JP3591942B2 - 変位情報検出装置 - Google Patents
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【発明の属する技術分野】
本発明は変位情報検出装置に関し、特に相対的に移動するスケール(第1基板)と基板(第2基板)に取り付けられた格子に光束を照射して、そこから得られる位相又は強度変調された信号光を検出することにより該スケールと基板に関する位置,位置ずれ量,位置ずれ方向,速度,加速度,原点位置等の変位情報を検出するエンコーダ(リニアエンコーダ,ロータリーエンコーダ)等に好適なものである。
【0002】
この他、これらの変位情報に基づいてACモータ等の駆動装置の電流量や方向を制御して、物体の回転移動をさせる装置(エンコーダ付モータ等)等に好適なものである。
【0003】
【従来の技術】
従来より、物体の相対的な変位情報(変位量,速度,加速度等)を高精度に測定する為の装置としてインクリメンタル型のエンコーダが多く利用されている。一般にインクリメンタル型のエンコーダにおけるインクリメンタル信号の検出機構は相対移動するスリット基板(第2基板)上に透過,非透過(又は反射,非反射)の繰り返し格子パターンを記録しておき、固定のスケール基板(第1基板)にも全く等しいピッチのスリットパターン(格子パターン)を記録しておき、両者を間隔(ギャップ)Gを隔てて重ね合わせておいてから双方に平行光束を照明している。このときスリット基板の移動によって両者のパターンの一致の具合に応じて透過光量が周期的に変化する。このときの変化量を受光素子にて検出し、正弦波状の電気的なインクリメンタル信号を得ている。又は更に2値化回路によって矩形波状に変換されて電気的なインクリメンタル信号を得ている。
【0004】
又インクリメンタル型のエンコーダのスケール又はスリット基板にアブソリュートコードトラックを設けてインクリメンタル信号とアブソリュートコード信号の双方を得るようにしたエンコーダも種々と提案されている。インクリメンタル信号とアブソリュートコード信号の双方を得るようにしたエンコーダでは相対的な変位情報を検出する為に移動スリット基板に、インクリメンタル信号用の格子パターンとアブソリュートコードトラックを併設している。そして多くの場合、両者を同時にかつ同一の光学系によって並列的に検出している。この場合は、インクリメンタル信号の検出原理もアブソリュートコード信号の検出原理もスケールとスリット基板の重なり具合の変化による透過光量の変調効果を利用している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
最近のエンコーダには変位情報の検出に高分解能化が求められている。インクリメンタル信号の検出をより高精度,高分解能に行うにはインクリメンタル信号検出用の格子パターンをより高密度に記録する必要がある。しかしながらそうすると光束がスケール上のスリット列を透過してスリット基板上のスリット列に到達する前に、光の回折現象によって明暗のコントラストが低下しやすくなる。
【0006】
これに対してスケール板とスリット基板を数10μmまで近接させる方法がある。しかしながら近接しすぎるとスケールガイド機構の誤差等によって接触して破損する場合があり、近接させることができないという問題点があった。
【0007】
アブソリュートコード信号の検出方法としては、平行光束を移動するスケール上の透過,非透過コードパターントラックに照明して、相対移動するスケール基板の相対移動に伴う各トラックにおける透過光量の変化を検出して求めている。
【0008】
しかしながら、インクリメンタル信号の検出とアブソリュートコード信号の検出とを同時に高精度に行うものはなかった。
【0009】
本発明は、装置全体の小型化を図りつつ、インクリメンタル信号及びアブソリュートコード信号を高分解能で検出し、第1基板と第2基板との相対的な変位情報を高精度に求めることのできる変位情報検出装置の提供を目的とする。
【0010】
この他本発明は、光学系全体の小型化を図りつつ、高分解能でインクリメンタル信号を得て第1基板と第2基板の相対的な変位情報を高精度に検出することができる変位情報検出装置の提供を目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明の変位情報検出装置は、光源手段と、該光源手段からの光束を平行光束として射出させるコリメーターレンズと、インクリメンタル信号検出用の位相格子とアブソリュートコード信号用の領域を有する第1基板と、格子列とアブサリュートトラックを有し、前記第1基板に対して対向配置され、相対変位する第2基板と、インクリメンタル信号を得る為の第1の受光素子と、アブソリュート信号を得る為の第2の受光素子と、を有し、前記第1基板上の位相格子の格子ピッチをP1、前記第2基板上の格子列の格子ピッチをP2とするとき、P2=P1/2を満足しており、前記光源手段からの光束を前記第1基板に設けた位相格子に入射させ、前記位相格子からの回折光同士の干渉によるピッチP1/2の干渉パターンを前記第2基板上の格子列位置に入射させた後に、前記第1受光素子に入射させることによりインクリメンタル信号を得ると共に、前記光源手段からの光束を前記第1基板に設けたアブサリュート信号用の領域に入射させ、前記アブサリュート信号領域からの光束を前記第2基板上のアブサリュートトラックに入射させた後に前記第2受光素子に入射させることによりアブサリュート信号を得ることを特徴としている。
【0027】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の実施形態1のインクリメンタル信号検出光学系の要部断面図、図2は本発明の実施形態1のアブソリュートコード信号検出光学系の要部断面図である。図3は図1のインクリメンタル信号の検出光学系と図2のアブソリュートコード信号検出光学系を一体的にまとめた要部斜視図、図4は実施形態1の受光手段で得られる信号の説明図である。
【0028】
図中、GTは第1基板としての固定の位相格子板である。位相格子板GT上には点POを中心にして4つの領域に格子の配列が1/8ピッチ分だけずれるように配置したインクリメンタル信号検出用の位相格子(位相回折格子)GT(A),GT(B),GT(A−),GT(B−)を形成している。SCLは第2基板としての矢印方向に移動可能なスリットスケールである。スリットスケールSCL上には振幅格子であるインクリメンタル信号検出用の2つのスリット格子スリット(A),スリット(B)そしてアブソリュート信号検出用の6つのアブソリュートコードトラックT(abs1)〜T(abs6)が設けられている。
【0029】
LGTはLED等の低コヒーレンシーの光源手段である。LNSはコリメーターレンズであり、光源手段LGTからの光束を平行光束としている。光源手段LGTとコリメーターレンズLNSは投光手段の一要素を構成している。PDは受光手段であり、位相格子GT(A),GT(B),GT(A−),GT(B−)を回折し、スリット格子(スリット)(A),スリット(B)で回折された回折光(インクリメンタル信号光)を受光する為の4つの受光素子PD(A),PD(B),PD(A−),PD(B−)とアブソリュート信号検出用の6つの受光素子PD(abs1)〜PD(abs6)を有している。
【0030】
本実施形態では光源手段LGT,コリメーターレンズLNS,位相格子板GT,そして受光手段PDは検出ヘッド内に収納され、固定されている。
【0031】
次に本実施形態において図1によりインクリメンタル信号の検出方法について説明する。光源手段LGTより射出された光束をコリメーターレンズLNSによって平行光束にし、位相格子板GT上に照明している。平行光束は位相格子板GT上のインクリメンタル用の位相格子GT(A),GT(B),GT(A−),GT(B−)を照明している。
【0032】
図1に示すようにインクリメンタル用の位相格子GT(A),GT(B),GT(A−),GT(B−)では凹凸形状より成り回折光束を発生して50〜数100μm離れた空間にもとの格子ピッチの半分の明暗パターンを投影する。ここで位相格子GT(A),GT(B),GT(A−),GT(B−)としてラメラ格子で0次回折光が発生しないような微細構造のものを用いている。又凹凸部でそれぞれ光を透過するものを用いている。
【0033】
位相格子板GT上の位相格子GT(A),GT(B),GT(A−),GT(B−)によってスリットスケールSCL上に投影された明暗パターンは該明暗パターンと等ピッチのスリットスケールSCL上のスリット格子SLIT(A),SLIT(B)によって該明暗パターンとスリット格子SLIT(A),SLIT(B)との位置関係に応じて選択的に透過,遮光している。
【0034】
4つの位相格子GT(A),GT(B),GT(A−),GT(B−)は点POを境界に領域を4分割していて、互いの格子の配列の位相を1/8ピッチ分ずらして形成してある。これにより、それぞれの領域を透過することにより空間に投影する明暗パターンの位相が明暗ピッチの1/4だけずらしている。そして、それぞれのスリット格子SLIT(A),SLIT(B)を透過した信号光の明暗の変化のタイミングが1/4周期ずつずれるようにして、所謂A,B相信号を発生させている。その際にスリットスケールSCLの移動によってスリット格子SLIT(A),SLIT(B)が1ピッチ分移動するとスリット格子SLIT(S),SLIT(B)を透過した光束は明暗が正弦波状に1回変化する。
【0035】
図4は、このときの4つの受光素子のうちの2つの受光素子PD(A),PD(B)に到達する光量がスリットスケールSCLの相対移動によって変化する明暗信号の様子を示している。この明暗信号光を受光素子PD(A),PD(B)で受光しており、このとき受光素子PD(A),PD(B)からスリットスケールSCLのスリット格子1ピッチ分の移動で1周期の正弦波状のアナログ信号電流を得ている。例えば、スリットスケールSCLのスリット格子ピッチがP=10μmであれば、10μm周期の正弦波状アナログ信号電流が得られる。
【0036】
本実施形態では以上のようにしてスリットスケールSCLの移動に伴うインクリメンタル信号を受光手段PDで得ている。
【0037】
尚、本実施形態において位相格子板GTの4つの位相格子の代わりに1/8ピッチずらした2つの位相格子GT(A),GT(B)を設け、又受光手段PDの4つの受光素子の代わりに2つの受光素子PD(A),PD(B)を設けて、該2つの受光素子によりA,B相信号を得るようにしても良い。
【0038】
次に本実施形態において図2によりアブソリュートコード信号の検出方法について説明する。
【0039】
図2に示すように光源手段LGTからの光束はコリメーターレンズLNSで平行光となり、位相格子板GT上の透過領域に入射する。位相格子板GT上の透過領域を通過した光束はスリットスケールSCL上の6つのアブソリュートコードトラックT(abs1)〜T(abs6)を照明する。アブソリュートコードトラックT(abs1)〜T(abs6)は、例えばフォトプロセス等で形成したCr等の膜でできた透過、非透過パターンより成っている。このアブソリュートコードトラックT(abs1)〜T(abs6)によって選択的に透過した光は各々6つの受光素子PD(abs1)〜PD(abs6)に入射する。
【0040】
図4にこれらの受光素子PD(abs1),PD(abs2)‥‥,PD(abs6)に到達する光量のスリットスケールSCLの相対移動に伴う変化の様子を示す。各受光素子からのアナログアブソリュート信号は適切な2値化回路によって波形変換されて、これによりアブソリュートコード信号として出力している。
【0041】
図3は図1のインクリメンタル信号の検出光学系及び図2のアブソリュートコード信号の検出光学系を一体的にまとめた光学系の全体構成の斜視図である。
【0042】
図3においてはインクリメンタル用の位相格子板GT上の位相格子GT(A),GT(B),GT(A−),GT(B−)をSLIT(A),SLIT(B)のように格子の配列の位相を1/8ピッチずらしている。そして、それらに対応する受光素子をPD(A),PD(B),PD(A−),PD(B−)の4つでそれぞれ受光することで互いに90°の位相差のある4相インクリメンタル信号が得られるように構成している。インクリメンタル信号の検出方法は図1で示したのと同様である。又アブソリュートコード信号の検出方法は図2で示したのと同様である。
【0043】
以上のように本実施形態ではインクリメンタル信号検出光学系とアブソリュートコード信号検出光学系を共通化している。特にインクリメンタル信号検出光学系とアブソリュートコード信号検出光学系を各々図1,図2に示すように構成して、又図3に示すように一体的に構成している。そして位相格子板GTからインクリメンタル信号用の位相格子により1/2ピッチの明暗パターンの発生する位置にスリットスケールSCLを設けている。
【0044】
本実施形態では図3に示すように、インクリメンタル用の位相格子による1/2ピッチ明暗パターンの発生及びスリットスケールSCL上のスリット格子による明暗パターンの選択的透過検出光学系と、アブソリュートコードパターンの透過検出光学系を共通の光学素子上に並列配置し、第1基板が透過凹凸状光学素子、第2基板が透過、非透過パターンによる光学素子として構造の共通化を図っている。
【0045】
又インクリメンタル信号用の受光手段PDとアブソリュートコード信号用の受光素子PD(abs1)〜PD(abs6)を同一基板上に受光素子アレイとして一体化して装置の簡素化を図っている。又、本実施形態においては次のような効果も同様に得られる。
【0046】
(A1)生産性が良い。
例えば、位相格子板GT上のインクリメンタル信号用の位相格子GT(A),GT(B),GT(A−),GT(B−)が透明な凹凸状の光学素子である為、レプリカ,射出成形等の製法で製造できるので非常にローコスト化できる。スリットスケールSCL上のインクリメンタル用のスリット格子もアブソリュートコードトラックも透過、非透過パターンである為、共通の製法(フォトプロセス等)にて製造可能であり、生産性が優れたスリットスケールが得られる。
【0047】
(A2)高分解能なアブソリュートコード信号とインクリメンタル信号が容易に得られる。
アブソリュートコードをCr膜等の完全非透過膜でパターニングできるので、S/Nの良いアブソリュートコード信号が得られる。
【0048】
(A3)小型化が容易となる。
位相格子板上にインクリメンタル用の位相格子を形成し、その他の部分を透明にしておき、スリットスケール上にインクリメンタル用のスリット格子トラックSLIT(A),SLIT(B)及びアブソリュートコードトラックパターンを併置し、更に受光素子基板上にインクリメンタル用の受光素子PD(A),PD(B)とアブソリュートコード検出用の受光素子PD(abs1),‥‥PD(abs6)を併置して受光素子アレイとして一体化しているので、各信号検出光学系部品が共通化され、小型化できる。
【0049】
図5は本発明の実施形態2のアブソリュートコード信号検出光学系の要部概略図、図6は本発明の実施形態2の要部概略図である。本実施形態は図1〜図4の実施形態1に比べて位相格子板GT上のインクリメンタル信号検出用の位相格子のトラックの両サイドにリニア回折レンズLGL1,LGL2を追加して、スリットスケールSCL上のアブソリュートコードトラック上において線状集光するようにし、アブソリュートコードパターンのエッジの検出分解能を向上させている点が異なっており、その他の構成は同じである。
【0050】
図7は本実施形態において受光素子、PD(abs1),PD(abs2)‥‥PD(abs6)におけるスリットスケールSCLの移動に伴う出力信号の説明図である。図4に比べて受光素子PD(abs1),‥‥PD(abs6)の波形の立ち上がり,立ち下がりがシャープになり、より高密度なアブソリュートコードパターンの検出を容易にしている。
【0051】
尚リニア回折レンズLGL1,LGL2はアブソリュートコードパターンが2つの領域に分かれて形成してある為にそれぞれに分けてリニア回折レンズを配置しているが、当然1か所にまとめても良い。
【0052】
尚実施形態1,2においてスリットスケールSCLを回転ディスクに変えて回転情報を検出するようにしても良い。又アブソリュートコードトラックをACモータ制御用信号用トラックに変えてインクリメンタル信号、ACモータ制御用信号(Cs相)を出力できるエンコーダとしても良い。又アブソリュートコードトラックを6つにしているが、それ以上でも以下でも良い。
【0053】
図8は本発明の変位情報検出装置を8極ACモータ制御用信号相(Cs相)付きのロータリーエンコーダに適用したときの光学構成の要部斜視図である。同図においてスリットスケールSCLはディスクスケールとして円形に構成している。スリットスケールSCLに形成されるインクリメンタル用のリニア位相格子は放射状のスリットSLIT(A),SLIT(B)として円形の帯状のトラック上に形成している。
【0054】
又位相格子板GT上の位相格子GT(A),GT(B)はスリットスケールSCLの放射状のスリットSLIT(A),SLIT(B)の放射中心軸を同じにする位相格子として形成している。
【0055】
尚インクリメンタル信号は互いに90°位相差のある4相信号A,B,A−,B−が検出されるように図8に示すように位相格子板GT上の位相格子GT(A),GT(B)を点POを中心にGT(A),GT(B),GT(A−),GT(B−)として4分割し、互いに1/8ピッチずつずらして形成している。
【0056】
又、受光手段PDは4つの位相格子に対応して4つの受光素子PD(A),PD(B),PD(A−),PD(B−)でそれぞれの信号光を受光している。8極ACモータ制御用信号相(Cs相)の6つのパターンCs−1,Cs−2,Cs−3,Cs−1−,Cs−2−,Cs−3−はスリットスケールSCL上に円弧状の透過,非透過パターンとして形成され、6つのトラック上に互いに120°の位相差のある4周期/回転の明暗パターンとして形成している。そして夫々の受光素子PD(Cs−1)〜PD(Cs−3−)にて検出している。
【0057】
【発明の効果】
第1〜第6発明によれば、装置全体の小型化を図りつつ、インクリメンタル信号及びアブソリュートコード信号を高分解能で検出し、第1基板と第2基板との相対的な変位情報を高精度に求めることのできる変位情報検出装置を達成することができる。
【0058】
又第7〜第15発明によれば、光学系全体の小型化を図りつつ、高分解能でインクリメンタル信号を得て第1基板と第2基板の相対的な変位情報を高精度に検出することができる変位情報検出装置を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態1におけるインクリメンタル信号検出光学系の説明図
【図2】本発明の実施形態1におけるアブソリュート信号検出の説明図
【図3】本発明の実施形態1における要部概略図
【図4】本発明の実施形態1における受光手段からの信号の説明図
【図5】本発明の実施形態2におけるアブソリュート信号への変換の説明図
【図6】本発明の実施形態2の要部概略図
【図7】本発明の実施形態2における受光手段からの信号の説明図
【図8】本発明をACモータ用制御信号検出を兼ね備えたロータリーエンコーダに適用したときの要部概略図
【符号の説明】
GT 位相格子板(第1基板)
GT(A),GT(B) 位相格子
SLIT スリットスケール(第2基板)
SLIT(A),SLIT(B) スリット格子
LGT 光源手段
LNS コリメーターレンズ
PD 受光手段
PD(A),PD(B),
PD(A−),PD(B−) 受光素子
T(abs1)〜T(abs6) アブソリュートコードトラック
PD(abs1)〜PD(abs6) 受光素子
Claims (1)
- 光源手段と、
該光源手段からの光束を平行光束として射出させるコリメーターレンズと、
インクリメンタル信号検出用の位相格子とアブソリュートコード信号用の領域を有する第1基板と、
格子列とアブサリュートトラックを有し、前記第1基板に対して対向配置され、相対変位する第2基板と、
インクリメンタル信号を得る為の第1の受光素子と、
アブソリュート信号を得る為の第2の受光素子と、を有し、
前記第1基板上の位相格子の格子ピッチをP1、前記第2基板上の格子列の格子ピッチをP2とするとき、P2=P1/2を満足しており、前記光源手段からの光束を前記第1基板に設けた位相格子に入射させ、前記位相格子からの回折光同士の干渉によるピッチP1/2の干渉パターンを前記第2基板上の格子列位置に入射させた後に、前記第1受光素子に入射させることによりインクリメンタル信号を得ると共に、
前記光源手段からの光束を前記第1基板に設けたアブサリュート信号用の領域に入射させ、前記アブサリュート信号領域からの光束を前記第2基板上のアブサリュートトラックに入射させた後に前記第2受光素子に入射させることによりアブサリュート信号を得ることを特徴とする変位情報検出装置。
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