JP3595386B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はICチップ上の電極と外部リードをワイヤで配線(接続)した半導体装置に関し、より詳しくは、半導体装置の実装作業中又は搬送作業中のワイヤの断線を大幅に低減させることが出来る配線形状を有する半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置の組立て工程において、ICチップ上の電極と外部リードを接続する方法として、ワイヤボンディング方法が一般に採用されている。
該ワイヤボンディング方法の概要を図3(A)〜(F)を用いて説明する。図3において1はワイヤ、2はキャピラリ、3はワイヤ先端に形成されたボール、4は放電用トーチ、5はICチップ上の電極、6はICチップ、7は外部リードである。
まず図3(A)に示す様に、キャピラリ2先端からワイヤ1先端を導出し、放電トーチ4を用いて前記ワイヤ1先端にボール3を形成する。
次に(B)に示す様に、キャピラリ2を下降させてICチップ6上の電極5の上にボール3を圧着し、圧着ボール3’を形成する。
次に(C)に示す様に、キャピラリ2を垂直方向にa点まで上昇させてループ10のネック部10aに相当する部分を直立させる。次いでキャピラリ2を上昇させながら配線方向と反対方向(図において左方向)にb点まで移動させる。さらにキャピラリ2をc点まで上昇させる。この様に、配線の途中で配線方向と反対方向の変形を与える所謂リバース変形を与えることが、配線のループ10のネック部10aを直立させてループ形状を適正にコントロール出来る方法として一般的に用いられている。図4に前記配線のループ10のネック部10aを直立させてループ形状をコントロールした状態を示す。
次に(D)に示す様に、キャピラリ2をループ10を形成する方向(図において右方向)に移動させる。
次に(E)に示す様に、キャピラリ2を外部リード7の上に下降させ、ボンディングする。
最後に(F)に示す様に、キャピラリ2の上方にあるクランプ(図示省略)でワイヤ1を掴んだ状態でキャピラリ2を上昇させることにより、ワイヤ1は外部リード7から引き切られ、配線が完了する。
【0003】
前記のように、ワイヤボンディング方法の中でも所謂リバース変形を与える配線方法が現在主流になっている。
例えば特開平3−114238号で提案されている所謂リバース変形を与える配線方法は、配線のループのネック部分を直立させてループ形状をコントロール出来るため、安定した形状の配線を行うことが出来る方法である。
しかしながら、これらの従来法によるワイヤボンディング方法でICチップ上の電極と外部リードをワイヤで配線した場合、該配線をした後の半導体装置を取り出す作業中又は次工程への搬送作業中において、振動や衝撃によって断線が生じやすいという問題を有している。
一方、前記振動による断線に対する対応として、特開平5−179376号では、高純度金にGaを3〜50重量ppm及びCaを3〜30重量ppm含有させた金合金細線を配線用ワイヤとして用いることが提案されている。しかしながら該方法も、振動や衝撃による断線を防止する方法として未だ不十分であり、更なる信頼性の向上が望まれている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上述したような従来事情に鑑みてなされたものであり、ICチップ上の電極と外部リードをワイヤで配線した半導体装置において、該配線作業をした後の半導体装置を取り出す作業中又は次工程への搬送作業中に、振動や衝撃によって生じるワイヤ(配線)の断線を大幅に低減させるに有用な配線形状を有する半導体装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は鋭意検討を行った結果、半導体装置の組立て工程においてICチップ上の電極と外部リードをワイヤで接続する際、その配線形状(ループ形状)を、図4に示す様にループ10のネック部10aを鉛直に直立させることに代えて、図1に示す様にICチップ電極5上の後方(外部リード7側と反対の方向)に所定の後方突起量を形成することが、前記課題に対して効果的であることを見出し本発明に至った。その要旨とするところは次の通りである。
【0006】
すなわち本発明は、ICチップ上の多数の電極と多数の外部リードを夫々ワイヤで配線した半導体装置において、前記夫々の配線形状として、配線高さに対するICチップ電極上の後方突起量が1〜30%であることを特徴とする。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳しく説明する。
本発明に用いるワイヤは、半導体装置のICチップ上の電極と外部リードを配線する際に通常用いられる、直径10〜100μmのものが用いられる。
また材質としてはAu,Ag,Pd,Cu及びそれらの合金が用いられる。
【0008】
本発明になるワイヤの配線形状(ループ形状)について、従来の配線形状と対比して説明する。図1は本発明の配線形状の側面図であり、図4は従来の配線形状の側面図である。
図1及び図4において、10はワイヤ1により形成されたループ、3’は電極5の上に形成された圧着ボール、5はICチップ上の電極、6はICチップ、7は外部リード、8はループ10を形成するワイヤ1の熱影響部、9は該熱影響部8真上のワイヤ部分である。
従来の配線形状では図4に示す様に、ボール3形成時に生じる熱影響部8が電極5上で鉛直に直立している配線形状である。
これに対し、本発明の配線形状は図1に示す様に、前記熱影響部8が後方(外部リード7側と反対の方向)に傾斜して後方突起10bを形成することが必要である。ここでいう後方突起10bとは、外部リード7側と反対の方向(図1ではループ10を形成するワイヤ1と電極5の接続点の左方向)に形成された略「く」の字形突起をいう。
該「く」の字形突起は、熱影響部8真上のワイヤ部分9が、鋭角に曲がった状態でも、湾曲して曲がった状態でも良い。
通常、ループ10を形成するワイヤ1における圧着ボール3’の真上の部分は、ボール3形成の際に過度に加熱された熱影響部8が存在し、該熱影響部8は曲げ加工を受けにくい性質を持っている。従って、熱影響部8真上のワイヤ部分9で曲げることにより後方突起10bを形成することが好ましい。
【0009】
ここで、図4に示す如く熱影響部8及びその真上のワイヤ部分9が電極5の上から鉛直に直立した状態を基準にした後方(外部リード7側と反対の方向)への突起量を後方突起量といい、図1においてBで表示している。
本発明においては、配線高さHに対する前記後方突起量B、即ちB/Hが1〜30%であることが必要である。この時、ICチップ6上の電極5と外部リード7をワイヤ1で配線した状態で振動や衝撃を受けても、該ワイヤ1、すなわちループ10の損傷を大幅に低減出来るという優れた効果を有するようになる。
前記B/Hが1%未満の時、振動や衝撃による前記ワイヤ1の損傷を防ぐ効果が小さく、30%を超えると樹脂封止するときのワイヤ流れが大きくなるため好ましくない。このため、前記B/Hを1〜30%と定めた。
また、前記B/Hが5〜15%であると、ICチップ6上の電極5と外部リード7をワイヤ1で配線した状態で振動や衝撃を受けても、該ワイヤ1の損傷の程度を低減出来る効果が大きく、前記配線部に樹脂封止のため樹脂でモールドする際のワイヤ流れも小さく抑えることが出来る。このため前記B/Hは5〜15%であることが好ましい。
【0010】
本発明になる後方突起10bを持った配線形状は、図3に示す従来のワイヤネック部をリバース変形させただけの方法では得られない。
図2(A)〜(G)を参照して、後方突起10bの形成方法の一例を説明する。
まず図2(A)に示す様に、キャピラリ2先端からワイヤ1先端を導出し、放電トーチ4を用いて前記ワイヤ1先端にボール3を形成する。
次に(B)に示す様に、キャピラリ2を下降させてICチップ6上の電極5の上にボール3を圧着し、圧着ボール3’を形成する。ここまでは従来と同様である。
次に(C)に示す様に、キャピラリ2を上昇させた後、外部リード7側(図において右方向)へ移動させる。
次に(D)に示す様に、キャピラリ2を外部リード7のdの位置で、外部リード7真上まで下降させ、接合する前に停止する。
次に(E)に示す様に、キャピラリ2上方のクランプ(図示省略)によりワイヤ1をクランプし、この状態で外部リード7のeの位置までキャピラリ2をICチップ6側(図面では左側)に移動する。この動作によって本発明の後方突起10bが形成される。ここで形成される後方突起10bの後方突起量Bは、ワイヤ材質、ワイヤの直径、外部リード7のd点とe点間の距離を適宜に調整することによって制御出来る。またここで形成される配線高さHは、ワイヤ材質、ワイヤの直径、図2(C)におけるキャピラリ2高さを調整することによって制御される。
次に(F)に示す様に、キャピラリ2を外部リード7のeの位置で、外部リード7上面まで下降させて、ワイヤ1と外部リード7を接合する。
最後に(G)に示す様に、キャピラリ2の上方にあるクランプ(図示省略)でワイヤ1をクランプしたままキャピラリ2を上昇させることにより、ワイヤ1は外部リード7から引き切られ、配線が完了する。
尚、本発明においては所定量の後方突起10bが形成されていることが必要であり、該後方突起10bの形成方法は上記方法に限定されるものではない。例えば、図2(C)に示す様にキャピラリ2を上昇させる時、図3(C)の如くリバース変形を与えながら配線方向と反対方向に上昇させ、その後図2(D)〜(G)に示す方法で配線することも出来る。
【0011】
このようにして形成された後方突起10bを有し、且つその後方突起量Bが1〜30%である配線形状によりICチップ6上の電極5と外部リード7をワイヤ1で配線した本発明になる半導体装置は、配線後の取り出し作業や次工程への搬送作業中に振動や衝撃を受けても、該ワイヤ1、すなわちループ10の損傷を大幅に低減出来るという優れた効果を有するようになる。
尚、ICチップ6上の電極5と外部リード7をワイヤ1で前記の様に配線した後、用途に応じて樹脂等でモールドして半導体装置に仕上げる。
【0012】
而して、ICチップ上の電極と外部リードをワイヤで接続した配線形状(ループ形状)が、前述の如く所定の後方突起を持つように形成された時、振動や衝撃を受けてもワイヤの損傷の程度を大幅に低減出来る理由は明らかではないが、前記後方突起により、振動や衝撃を受ける時の振幅を小さく抑えることが出来ているためではないかと考えられる。
【0013】
【実施例】
以下、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明する。
(実施例1)
99.999重量%以上の高純度金にYを20重量ppm含有させた金合金を、高周波溶解炉で溶解、鋳造し、その鋳塊を圧延した後、伸線加工と最終焼鈍を行い、直径25μm、伸び率4%の金合金細線を製造した。
次に該金合金細線をワイヤとして、図2(A)〜(G)に示す方法でICチップ上の電極5と外部リード7を配線した。
即ち、
(A):キャピラリ2先端からワイヤ1先端を導出し、放電トーチ4を用いて前記ワイヤ1先端にボール3を形成する。
(B):キャピラリ2を下降させてICチップ電極5の上にボール3を圧着して圧着ボール3’を形成する。
(C):キャピラリ2を上昇させた後、外部リード7側へ移動させる。
(D):キャピラリ2を外部リード7のdの位置で、外部リード7真上まで下降させて接合する前に停止する。
(E):キャピラリ2上方のクランプ(図示省略)によりワイヤ1をクランプして外部リード7のeの位置までキャピラリ2をICチップ6側に移動する。この時、本発明の後方突起10bが形成される。
(F):キャピラリ2を外部リード7のeの位置で下降させて、ワイヤ1と外部リード7を接合する。
(G):キャピラリ2の上方にあるクランプ(図示省略)でワイヤ1をクランプしたままキャピラリ2を上昇させることにより、ワイヤ1は外部リード7から引き切られ、配線を完了する。
これにより、図1に示す如く、後方突起10bを有する形状の配線が得られ、前記d点とe点間の距離を適宜に調節することにより、配線高さ(H)に対する後方突起量(B)の比率を1%とした。
この様にして、1個のICチップに対して40ピン、即ち40本のワイヤ配線を行った。該試料を用いて衝撃破断試験、振動破断試験、ワイヤ流れ試験として、次の方法で加速試験を行った。
【0014】
(衝撃破断試験)
前記40ピンの配線試料6個(合計240ピン)を試料として準備した。該試料をマガジンに入れ、高さ100mmから落下させて、そのワイヤ破断本数を光学顕微鏡で検査した。ワイヤ240本中の破断本数を衝撃破断率とした。
(振動破断試験)
前記40ピンの配線試料3個(合計120ピン)を試料として準備した。該試料をマガジンに入れ、該マガジンを振動試験機に固定し、周波数50ヘルツ、重力加速度を2.5Gにて30分間振動させた後、そのワイヤ破断本数を光学顕微鏡で検査した。ワイヤ120本中の破断本数を振動破断率とした。
(ワイヤ流れ試験)
前記40ピンの配線試料3個(合計120ピン)を試料として準備した。該試料をモールディングマシンにより、エポキシ樹脂(日東電工製、MP7000)を金型温度180℃、射出圧100Kg/cm2 の条件でモールドした時のワイヤ流れ量を軟X線透過装置により撮影したX線写真から求め、120本のワイヤ変形量の平均値をワイヤ流れ量とした。
配線形状として配線高さ(H)に対する後方突起量(B)の比率と、衝撃破断試験、振動破断試験、ワイヤ流れ試験の測定結果を表1に示す。
【0015】
(実施例2〜5/比較例1〜2)
図2(E)に示すd点とe点の間の距離を調節して、配線高さ(H)に対する後方突起量(B)の比率を表1記載の様にしたこと以外は、実施例1と同様にして試料を作製し試験を行った。
配線形状として配線高さ(H)に対する後方突起量(B)の比率と、衝撃破断試験、振動破断試験、ワイヤ流れ試験の測定結果を表1に示す。
【0016】
【表1】
【0017】
以上の測定結果によれば、本発明実施例と比較例1との対比から、図4に示す様にループのネック部を鉛直に直立させた配線形状では振動や衝撃によるワイヤの断線が生じやすく、これに対し、本発明になる配線形状では、振動や衝撃を受けてもワイヤの損傷を大幅に低減出来ることが確認出来た。
また、本発明実施例と比較例2との対比から、後方突起量が本発明の範囲を越える配線形状では、ネック部を鉛直に直立させた場合(比較例1)に比べれば振動や衝撃によるワイヤの断線の度合いが改善されるものの、本発明の課題に対しては満足な結果が得られず、且つ樹脂封止するときのワイヤ流れが大きくなるため好ましくなく、これに対し、本発明になる配線形状では、振動や衝撃を受けてもワイヤの損傷を大幅に低減出来、且つワイヤ流れも小さく抑えることが出来ることが確認出来た。
さらに、実施例1,5と実施例2〜4との対比から、後方突起量が5〜15%であると、振動や衝撃を受けてもワイヤの損傷の程度を低減出来る効果が大きいことが確認出来た。
【0018】
【発明の効果】
以上説明したように本発明は、多数のICチップ電極と多数の外部リードを夫々ワイヤで接続する配線形状(ループ形状)の夫々が、ループのネック部に相当する部分が後方(外部リード側と反対方向)に傾斜して該傾斜方向に形成された略く字形の後方突起を有し、且つ該後方突起の後方への突起量が1〜30%である新規な半導体装置としたので、多数のICチップ電極と多数の外部リードを夫々ワイヤで配線した後に取り出す作業又は次工程への搬送作業中に、振動や衝撃によって生じるワイヤ(配線)の断線を大幅に低減し得、製造過程における不良品率の低い半導体装置として好適に用いることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る半導体装置の実施の形態を示す要部側面図。
【図2】本発明に係る半導体装置の配線形状の形成方法の一例を示す模式図。
【図3】従来の半導体装置の配線形状の形成方法の一例を示す模式図。
【図4】従来の半導体装置の形態を示す要部側面図。
【符号の説明】
1:ワイヤ
2:キャピラリ
5:電極
6:ICチップ
7:外部リード
10:ループ
10b:後方突起
B:後方突起量
H:配線高さ
Claims (1)
- ICチップ上の多数の電極と多数の外部リードを夫々ワイヤで配線した半導体装置において、前記夫々の配線形状として配線高さに対するICチップ電極上の後方突起量が1〜30%であることを特徴とする半導体装置。
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