JPH11129120A - 浸漬式ワイヤ放電加工機 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は，加工槽の側壁と遮蔽板との間か
ら漏出した加工液がローラに付着するのを防止する浸漬
式ワイヤ放電加工機を提供する。 【解決手段】 遮蔽板２２はシール部材３６に当接する
第１遮蔽板２８とローラ３９に当接する第２遮蔽板２９
とから構成され，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９とを
間隔をあけて連結したものである。シール部材３６から
漏出した加工液２は第１遮蔽板２８の上端面３１を乗り
越え，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９とで形成される
通路５３を通って，下方に設けられたドレン樋５１に流
下することになるので，遮蔽板２２を背面側から支持す
るローラ３９に加工液２に混入した加工屑等が付着する
ことはなく，耐久性を維持でき，ワイヤ電極１０に対す
る加工槽１の相対移動をスムースに行うことができ，加
工精度を向上できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は，加工槽に収容し
た加工液中にて工作物を放電加工する浸漬式ワイヤ放電
加工機に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来，放電加工機，特に加工液に浸漬さ
れた工作物に対してワイヤ電極によって所定の加工形状
にワイヤ放電加工を行う浸漬式ワイヤ放電加工機が知ら
れている。浸漬式ワイヤ放電加工機において，工作物
は，ワイヤ電極と工作物との間に極間電圧を印加するこ
とによって発生する放電エネルギーによって放電加工さ
れる。工作物は，工作物取付金具によって加工槽内の工
作物支持台に固定され，ワイヤ電極に対して，加工槽と
共に水平面上を移動可能である。なお，この種の浸漬式
ワイヤ放電加工機の例として，例えば，特公平７−３９
０５６号公報に開示されているものがある。

【０００３】この種の浸漬式ワイヤ放電加工機において
は，図５に示すように，一般に，下ワイヤヘッド６６は
上ワイヤヘッド６７と対応して設けられており，加工機
本体６８に設けられて加工液６９に浸漬される下アーム
７０は，下ワイヤヘッド６６を一端で支持し，且つ加工
槽７１の後部側壁７２に形成された長孔７３を貫通し，
他端において加工槽７１の外部において加工機本体６８
のフレームに固定されている。工作物Ｗに対して放電加
工して消耗した廃ワイヤ電極７４は，下ワイヤヘッド６
６に案内されて下アーム７０内を挿通し，加工槽７１か
ら外部へ排出される。ワイヤ放電加工を行なうに際して
は，工作物Ｗを取り付けた工作物支持台７５が加工槽７
１と一体となって，下アーム７０に対してＸ−Ｙ軸平面
内で相対移動するように構成されている。Ｙ軸は下アー
ム７０の長手方向の軸であり，Ｘ軸はＹ軸と直交し且つ
水平面内に位置する軸の方向である。工作物Ｗと廃ワイ
ヤ電極７４との間の相対移動は，数値制御（ＮＣ）指令
によって行なわれる。

【０００４】この浸漬式ワイヤ放電加工機は，加工液６
９が収容され側壁７２に形成された長孔７３の長手方向
即ちＹ軸方向に移動可能な加工槽７１と，加工槽７１を
支持し長孔７３の長手方向に対し直角方向即ちＹ軸方向
に移動可能なテーブル７６と，加工槽７１の長孔７３を
覆うように配設されテーブル７６に固定された遮蔽板７
７と，加工槽７１に取り付けられ加工液６９の水圧に対
抗して遮蔽板７７を背面側から支持する摺接部材である
ローラ７８と，遮蔽板７７に形成された孔７９を貫通し
加工槽７１の側壁７２の長孔７３を挿通して加工液６９
中に突出し廃ワイヤ電極７４を案内する下アーム７０
と，下アーム７０に同軸に設けられ，一端８０が遮蔽板
７７の孔７９の周囲に固定され，他端８１が下アーム７
０に固定され，加工槽７１のＸ軸方向の移動に応じて伸
縮する蛇腹８２と，加工槽７１の孔７９の周縁部に取り
付けられ遮蔽板７７の前面に接触してシールするシール
部材８３とを備えるものである。

【０００５】加工槽７１はテーブル７６に対してＸ軸方
向に移動する。遮蔽板７７はテーブル７６に固定されて
いるので，Ｘ軸方向には移動しない。したがって，Ｘ軸
方向に加工槽７１が移動する際には，ローラ７８は遮蔽
板７７の背面側を転動しながら加工槽７１と共に移動す
る。また，テーブル７６は加工機本体６８に対してＸ軸
方向に移動し得るので，テーブル７６に載置された加工
槽７１及び遮蔽板７７はテーブル７６のＸ軸方向の移動
に伴ってＸ軸方向に一緒に移動する。そして，テーブル
７６がＸ軸方向に移動する際に，蛇腹８２は伸縮する。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで，浸漬式ワイ
ヤ放電加工機は，加工槽７１内に加工液が収容されてお
り，加工槽７１の側壁７２を下アーム７０が貫通してい
るので，加工液６９が加工槽７１から漏出するのを防止
する必要があり，そのために，上記のとおり，蛇腹８２
とシール部材８３が設けられている。しかしながら，上
記のような浸漬式ワイヤ放電加工機では，シール部材８
３に加工液の変動圧が絶えず加わっており，シール部材
８３は加工槽７１と共に遮蔽板７７に対してＸ軸方向に
相対的に移動するため，シール部材８３の摩耗，スラッ
ジによるシール部材８３の損傷，あるいはシール部材８
３の劣化などに起因して，矢印で示すように，スラッジ
を含んだ加工液がシール部材８３から漏出し，遮蔽板７
７の上端面を乗り越えて背面側に漏れ出し，スラッジが
ローラ７８に堆積し，その結果，ローラ７８が回転不良
を起こして摺動抵抗が増加し，工作物の加工精度に悪影
響を及ぼすという問題があった。

【０００７】また，加工槽７１の側壁７２と遮蔽板７７
との間から加工液の漏出を完全に防止するため，両者間
に強力なシール部材を設けることも考えられるが，そう
すると，次のような不都合も生じる。即ち，強力なシー
ル部材のために加工槽７１の側壁７２と遮蔽板７７との
間に作用する摩擦力により加工槽７１の速やかな移動と
位置の正確な制御が困難になる。そこで，この種の浸漬
式ワイヤ放電加工機においては，シール部材８３から漏
出した加工液のローラ７８への付着を如何にして防止す
るかが課題となっている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この発明の目的は，上記
課題を解決することであり，加工槽の側壁と遮蔽板との
間から漏出した加工液がローラに付着するのを防止し
て，加工液に含まれているスラッジがローラへ堆積しな
いようにし，もってローラの回転不良を防止し，工作物
に対する加工精度を良好に維持する浸漬式ワイヤ放電加
工機を提供することである。

【０００９】請求項１に係る発明は，加工機本体に取り
付けられた上ワイヤヘッドを通じて供給されるワイヤ電
極が通される下ワイヤヘッド，前記上ワイヤヘッドと前
記下ワイヤヘッドとの間で加工液に浸漬した状態で工作
物を設置できる加工槽，前記加工槽に形成された長孔を
覆うように配設され且つ前記長孔と対向する孔が形成さ
れた遮蔽板，前記加工槽に取り付けられ且つ前記加工液
の水圧に抗して前記遮蔽板を背面側から支持する摺接部
材，前記遮蔽板の孔及び前記加工槽の長孔に挿通され且
つ前記加工液中に突出して前記下ワイヤヘッドを支持す
ると共に前記下ワイヤヘッドを通過した前記ワイヤ電極
の廃ワイヤが内部に挿通される前記加工機本体に取り付
けられた支持アーム，前記加工槽が前記支持アームの長
手方向と直角方向に移動可能に載置され且つ前記長手方
向に移動可能な前記遮蔽板が取り付けられたテーブル，
前記支持アームが挿通され且つ一端が前記遮蔽板の孔の
周縁部に他端が前記支持アーム又は前記加工機本体に固
定された長手方向に伸縮可能な蛇腹，及び前記加工槽の
長孔の周縁部に取り付けられ且つ前記遮蔽板に接触して
シールするシール部材をを備えた浸漬式ワイヤ放電加工
機において，前記遮蔽板は，前記シール部材に当接して
シール部を構成する第１遮蔽板と，前記第１遮蔽板に隔
置して連結され且つ前記摺接部材に当接して支持される
第２遮蔽板とから構成され，前記第１遮蔽板と前記第２
遮蔽板との間から流下する前記加工液を受けるため前記
第１遮蔽板と前記第２遮蔽板との下方には樋が設けられ
ていることを特徴とする浸漬式ワイヤ放電加工機に関す
る。

【００１０】また，この浸漬式ワイヤ放電加工機は，前
記第１遮蔽板を溢流した前記加工液が前記第２遮蔽板を
溢流することなく，前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板と
の間を流下するように，前記第１遮蔽板の上端面は前記
第２遮蔽板の上端面よりも低い位置に設定されている。

【００１１】また，この浸漬式ワイヤ放電加工機では，
前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板との間の前記支持アー
ムの周りには環状シール部材が配置されている。

【００１２】請求項４に係る発明は，加工機本体に取り
付けられた上ワイヤヘッドを通じて供給されるワイヤ電
極が通される下ワイヤヘッド，前記上ワイヤヘッドと前
記下ワイヤヘッドとの間で加工液に浸漬した状態で工作
物を設置できる加工槽，前記加工槽に形成された長孔を
覆うように配設され且つ前記長孔と対向する孔が形成さ
れた遮蔽板，前記加工槽に取り付けられ且つ前記加工液
の水圧に抗して前記遮蔽板を背面側から支持する摺接部
材，前記遮蔽板の孔及び前記加工槽の長孔に挿通され且
つ前記加工液中に突出して前記下ワイヤヘッドを支持す
ると共に前記下ワイヤヘッドを通過した前記ワイヤ電極
の廃ワイヤが内部に挿通される前記加工機本体に取り付
けられた支持アーム，前記加工槽が前記支持アームの長
手方向と直角方向に移動可能に載置され且つ前記長手方
向に移動可能な前記遮蔽板が取り付けられたテーブル，
前記支持アームが挿通され且つ一端が前記遮蔽板の孔の
周縁部に他端が前記支持アーム又は前記加工機本体に固
定された長手方向に伸縮可能な蛇腹，及び前記加工槽の
長孔の周縁部に取り付けられ且つ前記遮蔽板に接触して
シールするシール部材をを備えた浸漬式ワイヤ放電加工
機において，前記加工槽には前記シール部材を保持する
ブロックが設けられ，前記ブロックの上面には前記ブロ
ックの両側部に向かって低くなる傾斜面が形成され，最
も高い位置の前記傾斜面は前記遮蔽板の上端面よりも低
くなるように設置され，前記シール部材と前記遮蔽板と
の間から漏洩した前記加工液は，前記ブロックに形成し
た前記傾斜面に沿って前記遮蔽板と前記ブロックとの下
方に設けられた樋へ流下することを特徴とする浸漬式ワ
イヤ放電加工機に関する。

【００１３】また，前記ブロックに形成された前記傾斜
面は，中央部が高く，前記ブロックの両側部に向かって
低く形成されている。

【００１４】請求項１に係る発明による浸漬式ワイヤ放
電加工機は，上記のように，第１遮蔽板と第２遮蔽板と
が間隔をあけて連結されているので，第１遮蔽板と第２
遮蔽板との間に漏洩した加工液が流下する通路が形成さ
れる。このため，シール部材から漏出した加工液は第１
遮蔽板を乗り越え，第１遮蔽板と第２遮蔽板とで形成さ
れる通路を通って流下し，樋に落ちることになる。した
がって，加工液が第２遮蔽板を乗り越えることはなく，
その結果，第２遮蔽板の背面側に接触している摺接部材
に加工液に混入した加工屑等が付着することはなく，摺
接部材が腐食することがない。また，第１遮蔽板の上端
面を第２遮蔽板の上端面よりも低い位置に配置すること
により，加工液が第２遮蔽板を乗り越えるおそれは一層
なくなり，加工液の摺接部材への付着をより確実に防止
することができる。

【００１５】また，請求項３に係る発明による浸漬式ワ
イヤ放電加工機は，ブロックに形成した傾斜面が遮蔽板
の上端面よりも低い位置に配置されているので，シール
部材から漏洩した加工液は，遮蔽板を乗り越える前に，
傾斜面に沿ってブロックの側面へ案内されて流下し，次
いで樋に向かって流れ落ちる。したがって，加工液が遮
蔽板を乗り越えることはないので，遮蔽板の背面側に接
触している摺接部材に加工屑が付着することはなく，摺
接部材が腐食することがない。

【００１６】それ故，この浸漬式ワイヤ放電加工機は，
加工液に混入した加工屑等が堆積することがなく，摺接
部材の回転不良が起こらず，摺接部材による摺動抵抗が
増加することがないので，ワイヤ電極に対する加工槽の
相対移動がスムースに行われ，工作物に対する加工精度
を向上させ，高加工精度を長期に渡って維持することが
できる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下，添付図面を参照して，この
発明による浸漬式ワイヤ放電加工機の実施例を説明す
る。図１は請求項１に係る発明による浸漬式ワイヤ放電
加工機の一実施例の全体構造を示す側面断面図，及び図
２は図１の浸漬式ワイヤ放電加工機における遮蔽板付近
の構造を示す要部拡大断面図である。

【００１８】浸漬式ワイヤ放電加工機の加工槽１内に
は，イオン交換樹脂を経ることで水の比電気抵抗をコン
トロールされた加工液２が収容されている。加工槽１
は，ボルト及びナットのような固着具によってワイヤ放
電加工機のテーブル２７に取り付けられている。加工槽
１の一壁部は，工作物Ｗを後述する工作物支持台４に対
して脱着する時の作業スペースを確保するため，開閉自
在となっている。

【００１９】加工槽１の底には，ベース３が敷設されて
おり，加工槽１内に収容された加工液２中に工作物Ｗを
浸漬した状態で支持するため，ベース３上に工作物支持
台４がボルト５によって固定されている。工作物支持台
４は，図１では１台のみ図示したが，同じ加工槽１の中
に複数台設置することができる。工作物支持台４は，リ
ード線６を介して加工槽１の外部から一方の電極に接続
されている。工作物取付具７をボルト８によって工作物
支持台４に締結することにより，工作物Ｗが工作物支持
台４に固定される。

【００２０】工作物Ｗに対して所定の加工形状にワイヤ
放電加工を行うために工作物Ｗとの間で放電をするワイ
ヤ電極１０は，ワイヤ放電加工機の加工機本体９に設け
られている自動ワイヤ供給装置（図示せず）から供給さ
れる。ワイヤ電極１０は，加工機本体９に取り付けられ
た上アーム１１に支持された上ワイヤヘッド１２と，加
工機本体９から加工槽１の側壁２３を貫通して横方向に
延びた下アーム１３に支持された下ワイヤヘッド１４に
よって案内される。下アーム１３は，この発明における
支持アームを構成している。上ワイヤヘッド１２には，
従来と同様に，ワイヤ送出口，ダイスガイド，噴流ノズ
ル，給電子１５，及び給電子押え等が組み込まれてお
り，ワイヤ電極１０を工作物Ｗの放電加工部位に送り出
す。給電子１６が組み込まれた下ワイヤヘッド１４は，
上ワイヤヘッド１２と同様の構造を有しており，上ワイ
ヤヘッド１２に対向した位置に設けられていて上ワイヤ
ヘッド１２から繰り出されたワイヤ電極１０を受け入れ
る。工作物Ｗは，上ワイヤヘッド１２と下ワイヤヘッド
１４との間に設置される。上ワイヤヘッド１２の給電子
１５と下ワイヤヘッド１４の給電子１６とをリード線１
７が結んでおり，リード線１７には，リード線６に接続
された極とは反対の極が与えられている。

【００２１】工作物Ｗに対して放電加工を行なったワイ
ヤ電極１０は，下ワイヤヘッド１４に受け入れられた
後，廃ワイヤ排出手段（図示せず）によって加工槽１か
ら下アーム１３の内部を通して外部へ排出される。加工
槽１の加工液２が不足する場合には，加工液供給管１８
から補給される。加工液供給管１８には供給コック１９
が設けられており，手動にて供給量を調節することがで
きる。また，加工槽１内の加工液２を排出するために，
加工液排出管２０が加工槽１の底部に接続されている。
加工液排出管２０には排出コック２１が設けられてお
り，排出コック２１は手動にて開閉可能である。

【００２２】図１に示すように，加工機本体９と一体の
基台５４に設けられたＹ軸移動用モータ５５の出力軸は
ねじ伝動作用をするＸ方向ねじ軸５６となっており，Ｙ
方向ねじ軸５６はＹ方向移動テーブル５７とねじ係合し
ている。したがって，Ｙ方向ねじ軸５６の回転によって
Ｙ方向移動テーブル５７がＸ軸方向に移動する。Ｙ方向
移動テーブル５７にはＸ軸移動用モータ（図示せず）が
取り付けられており，Ｙ軸移動用モータによって回転さ
れるＸ方向ねじ軸５８は，Ｘ方向移動テーブル５９とね
じ係合している。したがって，Ｘ方向ねじ軸５８の回転
によってＸ方向移動テーブル５９がＸ軸方向（Ｙ軸方向
と直交する方向）に移動可能である。加工槽１は，Ｘ方
向移動テーブル５９に取り付けられていて，Ｘ方向移動
テーブル５９と共に移動する。上アーム１１及び支持ア
ームを構成する下アーム１３は加工機本体９に対して位
置不動であるので，このような移動テーブル機構によっ
て，加工槽１は，下アーム１３の長手方向（Ｙ軸方向）
と，当該長手方向と直交する方向（Ｘ軸方向）とで定め
られる水平面内においてワイヤ電極１０に対する位置制
御が可能である。

【００２３】次に，加工槽１の側壁２３と下アーム１３
との関連構造について説明する。加工槽１の側壁２３に
は，Ｘ軸方向に平行に延びる長孔２４が形成されてい
る。長孔２４の上下の孔縁２５，２６は平行に配置され
ているが，左右の孔縁は半円弧状に形成されている。加
工槽１の側壁２３の外面には，図２に示すように，長孔
２４を覆うように遮蔽板２２が設けられている。遮蔽板
２２は第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９とからなる二枚
の板で構成され，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９とは
平行に隔置状態に連結部材３０によって相互に連結され
ているので，両遮蔽板２８，２９の間には通路５３が形
成される。第１遮蔽板２８は第２遮蔽板２９の高さより
も低く設定され，第１遮蔽板２８の上端面３１は第２遮
蔽板２９の上端面３２よりも低くなるように設置されて
いる。

【００２４】遮蔽板２８，２９の中心部には下アーム１
３を挿通するための孔３３が形成されており，第１遮蔽
板２８と第２遮蔽板２９との間には，孔３３の回りに，
リップ３４を有する環状シール部材３５が設けられてい
る。環状シール部材３５のリップ３４は下アーム１３の
外周面に当接して加工槽１内からの加工液２の漏出を防
止するものである。加工槽１の側壁２３の外面には，シ
ール部材３６を保持するため，加工槽１の長孔２４と同
様の長孔２４を備えたブロック３７が取り付けられてお
り，シール部材３６は第１遮蔽板２８の前面に接触して
加工槽１の側壁２３と第１遮蔽板２８との間をシール
し，加工液２が加工槽１から漏出するのを防止してい
る。

【００２５】また，加工槽１の側壁２３には，長孔２４
の上下にそれぞれ複数の押さえ板３８が固定されてお
り，押さえ板３８に支持された摺接部材であるローラ３
９が第２遮蔽板２９を背面側から支持している。これら
のローラ３９は，加工液２の水圧に抗して遮蔽板２２を
支持するために設けたものである。また，第２遮蔽板２
９の背面側にはピン４０が植設され，Ｙ方向移動テーブ
ル５７と一体をなす支持金ストッパ４１の上部にはリン
グ４２が設けられ，ピン４０をリング４２に嵌合してい
るので，加工槽１がＸ軸方向へ移動するときに，遮蔽板
２２の下アーム１３に対するＸ軸方向への相対移動を規
制することができる。

【００２６】環状シール部材３５から漏出した加工液，
即ち遮蔽板２２の孔３３と下アーム１３との間から漏れ
出した加工液を回収し，且つ遮蔽板２２と下アーム１３
が相対移動し得るようにするために，伸縮自在の蛇腹４
３が設けられている。蛇腹４３は，内部に下アーム１３
を挿通し，一端４４が第２遮蔽板２９の背面側に，他端
４５が加工機本体９にそれぞれ水密状態に取り付けられ
ている。下アーム１３は加工機本体９に固定されている
ので，他端４５は，下アーム１３に対して（或いは更に
他の固定部材に対して）水密状態に取り付けてもよい。
蛇腹４３の加工槽１側の一端４４を第２遮蔽板２９に対
して水密状態に取り付けることにより，下アーム１３と
遮蔽板２２との間から漏れ出た加工液２は蛇腹４３によ
って確実に受け取られる。

【００２７】蛇腹４３は，連通管４６を通じて大気に開
放されている。即ち，蛇腹４３の上部において連通管４
６の一端４７が蛇腹４３の内部に連通し且つ連通管４６
の他端４８が大気に開口している。加工槽１が下アーム
１３に対して，そのＸ軸方向に変位するときに，蛇腹４
３が伸縮する。蛇腹４３内の容積変化は，連通管４６を
通じて空気及び加工液の出入りによって吸収される。即
ち，蛇腹４３が縮む方向に加工槽１が変位をするときに
は，連通管４６又は蛇腹４３内の空気は，連通管４６を
通じて他端４８から大気へ放出され，縮み量によっては
加工液が連通管４６を通じて加工槽１内へ排出される。
蛇腹４３が伸びる方向に加工槽１が変位をするときに
は，他端４８から連通管４６を通じて外気が蛇腹４３内
に取り入れられる。また，図示を省略したが，蛇腹４３
の下部に設けたドレンコックを開いて蛇腹４３内の加工
液２をドレン管を通じて排出するときに，負圧になる蛇
腹４３内には連通管４６を通じて外気が流入するので，
蛇腹４３内の加工液２はドレン管を通じてスムーズに排
出される。

【００２８】連通管４６は，加工槽１の側壁２３の上端
４９を越えて加工槽１の内側に向かって屈曲されてい
る。連通管４６の構造をこのようにすると，加工槽１が
蛇腹４３が縮む方向に急激に大きな変位をして，蛇腹４
３内の加工液が連通管４６を通じて排出されようとする
ときであっても，加工液は連通管４６から直接加工槽１
に戻される。即ち，この場合，連通管４６は，蛇腹４３
内へ漏出した加工液を加工槽１に循環回収するための通
路として機能している。

【００２９】連通管４６の一端４７は弾性変形可能な蛇
腹４３に取り付けられるが，蛇腹４３が連通管４６の一
端４７と接続する接続部には，連通管４６の荷重を担わ
せることは好ましくない。この実施例では，連通管４６
は，加工槽１の側壁２３の上端４９に対して，支えロー
ラ５０によって支持されている。このように，連通管４
６を加工槽１の側壁２３の上端４９に対して支持するこ
とにより，連通管４６の荷重は蛇腹４３に作用すること
がない。また，加工槽１は下アーム１３に対してＸ軸方
向に変位可能であるので，連通管４６と加工槽１とは相
対的に変位することになるが，連通管４６は，加工槽１
の上端４９の端面上を側壁２３の長手方向（Ｘ軸方向）
に転がり部材である支えローラ５０を介して支持されて
いるので，加工槽１に対して滑らかに変位することがで
きる。

【００３０】蛇腹４３に設けたドレン管の下方には，側
壁２３に沿って加工槽１のＹ軸方向長さよりも長く形成
されたドレン樋５１が設けられている。図１に示すよう
にＹ方向移動テーブル５７には連結具５２を介してドレ
ン樋５１が連結されているので，ドレン樋５１は，Ｙ方
向移動テーブル５７と共にＹ軸方向にのみ移動可能であ
る。また，ドレン樋５１は，加工槽１の側壁２３のシー
ル部材３６から直接滴下する加工液や，シール部材３６
から漏出して第１遮蔽板２８を乗り越えて遮蔽板２２の
通路５３を流下してくる加工液を回収することもでき
る。即ち，加工槽１がＸ軸方向に移動をしても，蛇腹４
３に設けたドレン管から排出される加工液を受け取り，
且つ加工槽１の側壁２３に設けた遮蔽板２２の通路５３
を通って滴下する加工液を受け取るため，ドレン樋５１
のＹ軸方向長さは，加工槽１のＹ軸方向の全移動範囲に
わたって加工槽１をカバーするＸ軸方向長さを有してい
る。ドレン管を通じる等して排出された加工液は，ドレ
ン樋５１に流れ込み，ドレン樋５１の排出口（図示せ
ず）から排出され，更に図示しない加工液濾過装置等を
経て再利用すべく加工槽１へと循環される。ドレン樋５
１については，Ｙ方向移動テーブル５７に取り付けた例
を示したが，ドレン樋５１を加工槽１に直接取り付け
て，ドレン管を通じる等して排出された加工液をドレン
樋５１から更に可撓管（図示せず）等の手段で回収して
もよい。この場合，ドレン樋５１の長さは，加工槽１の
長さをカバーする長さがあればよい。

【００３１】この浸漬式ワイヤ放電加工機は，第１遮蔽
板２８と第２遮蔽板２９とが間隔を置いて連結されてい
るので，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９との間に通路
５３が形成される。このため，シール部材３６から漏出
した加工液は第１遮蔽板２８を乗り越え，第１遮蔽板２
８と第２遮蔽板２９とで形成される通路５３を通ってド
レン樋５１に落ちることになる。特に，第１遮蔽板２８
の上端面３１が第２遮蔽板２９の上端面３２よりも低く
なるような構成を採用しているので，加工液が第２遮蔽
板２９を乗り越えるおそれは一層なくなる。したがっ
て，この浸漬式ワイヤ放電加工機は，加工液が第２遮蔽
板２９を乗り越えてローラ３９に付着するようなことは
ないから，加工液に含まれる加工屑等のスラッジがロー
ラ３９に堆積することはなく，ローラ３９の回転不良は
発生せず，高い加工精度を維持することができる。

【００３２】上記実施例では，蛇腹４３は，一端４４を
第２遮蔽板２９の背面側に取り付け，他端４５を加工機
本体９に取り付けるように構成したが，一端を第１遮蔽
板２８の前面に，他端を下アーム１３にそれぞれ水密状
態に取り付けるようにしてもよい。その場合には，蛇腹
４３の内部は外気に開放されているので，蛇腹４３に設
けた連通管４６や支えローラ５０などが不要となること
から，部品点数を削減することができるという利点があ
る。また，その場合，第１遮蔽板２８と第２遮蔽板２９
との間に設けた環状シール部材３５のリップ３４は必要
なくなるので省略することができる。しかし，環状シー
ル部材３５だけは必要である。即ち，もし環状シール部
材３５まで省略した場合には，第１遮蔽板２８と第２遮
蔽板２９の間の通路５３を通って流下してきた加工液が
下アーム１３に当たって飛び散ったり下アーム１３の外
周面を伝わったりして，加工液が下アーム１３の外周面
と遮蔽板２２の孔３３との間の隙間から遮蔽板２２の背
面側に回り込み，下側のローラ３９に付着するおそれが
ある。したがって，図２に示すように両遮蔽板２８，２
９の間に環状シール部材３５を設け，通路５３と下アー
ム１３との間をシールする必要がある。

【００３３】次に，この発明による浸漬式ワイヤ放電加
工機の他の実施例について説明する。図３はこの発明の
浸漬式ワイヤ放電加工機の他の実施例を示す要部拡大断
面図，及び図４は図３の浸漬式ワイヤ放電加工機におけ
るシール部材保持用のブロックを示す斜視図である。図
３に示した要部拡大断面図は，図４のＡ−Ａ線における
断面図に相当するものである。

【００３４】この実施例の浸漬式ワイヤ放電加工機は，
遮蔽板６０として，図５に示した従来の浸漬式ワイヤ放
電加工機における遮蔽板７７と同様の一枚の板で構成し
たものを採用している。従来の浸漬式ワイヤ放電加工機
との違いは，シール部材３６を保持するためのブロック
６１の構造が異なっている点である。シール部材３６
は，加工槽１の長孔２４の周縁部にブロック６１を介し
て取り付けられる。この実施例のブロック６１は，図５
に示した従来のものと対比すると，中央部に長孔６２が
形成されている点，及び長孔６２に沿って長孔６２の上
下に一対の突出部６３が形成され，突出部６３にシール
部材３６がそれぞれ保持されている点で一致し，ブロッ
ク６１の上側の突出部６３の上面に，図４に示すよう
に，傾斜面６４が形成されている点で相違している。傾
斜面６４はブロック６１の中央部からＹ軸方向両端部に
至るに従って低くなるように形成されている。ブロック
６１は加工槽１の側壁２３に取り付けられ，ブロック６
１に保持されたシール部材３６は遮蔽板６０の前面に当
接して，加工槽１から加工液が外部に漏出するのを防止
している。ブロック６１に形成された傾斜面６４は，中
央部が高く，ブロック６１の両側部に向かって低くなる
ように形成されている。従って，シール部材３６と遮蔽
板６０との間から漏洩した加工液は，ブロック６１に形
成した傾斜面６４に沿ってスムースに滞留することなく
ガイドされて流下し，遮蔽板６０とブロックとの下方に
設けられた樋５１（図１）へ流下することができる。

【００３５】この浸漬式ワイヤ放電加工機においても，
シール部材３６に加工液の水圧が絶えず加わっており，
シール部材３６は加工槽１と共に遮蔽板６０に対して相
対的に移動するため，シール部材３６の摩耗，スラッジ
によるシール部材３６の損傷，あるいはシール部材３６
の劣化などに起因して，図３に矢印で示すように，スラ
ッジを含んだ加工液がシール部材３６から漏出すること
は避けられない。ところが，ブロック６１の突出部６３
の上面に傾斜面６４が形成されているので，シール部材
３６から漏出した加工液は遮蔽板６０の上端面６５に至
るまでに傾斜面６４に至り，Ｘ軸方向に傾斜面６４上を
流下し，傾斜面６４の端部からドレン樋５１へ流れ落ち
る。このため，スラッジを含んだ加工液が遮蔽板６０を
乗り越えて遮蔽板６０の背面側にまで流れ込むことはな
いので，スラッジがローラ３９に堆積せず，その結果，
ローラ３９が回転不良を起こすこともなく，摺動抵抗が
増加することもないので，工作物Ｗの加工精度は良好な
状態に維持される。

【００３６】

【発明の効果】この発明による浸漬式ワイヤ放電加工機
は，上記のように構成されているので，次のような効果
を有する。この浸漬式ワイヤ放電加工機は，加工槽の側
壁と遮蔽板とをシールするためのシール部材を通して加
工槽から外部へ漏出した加工液は，二枚の遮蔽板の間に
形成された通路を通って，下方の樋へ落下するので，遮
蔽板を背面側から支持する摺接部材に加工液が付着して
スラッジが摺接部材に堆積することはない。また，この
浸漬式ワイヤ放電加工機は，第１遮蔽板の上端面を第２
遮蔽板の上端面よりも低い位置に配置することにより，
加工液が第２遮蔽板を乗り越えるおそれは一層なくなる
から，両遮蔽板間の間隔を狭くすることができ，遮蔽板
の厚さを薄くすることができる。

【００３７】又は，この発明による浸漬式ワイヤ放電加
工機は，上記のように構成されているので，極めてコン
パクトに構成され，製造コストを低減できると共に，シ
ール部材を保持するためのブロックの上端面に傾斜面を
形成することにより，シール部材から漏出した加工液は
傾斜面によってＸ軸方向へスムースにガイドされて流下
し，傾斜面の両側端部から樋へ落下するので，加工液が
遮蔽板を乗り越えて摺接部材の方へ流れ込むことはな
く，それゆえ，摺接部材に加工液中のスラッジが堆積す
ることもない。したがって，上記いずれの発明も，摺接
部材の回転不良は起こらず，摺動抵抗が増加することも
ないので，高い加工精度を長期に渡って維持することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】請求項１に係る発明による浸漬式ワイヤ放電加
工機の一実施例の全体構造を示す断面図である。

【図２】図１の浸漬式ワイヤ放電加工機における遮蔽板
付近の構造を示す要部拡大断面図である

【図３】請求項３に係る発明による浸漬式ワイヤ放電加
工機の一実施例を示す要部拡大断面図である。

【図４】図３の浸漬式ワイヤ放電加工機におけるシール
部材保持用のブロックを示す斜視図である。

【図５】従来の浸漬式ワイヤ放電加工機を示す側面断面
図である。

【符号の説明】

１ 加工槽 ２ 加工液 ９ 加工機本体 １０ ワイヤ電極 １２ 上ワイヤヘッド １３ 下アーム（支持アーム） １４ 下ワイヤヘッド ２２ 遮蔽板 ２３ 加工槽の側壁 ２４ 加工槽の長孔 ２８ 第１遮蔽板 ２９ 第２遮蔽板 ３１ 第１遮蔽板の上端面 ３２ 第２遮蔽板の上端面 ３３ 遮蔽板の孔 ３６ シール部材 ３７ ブロック ３９ ローラ（摺接部材） ４３ 蛇腹 ４４ 蛇腹の一端 ４５ 蛇腹の他端 ５１ ドレン樋（樋） ５３ 通路 ５７ Ｙ方向移動テーブル（テーブル） ６０ 遮蔽板 ６１ ブロック ６４ 傾斜面 ６５ 遮蔽板の上端面 Ｗ 工作物

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 加工機本体に取り付けられた上ワイヤヘ
   ッドを通じて供給されるワイヤ電極が通される下ワイヤ
   ヘッド，前記上ワイヤヘッドと前記下ワイヤヘッドとの
   間で加工液に浸漬した状態で工作物を設置できる加工
   槽，前記加工槽に形成された長孔を覆うように配設され
   且つ前記長孔と対向する孔が形成された遮蔽板，前記加
   工槽に取り付けられ且つ前記加工液の水圧に抗して前記
   遮蔽板を背面側から支持する摺接部材，前記遮蔽板の孔
   及び前記加工槽の長孔に挿通され且つ前記加工液中に突
   出して前記下ワイヤヘッドを支持すると共に前記下ワイ
   ヤヘッドを通過した前記ワイヤ電極の廃ワイヤが内部に
   挿通される前記加工機本体に取り付けられた支持アー
   ム，前記加工槽が前記支持アームの長手方向と直角方向
   に移動可能に載置され且つ前記長手方向に移動可能な前
   記遮蔽板が取り付けられたテーブル，前記支持アームが
   挿通され且つ一端が前記遮蔽板の孔の周縁部に他端が前
   記支持アーム又は前記加工機本体に固定された長手方向
   に伸縮可能な蛇腹，及び前記加工槽の長孔の周縁部に取
   り付けられ且つ前記遮蔽板に接触してシールするシール
   部材をを備えた浸漬式ワイヤ放電加工機において，前記
   遮蔽板は，前記シール部材に当接してシール部を構成す
   る第１遮蔽板と，前記第１遮蔽板に隔置して連結され且
   つ前記摺接部材に当接して支持される第２遮蔽板とから
   構成され，前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板との間から
   流下する前記加工液を受けるため前記第１遮蔽板と前記
   第２遮蔽板との下方には樋が設けられていることを特徴
   とする浸漬式ワイヤ放電加工機。
2. 【請求項２】 前記第１遮蔽板を溢流した前記加工液が
   前記第２遮蔽板を溢流することなく，前記第１遮蔽板と
   前記第２遮蔽板との間を流下するように，前記第１遮蔽
   板の上端面は前記第２遮蔽板の上端面よりも低い位置に
   設定されていることを特徴とする請求項１に記載の浸漬
   式ワイヤ放電加工機。
3. 【請求項３】 前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板との間
   の前記支持アームの周りには環状シール部材が配置され
   ていることを特徴とする請求項１又は２に記載の浸漬式
   ワイヤ放電加工機。
4. 【請求項４】 加工機本体に取り付けられた上ワイヤヘ
   ッドを通じて供給されるワイヤ電極が通される下ワイヤ
   ヘッド，前記上ワイヤヘッドと前記下ワイヤヘッドとの
   間で加工液に浸漬した状態で工作物を設置できる加工
   槽，前記加工槽に形成された長孔を覆うように配設され
   且つ前記長孔と対向する孔が形成された遮蔽板，前記加
   工槽に取り付けられ且つ前記加工液の水圧に抗して前記
   遮蔽板を背面側から支持する摺接部材，前記遮蔽板の孔
   及び前記加工槽の長孔に挿通され且つ前記加工液中に突
   出して前記下ワイヤヘッドを支持すると共に前記下ワイ
   ヤヘッドを通過した前記ワイヤ電極の廃ワイヤが内部に
   挿通される前記加工機本体に取り付けられた支持アー
   ム，前記加工槽が前記支持アームの長手方向と直角方向
   に移動可能に載置され且つ前記長手方向に移動可能な前
   記遮蔽板が取り付けられたテーブル，前記支持アームが
   挿通され且つ一端が前記遮蔽板の孔の周縁部に他端が前
   記支持アーム又は前記加工機本体に固定された長手方向
   に伸縮可能な蛇腹，及び前記加工槽の長孔の周縁部に取
   り付けられ且つ前記遮蔽板に接触してシールするシール
   部材をを備えた浸漬式ワイヤ放電加工機において，前記
   加工槽には前記シール部材を保持するブロックが設けら
   れ，前記ブロックの上面には前記ブロックの両側部に向
   かって低くなる傾斜面が形成され，最も高い位置の前記
   傾斜面は前記遮蔽板の上端面よりも低くなるように設置
   され，前記シール部材と前記遮蔽板との間から漏洩した
   前記加工液は，前記ブロックに形成した前記傾斜面に沿
   って前記遮蔽板と前記ブロックとの下方に設けられた樋
   へ流下することを特徴とする浸漬式ワイヤ放電加工機。
5. 【請求項５】 前記ブロックに形成された前記傾斜面
   は，中央部が高く，前記ブロックの両側部に向かって低
   く形成されていることを特徴とする請求項４に記載の浸
   漬式ワイヤ放電加工機。