JP3617923B2 - 単結晶シリコン太陽電池及びモジュールの作製方法 - Google Patents

単結晶シリコン太陽電池及びモジュールの作製方法 Download PDF

Info

Publication number
JP3617923B2
JP3617923B2 JP11025598A JP11025598A JP3617923B2 JP 3617923 B2 JP3617923 B2 JP 3617923B2 JP 11025598 A JP11025598 A JP 11025598A JP 11025598 A JP11025598 A JP 11025598A JP 3617923 B2 JP3617923 B2 JP 3617923B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crystal silicon
solar cell
single crystal
cells
square
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP11025598A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH11298023A (ja
Inventor
照彦 平沢
勝志 徳永
孝夫 阿部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP11025598A priority Critical patent/JP3617923B2/ja
Publication of JPH11298023A publication Critical patent/JPH11298023A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3617923B2 publication Critical patent/JP3617923B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042PV modules or arrays of single PV cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0352Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions
    • H01L31/035272Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/035281Shape of the body
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/547Monocrystalline silicon PV cells

Description

【産業上の利用分野】
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は太陽電池及び太陽電池モジュールの作製方法に関し、特に、光電変換効率に優れた単結晶シリコン太陽電池、及びそれを用いたモジュールの生産効率を改善することのできる、単結晶シリコン太陽電池の製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】
化石燃料の大量消費に伴い、近年、地球温暖化、酸性雨、或いは大気汚染等の環境破壊が深刻になる一方、石油資源の枯渇も確実視されるに至っている。そこで、クリーンで省資源にも寄与するエネルギー源として、従来から、太陽電池、風力発電、地熱発電等を利用することが試みられているが、これらの中でも、特に、シリコンを用いた太陽電池は、原料のシリコンが豊富に存在するのみならずクリーンで省資源にも寄与する上、使用し易さや移動容易性或は用途の広さ等において優れているために、有力なエネルギー源となりつつある。
【0003】
太陽電池に用いられるシリコンとしては、単結晶シリコン、多結晶シリコン、及びアモルファスシリコンが利用されている。これらのうち、単結晶シリコンが最も光電変換効率が高く性能的に優れているものの、単結晶を成長させるために手間と費用がかかるという欠点がある。そこで、より簡便に作製することのできる多結晶シリコンやアモルファスシリコンも利用されつつあるが、光電変換効率の点でまだ十分と言えるものではない。
【0004】
そこで、本発明者らは、丸形で引き上げられた単結晶シリコンインゴットを角形に成型する際に削り取られる部分に着目して検討した結果、インゴットを角形に成型した後角形基板としてスライスし、これにセルを設けるのではなく、丸形のインゴットをスライスして丸形基板を作製し、この全面にセルを設けた後角形部分と形部分に裁断すれば、角形部分を、モジュール化し易いように正確に切り取ることができる上、形部分も寄せ集めてモジュール化することができるので、全体としての製造効率を、従来より大幅に改善することができ、これによって製品としての太陽電池の価格を低減させることができることを見出し、本発明に到達した。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
従って本発明の第1の目的は、単結晶シリコン太陽電池製造工程におけるシリコンの重量歩留りを改善し、製品価格を低減させることのできる単結晶シリコン太陽電池の製造方法を提供することにある。
本発明の第2の目的は、従来削り取られていた単結晶シリコンインゴットの部分を有効に利用し、安価な太陽電池モジュールを提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記の諸目的は、単結晶シリコンインゴットを輪切りにして得た円板状の単結晶シリコン基板の全面に角形部と弓形部に分割し得る如く太陽電池のセルを作製した後角形セルと弓形セルとに分割する如く裁断し、次いで前記弓形セルを複数枚使用してモジュール化することを特徴とする、太陽電池モジュールの製造方法、及び、その方法によって製造された弓形セルを複数使用してなる太陽電池モジュールによって達成された。
【0007】
【発明の実施の形態】
本発明で使用する単結晶シリコンインゴットは公知の方法によって適宜製造することができるが、特に、チョクラルスキー法(CZ法)または、フローティング・ゾーン法(FZ法)によって製造することが、製造安定性の観点から好ましい。また、得られたインゴットをスライスして円板状基板を作製することも、公知の方法によって容易に行うことができる。
【0008】
得られた円板状基板は、通常、KOH等のアルカリ溶液を用いた異方性エッチング処理によりスライス時の表面歪み層が除去されると共にテキストチャー加工され、次いで、順次、RCA洗浄され、温水引き上げ乾燥される。この基板全面に太陽電池のセルを形成させることは公知の方法によって容易に行うことができる。本発明においては、全面にセルを形成させた後、できるだけ無駄が生じないように裁断すれば良いが、特に、角形セル1枚と形セル4枚に裁断することが好ましい。このように裁断することにより、角形セルを完全な形状の角形セルとすることができるので、モジュールにする時に無駄な空間が発生しない。尚、これらのセルは、必要に応じて更に小さく裁断しても良いことは当然である。
【0009】
このようにして得られた角形セルや形セルを公知の方法によって寄せ集めて一体化し、より大型のモジュールとすることができる(図1参照)。モジュール化する場合には、並べるセルとセルの間に、配線のための空間の他には無駄な空間が生じないようにすることが好ましく、また、作業性をも考慮すれば、モジュール化に適した角形セルは、円板状基板の円周に内接する正方形の形状であることが最も好ましい。
モジュール化のための配線は、銅リボン線の熱圧着等の公知の方法によって容易に行うことができる。
【0010】
【発明の効果】
本発明によれば、単結晶シリコン基板を丸形のまま使用して全面にセルを作製し、最後に、内部は完全な角形に、周辺は弓形に裁断するので、単結晶シリコン材料の損失がなく、モジュールに配列する際の面積損失も減少する。従って、従来、歩留りを少しでも良くするために疑似角形セルとしていた場合に比べ、モジュールするときの配列に無駄がなく、小型で効率の良い単結晶シリコン太陽電池を安価に提供することが可能となった。また、弓形セルのみを集めて製造した太陽電池モジュールは、従来廃棄されていた部分を使用するので極めて安価である。
【0011】
【実施例】
以下、実施例によって本発明を更に詳述するが、本発明はこれによって限定されるものではない。
【0012】
実施例1及び比較例1〜3.
直径8インチのCZ単結晶シリコン基板(伝導型;P型、電気抵抗;(Ω・cm)、基板厚;400(μm))を丸形のままで準備し、スライス時の表面歪み層除去及びテキスチャー加工を目的として、KOHアルカリ溶液による異方性エッチングを行い、その後、RCA洗浄及び温水引き上げ乾燥を行った。
次にシリコン基板の表面にPを含んだ有機シリカ化合物の塗布剤をスピンコート法で塗布し、120℃で10分間乾燥して、リンドープ有機シリカ塗布層を形成させた。
【0013】
上記シリコン基板を近赤外線ランプベルト炉に通して、950℃で10分間ドライブイン拡散させ、接合(n+)形成を行わせた。
表面に形成された不要なリンガラス層を、HF溶液を用いて除去した後、シリコンのRCA洗浄及び温水引き上げ乾燥を行い、更に、ドライ酸化法により、表面パッシベーション膜として熱酸化膜を形成させた。
【0014】
次に、表面に、常圧CVDでTiO反射防止膜を形成させた後、裏面に、スクリーン印刷によってアルミニウムペーストを全面に印刷し、乾燥させた後近赤外線ランプベルト炉に通し、750℃で5分間焼成することにより、裏面電界層を形成させた。
【0015】
なお、表面の銀電極については、TiO2反射防止膜及びSiO2表面熱酸化膜をファイヤースルーすることにより電気的接触が得られるように、ペースト成分並びに焼成条件を最適化した。次いで電極部の抵抗低減及び太陽電池セル間の接続を目的として、両面銀電極上にAg/Sn/Pbのハンダコートを行った。
このようにして丸形のCZ単結晶シリコン基板上全面にセルを作製した後に、ダイサーにより、図1のように、内部から14(cm)角の完全な角形セル1枚と、周辺の形セル4枚を切り出し、角形及び形セルを別々にモジュール配線した。
【0016】
上記の方法で作製されたセル及びモジュールそれぞれの効率をソーラーシミュレーター(AM1.5,25℃、100(mW/cm)で測定したところ、表1に示す結果が得られた。
また、比較例1として図2に示す従来の単結晶シリコン疑似角形基板比較例2として単結晶丸形基板、及び、比較例3として多結晶シリコン角形基板を使用して同様に作製した、セル及びモジュールについてもそれぞれ測定し、その結果を表1に併記した。
【0017】
【表1】
表1の結果から、同一面積のモジュール面積で比較すると、セルの並び方に無駄のない本願発明の効果が明らかである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の、丸形単結晶シリコン基板を使用した太陽電池の一連の製作方法の一例である。
【図2】比較例1の疑似角形単結晶シリコン基板を使用した太陽電池の一連の製作方法の一例である。

Claims (2)

  1. 単結晶シリコンインゴットを輪切りにして得た円板状の単結晶シリコン基板の全面に角形部と弓形部に分割し得る如く太陽電池のセルを作製した後角形セルと弓形セルとに分割する如く裁断し、次いで前記弓形セルを複数枚使用してモジュール化することを特徴とする、太陽電池モジュールの製造方法。
  2. 単結晶シリコンインゴットを輪切りにして得た円板状の単結晶シリコン基板の全面に角形部と弓形部に分割し得る如く太陽電池のセルを作製した後角形セルと弓形セルとに分割する如く裁断し、得られた弓形セルのみを複数枚使用してなることを特徴とする、太陽電池モジュール。
JP11025598A 1998-04-06 1998-04-06 単結晶シリコン太陽電池及びモジュールの作製方法 Expired - Fee Related JP3617923B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11025598A JP3617923B2 (ja) 1998-04-06 1998-04-06 単結晶シリコン太陽電池及びモジュールの作製方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11025598A JP3617923B2 (ja) 1998-04-06 1998-04-06 単結晶シリコン太陽電池及びモジュールの作製方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11298023A JPH11298023A (ja) 1999-10-29
JP3617923B2 true JP3617923B2 (ja) 2005-02-09

Family

ID=14531061

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11025598A Expired - Fee Related JP3617923B2 (ja) 1998-04-06 1998-04-06 単結晶シリコン太陽電池及びモジュールの作製方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3617923B2 (ja)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003179248A (ja) * 2001-03-13 2003-06-27 Shin Etsu Handotai Co Ltd 太陽電池モジュール及びその製造方法
US20050126619A1 (en) * 2002-02-28 2005-06-16 Shin-Etsu Handotai Co., Ltd Solar cell module and manufacturing method thereof
JP2005011869A (ja) * 2003-06-17 2005-01-13 Sekisui Jushi Co Ltd 太陽電池モジュールおよびその製造方法
JP4534077B2 (ja) * 2003-10-20 2010-09-01 信越化学工業株式会社 太陽電池モジュールの製造方法
WO2006027898A1 (ja) * 2004-09-03 2006-03-16 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 太陽光発電用モジュール及びこれを用いた太陽光発電システム
JP4948219B2 (ja) * 2007-03-23 2012-06-06 三洋電機株式会社 太陽電池
KR100911622B1 (ko) 2009-05-07 2009-08-12 다이섹(주) 태양전지 단결정 실리콘 잉곳의 절단방법
JP5802072B2 (ja) * 2011-07-26 2015-10-28 株式会社岡本工作機械製作所 円筒状インゴットブロックを四角柱状ブロックに加工する切断方法
WO2013051375A1 (ja) * 2011-10-05 2013-04-11 シャープ株式会社 ダイシング装置及び半導体装置の製造方法
CN103165690B (zh) 2011-12-16 2015-11-25 清华大学 太阳能电池
CN103165719B (zh) 2011-12-16 2016-04-13 清华大学 太阳能电池
CN103187476B (zh) * 2011-12-29 2016-06-15 清华大学 太阳能电池的制备方法
CN103187456B (zh) 2011-12-29 2015-08-26 清华大学 太阳能电池
CN103187475B (zh) 2011-12-29 2015-11-25 清华大学 太阳能电池的制备方法
CN103187453B (zh) 2011-12-29 2016-04-13 清华大学 太阳能电池
US20140000705A1 (en) * 2012-06-29 2014-01-02 Sunpower Corporation Reflector system for concentrating solar systems
CN203787439U (zh) * 2013-12-12 2014-08-20 西安隆基硅材料股份有限公司 一种单晶硅片
US20170012154A1 (en) * 2015-07-09 2017-01-12 Solaero Technologies Corp. Method for producing solar cells and solar cell assemblies
CN110459634A (zh) * 2018-05-04 2019-11-15 阿特斯阳光电力集团有限公司 光伏组件及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH11298023A (ja) 1999-10-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3617923B2 (ja) 単結晶シリコン太陽電池及びモジュールの作製方法
Szlufcik et al. Low-cost industrial technologies of crystalline silicon solar cells
CN101399293B (zh) 太阳能电池、太阳能电池模块和太阳能电池的制造方法
TWI521724B (zh) Solar cells and solar modules
US20050268963A1 (en) Process for manufacturing photovoltaic cells
WO1998043304A1 (fr) Element photovoltaique et procede de fabrication dudit element
CN102751371B (zh) 一种太阳能薄膜电池及其制造方法
TWI536597B (zh) A low cost, suitable for mass production of back contact with the battery production methods
KR20130092494A (ko) 태양 전지의 제조 방법 및 태양 전지
CN103000741A (zh) 一种黑色异质结晶硅电池及其制造方法
WO2014054350A1 (ja) 太陽電池セルの製造方法
CN102254963A (zh) 一种石墨烯/硅柱阵列肖特基结光伏电池及其制造方法
CN101339966A (zh) 太阳能电池的后制绒生产工艺
CN109285897A (zh) 一种高效钝化接触晶体硅太阳电池及其制备方法
CN105957921B (zh) 一种利用印刷技术制备n型硅ibc太阳电池的方法
TW201935705A (zh) 高光電變換效率太陽電池及高光電變換效率太陽電池之製造方法
CN104134706B (zh) 一种石墨烯硅太阳电池及其制作方法
JP2008034583A (ja) 太陽電池素子の製造方法
JP4468494B2 (ja) 太陽電池及び太陽電池の製造方法
JP5375414B2 (ja) 太陽電池及びその製造方法
CN104009114A (zh) 准单晶硅太阳能电池片的制造方法
TW201830719A (zh) 高光電變換效率太陽電池及高光電變換效率太陽電池之製造方法
CN102544184A (zh) 一种横向结构的pin太阳能电池及其制备方法
CN202977494U (zh) 一种晶体硅\非晶硅双节双面电池
JP2001358351A (ja) 光起電力素子の製造方法、その製造装置、及び太陽電池モジュール

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040121

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040701

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20040810

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20040914

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040917

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041014

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20041105

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20041105

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071119

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101119

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101119

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131119

Year of fee payment: 9

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees