのものであるが、所定の条件を満足させることにより、保護膜3bは外光の反射防止膜としても機能する。
保護膜3a上に形成された絶縁膜6は、蛍光表示管のフィルタ2(発光部分)以外の部分の反射率を、低く一様にする。これによりコントラストが向上するが、反射光が完全に抑えられるわけではない。
しかし、保護膜3bの膜厚と材料を適切に設定することにより、外光の正反射を抑えることができる。保護膜3bの膜厚については、ガラス基板1の内壁面に保護膜3aやフィルタ2、絶縁層6等が存在するため、これらの状態に応じて設定する必要がある。また、保護膜3bの屈折率については、少なくともガラス基板1の屈折率より小さい屈折率をもつ材料を用いて保護膜3bを形成することにより、反射防止膜としての効果を期待できる。
【0018】
図2は、ガラス基板1の外壁面にSiO2 からなる保護膜3b(膜厚:200nm)を形成した場合と形成しない場合における外光の波長と反射率との関係を示したグラフであり、図1に示した平面形蛍光表示管の絶縁層6が存在する部分の反射率を示している。また、実線は保護膜3bが形成されている場合であり、破線は保護膜3bが形成されていない場合である。
図2に示されるように、屈折率が1.52のガラス基板1に屈折率が1.47のSiO2 からなる保護膜3bを形成することにより、外光の波長が500nm前後の領域で、反射率が0.6%程度低減される。すなわち、保護膜3bが形成されていない場合に比べて、反射率が1割程度低減される。
【0019】
以上、本実施の形態は平面形蛍光表示管を例に説明してきたが、本発明の適用は平面形蛍光表示管に限られたものではない。
例えば、蛍光表示管の一種に、メタルバック膜を用いて10keV程度の電子線により蛍光体を励起発光させ、電子線のスイッチング又は偏向によって画素を選択的に発光させる発光表示デバイスがある。以下、この発光表示デバイスを画像管と呼ぶ。画像管は、大画面カラーディスプレイの画素を構成するものとして使用される。
画像管はコントラスト改善のため、ガラス基板の内壁面上に顔料を含むフィルタを配置する。したがって、赤色フィルタの黒化を防止するために、フィルタを被覆するようにガラス基板上に第1の保護膜を形成する必要がある。このため、図1に示した平面形蛍光表示管と同様にガラス基板の外壁面上に第2の保護膜を形成することにより、ガラス基板の反りを防止できるとともに、外光の正反射を抑えられる。
【0020】
なお、本発明は、真空外囲器中にフィルタを備え、電子線によって蛍光体を励起発光させる発光表示デバイスに適用できるため、FEDやCRTにも適用可能である。
また、内面にフィルタを備えた他の表示デバイス、例えばPDPにおいても、高温の還元性雰囲気を含むプロセスにフィルタが形成された基板を通す必要がある場合には、本発明が有効である。
【0021】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ガラス基板の両面にそれぞれ第1の保護膜と第2の保護膜を形成して、ガラス基板の両面に、同じ向きに同程度の大きさの張力を与えることにより、ガラス基板の反りを防止することができる。
特に、第1、第2の保護膜を共に同じ材料を用いて同じ膜厚で形成することにより、容易にガラス基板の反りを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による発光表示デバイスの断面図である。
【図2】ガラス基板に保護膜3bを形成したことによる外光の反射率の変化を示すグラフである。
【図3】従来の発光表示デバイスの断面図である。
【符号の説明】
1…ガラス基板、2…フィルタ、3a,3b…保護膜、4…アノード電極、5…蛍光体、6…絶縁層、7…グリッド、8…カソード電極、9…スペーサガラス、10…フロントガラス。
Claims (5)
- ガラス基板上の所定の位置に形成された光学フィルタと、
前記ガラス基板上に前記光学フィルタを被覆するように密着形成された透光性を有する第1の保護膜と、
前記第1の保護膜の上方に配置された電子を放出する電子放出手段と、
前記第1の保護膜と電子放出手段との間の前記光学フィルタに対応する位置に形成されて前記電子放出手段から放出された電子の衝突により発光する発光部と、
この発光部に接触するように配置されて前記発光部に電圧を印加するアノード電極と、
前記ガラス基板を含み前記光学フィルタ、第1の保護膜、電子放出手段、発光部及びアノード電極を収容する真空外囲器と、
前記ガラス基板の外壁面上に密着形成されて前記第1の保護膜と同じ向きに同程度の大きさの内部応力を有するとともに透光性を有する第2の保護膜とを備えることを特徴とする発光表示デバイス。 - 請求項1において、
前記発光部と電子放出手段との間に配置されて前記電子放出手段から放出された電子の動きを制御し前記発光部に衝突させるグリッドとを備えることを特徴とする発光表示デバイス。 - 請求項1において、
前記第1及び第2の保護膜は、ともに同じ材料及び同じ膜厚で形成されることを特徴とする発光表示デバイス。 - 請求項1において、
前記光学フィルタは、顔料を含むことを特徴とする発光表示デバイス。 - 請求項1において、
前記第2の保護膜の屈折率は、前記ガラス基板の屈折率より小さいことを特徴とする発光表示デバイス。
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