JP3609244B2 - 浸漬式ワイヤ放電加工機 - Google Patents
浸漬式ワイヤ放電加工機 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3609244B2 JP3609244B2 JP31159097A JP31159097A JP3609244B2 JP 3609244 B2 JP3609244 B2 JP 3609244B2 JP 31159097 A JP31159097 A JP 31159097A JP 31159097 A JP31159097 A JP 31159097A JP 3609244 B2 JP3609244 B2 JP 3609244B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shielding plate
- processing
- processing tank
- electric discharge
- wire
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は，加工槽に収容した加工液中にて工作物を放電加工する浸漬式ワイヤ放電加工機に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来，放電加工機，特に加工液に浸漬された工作物に対してワイヤ電極によって所定の加工形状にワイヤ放電加工を行う浸漬式ワイヤ放電加工機が知られている。浸漬式ワイヤ放電加工機において，工作物は，ワイヤ電極と工作物との間に極間電圧を印加することによって発生する放電エネルギーによって放電加工される。工作物は，工作物取付金具によって加工槽内の工作物支持台に固定され，ワイヤ電極に対して，加工槽と共に水平面上を移動可能である。なお，この種の浸漬式ワイヤ放電加工機の例として，例えば，特公平７−３９０５６号公報に開示されているものがある。
【０００３】
この種の浸漬式ワイヤ放電加工機においては，図５に示すように，一般に，下ワイヤヘッド６６は上ワイヤヘッド６７と対応して設けられており，加工機本体６８に設けられて加工液６９に浸漬される下アーム７０は，下ワイヤヘッド６６を一端で支持し，且つ加工槽７１の後部側壁７２に形成された長孔７３を貫通し，他端において加工槽７１の外部において加工機本体６８のフレームに固定されている。工作物Ｗに対して放電加工して消耗した廃ワイヤ電極７４は，下ワイヤヘッド６６に案内されて下アーム７０内を挿通し，加工槽７１から外部へ排出される。ワイヤ放電加工を行なうに際しては，工作物Ｗを取り付けた工作物支持台７５が加工槽７１と一体となって，下アーム７０に対してＸ−Ｙ軸平面内で相対移動するように構成されている。Ｙ軸は下アーム７０の長手方向の軸であり，Ｘ軸はＹ軸と直交し且つ水平面内に位置する軸の方向である。工作物Ｗと廃ワイヤ電極７４との間の相対移動は，数値制御（ＮＣ）指令によって行なわれる。
【０００４】
この浸漬式ワイヤ放電加工機は，加工液６９が収容され側壁７２に形成された長孔７３の長手方向即ちＹ軸方向に移動可能な加工槽７１と，加工槽７１を支持し長孔７３の長手方向に対し直角方向即ちＹ軸方向に移動可能なテーブル７６と，加工槽７１の長孔７３を覆うように配設されテーブル７６に固定された遮蔽板７７と，加工槽７１に取り付けられ加工液６９の水圧に対抗して遮蔽板７７を背面側から支持する摺接部材であるローラ７８と，遮蔽板７７に形成された孔７９を貫通し加工槽７１の側壁７２の長孔７３を挿通して加工液６９中に突出し廃ワイヤ電極７４を案内する下アーム７０と，下アーム７０に同軸に設けられ，一端８０が遮蔽板７７の孔７９の周囲に固定され，他端８１が下アーム７０に固定され，加工槽７１のＸ軸方向の移動に応じて伸縮する蛇腹８２と，加工槽７１の孔７９の周縁部に取り付けられ遮蔽板７７の前面に接触してシールするシール部材８３とを備えるものである。
【０００５】
加工槽７１はテーブル７６に対してＸ軸方向に移動する。遮蔽板７７はテーブル７６に固定されているので，Ｘ軸方向には移動しない。したがって，Ｘ軸方向に加工槽７１が移動する際には，ローラ７８は遮蔽板７７の背面側を転動しながら加工槽７１と共に移動する。また，テーブル７６は加工機本体６８に対してＸ軸方向に移動し得るので，テーブル７６に載置された加工槽７１及び遮蔽板７７はテーブル７６のＸ軸方向の移動に伴ってＸ軸方向に一緒に移動する。そして，テーブル７６がＸ軸方向に移動する際に，蛇腹８２は伸縮する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで，浸漬式ワイヤ放電加工機は，加工槽７１内に加工液が収容されており，加工槽７１の側壁７２を下アーム７０が貫通しているので，加工液６９が加工槽７１から漏出するのを防止する必要があり，そのために，上記のとおり，蛇腹８２とシール部材８３が設けられている。しかしながら，上記のような浸漬式ワイヤ放電加工機では，シール部材８３に加工液の変動圧が絶えず加わっており，シール部材８３は加工槽７１と共に遮蔽板７７に対してＸ軸方向に相対的に移動するため，シール部材８３の摩耗，スラッジによるシール部材８３の損傷，あるいはシール部材８３の劣化などに起因して，矢印で示すように，スラッジを含んだ加工液がシール部材８３から漏出し，遮蔽板７７の上端面を乗り越えて背面側に漏れ出し，スラッジがローラ７８に堆積し，その結果，ローラ７８が回転不良を起こして摺動抵抗が増加し，工作物の加工精度に悪影響を及ぼすという問題があった。
【０００７】
また，加工槽７１の側壁７２と遮蔽板７７との間から加工液の漏出を完全に防止するため，両者間に強力なシール部材を設けることも考えられるが，そうすると，次のような不都合も生じる。即ち，強力なシール部材のために加工槽７１の側壁７２と遮蔽板７７との間に作用する摩擦力により加工槽７１の速やかな移動と位置の正確な制御が困難になる。そこで，この種の浸漬式ワイヤ放電加工機においては，シール部材８３から漏出した加工液のローラ７８への付着を如何にして防止するかが課題となっている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
この発明の目的は，上記課題を解決することであり，加工槽の側壁と遮蔽板との間から漏出した加工液がローラに付着するのを防止して，加工液に含まれているスラッジがローラへ堆積しないようにし，もってローラの回転不良を防止し，工作物に対する加工精度を良好に維持する浸漬式ワイヤ放電加工機を提供することである。
【０００９】
請求項１に係る発明は，加工機本体に取り付けられた上ワイヤヘッドを通じて供給されるワイヤ電極が通される下ワイヤヘッド，前記上ワイヤヘッドと前記下ワイヤヘッドとの間で加工液に浸漬した状態で工作物を設置できる加工槽，前記加工槽に形成された長孔を覆うように配設され且つ前記長孔と対向する孔が形成された遮蔽板，前記加工槽に取り付けられ且つ前記加工液の水圧に抗して前記遮蔽板を背面側から支持する摺接部材，前記遮蔽板の孔及び前記加工槽の長孔に挿通され且つ前記加工液中に突出して前記下ワイヤヘッドを支持すると共に前記下ワイヤヘッドを通過した前記ワイヤ電極の廃ワイヤが内部に挿通される前記加工機本体に取り付けられた支持アーム，前記加工槽が前記支持アームの長手方向と直角方向に移動可能に載置され且つ前記長手方向に移動可能な前記遮蔽板が取り付けられたテーブル，前記支持アームが挿通され且つ一端が前記遮蔽板の孔の周縁部に他端が前記支持アーム又は前記加工機本体に固定された長手方向に伸縮可能な蛇腹，及び前記加工槽の長孔の周縁部に取り付けられ且つ前記遮蔽板に接触してシールするシール部材をを備えた浸漬式ワイヤ放電加工機において，前記遮蔽板は，前記シール部材に当接してシール部を構成する第１遮蔽板と，前記第１遮蔽板に隔置して連結され且つ前記摺接部材に当接して支持される第２遮蔽板とから構成され，前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板との間から流下する前記加工液を受けるため前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板との下方には樋が設けられていることを特徴とする浸漬式ワイヤ放電加工機に関する。
【００１０】
また，この浸漬式ワイヤ放電加工機は，前記第１遮蔽板を溢流した前記加工液が前記第２遮蔽板を溢流することなく，前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板との間を流下するように，前記第１遮蔽板の上端面は前記第２遮蔽板の上端面よりも低い位置に設定されている。
【００１１】
また，この浸漬式ワイヤ放電加工機では，前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板との間の前記支持アームの周りには環状シール部材が配置されている。
【００１２】
請求項４に係る発明は，加工機本体に取り付けられた上ワイヤヘッドを通じて供給されるワイヤ電極が通される下ワイヤヘッド，前記上ワイヤヘッドと前記下ワイヤヘッドとの間で加工液に浸漬した状態で工作物を設置できる加工槽，前記加工槽に形成された長孔を覆うように配設され且つ前記長孔と対向する孔が形成された遮蔽板，前記加工槽に取り付けられ且つ前記加工液の水圧に抗して前記遮蔽板を背面側から支持する摺接部材，前記遮蔽板の孔及び前記加工槽の長孔に挿通され且つ前記加工液中に突出して前記下ワイヤヘッドを支持すると共に前記下ワイヤヘッドを通過した前記ワイヤ電極の廃ワイヤが内部に挿通される前記加工機本体に取り付けられた支持アーム，前記加工槽が前記支持アームの長手方向と直角方向に移動可能に載置され且つ前記長手方向に移動可能な前記遮蔽板が取り付けられたテーブル，前記支持アームが挿通され且つ一端が前記遮蔽板の孔の周縁部に他端が前記支持アーム又は前記加工機本体に固定された長手方向に伸縮可能な蛇腹，及び前記加工槽の長孔の周縁部に取り付けられ且つ前記遮蔽板に接触してシールするシール部材をを備えた浸漬式ワイヤ放電加工機において，前記加工槽には前記シール部材を保持するブロックが設けられ，前記ブロックの上面には前記ブロックの両側部に向かって低くなる傾斜面が形成され，最も高い位置の前記傾斜面は前記遮蔽板の上端面よりも低くなるように設置され，前記シール部材と前記遮蔽板との間から漏洩した前記加工液は，前記ブロックに形成した前記傾斜面に沿って前記遮蔽板と前記ブロックとの下方に設けられた樋へ流下することを特徴とする浸漬式ワイヤ放電加工機に関する。
【００１３】
また，前記ブロックに形成された前記傾斜面は，中央部が高く，前記ブロックの両側部に向かって低く形成されている。
【００１４】
請求項１に係る発明による浸漬式ワイヤ放電加工機は，上記のように，第１遮蔽板と第２遮蔽板とが間隔をあけて連結されているので，第１遮蔽板と第２遮蔽板との間に漏洩した加工液が流下する通路が形成される。このため，シール部材から漏出した加工液は第１遮蔽板を乗り越え，第１遮蔽板と第２遮蔽板とで形成される通路を通って流下し，樋に落ちることになる。したがって，加工液が第２遮蔽板を乗り越えることはなく，その結果，第２遮蔽板の背面側に接触している摺接部材に加工液に混入した加工屑等が付着することはなく，摺接部材が腐食することがない。また，第１遮蔽板の上端面を第２遮蔽板の上端面よりも低い位置に配置することにより，加工液が第２遮蔽板を乗り越えるおそれは一層なくなり，加工液の摺接部材への付着をより確実に防止することができる。
【００１５】
また，請求項３に係る発明による浸漬式ワイヤ放電加工機は，ブロックに形成した傾斜面が遮蔽板の上端面よりも低い位置に配置されているので，シール部材から漏洩した加工液は，遮蔽板を乗り越える前に，傾斜面に沿ってブロックの側面へ案内されて流下し，次いで樋に向かって流れ落ちる。したがって，加工液が遮蔽板を乗り越えることはないので，遮蔽板の背面側に接触している摺接部材に加工屑が付着することはなく，摺接部材が腐食することがない。
【００１６】
それ故，この浸漬式ワイヤ放電加工機は，加工液に混入した加工屑等が堆積することがなく，摺接部材の回転不良が起こらず，摺接部材による摺動抵抗が増加することがないので，ワイヤ電極に対する加工槽の相対移動がスムースに行われ，工作物に対する加工精度を向上させ，高加工精度を長期に渡って維持することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下，添付図面を参照して，この発明による浸漬式ワイヤ放電加工機の実施例を説明する。図１は請求項１に係る発明による浸漬式ワイヤ放電加工機の一実施例の全体構造を示す側面断面図，及び図２は図１の浸漬式ワイヤ放電加工機における遮蔽板付近の構造を示す要部拡大断面図である。
【００１８】
浸漬式ワイヤ放電加工機の加工槽１内には，イオン交換樹脂を経ることで水の比電気抵抗をコントロールされた加工液２が収容されている。加工槽１は，ボルト及びナットのような固着具によってワイヤ放電加工機のテーブル２７に取り付けられている。加工槽１の一壁部は，工作物Ｗを後述する工作物支持台４に対して脱着する時の作業スペースを確保するため，開閉自在となっている。
【００１９】
加工槽１の底には，ベース３が敷設されており，加工槽１内に収容された加工液２中に工作物Ｗを浸漬した状態で支持するため，ベース３上に工作物支持台４がボルト５によって固定されている。工作物支持台４は，図１では１台のみ図示したが，同じ加工槽１の中に複数台設置することができる。工作物支持台４は，リード線６を介して加工槽１の外部から一方の電極に接続されている。工作物取付具７をボルト８によって工作物支持台４に締結することにより，工作物Ｗが工作物支持台４に固定される。
【００２０】
工作物Ｗに対して所定の加工形状にワイヤ放電加工を行うために工作物Ｗとの間で放電をするワイヤ電極１０は，ワイヤ放電加工機の加工機本体９に設けられている自動ワイヤ供給装置（図示せず）から供給される。ワイヤ電極１０は，加工機本体９に取り付けられた上アーム１１に支持された上ワイヤヘッド１２と，加工機本体９から加工槽１の側壁２３を貫通して横方向に延びた下アーム１３に支持された下ワイヤヘッド１４によって案内される。下アーム１３は，この発明における支持アームを構成している。上ワイヤヘッド１２には，従来と同様に，ワイヤ送出口，ダイスガイド，噴流ノズル，給電子１５，及び給電子押え等が組み込まれており，ワイヤ電極１０を工作物Ｗの放電加工部位に送り出す。給電子１６が組み込まれた下ワイヤヘッド１４は，上ワイヤヘッド１２と同様の構造を有しており，上ワイヤヘッド１２に対向した位置に設けられていて上ワイヤヘッド１２から繰り出されたワイヤ電極１０を受け入れる。工作物Ｗは，上ワイヤヘッド１２と下ワイヤヘッド１４との間に設置される。上ワイヤヘッド１２の給電子１５と下ワイヤヘッド１４の給電子１６とをリード線１７が結んでおり，リード線１７には，リード線６に接続された極とは反対の極が与えられている。
【００２１】
工作物Ｗに対して放電加工を行なったワイヤ電極１０は，下ワイヤヘッド１４に受け入れられた後，廃ワイヤ排出手段（図示せず）によって加工槽１から下アーム１３の内部を通して外部へ排出される。加工槽１の加工液２が不足する場合には，加工液供給管１８から補給される。加工液供給管１８には供給コック１９が設けられており，手動にて供給量を調節することができる。また，加工槽１内の加工液２を排出するために，加工液排出管２０が加工槽１の底部に接続されている。加工液排出管２０には排出コック２１が設けられており，排出コック２１は手動にて開閉可能である。
【００２２】
図１に示すように，加工機本体９と一体の基台５４に設けられたＹ軸移動用モータ５５の出力軸はねじ伝動作用をするＸ方向ねじ軸５６となっており，Ｙ方向ねじ軸５６はＹ方向移動テーブル５７とねじ係合している。したがって，Ｙ方向ねじ軸５６の回転によってＹ方向移動テーブル５７がＸ軸方向に移動する。Ｙ方向移動テーブル５７にはＸ軸移動用モータ（図示せず）が取り付けられており，Ｙ軸移動用モータによって回転されるＸ方向ねじ軸５８は，Ｘ方向移動テーブル５９とねじ係合している。したがって，Ｘ方向ねじ軸５８の回転によってＸ方向移動テーブル５９がＸ軸方向（Ｙ軸方向と直交する方向）に移動可能である。加工槽１は，Ｘ方向移動テーブル５９に取り付けられていて，Ｘ方向移動テーブル５９と共に移動する。上アーム１１及び支持アームを構成する下アーム１３は加工機本体９に対して位置不動であるので，このような移動テーブル機構によって，加工槽１は，下アーム１３の長手方向（Ｙ軸方向）と，当該長手方向と直交する方向（Ｘ軸方向）とで定められる水平面内においてワイヤ電極１０に対する位置制御が可能である。
【００２３】
次に，加工槽１の側壁２３と下アーム１３との関連構造について説明する。加工槽１の側壁２３には，Ｘ軸方向に平行に延びる長孔２４が形成されている。長孔２４の上下の孔縁２５，２６は平行に配置されているが，左右の孔縁は半円弧状に形成されている。加工槽１の側壁２３の外面には，図２に示すように，長孔２４を覆うように遮蔽板２２が設けられている。遮蔽板２２は第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９とからなる二枚の板で構成され，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９とは平行に隔置状態に連結部材３０によって相互に連結されているので，両遮蔽板２８，２９の間には通路５３が形成される。第１遮蔽板２８は第２遮蔽板２９の高さよりも低く設定され，第１遮蔽板２８の上端面３１は第２遮蔽板２９の上端面３２よりも低くなるように設置されている。
【００２４】
遮蔽板２８，２９の中心部には下アーム１３を挿通するための孔３３が形成されており，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９との間には，孔３３の回りに，リップ３４を有する環状シール部材３５が設けられている。環状シール部材３５のリップ３４は下アーム１３の外周面に当接して加工槽１内からの加工液２の漏出を防止するものである。加工槽１の側壁２３の外面には，シール部材３６を保持するため，加工槽１の長孔２４と同様の長孔２４を備えたブロック３７が取り付けられており，シール部材３６は第１遮蔽板２８の前面に接触して加工槽１の側壁２３と第１遮蔽板２８との間をシールし，加工液２が加工槽１から漏出するのを防止している。
【００２５】
また，加工槽１の側壁２３には，長孔２４の上下にそれぞれ複数の押さえ板３８が固定されており，押さえ板３８に支持された摺接部材であるローラ３９が第２遮蔽板２９を背面側から支持している。これらのローラ３９は，加工液２の水圧に抗して遮蔽板２２を支持するために設けたものである。また，第２遮蔽板２９の背面側にはピン４０が植設され，Ｙ方向移動テーブル５７と一体をなす支持金ストッパ４１の上部にはリング４２が設けられ，ピン４０をリング４２に嵌合しているので，加工槽１がＸ軸方向へ移動するときに，遮蔽板２２の下アーム１３に対するＸ軸方向への相対移動を規制することができる。
【００２６】
環状シール部材３５から漏出した加工液，即ち遮蔽板２２の孔３３と下アーム１３との間から漏れ出した加工液を回収し，且つ遮蔽板２２と下アーム１３が相対移動し得るようにするために，伸縮自在の蛇腹４３が設けられている。蛇腹４３は，内部に下アーム１３を挿通し，一端４４が第２遮蔽板２９の背面側に，他端４５が加工機本体９にそれぞれ水密状態に取り付けられている。下アーム１３は加工機本体９に固定されているので，他端４５は，下アーム１３に対して（或いは更に他の固定部材に対して）水密状態に取り付けてもよい。蛇腹４３の加工槽１側の一端４４を第２遮蔽板２９に対して水密状態に取り付けることにより，下アーム１３と遮蔽板２２との間から漏れ出た加工液２は蛇腹４３によって確実に受け取られる。
【００２７】
蛇腹４３は，連通管４６を通じて大気に開放されている。即ち，蛇腹４３の上部において連通管４６の一端４７が蛇腹４３の内部に連通し且つ連通管４６の他端４８が大気に開口している。加工槽１が下アーム１３に対して，そのＸ軸方向に変位するときに，蛇腹４３が伸縮する。蛇腹４３内の容積変化は，連通管４６を通じて空気及び加工液の出入りによって吸収される。即ち，蛇腹４３が縮む方向に加工槽１が変位をするときには，連通管４６又は蛇腹４３内の空気は，連通管４６を通じて他端４８から大気へ放出され，縮み量によっては加工液が連通管４６を通じて加工槽１内へ排出される。蛇腹４３が伸びる方向に加工槽１が変位をするときには，他端４８から連通管４６を通じて外気が蛇腹４３内に取り入れられる。また，図示を省略したが，蛇腹４３の下部に設けたドレンコックを開いて蛇腹４３内の加工液２をドレン管を通じて排出するときに，負圧になる蛇腹４３内には連通管４６を通じて外気が流入するので，蛇腹４３内の加工液２はドレン管を通じてスムーズに排出される。
【００２８】
連通管４６は，加工槽１の側壁２３の上端４９を越えて加工槽１の内側に向かって屈曲されている。連通管４６の構造をこのようにすると，加工槽１が蛇腹４３が縮む方向に急激に大きな変位をして，蛇腹４３内の加工液が連通管４６を通じて排出されようとするときであっても，加工液は連通管４６から直接加工槽１に戻される。即ち，この場合，連通管４６は，蛇腹４３内へ漏出した加工液を加工槽１に循環回収するための通路として機能している。
【００２９】
連通管４６の一端４７は弾性変形可能な蛇腹４３に取り付けられるが，蛇腹４３が連通管４６の一端４７と接続する接続部には，連通管４６の荷重を担わせることは好ましくない。この実施例では，連通管４６は，加工槽１の側壁２３の上端４９に対して，支えローラ５０によって支持されている。このように，連通管４６を加工槽１の側壁２３の上端４９に対して支持することにより，連通管４６の荷重は蛇腹４３に作用することがない。また，加工槽１は下アーム１３に対してＸ軸方向に変位可能であるので，連通管４６と加工槽１とは相対的に変位することになるが，連通管４６は，加工槽１の上端４９の端面上を側壁２３の長手方向（Ｘ軸方向）に転がり部材である支えローラ５０を介して支持されているので，加工槽１に対して滑らかに変位することができる。
【００３０】
蛇腹４３に設けたドレン管の下方には，側壁２３に沿って加工槽１のＹ軸方向長さよりも長く形成されたドレン樋５１が設けられている。図１に示すようにＹ方向移動テーブル５７には連結具５２を介してドレン樋５１が連結されているので，ドレン樋５１は，Ｙ方向移動テーブル５７と共にＹ軸方向にのみ移動可能である。また，ドレン樋５１は，加工槽１の側壁２３のシール部材３６から直接滴下する加工液や，シール部材３６から漏出して第１遮蔽板２８を乗り越えて遮蔽板２２の通路５３を流下してくる加工液を回収することもできる。即ち，加工槽１がＸ軸方向に移動をしても，蛇腹４３に設けたドレン管から排出される加工液を受け取り，且つ加工槽１の側壁２３に設けた遮蔽板２２の通路５３を通って滴下する加工液を受け取るため，ドレン樋５１のＹ軸方向長さは，加工槽１のＹ軸方向の全移動範囲にわたって加工槽１をカバーするＸ軸方向長さを有している。ドレン管を通じる等して排出された加工液は，ドレン樋５１に流れ込み，ドレン樋５１の排出口（図示せず）から排出され，更に図示しない加工液濾過装置等を経て再利用すべく加工槽１へと循環される。ドレン樋５１については，Ｙ方向移動テーブル５７に取り付けた例を示したが，ドレン樋５１を加工槽１に直接取り付けて，ドレン管を通じる等して排出された加工液をドレン樋５１から更に可撓管（図示せず）等の手段で回収してもよい。この場合，ドレン樋５１の長さは，加工槽１の長さをカバーする長さがあればよい。
【００３１】
この浸漬式ワイヤ放電加工機は，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９とが間隔を置いて連結されているので，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９との間に通路５３が形成される。このため，シール部材３６から漏出した加工液は第１遮蔽板２８を乗り越え，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９とで形成される通路５３を通ってドレン樋５１に落ちることになる。特に，第１遮蔽板２８の上端面３１が第２遮蔽板２９の上端面３２よりも低くなるような構成を採用しているので，加工液が第２遮蔽板２９を乗り越えるおそれは一層なくなる。したがって，この浸漬式ワイヤ放電加工機は，加工液が第２遮蔽板２９を乗り越えてローラ３９に付着するようなことはないから，加工液に含まれる加工屑等のスラッジがローラ３９に堆積することはなく，ローラ３９の回転不良は発生せず，高い加工精度を維持することができる。
【００３２】
上記実施例では，蛇腹４３は，一端４４を第２遮蔽板２９の背面側に取り付け，他端４５を加工機本体９に取り付けるように構成したが，一端を第１遮蔽板２８の前面に，他端を下アーム１３にそれぞれ水密状態に取り付けるようにしてもよい。その場合には，蛇腹４３の内部は外気に開放されているので，蛇腹４３に設けた連通管４６や支えローラ５０などが不要となることから，部品点数を削減することができるという利点がある。また，その場合，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９との間に設けた環状シール部材３５のリップ３４は必要なくなるので省略することができる。しかし，環状シール部材３５だけは必要である。即ち，もし環状シール部材３５まで省略した場合には，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９の間の通路５３を通って流下してきた加工液が下アーム１３に当たって飛び散ったり下アーム１３の外周面を伝わったりして，加工液が下アーム１３の外周面と遮蔽板２２の孔３３との間の隙間から遮蔽板２２の背面側に回り込み，下側のローラ３９に付着するおそれがある。したがって，図２に示すように両遮蔽板２８，２９の間に環状シール部材３５を設け，通路５３と下アーム１３との間をシールする必要がある。
【００３３】
次に，この発明による浸漬式ワイヤ放電加工機の他の実施例について説明する。図３はこの発明の浸漬式ワイヤ放電加工機の他の実施例を示す要部拡大断面図，及び図４は図３の浸漬式ワイヤ放電加工機におけるシール部材保持用のブロックを示す斜視図である。図３に示した要部拡大断面図は，図４のＡ−Ａ線における断面図に相当するものである。
【００３４】
この実施例の浸漬式ワイヤ放電加工機は，遮蔽板６０として，図５に示した従来の浸漬式ワイヤ放電加工機における遮蔽板７７と同様の一枚の板で構成したものを採用している。従来の浸漬式ワイヤ放電加工機との違いは，シール部材３６を保持するためのブロック６１の構造が異なっている点である。シール部材３６は，加工槽１の長孔２４の周縁部にブロック６１を介して取り付けられる。この実施例のブロック６１は，図５に示した従来のものと対比すると，中央部に長孔６２が形成されている点，及び長孔６２に沿って長孔６２の上下に一対の突出部６３が形成され，突出部６３にシール部材３６がそれぞれ保持されている点で一致し，ブロック６１の上側の突出部６３の上面に，図４に示すように，傾斜面６４が形成されている点で相違している。傾斜面６４はブロック６１の中央部からＹ軸方向両端部に至るに従って低くなるように形成されている。ブロック６１は加工槽１の側壁２３に取り付けられ，ブロック６１に保持されたシール部材３６は遮蔽板６０の前面に当接して，加工槽１から加工液が外部に漏出するのを防止している。ブロック６１に形成された傾斜面６４は，中央部が高く，ブロック６１の両側部に向かって低くなるように形成されている。従って，シール部材３６と遮蔽板６０との間から漏洩した加工液は，ブロック６１に形成した傾斜面６４に沿ってスムースに滞留することなくガイドされて流下し，遮蔽板６０とブロックとの下方に設けられた樋５１（図１）へ流下することができる。
【００３５】
この浸漬式ワイヤ放電加工機においても，シール部材３６に加工液の水圧が絶えず加わっており，シール部材３６は加工槽１と共に遮蔽板６０に対して相対的に移動するため，シール部材３６の摩耗，スラッジによるシール部材３６の損傷，あるいはシール部材３６の劣化などに起因して，図３に矢印で示すように，スラッジを含んだ加工液がシール部材３６から漏出することは避けられない。ところが，ブロック６１の突出部６３の上面に傾斜面６４が形成されているので，シール部材３６から漏出した加工液は遮蔽板６０の上端面６５に至るまでに傾斜面６４に至り，Ｘ軸方向に傾斜面６４上を流下し，傾斜面６４の端部からドレン樋５１へ流れ落ちる。このため，スラッジを含んだ加工液が遮蔽板６０を乗り越えて遮蔽板６０の背面側にまで流れ込むことはないので，スラッジがローラ３９に堆積せず，その結果，ローラ３９が回転不良を起こすこともなく，摺動抵抗が増加することもないので，工作物Ｗの加工精度は良好な状態に維持される。
【００３６】
【発明の効果】
この発明による浸漬式ワイヤ放電加工機は，上記のように構成されているので，次のような効果を有する。この浸漬式ワイヤ放電加工機は，加工槽の側壁と遮蔽板とをシールするためのシール部材を通して加工槽から外部へ漏出した加工液は，二枚の遮蔽板の間に形成された通路を通って，下方の樋へ落下するので，遮蔽板を背面側から支持する摺接部材に加工液が付着してスラッジが摺接部材に堆積することはない。また，この浸漬式ワイヤ放電加工機は，第１遮蔽板の上端面を第２遮蔽板の上端面よりも低い位置に配置することにより，加工液が第２遮蔽板を乗り越えるおそれは一層なくなるから，両遮蔽板間の間隔を狭くすることができ，遮蔽板の厚さを薄くすることができる。
【００３７】
又は，この発明による浸漬式ワイヤ放電加工機は，上記のように構成されているので，極めてコンパクトに構成され，製造コストを低減できると共に，シール部材を保持するためのブロックの上端面に傾斜面を形成することにより，シール部材から漏出した加工液は傾斜面によってＸ軸方向へスムースにガイドされて流下し，傾斜面の両側端部から樋へ落下するので，加工液が遮蔽板を乗り越えて摺接部材の方へ流れ込むことはなく，それゆえ，摺接部材に加工液中のスラッジが堆積することもない。したがって，上記いずれの発明も，摺接部材の回転不良は起こらず，摺動抵抗が増加することもないので，高い加工精度を長期に渡って維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】請求項１に係る発明による浸漬式ワイヤ放電加工機の一実施例の全体構造を示す断面図である。
【図２】図１の浸漬式ワイヤ放電加工機における遮蔽板付近の構造を示す要部拡大断面図である
【図３】請求項３に係る発明による浸漬式ワイヤ放電加工機の一実施例を示す要部拡大断面図である。
【図４】図３の浸漬式ワイヤ放電加工機におけるシール部材保持用のブロックを示す斜視図である。
【図５】従来の浸漬式ワイヤ放電加工機を示す側面断面図である。
【符号の説明】
１ 加工槽
２ 加工液
９ 加工機本体
１０ ワイヤ電極
１２ 上ワイヤヘッド
１３ 下アーム（支持アーム）
１４ 下ワイヤヘッド
２２ 遮蔽板
２３ 加工槽の側壁
２４ 加工槽の長孔
２８ 第１遮蔽板
２９ 第２遮蔽板
３１ 第１遮蔽板の上端面
３２ 第２遮蔽板の上端面
３３ 遮蔽板の孔
３６ シール部材
３７ ブロック
３９ ローラ（摺接部材）
４３ 蛇腹
４４ 蛇腹の一端
４５ 蛇腹の他端
５１ ドレン樋（樋）
５３ 通路
５７ Ｙ方向移動テーブル（テーブル）
６０ 遮蔽板
６１ ブロック
６４ 傾斜面
６５ 遮蔽板の上端面
Ｗ 工作物
【発明の属する技術分野】
この発明は，加工槽に収容した加工液中にて工作物を放電加工する浸漬式ワイヤ放電加工機に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来，放電加工機，特に加工液に浸漬された工作物に対してワイヤ電極によって所定の加工形状にワイヤ放電加工を行う浸漬式ワイヤ放電加工機が知られている。浸漬式ワイヤ放電加工機において，工作物は，ワイヤ電極と工作物との間に極間電圧を印加することによって発生する放電エネルギーによって放電加工される。工作物は，工作物取付金具によって加工槽内の工作物支持台に固定され，ワイヤ電極に対して，加工槽と共に水平面上を移動可能である。なお，この種の浸漬式ワイヤ放電加工機の例として，例えば，特公平７−３９０５６号公報に開示されているものがある。
【０００３】
この種の浸漬式ワイヤ放電加工機においては，図５に示すように，一般に，下ワイヤヘッド６６は上ワイヤヘッド６７と対応して設けられており，加工機本体６８に設けられて加工液６９に浸漬される下アーム７０は，下ワイヤヘッド６６を一端で支持し，且つ加工槽７１の後部側壁７２に形成された長孔７３を貫通し，他端において加工槽７１の外部において加工機本体６８のフレームに固定されている。工作物Ｗに対して放電加工して消耗した廃ワイヤ電極７４は，下ワイヤヘッド６６に案内されて下アーム７０内を挿通し，加工槽７１から外部へ排出される。ワイヤ放電加工を行なうに際しては，工作物Ｗを取り付けた工作物支持台７５が加工槽７１と一体となって，下アーム７０に対してＸ−Ｙ軸平面内で相対移動するように構成されている。Ｙ軸は下アーム７０の長手方向の軸であり，Ｘ軸はＹ軸と直交し且つ水平面内に位置する軸の方向である。工作物Ｗと廃ワイヤ電極７４との間の相対移動は，数値制御（ＮＣ）指令によって行なわれる。
【０００４】
この浸漬式ワイヤ放電加工機は，加工液６９が収容され側壁７２に形成された長孔７３の長手方向即ちＹ軸方向に移動可能な加工槽７１と，加工槽７１を支持し長孔７３の長手方向に対し直角方向即ちＹ軸方向に移動可能なテーブル７６と，加工槽７１の長孔７３を覆うように配設されテーブル７６に固定された遮蔽板７７と，加工槽７１に取り付けられ加工液６９の水圧に対抗して遮蔽板７７を背面側から支持する摺接部材であるローラ７８と，遮蔽板７７に形成された孔７９を貫通し加工槽７１の側壁７２の長孔７３を挿通して加工液６９中に突出し廃ワイヤ電極７４を案内する下アーム７０と，下アーム７０に同軸に設けられ，一端８０が遮蔽板７７の孔７９の周囲に固定され，他端８１が下アーム７０に固定され，加工槽７１のＸ軸方向の移動に応じて伸縮する蛇腹８２と，加工槽７１の孔７９の周縁部に取り付けられ遮蔽板７７の前面に接触してシールするシール部材８３とを備えるものである。
【０００５】
加工槽７１はテーブル７６に対してＸ軸方向に移動する。遮蔽板７７はテーブル７６に固定されているので，Ｘ軸方向には移動しない。したがって，Ｘ軸方向に加工槽７１が移動する際には，ローラ７８は遮蔽板７７の背面側を転動しながら加工槽７１と共に移動する。また，テーブル７６は加工機本体６８に対してＸ軸方向に移動し得るので，テーブル７６に載置された加工槽７１及び遮蔽板７７はテーブル７６のＸ軸方向の移動に伴ってＸ軸方向に一緒に移動する。そして，テーブル７６がＸ軸方向に移動する際に，蛇腹８２は伸縮する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで，浸漬式ワイヤ放電加工機は，加工槽７１内に加工液が収容されており，加工槽７１の側壁７２を下アーム７０が貫通しているので，加工液６９が加工槽７１から漏出するのを防止する必要があり，そのために，上記のとおり，蛇腹８２とシール部材８３が設けられている。しかしながら，上記のような浸漬式ワイヤ放電加工機では，シール部材８３に加工液の変動圧が絶えず加わっており，シール部材８３は加工槽７１と共に遮蔽板７７に対してＸ軸方向に相対的に移動するため，シール部材８３の摩耗，スラッジによるシール部材８３の損傷，あるいはシール部材８３の劣化などに起因して，矢印で示すように，スラッジを含んだ加工液がシール部材８３から漏出し，遮蔽板７７の上端面を乗り越えて背面側に漏れ出し，スラッジがローラ７８に堆積し，その結果，ローラ７８が回転不良を起こして摺動抵抗が増加し，工作物の加工精度に悪影響を及ぼすという問題があった。
【０００７】
また，加工槽７１の側壁７２と遮蔽板７７との間から加工液の漏出を完全に防止するため，両者間に強力なシール部材を設けることも考えられるが，そうすると，次のような不都合も生じる。即ち，強力なシール部材のために加工槽７１の側壁７２と遮蔽板７７との間に作用する摩擦力により加工槽７１の速やかな移動と位置の正確な制御が困難になる。そこで，この種の浸漬式ワイヤ放電加工機においては，シール部材８３から漏出した加工液のローラ７８への付着を如何にして防止するかが課題となっている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
この発明の目的は，上記課題を解決することであり，加工槽の側壁と遮蔽板との間から漏出した加工液がローラに付着するのを防止して，加工液に含まれているスラッジがローラへ堆積しないようにし，もってローラの回転不良を防止し，工作物に対する加工精度を良好に維持する浸漬式ワイヤ放電加工機を提供することである。
【０００９】
請求項１に係る発明は，加工機本体に取り付けられた上ワイヤヘッドを通じて供給されるワイヤ電極が通される下ワイヤヘッド，前記上ワイヤヘッドと前記下ワイヤヘッドとの間で加工液に浸漬した状態で工作物を設置できる加工槽，前記加工槽に形成された長孔を覆うように配設され且つ前記長孔と対向する孔が形成された遮蔽板，前記加工槽に取り付けられ且つ前記加工液の水圧に抗して前記遮蔽板を背面側から支持する摺接部材，前記遮蔽板の孔及び前記加工槽の長孔に挿通され且つ前記加工液中に突出して前記下ワイヤヘッドを支持すると共に前記下ワイヤヘッドを通過した前記ワイヤ電極の廃ワイヤが内部に挿通される前記加工機本体に取り付けられた支持アーム，前記加工槽が前記支持アームの長手方向と直角方向に移動可能に載置され且つ前記長手方向に移動可能な前記遮蔽板が取り付けられたテーブル，前記支持アームが挿通され且つ一端が前記遮蔽板の孔の周縁部に他端が前記支持アーム又は前記加工機本体に固定された長手方向に伸縮可能な蛇腹，及び前記加工槽の長孔の周縁部に取り付けられ且つ前記遮蔽板に接触してシールするシール部材をを備えた浸漬式ワイヤ放電加工機において，前記遮蔽板は，前記シール部材に当接してシール部を構成する第１遮蔽板と，前記第１遮蔽板に隔置して連結され且つ前記摺接部材に当接して支持される第２遮蔽板とから構成され，前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板との間から流下する前記加工液を受けるため前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板との下方には樋が設けられていることを特徴とする浸漬式ワイヤ放電加工機に関する。
【００１０】
また，この浸漬式ワイヤ放電加工機は，前記第１遮蔽板を溢流した前記加工液が前記第２遮蔽板を溢流することなく，前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板との間を流下するように，前記第１遮蔽板の上端面は前記第２遮蔽板の上端面よりも低い位置に設定されている。
【００１１】
また，この浸漬式ワイヤ放電加工機では，前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板との間の前記支持アームの周りには環状シール部材が配置されている。
【００１２】
請求項４に係る発明は，加工機本体に取り付けられた上ワイヤヘッドを通じて供給されるワイヤ電極が通される下ワイヤヘッド，前記上ワイヤヘッドと前記下ワイヤヘッドとの間で加工液に浸漬した状態で工作物を設置できる加工槽，前記加工槽に形成された長孔を覆うように配設され且つ前記長孔と対向する孔が形成された遮蔽板，前記加工槽に取り付けられ且つ前記加工液の水圧に抗して前記遮蔽板を背面側から支持する摺接部材，前記遮蔽板の孔及び前記加工槽の長孔に挿通され且つ前記加工液中に突出して前記下ワイヤヘッドを支持すると共に前記下ワイヤヘッドを通過した前記ワイヤ電極の廃ワイヤが内部に挿通される前記加工機本体に取り付けられた支持アーム，前記加工槽が前記支持アームの長手方向と直角方向に移動可能に載置され且つ前記長手方向に移動可能な前記遮蔽板が取り付けられたテーブル，前記支持アームが挿通され且つ一端が前記遮蔽板の孔の周縁部に他端が前記支持アーム又は前記加工機本体に固定された長手方向に伸縮可能な蛇腹，及び前記加工槽の長孔の周縁部に取り付けられ且つ前記遮蔽板に接触してシールするシール部材をを備えた浸漬式ワイヤ放電加工機において，前記加工槽には前記シール部材を保持するブロックが設けられ，前記ブロックの上面には前記ブロックの両側部に向かって低くなる傾斜面が形成され，最も高い位置の前記傾斜面は前記遮蔽板の上端面よりも低くなるように設置され，前記シール部材と前記遮蔽板との間から漏洩した前記加工液は，前記ブロックに形成した前記傾斜面に沿って前記遮蔽板と前記ブロックとの下方に設けられた樋へ流下することを特徴とする浸漬式ワイヤ放電加工機に関する。
【００１３】
また，前記ブロックに形成された前記傾斜面は，中央部が高く，前記ブロックの両側部に向かって低く形成されている。
【００１４】
請求項１に係る発明による浸漬式ワイヤ放電加工機は，上記のように，第１遮蔽板と第２遮蔽板とが間隔をあけて連結されているので，第１遮蔽板と第２遮蔽板との間に漏洩した加工液が流下する通路が形成される。このため，シール部材から漏出した加工液は第１遮蔽板を乗り越え，第１遮蔽板と第２遮蔽板とで形成される通路を通って流下し，樋に落ちることになる。したがって，加工液が第２遮蔽板を乗り越えることはなく，その結果，第２遮蔽板の背面側に接触している摺接部材に加工液に混入した加工屑等が付着することはなく，摺接部材が腐食することがない。また，第１遮蔽板の上端面を第２遮蔽板の上端面よりも低い位置に配置することにより，加工液が第２遮蔽板を乗り越えるおそれは一層なくなり，加工液の摺接部材への付着をより確実に防止することができる。
【００１５】
また，請求項３に係る発明による浸漬式ワイヤ放電加工機は，ブロックに形成した傾斜面が遮蔽板の上端面よりも低い位置に配置されているので，シール部材から漏洩した加工液は，遮蔽板を乗り越える前に，傾斜面に沿ってブロックの側面へ案内されて流下し，次いで樋に向かって流れ落ちる。したがって，加工液が遮蔽板を乗り越えることはないので，遮蔽板の背面側に接触している摺接部材に加工屑が付着することはなく，摺接部材が腐食することがない。
【００１６】
それ故，この浸漬式ワイヤ放電加工機は，加工液に混入した加工屑等が堆積することがなく，摺接部材の回転不良が起こらず，摺接部材による摺動抵抗が増加することがないので，ワイヤ電極に対する加工槽の相対移動がスムースに行われ，工作物に対する加工精度を向上させ，高加工精度を長期に渡って維持することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下，添付図面を参照して，この発明による浸漬式ワイヤ放電加工機の実施例を説明する。図１は請求項１に係る発明による浸漬式ワイヤ放電加工機の一実施例の全体構造を示す側面断面図，及び図２は図１の浸漬式ワイヤ放電加工機における遮蔽板付近の構造を示す要部拡大断面図である。
【００１８】
浸漬式ワイヤ放電加工機の加工槽１内には，イオン交換樹脂を経ることで水の比電気抵抗をコントロールされた加工液２が収容されている。加工槽１は，ボルト及びナットのような固着具によってワイヤ放電加工機のテーブル２７に取り付けられている。加工槽１の一壁部は，工作物Ｗを後述する工作物支持台４に対して脱着する時の作業スペースを確保するため，開閉自在となっている。
【００１９】
加工槽１の底には，ベース３が敷設されており，加工槽１内に収容された加工液２中に工作物Ｗを浸漬した状態で支持するため，ベース３上に工作物支持台４がボルト５によって固定されている。工作物支持台４は，図１では１台のみ図示したが，同じ加工槽１の中に複数台設置することができる。工作物支持台４は，リード線６を介して加工槽１の外部から一方の電極に接続されている。工作物取付具７をボルト８によって工作物支持台４に締結することにより，工作物Ｗが工作物支持台４に固定される。
【００２０】
工作物Ｗに対して所定の加工形状にワイヤ放電加工を行うために工作物Ｗとの間で放電をするワイヤ電極１０は，ワイヤ放電加工機の加工機本体９に設けられている自動ワイヤ供給装置（図示せず）から供給される。ワイヤ電極１０は，加工機本体９に取り付けられた上アーム１１に支持された上ワイヤヘッド１２と，加工機本体９から加工槽１の側壁２３を貫通して横方向に延びた下アーム１３に支持された下ワイヤヘッド１４によって案内される。下アーム１３は，この発明における支持アームを構成している。上ワイヤヘッド１２には，従来と同様に，ワイヤ送出口，ダイスガイド，噴流ノズル，給電子１５，及び給電子押え等が組み込まれており，ワイヤ電極１０を工作物Ｗの放電加工部位に送り出す。給電子１６が組み込まれた下ワイヤヘッド１４は，上ワイヤヘッド１２と同様の構造を有しており，上ワイヤヘッド１２に対向した位置に設けられていて上ワイヤヘッド１２から繰り出されたワイヤ電極１０を受け入れる。工作物Ｗは，上ワイヤヘッド１２と下ワイヤヘッド１４との間に設置される。上ワイヤヘッド１２の給電子１５と下ワイヤヘッド１４の給電子１６とをリード線１７が結んでおり，リード線１７には，リード線６に接続された極とは反対の極が与えられている。
【００２１】
工作物Ｗに対して放電加工を行なったワイヤ電極１０は，下ワイヤヘッド１４に受け入れられた後，廃ワイヤ排出手段（図示せず）によって加工槽１から下アーム１３の内部を通して外部へ排出される。加工槽１の加工液２が不足する場合には，加工液供給管１８から補給される。加工液供給管１８には供給コック１９が設けられており，手動にて供給量を調節することができる。また，加工槽１内の加工液２を排出するために，加工液排出管２０が加工槽１の底部に接続されている。加工液排出管２０には排出コック２１が設けられており，排出コック２１は手動にて開閉可能である。
【００２２】
図１に示すように，加工機本体９と一体の基台５４に設けられたＹ軸移動用モータ５５の出力軸はねじ伝動作用をするＸ方向ねじ軸５６となっており，Ｙ方向ねじ軸５６はＹ方向移動テーブル５７とねじ係合している。したがって，Ｙ方向ねじ軸５６の回転によってＹ方向移動テーブル５７がＸ軸方向に移動する。Ｙ方向移動テーブル５７にはＸ軸移動用モータ（図示せず）が取り付けられており，Ｙ軸移動用モータによって回転されるＸ方向ねじ軸５８は，Ｘ方向移動テーブル５９とねじ係合している。したがって，Ｘ方向ねじ軸５８の回転によってＸ方向移動テーブル５９がＸ軸方向（Ｙ軸方向と直交する方向）に移動可能である。加工槽１は，Ｘ方向移動テーブル５９に取り付けられていて，Ｘ方向移動テーブル５９と共に移動する。上アーム１１及び支持アームを構成する下アーム１３は加工機本体９に対して位置不動であるので，このような移動テーブル機構によって，加工槽１は，下アーム１３の長手方向（Ｙ軸方向）と，当該長手方向と直交する方向（Ｘ軸方向）とで定められる水平面内においてワイヤ電極１０に対する位置制御が可能である。
【００２３】
次に，加工槽１の側壁２３と下アーム１３との関連構造について説明する。加工槽１の側壁２３には，Ｘ軸方向に平行に延びる長孔２４が形成されている。長孔２４の上下の孔縁２５，２６は平行に配置されているが，左右の孔縁は半円弧状に形成されている。加工槽１の側壁２３の外面には，図２に示すように，長孔２４を覆うように遮蔽板２２が設けられている。遮蔽板２２は第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９とからなる二枚の板で構成され，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９とは平行に隔置状態に連結部材３０によって相互に連結されているので，両遮蔽板２８，２９の間には通路５３が形成される。第１遮蔽板２８は第２遮蔽板２９の高さよりも低く設定され，第１遮蔽板２８の上端面３１は第２遮蔽板２９の上端面３２よりも低くなるように設置されている。
【００２４】
遮蔽板２８，２９の中心部には下アーム１３を挿通するための孔３３が形成されており，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９との間には，孔３３の回りに，リップ３４を有する環状シール部材３５が設けられている。環状シール部材３５のリップ３４は下アーム１３の外周面に当接して加工槽１内からの加工液２の漏出を防止するものである。加工槽１の側壁２３の外面には，シール部材３６を保持するため，加工槽１の長孔２４と同様の長孔２４を備えたブロック３７が取り付けられており，シール部材３６は第１遮蔽板２８の前面に接触して加工槽１の側壁２３と第１遮蔽板２８との間をシールし，加工液２が加工槽１から漏出するのを防止している。
【００２５】
また，加工槽１の側壁２３には，長孔２４の上下にそれぞれ複数の押さえ板３８が固定されており，押さえ板３８に支持された摺接部材であるローラ３９が第２遮蔽板２９を背面側から支持している。これらのローラ３９は，加工液２の水圧に抗して遮蔽板２２を支持するために設けたものである。また，第２遮蔽板２９の背面側にはピン４０が植設され，Ｙ方向移動テーブル５７と一体をなす支持金ストッパ４１の上部にはリング４２が設けられ，ピン４０をリング４２に嵌合しているので，加工槽１がＸ軸方向へ移動するときに，遮蔽板２２の下アーム１３に対するＸ軸方向への相対移動を規制することができる。
【００２６】
環状シール部材３５から漏出した加工液，即ち遮蔽板２２の孔３３と下アーム１３との間から漏れ出した加工液を回収し，且つ遮蔽板２２と下アーム１３が相対移動し得るようにするために，伸縮自在の蛇腹４３が設けられている。蛇腹４３は，内部に下アーム１３を挿通し，一端４４が第２遮蔽板２９の背面側に，他端４５が加工機本体９にそれぞれ水密状態に取り付けられている。下アーム１３は加工機本体９に固定されているので，他端４５は，下アーム１３に対して（或いは更に他の固定部材に対して）水密状態に取り付けてもよい。蛇腹４３の加工槽１側の一端４４を第２遮蔽板２９に対して水密状態に取り付けることにより，下アーム１３と遮蔽板２２との間から漏れ出た加工液２は蛇腹４３によって確実に受け取られる。
【００２７】
蛇腹４３は，連通管４６を通じて大気に開放されている。即ち，蛇腹４３の上部において連通管４６の一端４７が蛇腹４３の内部に連通し且つ連通管４６の他端４８が大気に開口している。加工槽１が下アーム１３に対して，そのＸ軸方向に変位するときに，蛇腹４３が伸縮する。蛇腹４３内の容積変化は，連通管４６を通じて空気及び加工液の出入りによって吸収される。即ち，蛇腹４３が縮む方向に加工槽１が変位をするときには，連通管４６又は蛇腹４３内の空気は，連通管４６を通じて他端４８から大気へ放出され，縮み量によっては加工液が連通管４６を通じて加工槽１内へ排出される。蛇腹４３が伸びる方向に加工槽１が変位をするときには，他端４８から連通管４６を通じて外気が蛇腹４３内に取り入れられる。また，図示を省略したが，蛇腹４３の下部に設けたドレンコックを開いて蛇腹４３内の加工液２をドレン管を通じて排出するときに，負圧になる蛇腹４３内には連通管４６を通じて外気が流入するので，蛇腹４３内の加工液２はドレン管を通じてスムーズに排出される。
【００２８】
連通管４６は，加工槽１の側壁２３の上端４９を越えて加工槽１の内側に向かって屈曲されている。連通管４６の構造をこのようにすると，加工槽１が蛇腹４３が縮む方向に急激に大きな変位をして，蛇腹４３内の加工液が連通管４６を通じて排出されようとするときであっても，加工液は連通管４６から直接加工槽１に戻される。即ち，この場合，連通管４６は，蛇腹４３内へ漏出した加工液を加工槽１に循環回収するための通路として機能している。
【００２９】
連通管４６の一端４７は弾性変形可能な蛇腹４３に取り付けられるが，蛇腹４３が連通管４６の一端４７と接続する接続部には，連通管４６の荷重を担わせることは好ましくない。この実施例では，連通管４６は，加工槽１の側壁２３の上端４９に対して，支えローラ５０によって支持されている。このように，連通管４６を加工槽１の側壁２３の上端４９に対して支持することにより，連通管４６の荷重は蛇腹４３に作用することがない。また，加工槽１は下アーム１３に対してＸ軸方向に変位可能であるので，連通管４６と加工槽１とは相対的に変位することになるが，連通管４６は，加工槽１の上端４９の端面上を側壁２３の長手方向（Ｘ軸方向）に転がり部材である支えローラ５０を介して支持されているので，加工槽１に対して滑らかに変位することができる。
【００３０】
蛇腹４３に設けたドレン管の下方には，側壁２３に沿って加工槽１のＹ軸方向長さよりも長く形成されたドレン樋５１が設けられている。図１に示すようにＹ方向移動テーブル５７には連結具５２を介してドレン樋５１が連結されているので，ドレン樋５１は，Ｙ方向移動テーブル５７と共にＹ軸方向にのみ移動可能である。また，ドレン樋５１は，加工槽１の側壁２３のシール部材３６から直接滴下する加工液や，シール部材３６から漏出して第１遮蔽板２８を乗り越えて遮蔽板２２の通路５３を流下してくる加工液を回収することもできる。即ち，加工槽１がＸ軸方向に移動をしても，蛇腹４３に設けたドレン管から排出される加工液を受け取り，且つ加工槽１の側壁２３に設けた遮蔽板２２の通路５３を通って滴下する加工液を受け取るため，ドレン樋５１のＹ軸方向長さは，加工槽１のＹ軸方向の全移動範囲にわたって加工槽１をカバーするＸ軸方向長さを有している。ドレン管を通じる等して排出された加工液は，ドレン樋５１に流れ込み，ドレン樋５１の排出口（図示せず）から排出され，更に図示しない加工液濾過装置等を経て再利用すべく加工槽１へと循環される。ドレン樋５１については，Ｙ方向移動テーブル５７に取り付けた例を示したが，ドレン樋５１を加工槽１に直接取り付けて，ドレン管を通じる等して排出された加工液をドレン樋５１から更に可撓管（図示せず）等の手段で回収してもよい。この場合，ドレン樋５１の長さは，加工槽１の長さをカバーする長さがあればよい。
【００３１】
この浸漬式ワイヤ放電加工機は，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９とが間隔を置いて連結されているので，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９との間に通路５３が形成される。このため，シール部材３６から漏出した加工液は第１遮蔽板２８を乗り越え，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９とで形成される通路５３を通ってドレン樋５１に落ちることになる。特に，第１遮蔽板２８の上端面３１が第２遮蔽板２９の上端面３２よりも低くなるような構成を採用しているので，加工液が第２遮蔽板２９を乗り越えるおそれは一層なくなる。したがって，この浸漬式ワイヤ放電加工機は，加工液が第２遮蔽板２９を乗り越えてローラ３９に付着するようなことはないから，加工液に含まれる加工屑等のスラッジがローラ３９に堆積することはなく，ローラ３９の回転不良は発生せず，高い加工精度を維持することができる。
【００３２】
上記実施例では，蛇腹４３は，一端４４を第２遮蔽板２９の背面側に取り付け，他端４５を加工機本体９に取り付けるように構成したが，一端を第１遮蔽板２８の前面に，他端を下アーム１３にそれぞれ水密状態に取り付けるようにしてもよい。その場合には，蛇腹４３の内部は外気に開放されているので，蛇腹４３に設けた連通管４６や支えローラ５０などが不要となることから，部品点数を削減することができるという利点がある。また，その場合，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９との間に設けた環状シール部材３５のリップ３４は必要なくなるので省略することができる。しかし，環状シール部材３５だけは必要である。即ち，もし環状シール部材３５まで省略した場合には，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９の間の通路５３を通って流下してきた加工液が下アーム１３に当たって飛び散ったり下アーム１３の外周面を伝わったりして，加工液が下アーム１３の外周面と遮蔽板２２の孔３３との間の隙間から遮蔽板２２の背面側に回り込み，下側のローラ３９に付着するおそれがある。したがって，図２に示すように両遮蔽板２８，２９の間に環状シール部材３５を設け，通路５３と下アーム１３との間をシールする必要がある。
【００３３】
次に，この発明による浸漬式ワイヤ放電加工機の他の実施例について説明する。図３はこの発明の浸漬式ワイヤ放電加工機の他の実施例を示す要部拡大断面図，及び図４は図３の浸漬式ワイヤ放電加工機におけるシール部材保持用のブロックを示す斜視図である。図３に示した要部拡大断面図は，図４のＡ−Ａ線における断面図に相当するものである。
【００３４】
この実施例の浸漬式ワイヤ放電加工機は，遮蔽板６０として，図５に示した従来の浸漬式ワイヤ放電加工機における遮蔽板７７と同様の一枚の板で構成したものを採用している。従来の浸漬式ワイヤ放電加工機との違いは，シール部材３６を保持するためのブロック６１の構造が異なっている点である。シール部材３６は，加工槽１の長孔２４の周縁部にブロック６１を介して取り付けられる。この実施例のブロック６１は，図５に示した従来のものと対比すると，中央部に長孔６２が形成されている点，及び長孔６２に沿って長孔６２の上下に一対の突出部６３が形成され，突出部６３にシール部材３６がそれぞれ保持されている点で一致し，ブロック６１の上側の突出部６３の上面に，図４に示すように，傾斜面６４が形成されている点で相違している。傾斜面６４はブロック６１の中央部からＹ軸方向両端部に至るに従って低くなるように形成されている。ブロック６１は加工槽１の側壁２３に取り付けられ，ブロック６１に保持されたシール部材３６は遮蔽板６０の前面に当接して，加工槽１から加工液が外部に漏出するのを防止している。ブロック６１に形成された傾斜面６４は，中央部が高く，ブロック６１の両側部に向かって低くなるように形成されている。従って，シール部材３６と遮蔽板６０との間から漏洩した加工液は，ブロック６１に形成した傾斜面６４に沿ってスムースに滞留することなくガイドされて流下し，遮蔽板６０とブロックとの下方に設けられた樋５１（図１）へ流下することができる。
【００３５】
この浸漬式ワイヤ放電加工機においても，シール部材３６に加工液の水圧が絶えず加わっており，シール部材３６は加工槽１と共に遮蔽板６０に対して相対的に移動するため，シール部材３６の摩耗，スラッジによるシール部材３６の損傷，あるいはシール部材３６の劣化などに起因して，図３に矢印で示すように，スラッジを含んだ加工液がシール部材３６から漏出することは避けられない。ところが，ブロック６１の突出部６３の上面に傾斜面６４が形成されているので，シール部材３６から漏出した加工液は遮蔽板６０の上端面６５に至るまでに傾斜面６４に至り，Ｘ軸方向に傾斜面６４上を流下し，傾斜面６４の端部からドレン樋５１へ流れ落ちる。このため，スラッジを含んだ加工液が遮蔽板６０を乗り越えて遮蔽板６０の背面側にまで流れ込むことはないので，スラッジがローラ３９に堆積せず，その結果，ローラ３９が回転不良を起こすこともなく，摺動抵抗が増加することもないので，工作物Ｗの加工精度は良好な状態に維持される。
【００３６】
【発明の効果】
この発明による浸漬式ワイヤ放電加工機は，上記のように構成されているので，次のような効果を有する。この浸漬式ワイヤ放電加工機は，加工槽の側壁と遮蔽板とをシールするためのシール部材を通して加工槽から外部へ漏出した加工液は，二枚の遮蔽板の間に形成された通路を通って，下方の樋へ落下するので，遮蔽板を背面側から支持する摺接部材に加工液が付着してスラッジが摺接部材に堆積することはない。また，この浸漬式ワイヤ放電加工機は，第１遮蔽板の上端面を第２遮蔽板の上端面よりも低い位置に配置することにより，加工液が第２遮蔽板を乗り越えるおそれは一層なくなるから，両遮蔽板間の間隔を狭くすることができ，遮蔽板の厚さを薄くすることができる。
【００３７】
又は，この発明による浸漬式ワイヤ放電加工機は，上記のように構成されているので，極めてコンパクトに構成され，製造コストを低減できると共に，シール部材を保持するためのブロックの上端面に傾斜面を形成することにより，シール部材から漏出した加工液は傾斜面によってＸ軸方向へスムースにガイドされて流下し，傾斜面の両側端部から樋へ落下するので，加工液が遮蔽板を乗り越えて摺接部材の方へ流れ込むことはなく，それゆえ，摺接部材に加工液中のスラッジが堆積することもない。したがって，上記いずれの発明も，摺接部材の回転不良は起こらず，摺動抵抗が増加することもないので，高い加工精度を長期に渡って維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】請求項１に係る発明による浸漬式ワイヤ放電加工機の一実施例の全体構造を示す断面図である。
【図２】図１の浸漬式ワイヤ放電加工機における遮蔽板付近の構造を示す要部拡大断面図である
【図３】請求項３に係る発明による浸漬式ワイヤ放電加工機の一実施例を示す要部拡大断面図である。
【図４】図３の浸漬式ワイヤ放電加工機におけるシール部材保持用のブロックを示す斜視図である。
【図５】従来の浸漬式ワイヤ放電加工機を示す側面断面図である。
【符号の説明】
１ 加工槽
２ 加工液
９ 加工機本体
１０ ワイヤ電極
１２ 上ワイヤヘッド
１３ 下アーム（支持アーム）
１４ 下ワイヤヘッド
２２ 遮蔽板
２３ 加工槽の側壁
２４ 加工槽の長孔
２８ 第１遮蔽板
２９ 第２遮蔽板
３１ 第１遮蔽板の上端面
３２ 第２遮蔽板の上端面
３３ 遮蔽板の孔
３６ シール部材
３７ ブロック
３９ ローラ（摺接部材）
４３ 蛇腹
４４ 蛇腹の一端
４５ 蛇腹の他端
５１ ドレン樋（樋）
５３ 通路
５７ Ｙ方向移動テーブル（テーブル）
６０ 遮蔽板
６１ ブロック
６４ 傾斜面
６５ 遮蔽板の上端面
Ｗ 工作物
Claims (5)
- 加工機本体に取り付けられた上ワイヤヘッドを通じて供給されるワイヤ電極が通される下ワイヤヘッド，前記上ワイヤヘッドと前記下ワイヤヘッドとの間で加工液に浸漬した状態で工作物を設置できる加工槽，前記加工槽に形成された長孔を覆うように配設され且つ前記長孔と対向する孔が形成された遮蔽板，前記加工槽に取り付けられ且つ前記加工液の水圧に抗して前記遮蔽板を背面側から支持する摺接部材，前記遮蔽板の孔及び前記加工槽の長孔に挿通され且つ前記加工液中に突出して前記下ワイヤヘッドを支持すると共に前記下ワイヤヘッドを通過した前記ワイヤ電極の廃ワイヤが内部に挿通される前記加工機本体に取り付けられた支持アーム，前記加工槽が前記支持アームの長手方向と直角方向に移動可能に載置され且つ前記長手方向に移動可能な前記遮蔽板が取り付けられたテーブル，前記支持アームが挿通され且つ一端が前記遮蔽板の孔の周縁部に他端が前記支持アーム又は前記加工機本体に固定された長手方向に伸縮可能な蛇腹，及び前記加工槽の長孔の周縁部に取り付けられ且つ前記遮蔽板に接触してシールするシール部材をを備えた浸漬式ワイヤ放電加工機において，
前記遮蔽板は，前記シール部材に当接してシール部を構成する第１遮蔽板と，前記第１遮蔽板に隔置して連結され且つ前記摺接部材に当接して支持される第２遮蔽板とから構成され，前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板との間から流下する前記加工液を受けるため前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板との下方には樋が設けられていることを特徴とする浸漬式ワイヤ放電加工機。 - 前記第１遮蔽板を溢流した前記加工液が前記第２遮蔽板を溢流することなく，前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板との間を流下するように，前記第１遮蔽板の上端面は前記第２遮蔽板の上端面よりも低い位置に設定されていることを特徴とする請求項１に記載の浸漬式ワイヤ放電加工機。
- 前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板との間の前記支持アームの周りには環状シール部材が配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の浸漬式ワイヤ放電加工機。
- 加工機本体に取り付けられた上ワイヤヘッドを通じて供給されるワイヤ電極が通される下ワイヤヘッド，前記上ワイヤヘッドと前記下ワイヤヘッドとの間で加工液に浸漬した状態で工作物を設置できる加工槽，前記加工槽に形成された長孔を覆うように配設され且つ前記長孔と対向する孔が形成された遮蔽板，前記加工槽に取り付けられ且つ前記加工液の水圧に抗して前記遮蔽板を背面側から支持する摺接部材，前記遮蔽板の孔及び前記加工槽の長孔に挿通され且つ前記加工液中に突出して前記下ワイヤヘッドを支持すると共に前記下ワイヤヘッドを通過した前記ワイヤ電極の廃ワイヤが内部に挿通される前記加工機本体に取り付けられた支持アーム，前記加工槽が前記支持アームの長手方向と直角方向に移動可能に載置され且つ前記長手方向に移動可能な前記遮蔽板が取り付けられたテーブル，前記支持アームが挿通され且つ一端が前記遮蔽板の孔の周縁部に他端が前記支持アーム又は前記加工機本体に固定された長手方向に伸縮可能な蛇腹，及び前記加工槽の長孔の周縁部に取り付けられ且つ前記遮蔽板に接触してシールするシール部材をを備えた浸漬式ワイヤ放電加工機において，
前記加工槽には前記シール部材を保持するブロックが設けられ，前記ブロックの上面には前記ブロックの両側部に向かって低くなる傾斜面が形成され，最も高い位置の前記傾斜面は前記遮蔽板の上端面よりも低くなるように設置され，前記シール部材と前記遮蔽板との間から漏洩した前記加工液は，前記ブロックに形成した前記傾斜面に沿って前記遮蔽板と前記ブロックとの下方に設けられた樋へ流下することを特徴とする浸漬式ワイヤ放電加工機。 - 前記ブロックに形成された前記傾斜面は，中央部が高く，前記ブロックの両側部に向かって低く形成されていることを特徴とする請求項４に記載の浸漬式ワイヤ放電加工機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31159097A JP3609244B2 (ja) | 1997-10-29 | 1997-10-29 | 浸漬式ワイヤ放電加工機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31159097A JP3609244B2 (ja) | 1997-10-29 | 1997-10-29 | 浸漬式ワイヤ放電加工機 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11129120A JPH11129120A (ja) | 1999-05-18 |
| JP3609244B2 true JP3609244B2 (ja) | 2005-01-12 |
Family
ID=18019081
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31159097A Expired - Fee Related JP3609244B2 (ja) | 1997-10-29 | 1997-10-29 | 浸漬式ワイヤ放電加工機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3609244B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4109269B2 (ja) | 2005-04-25 | 2008-07-02 | ファナック株式会社 | ワイヤカット放電加工機におけるシール構造 |
| JP5291771B2 (ja) * | 2011-09-06 | 2013-09-18 | ファナック株式会社 | ワイヤカット放電加工機のプレシール装置 |
| CN217775806U (zh) * | 2022-08-05 | 2022-11-11 | 浙江亚微精密机床有限公司 | 电火花机床加工槽挡水板结构 |
-
1997
- 1997-10-29 JP JP31159097A patent/JP3609244B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11129120A (ja) | 1999-05-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3609244B2 (ja) | 浸漬式ワイヤ放電加工機 | |
| DE112012007087B4 (de) | Elektrische Drahtentladungsbearbeitungsvorrichtung | |
| US4808787A (en) | Wire-cut electrical discharge machining equipment | |
| EP0610974B1 (en) | A wire-cut electroerosion apparatus | |
| CN211771612U (zh) | 脉冲电镀装置 | |
| JP3669826B2 (ja) | 浸漬式ワイヤ放電加工機 | |
| JP3669813B2 (ja) | 浸漬式ワイヤ放電加工機 | |
| US5243165A (en) | Wire-cut electroerosion apparatus | |
| JP5264410B2 (ja) | ワイヤ放電加工装置及びその液面制御方法 | |
| JP2002046025A (ja) | 浸漬式ワイヤ放電加工機の加工槽装置 | |
| US8710391B2 (en) | Pre-sealing unit for wire-cut electric discharge machine | |
| JPH0724169Y2 (ja) | ワイヤ放電加工装置 | |
| EP4199138A1 (en) | Electrode coating slurry circulation system capable of circulating slurry when line stop occurs, and electrode coating slurry circulation method using same | |
| US6914186B2 (en) | Working-fluid storing device of electric discharge machining apparatus | |
| EP0641874B1 (en) | Surface treatment device | |
| CN110153513B (zh) | 放电加工机 | |
| CN216633768U (zh) | 清洁机构和倒角设备 | |
| JP7513830B2 (ja) | 水切り機構 | |
| JPH0929548A (ja) | 放電加工機の加工液処理装置 | |
| JPH0512087B2 (ja) | ||
| JPH04129614A (ja) | ワイヤ放電加工装置 | |
| KR200162472Y1 (ko) | 로봇 건의 동판 세팅장치 | |
| CN118407974A (zh) | 一种组合型标准直线导轨及使用方法 | |
| JPH1088387A (ja) | めっき装置 | |
| JP2970888B2 (ja) | 放電加工機の加工液供給装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040927 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20041005 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041013 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081022 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081022 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091022 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101022 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101022 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111022 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111022 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121022 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131022 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |