JP3606036B2

JP3606036B2 - 磁石材料の製造方法、磁石材料およびボンド磁石

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Application number: JP08226298A
Authority: JP
Inventors: 聖新井
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Priority date: 1998-03-27
Filing date: 1998-03-27
Publication date: 2005-01-05
Anticipated expiration: 2018-03-27
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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁石材料の製造方法、磁石材料およびボンド磁石に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
磁石材料として、希土類元素を含む合金で構成される希土類磁石材料は、高い磁気特性を有するため、モータ等に用いられた場合に、高性能を発揮する。
【０００３】
このような磁石材料は、例えば急冷薄帯製造装置を用いた急冷法により製造される。この製造方法は、次の通りである。
【０００４】
所定の合金組成の磁石材料（以下「合金」と言う）を溶融し、その溶湯をノズルから射出し、ノズルに対して回転している冷却ロールの周面に衝突させ、該周面と接触させることにより合金を急冷、凝固し、薄帯状（リボン状）の合金を連続的に形成する。この薄帯状の合金は、急冷薄帯と呼ばれ、速い冷却速度で凝固された結果、そのマクロ組織は、微細な多結晶が集合した状態となっており、優れた磁気特性を発揮する。
【０００５】
ここで、希土類元素は、酸化され易く、酸化されると磁気特性が低下するため、前記急冷薄帯の製造は、主としてアルゴンガス中で行われていた。
【０００６】
そのため、冷却ロールの回転に起因して、アルゴンガスのガス流が発生するが、このガス流がパドル（＝ノズルから射出された溶湯が冷却ロールの周面に衝突した部位に生じる湯だまり）の側部に回り込み、その一部が冷却ロールの周面と急冷薄帯のロール面（冷却ロールの周面と接触する面）との間に侵入し、これが原因で、急冷薄帯のロール面に巨大ディンプル（巨大な凹部）が生じる。
【０００７】
この巨大ディンプルが生じると、巨大ディンプル部分においては、気体の介在により冷却ロールの周面との接触不良が生じ、冷却速度が低下して、急速な凝固が妨げられる。そのため、巨大ディンプルが生じた部位では、合金の結晶粒径が粗大化し、磁気特性が低下する。
【０００８】
従って、このような低磁気特性の部分を含む急冷薄帯を用いて製造された永久磁石も、同様に、磁気特性の低下が見られ、また、耐食性も低下する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、高い磁気特性が得られ、また、耐食性に優れる磁石材料の製造方法、磁石材料およびボンド磁石を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、急冷薄帯のロール面への巨大ディンプルの発生は、急冷薄帯の製造条件に関連していることに着目し、その各条件を種々変更して繰り返し実験を行った結果、巨大ディンプルの発生の程度は、雰囲気ガスのガス流のパドル付近（磁石材料の溶湯が衝突した部位）におけるレイノルズ数に依存していることを見出し、本発明に至った。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記（１）〜（７）の本発明により達成される。
【００１２】
（１）雰囲気ガス中で、磁石材料の溶湯をノズルから射出し、前記ノズルに対し回転している冷却ロールの周面に衝突させ、冷却固化して、薄帯状の磁石材料を製造する磁石材料の製造方法であって、
前記冷却ロールの周速度を１〜６０ｍ／秒とし、
前記冷却ロールの回転に起因して発生するガス流の、前記溶湯が衝突した部位におけるレイノルズ数を１０〜７００とし、
前記冷却ロールの回転に伴う冷却ロール周面の最大偏心量が、得られる薄帯状の磁石材料の平均厚さの２倍以下である冷却ロールを用い、
得られる前記薄帯状の磁石材料の前記冷却ロールとの接触面において、面積が２０００μm^２以上の巨大ディンプルの占める面積率が５％以下となるようにすることを特徴とする磁石材料の製造方法。
【００１５】
（２）前記雰囲気ガスは、不活性ガスである上記（１）に記載の磁石材料の製造方法。
【００１６】
（３）前記不活性ガスは、ヘリウムガスである上記（２）に記載の磁石材料の製造方法。
【００１７】
（４）前記磁石材料は、Ｒ（ただし、Ｒは、Ｙを含む希土類元素のうちの少なくとも１種）を含む合金である上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の磁石材料の製造方法。
【００１８】
（５）前記磁石材料は、Ｒ（ただし、Ｒは、Ｙを含む希土類元素のうちの少なくとも１種）とＴＭ（ただし、ＴＭは、遷移金属のうちの少なくとも１種）とＢを含む合金である上記（１）ないし（４）のいずれかに記載の磁石材料の製造方法。
【００１９】
（６）上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の磁石材料の製造方法により製造されたことを特徴とする薄帯状の磁石材料。
【００２１】
（７）前記冷却ロールとの接触面において、面積が２０００μm^２以上の巨大ディンプル以外の部分における平均結晶粒径が５０nm以下である上記（６）に記載の薄帯状の磁石材料。
【００２２】
（８）上記（６）または（７）に記載の磁石材料を粉砕して粉末状としたことを特徴とする粉末状の磁石材料。
【００２３】
（９）上記（８）に記載の粉末状の磁石材料を結合樹脂で結合してなることを特徴とするボンド磁石。
【００２４】
（１０）前記粉末状の磁石材料の含有量が８２〜９９．５wt％である上記（９）に記載のボンド磁石。
【００２５】
（１１）保磁力iHc が０．３５MA/m以上である上記（９）または（１０）に記載のボンド磁石。
【００２６】
（１２）磁気エネルギー積(BH)max が５０kJ/m^３以上である上記（９）ないし（１１）のいずれかに記載のボンド磁石。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の磁石材料の製造方法、磁石材料およびボンド磁石について、添付図面を参照しつつ詳細に説明する。
【００２８】
図１は、本発明の磁石材料を単ロール法により製造する装置（急冷薄帯製造装置）の構成例を示す斜視図、図２は、図１に示す装置における溶湯の冷却ロールへの衝突部位付近の状態を示す断面側面図である。
【００２９】
図１に示すように、急冷薄帯製造装置１は、磁石材料を収納し得る筒体２と、該筒体２に対し図中矢印Ａ方向に回転する冷却ロール５とを備えている。筒体２の下端には、磁石材料の溶湯を射出するノズル（オリフィス）３が形成されている。
【００３０】
また、筒体２のノズル３近傍の外周には、加熱用のコイル４が配置され、このコイル４に例えば高周波を印加することにより、筒体２内を加熱（誘導加熱）し、筒体２内の磁石材料を溶融状態にする。
【００３１】
冷却ロール５は、基部５１と、ロール周面を形成する表面層５２とで構成されている。基部５１は、例えば銅または銅系合金のような熱伝導率の高い金属材料で構成されているのが好ましく、表面層５２は、基部５１と同等の熱伝導率を有する金属材料か、または基部５１より熱伝導率が低い金属材料で構成されているのが好ましい。これにより、急冷薄帯８のロール面８１側とフリー面（冷却ロール５と接触しない側の面）８２側との冷却速度の差をより小さくすることができ、結晶粒径の均一化を図ることができる。
【００３２】
このような急冷薄帯製造装置１は、チャンバー（図示せず）内に設置され、該チャンバー内に不活性ガスやその他の雰囲気ガスが充填された状態で作動する。特に、急冷薄帯８の酸化を防止するために、雰囲気ガスは、不活性ガスであるのが好ましい。不活性ガスとしては、例えばアルゴンガス、ヘリウムガス、窒素ガス等が挙げられるが、特にヘリウムガスが好ましい。その理由は、後述する。
【００３３】
急冷薄帯製造装置１では、筒体２内に磁石材料を入れ、コイル４により加熱して溶融し、その溶湯６をノズル３から射出すると、図２に示すように、溶湯６は、冷却ロール５の周面５３に衝突し、パドル（湯溜り）７を形成した後、回転する冷却ロール５の周面５３に引きずられつつ急速に冷却されて凝固し、急冷薄帯８が連続的または断続的に形成される。このようにして形成された急冷薄帯８は、やがて、そのロール面８１が周面５３から離れ、図１中の矢印Ｂ方向に進行する。なお、図２中、溶湯の凝固界面７１を点線で示す。
【００３４】
冷却ロール５の周速度は、１〜６０ｍ／秒であり、特に、５〜４０ｍ／秒であるのが好ましい。冷却ロール５の周速度が遅すぎると、結晶粒径が増大し、逆に冷却ロール５の周速度が速すぎると、非晶質となり、いずれの場合にも、磁気特性が低下する。
【００３５】
このような急冷薄帯製造装置１を用いた急冷薄帯の製造においては、冷却ロール５の回転に起因して、パドル７の周辺（溶湯６が周面５３に衝突した部位）に雰囲気ガスのガス流１０が発生する。本発明では、このガス流１０のレイノルズ数（Ｒｅ）を１０〜７００とする。
【００３６】
レイノルズ数を前記上限値以下とすることにより、パドル７周辺のガス流（ガス粘性流）１０が図３に示すような状態になると推定され、冷却ロール５の周面５３と急冷薄帯８のロール面８１との間へのガス流の侵入が抑制され、ロール面８１への巨大ディンプル９の形成が防止または抑制されるものと考えられる。これにより、急冷薄帯８は、速い冷却速度で冷却され、結晶粒の粗大化が防止され、よって、磁気特性（磁束密度、保磁力、角型性等）が向上する。
【００３７】
これに対し、前記レイノルズ数が前記上限値を超えると、パドル７周辺のガス流（ガス粘性流）１０が、図４に示すように乱れ（うず流）を生じ、冷却ロール５の周面５３と急冷薄帯８のロール面８１との間に侵入し、これが原因でロール面８１に巨大ディンプル９が形成されるものと考えられる。これにより、周面５３との接触不良が生じ、熱伝達が阻害され、冷却速度が低下するので、急冷薄帯８は、巨大ディンプル９の部分において、結晶粒の粗大化が生じ、磁気特性（磁束密度、保磁力、角型性等）が低下する。
【００３８】
また、急冷薄帯８の巨大ディンプル９の部分から得られた磁石粉末を用いてボンド磁石を製造した場合、そのような磁石粉末は、結合樹脂との結合性（結合樹脂の濡れ性）が悪く、そのため、このボンド磁石は、機械的強度が低く、熱安定性（耐熱性）、耐食性が劣るものとなるが、本発明のように、巨大ディンプル９の発生が抑制された場合、このような問題が解消され、高機械的強度で、耐熱性、耐食性に優れるボンド磁石が得られる。
【００３９】
次に、レイノルズ数の定義について説明する。
【００４０】
本明細書におけるレイノルズ数（Ｒｅ）は、物体の代表寸法として急冷薄帯８の幅（パドル７の幅）を考慮した値であり、次式（Ｉ）で表わされる。
【００４１】
【数１】

【００４２】
ここで、式（Ｉ）中、ｖは雰囲気ガス（ガス流１０）の流速、ｗは雰囲気ガスを遮る物体である急冷薄帯８（＝パドル７）の幅、νは雰囲気ガスの動粘性係数である。ｖは例えば流れの可視化により求めることができる。
【００４３】
さらに、雰囲気ガスを理想気体近似すること等から、レイノルズ数（Ｒｅ）は、次式（ＩＩ）で表わすことができる。
【００４４】
【数２】

【００４５】
ここで、式（ＩＩ）中、Ｍは雰囲気ガスの分子量、ηは雰囲気ガスの粘性係数、Ｔは雰囲気ガスの温度［Ｋ］、Ｐは雰囲気ガスの圧力［Ｐａ］、Ｒは気体定数である。
【００４６】
なお、雰囲気ガスが不活性ガスである場合、そのガスの種類によって前記レイノルズ数は変わる。これは他のパラメータが全く同一でも、式（ＩＩ）中のＭ／ηが異なるためである。例えばアルゴンガスとヘリウムガスを比較すると、アルゴンガスのＭ／ηはほぼ１８００であり、ヘリウムガスのＭ／ηはほぼ２００であり、Ｍ／ηはヘリウムガスの方が圧倒的に小さい。従って、ヘリウムガスを用いることにより、レイノルズ数を小さくし易いという利点を有している。換言すれば、雰囲気ガスとしてヘリウムガスを用いることにより、レイノルズ数を１０００以下とする上で、他の条件の許容範囲をより広くとること（例えば、式（ＩＩ）中のｖ、ｗ、Ｐをより大きく設定すること）ができるという利点がある。
【００４７】
ところで、急冷薄帯製造装置１においては、冷却ロール５自体の寸法精度（真円度）や、冷却ロール５の軸受けに対する取り付け精度等から、冷却ロール５が回転するに際し、図５に示すように、若干の偏心（軸振れ）が生じる。この偏心が大きいと、パドル７における溶融合金の表面や凝固界面７１が振動し、得られた急冷薄帯８の寸法（幅ｗ、厚さｔ）に変動が生じたり、急冷薄帯８のロール面８１が冷却ロール５の周面５３と接触している時間に変動が生じたりする。さらに、巨大ディンプルの発生率も高まる。その結果、急冷薄帯８の冷却速度等が変動し、磁気特性にバラツキが生じる。そして、このような急冷薄帯８から得られた磁石粉末やそれを用いたボンド磁石は、磁気特性が低下する。
【００４８】
このようなことを防止するために、本発明では、冷却ロール５の回転に伴う冷却ロール５の周面５３の最大偏心量ΔＲ（図５参照）を、得られる急冷薄帯８の平均厚さｔの２倍以下とし、特に、１．５倍以下とするのが好ましく、１倍以下とするのがより好ましい。これにより、得られた急冷薄帯８の磁気特性をより均一にすることができる。そして、これより製造されたボンド磁石の磁気特性を高めることができる。特に、本発明では、このような最大偏心量ΔＲを規定することと、前述したレイノルズ数を規定することとの相乗効果により、優れた磁気特性を発揮するものである。
【００４９】
ここで、最大偏心量ΔＲの下限値は、特に限定されないが、冷却ロール５の周面５３の加工精度の限界や、冷却ロール５を支持する軸受けの精度の限界から、０．１μｍ程度とすることができる。
【００５０】
なお、最大偏心量ΔＲは、例えば、レーザ変位計、静電式変位計、精密ゲージ等の精密寸法測定機器により測定することができる。
【００５１】
本発明における磁石材料としては、Ｒ（ただし、Ｒは、Ｙを含む希土類元素のうちの少なくとも１種）を含む合金、特にＲ（ただし、Ｒは、Ｙを含む希土類元素のうちの少なくとも１種）とＴＭ（ただし、ＴＭは、遷移金属のうちの少なくとも１種）とＢとを含む合金のような希土類磁石材料が挙げられ、次の［１］〜［４］の組成のものが好ましい。
【００５２】
［１］Ｓｍを主とする希土類元素と、Ｃｏを主とする遷移金属とを基本成分とするもの（以下、Ｓｍ−Ｃｏ系合金と言う）。
【００５３】
［２］Ｒ（ただし、ＲはＹを含む希土類元素のうちの少なくとも１種）と、Ｆｅを主とする遷移金属と、Ｂとを基本成分とするもの（以下、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系合金と言う）。
【００５４】
［３］Ｓｍを主とする希土類元素と、Ｆｅを主とする遷移金属と、Ｎを主とする格子間元素とを基本成分とするもの（以下、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系合金と言う）。
【００５５】
［４］Ｒ（ただし、ＲはＹを含む希土類元素のうちの少なくとも１種）とＦｅ等の遷移金属とを基本成分とし、ナノメーターレベルで磁性相を有するもの（ナノ結晶磁石）。
【００５６】
Ｓｍ−Ｃｏ系合金の代表的なものとしては、ＳｍＣｏ_５、Ｓｍ_２ＴＭ_１７（ただしＴＭは、遷移金属）が挙げられる。
【００５７】
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系合金の代表的なものとしては、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系合金、Ｐｒ−Ｆｅ−Ｂ系合金、Ｎｄ−Ｐｒ−Ｆｅ−Ｂ系合金、Ｃｅ−Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系合金、Ｃｅ−Ｐｒ−Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系合金、これらにおけるＦｅの一部をＣｏ、Ｎｉ等の他の遷移金属で置換したもの等が挙げられる。
【００５８】
Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系合金の代表的なものとしては、Ｓｍ_２Ｆｅ_１７合金を窒化して作製したＳｍ_２Ｆｅ_１７Ｎ_３が挙げられる。
【００５９】
前記希土類元素としては、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、ミッシュメタルが挙げられ、これらを１種または２種以上含むことができる。また、前記遷移金属としては、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等が挙げられ、これらを１種または２種以上含むことができる。また、磁気特性を向上させるために、磁石材料中には、必要に応じ、Ｂ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｇａ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｐ、Ｇｅ等を含有することもできる。
【００６０】
以上のような製造方法により得られる本発明の急冷薄帯（薄帯状の磁石材料）８は、ロール面８１において、巨大ディンプル９が存在していないか、または存在していても、その面積率は小さい。すなわち、ロール面８１において、面積が２０００μm²以上の巨大ディンプル９の占める面積率が８％以下であり、好ましくは５％以下であり、より好ましくは３％以下である。
【００６１】
また、急冷薄帯８は、面積が２０００μｍ^２以上の巨大ディンプル９以外の部分における平均結晶粒径が５０ｎｍ以下であるのが好ましく、３０ｎｍ以下であるのがより好ましい。これにより、優れた磁気特性が発揮される。
【００６２】
急冷薄帯８の平均厚さｔは、特に限定されないが、１０〜５０μｍ程度が好ましく、１５〜４０μｍ程度がより好ましい。この平均厚さｔが大きすぎると、結晶粒の粗大化が顕著となり、磁気特性が劣化することがあり、また、小さすぎると、生産性が悪くなる。
【００６３】
以上のような急冷薄帯８を粉砕することにより、本発明の粉末状の磁石材料（磁石粉末）が得られる。
【００６４】
粉砕の方法は、特に限定されず、例えばボールミル、振動ミル、ジェットミル、ピンミル等の各種粉砕装置、破砕装置を用いて行うことができる。この場合、粉砕は、酸化を防止するために、真空または減圧状態下（例えば１×１０^−１〜１×１０^−６Ｔｏｒｒ）、あるいは窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガス中のような、非酸化性雰囲気中で行うこともできる。
【００６５】
このような磁石粉末は、同一組成のもののみならず、異なる２種以上の組成の磁石粉末を混合したものでもよい。例えば、前記［１］〜［４］の組成のもののうち、少なくとも２種を混合したものが挙げられる。この場合、混合する各磁石粉末の利点を併有することができ、より優れた磁気特性を容易に得ることができる。
【００６６】
また、磁石粉末の平均粒径は、特に限定されないが、後述するボンド磁石を製造用のものの場合、０．５〜６０μｍ程度が好ましく、１〜４０μｍ程度がより好ましい。また、後述するような少量の結合樹脂で成形時の良好な成形性を得るために、磁石粉末の粒径分布は、ある程度分散されている（バラツキがある）のが好ましい。これにより、得られたボンド磁石の空孔率を低減することができ、ボンド磁石の機械的強度をより高め、磁気特性をさらに向上することができる。
【００６７】
なお、異なる２種以上の組成の磁石粉末を混合したものの場合、混合する磁石粉末の組成毎に、その平均粒径が異なっていてもよい。また、このような混合粉末の場合、異なる２種以上の組成の磁石粉末のうちの少なくとも１種が前述した本発明の方法により製造されたものであればよい。
【００６８】
また、本発明の粉末状の磁石材料は、ボンド磁石の製造に用いるものに限定されず、例えば、焼結磁石の製造に用いるものであってもよい。
【００６９】
次に、本発明のボンド磁石について説明する。
【００７０】
本発明のボンド磁石は、前述の磁石粉末を結合樹脂で結合してなるものである。
【００７１】
結合樹脂（バインダー）としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂のいずれでもよい。
【００７２】
熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、熱可塑性ポリイミド、芳香族ポリエステル等の液晶ポリマー、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアセタール等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を混合して用いることができる。
【００７３】
これらのうちでも、成形性が特に優れており、機械的強度が高いことから、ポリアミド、耐熱性向上の点から、液晶ポリマー、ポリフェニレンサルファイドを主とするものが好ましい。また、これらの熱可塑性樹脂は、磁石粉末との混練性にも優れている。
【００７４】
このような熱可塑性樹脂は、その種類、共重合化等により、例えば成形性を重視したものや、耐熱性、機械的強度を重視したものというように、広範囲の選択が可能となるという利点がある。
【００７５】
一方、熱硬化性樹脂としては、例えば、ビスフェノール型、ノボラック型、ナフタレン系等の各種エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル（不飽和ポリエステル）樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を混合して用いることができる。
【００７６】
これらのうちでも、成形性が特に優れており、機械的強度が高く、耐熱性に優れるという点から、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂が好ましく、エポキシ樹脂が特に好ましい。また、これらの熱硬化性樹脂は、磁石粉末との混練性、混練の均一性にも優れている。
【００７７】
なお、使用される熱硬化性樹脂（未硬化）は、室温で液状のものでも、固形（粉末状）のものでもよい。
【００７８】
このような本発明のボンド磁石は、例えば次のようにして製造される。磁石粉末と、結合樹脂と、必要に応じ添加剤（酸化防止剤、潤滑剤等）とを含むボンド磁石用組成物（コンパウンド）を製造し、このボンド磁石用組成物を用いて、圧縮成形、押出成形、射出成形等の方法により、磁場中または無磁場中で所望の磁石形状に成形する。結合樹脂が熱硬化性樹脂の場合には、成形後、加熱等によりそれを硬化する。
【００７９】
ボンド磁石中の磁石粉末の含有量は、８２〜９９．５ｗｔ％程度であるのが好ましく、９０〜９９ｗｔ％程度であるのがより好ましい。特に、ボンド磁石が圧縮成形により製造されたものの場合には、磁石粉末の含有量は、９３〜９９．５ｗｔ％程度であるのが好ましく、９５〜９９ｗｔ％程度であるのがより好ましい。
【００８０】
磁石粉末の含有量が少なすぎると、磁気特性（特に磁気エネルギー積）の向上が図れず、また、磁石粉末の含有量が多すぎると、相対的に結合樹脂の含有量が少なくなり、成形性が低下する。
【００８１】
このような本発明のボンド磁石は、その原材料となる前述した急冷薄帯８の特性や、ボンド磁石の製造条件、ボンド磁石中に含まれる磁石粉末の含有量の多さ等から、優れた磁気特性を発揮する。
【００８２】
すなわち、本発明のボンド磁石は、保磁力ｉＨｃが好ましくは０．３５ＭＡ／ｍ以上、より好ましくは０．５０ＭＡ／ｍ以上である。
【００８３】
本発明のボンド磁石、特に無磁場中で成形されたボンド磁石は、磁気エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘが好ましくは５０ｋＪ／ｍ^３以上、より好ましくは７０ｋＪ／ｍ^３以上である。
【００８４】
本発明のボンド磁石の形状、寸法等は特に限定されず、例えば、形状に関しては、例えば、円柱状、角柱状、円筒状（リング状）、円弧状、平板状、湾曲板状等のあらゆる形状のものが可能であり、その大きさも、大型のものから超小型のものまであらゆる大きさのものが可能である。
【００８５】
【実施例】
以下、本発明の具体的実施例について説明する。
【００８６】
（実施例１）
純度９９．９％以上のＮｄ、Ｆｅ、Ｃｏの各金属と、Ｆｅ−Ｂ合金とを原料として、合金組成がＮｄ_１３Ｆｅ_ｂａｌ．Ｃｏ_６Ｂ_５．５（組成Ａ）で表わされる母合金インゴットを鋳造した。このインゴットから約１５ｇのサンプルを切り出した。
【００８７】
図１に示す構成の急冷薄帯製造装置１を用意し、底部にノズル（円孔オリフィス）を設けた石英管内に前記サンプルを入れた。急冷薄帯製造装置１が収納されているチャンバー内を脱気してから不活性ガス（アルゴンガス、ヘリウムガス）を導入し、所望の温度Ｔおよび圧力Ｐの雰囲気とした。
【００８８】
その後、石英管内のインゴットサンプルを高周波誘導加熱により溶融し、この溶湯を、１５００ｒｐｍ（周速度：１５．７ｍ／秒）で回転する直径２００ｍｍ、幅２０ｍｍの冷却ロールの周面に向けて、石英管の内圧と雰囲気圧との差圧により噴射し、組成Ａの合金の急冷薄帯を得た。なお、冷却ロールの表面層は、銅製（厚さ５ｍｍ）のものとした。
【００８９】
また、冷却ロールの回転による冷却ロール周面の最大偏心量ΔＲをレーザ変位計により測定したところ、ΔＲ＝１０μｍであった。
【００９０】
またこの時、チャンバー内にセットした温度センサー（熱電対）により雰囲気温度Ｔを測定した。
【００９１】
オリフィス径および噴射圧（差圧）等の条件を種々変更して、下記表１に示す７つの試料Ａ１〜Ａ７の急冷薄帯を製造した。また、ΔＲ＝５０μｍ（＞２ｔ）である以外は同様の冷却ロールに交換し、試料Ａ６とほぼ同様の条件で試料Ａ８の急冷薄帯を製造した。各試料について、パドル付近の雰囲気ガスのガス流のレイノルズ数は、表１に示す通りである。
【００９２】
なお、各急冷薄帯の幅ｗおよび厚さｔは、それぞれ、マイクロスコープにより１試料につき５点以上の測定点で測定し、これを平均した値とした。
【００９３】
作製した試料Ａ１〜Ａ８の急冷薄帯に関する各数値を下記表１に示す。
【００９４】
また、各急冷薄帯について、ロール面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、さらに画像解析を行った。画像解析の結果より、ロール面に対する面積２０００μｍ^２以上の巨大ディンプル（以下単に「巨大ディンプル」と言う）の占める面積率を算出した。その結果も併せて表１に示す。
【００９５】
【表１】

【００９６】
表１からわかるように、レイノルズ数が１０００以下である試料Ａ１〜Ａ５の急冷薄帯については、いずれも巨大ディンプルの占める面積率は５％以下であった。特に、レイノルズ数が９００以下の場合にはさらにその値が低く、レイノルズ数が７００以下の場合には、巨大ディンプルは全く発生していなかった。
【００９７】
これに対し、レイノルズ数が１０００を超える試料Ａ６〜Ａ８では、巨大ディンプルの占める面積率が８％を超えた。この場合、冷却ロール周面の最大偏心量ΔＲが大きい試料Ａ８は、試料Ａ６に比べ、巨大ディンプルの占める面積率がさらに増大している。
【００９８】
次に、試料Ａ１〜Ａ８の各急冷薄帯について、ＴＥＭによる組織観察結果から、画像処理などの方法により、巨大ディンプル以外の部分における平均結晶粒径を測定した。また、磁気特性（保磁力ｉＨｃ、磁気エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘ）を、ＶＳＭにより測定した。これらの結果を下記表２に示す。
【００９９】
【表２】

【０１００】
表２からわかるように、レイノルズ数が１０００以下である試料Ａ１〜Ａ５の急冷薄帯については、いずれも、高い磁気特性が得られている。特に、レイノルズ数が９００以下の場合にはさらにその値が高く、レイノルズ数が７００以下の場合には、保磁力が０．８５ＭＡ／ｍ以上、磁気エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘが１３０ｋＪ／ｍ^３以上と、極めて高い値を示した。
【０１０１】
これに対し、レイノルズ数が１０００を超える試料Ａ６〜Ａ８は、試料Ａ１〜Ａ５に比べ、磁気特性が劣るものであった。この場合、冷却ロール周面の最大偏心量ΔＲが大きい試料Ａ８は、試料Ａ６に比べ、磁気特性がさらに低下している。
【０１０２】
（実施例２）
表３に示す組成Ｂ、ＣおよびＤのインゴットを鋳造し、これらのインゴットから切り出したサンプルを用いた以外は、実施例１と同様（ただし、ΔＲ＝１５μｍ）にして、１１種の急冷薄帯を製造した。
【０１０３】
【表３】

【０１０４】
これらについて、前記と同様にして、レイノルズ数および巨大ディンプルの占める面積率を算出した。その値を下記表４に示す。
【０１０５】
また、各急冷薄帯の幅ｗは、０．７〜２．５ｍｍの範囲内、厚さは、２０〜３５μｍの範囲内であり、巨大ディンプル以外の部分における平均結晶粒径は、１５〜３０ｎｍの範囲内であった。
【０１０６】
なお、レイノルズ数が４００以下のものは、雰囲気ガスとしてヘリウムガスを、レイノルズ数が４００を超えるものは、雰囲気ガスとしてヘアルゴンガスを用いた。
【０１０７】
次に、各急冷薄帯を粉砕機（ライカイ機）により不活性ガス中で粉砕して、平均粒径が１５μｍ（組成Ｂ）、２０μｍ（組成Ｃ）、１８μｍ（組成Ｄ）の磁石粉末とし、この磁石粉末のうちの１種または２種以上（組み合わせは表５中に記載）と、エポキシ樹脂１．９±０．１ｗｔ％と、ヒドラジン系酸化防止剤０．１５ｗｔ％と、ステアリン酸塩（潤滑剤）０．０５ｗｔ％とを混合し、この混合物を十分に混練（１２０℃×１０分）して、ボンド磁石用組成物（コンパウンド）を作製した。
【０１０８】
次いで、このコンパウンドを粉砕して粒状とし、この粒状物を秤量してプレス装置の金型内に充填し、材料温度１３０℃、圧力６ｔｏｎ／ｃｍ^２で圧縮成形（無磁場中）して成形体を得た。離型後、エポキシ樹脂を加熱硬化させて、直径１０ｍｍ×高さ７ｍｍの円柱状ボンド磁石（試料Ｂ１〜Ｂ２２）を得た。
【０１０９】
ここで、試料Ｂ１〜Ｂ１１は、１種の磁石粉末を用いたもの、試料Ｂ１２〜Ｂ２２は、試料Ｂ１〜Ｂ１１で用いた磁石粉末の２種以上の混合物（混合粉末）を用いたものである。
【０１１０】
試料Ｂ１〜Ｂ２２のボンド磁石中の磁石粉末の含有量（混合粉末の場合は、その合計の含有量）は、９７．９〜９８．３ｗｔ％であった。
【０１１１】
得られたボンド磁石の磁気特性（保磁力ｉＨｃ、磁気エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘ）を直流自記磁束計により最大印加磁場２ＭＡ／ｍにて測定した。
【０１１２】
さらに、これらのボンド磁石について、６０℃×９５％ＲＨで５００時間までの恒温恒湿試験を行い、耐食性を調べた。この耐食性は、ボンド磁石表面における錆の発生の有無を目視により判別し、錆の発生が全く無かったものを○印、錆の発生が若干認められたものを△印、錆の発生が顕著に認められたものを×印として評価した。
【０１１３】
試料Ｂ１〜Ｂ２２の各ボンド磁石について、磁気特性および耐食性の評価結果を、それぞれ下記表４および表５に示す。なお、試料Ｂ１〜Ｂ１１の各ボンド磁石については、急冷薄帯製造時のレイノルズ数および巨大ディンプルの占める面積率を、下記表４に併せて示す。
【０１１４】
【表４】

【０１１５】
【表５】

【０１１６】
表４および表５からわかるように、試料Ｂ１〜Ｂ３、Ｂ５〜Ｂ７、Ｂ９、Ｂ１０、Ｂ１２〜Ｂ１４、Ｂ１６〜Ｂ１８、Ｂ２０、Ｂ２１の本発明のボンド磁石は、いずれも、保磁力ｉＨｃ０．３５ＭＡ／ｍ以上、磁気エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘが５０ｋＪ／ｍ^３以上と、優れた磁気特性を有しているとともに、耐食性も優れている。
【０１１７】
特に、混合粉末を用いた試料Ｂ１２〜Ｂ１４、Ｂ１６〜Ｂ１８、Ｂ２０、Ｂ２１は、より優れた磁気特性が得られている。
【０１１８】
これに対し、試料Ｂ４、Ｂ８、Ｂ１１、Ｂ１５、Ｂ１９、Ｂ２２のボンド磁石は、磁気特性および耐食性が劣るものであった。
【０１１９】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、急冷薄帯において巨大ディンプルの発生を抑制し、磁気特性の均一化を図ることができ、よって、高機械的強度で優れた磁気特性および耐食性を有する永久磁石を提供することができる。また、このような磁石を容易に製造することができる。
【０１２０】
特に、冷却ロール周面の最大偏心量を小さくすることにより、急冷薄帯の磁気特性のバラツキを有効に防止し、より優れた磁気特性を持つ永久磁石を提供することができる。
【０１２１】
また、本発明では、このような磁石を容易に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁石材料を製造する装置（急冷薄帯製造装置）の構成例を示す斜視図である。
【図２】図１に示す装置における溶湯の冷却ロールへの衝突部位付近の状態を示す断面側面図である。
【図３】パドル周辺のガス流（低レイノルズ数）の状態を模式的に示す平面図である。
【図４】パドル周辺のガス流（高レイノルズ数）の状態を模式的に示す平面図である。
【図５】冷却ロールの回転に伴う冷却ロール周面の最大偏心量を示す側面図である。
【符号の説明】
１急冷薄帯製造装置
２筒体
３ノズル
４コイル
５冷却ロール
５１基部
５２表面層
５３周面
６溶湯
７パドル
７１凝固界面
８急冷薄帯
８１ロール面
８２フリー面
９巨大ディンプル
１０ガス流

Claims

雰囲気ガス中で、磁石材料の溶湯をノズルから射出し、前記ノズルに対し回転している冷却ロールの周面に衝突させ、冷却固化して、薄帯状の磁石材料を製造する磁石材料の製造方法であって、前記冷却ロールの周速度を１〜６０ｍ／秒とし、前記冷却ロールの回転に起因して発生するガス流の、前記溶湯が衝突した部位におけるレイノルズ数を１０〜７００とし、前記冷却ロールの回転に伴う冷却ロール周面の最大偏心量が、得られる薄帯状の磁石材料の平均厚さの２倍以下である冷却ロールを用い、得られる前記薄帯状の磁石材料の前記冷却ロールとの接触面において、面積が２０００μm²以上の巨大ディンプルの占める面積率が５％以下となるようにすることを特徴とする磁石材料の製造方法。
前記雰囲気ガスは、不活性ガスである請求項１に記載の磁石材料の製造方法。
前記不活性ガスは、ヘリウムガスである請求項２に記載の磁石材料の製造方法。
前記磁石材料は、Ｒ（ただし、Ｒは、Ｙを含む希土類元素のうちの少なくとも１種）を含む合金である請求項１ないし３のいずれかに記載の磁石材料の製造方法。
前記磁石材料は、Ｒ（ただし、Ｒは、Ｙを含む希土類元素のうちの少なくとも１種）とＴＭ（ただし、ＴＭは、遷移金属のうちの少なくとも１種）とＢを含む合金である請求項１ないし４のいずれかに記載の磁石材料の製造方法。
請求項１ないし５のいずれかに記載の磁石材料の製造方法により製造されたことを特徴とする薄帯状の磁石材料。
前記冷却ロールとの接触面において、面積が２０００μm²以上の巨大ディンプル以外の部分における平均結晶粒径が５０nm以下である請求項６に記載の薄帯状の磁石材料。