JP3587765B2 - 配向剤塗布方法および塗布装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶光学素子の基板の表面に配向剤を塗布する配向剤塗布方法および塗布装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶光学素子の基板の表面に配向剤を塗布する配向剤塗布装置として、例えば液晶ディスプレイ製造装置実用便覧192頁〜199頁「液晶配向膜塗布装置」に示されている。図11は従来の液晶光学素子の配向膜塗布装置の主要部の構成を示している。
【0003】
この配向膜塗布装置は、図11に示されるように、ガラス基板を固定する塗布テーブルと、印刷凸版(パターン)を有する刷版を保持する版胴と、多数の凹状のセルが設けられているアニロックスロールと、アニロックスロールと所定のギャップを有して配置されるドクターロールと、前記ドクターロールと前記アニロックスロールの間に塗布液を滴下するディスペンサとを備えている。
【0004】
この装置では、塗布液の塗布方法は輪転印刷方式が用いられている。すなわち、ディスペンサから回転している前記ドクターロールと前記アニロックスロールの間に滴下された塗布液は、前記ドクターロールと前記アニロックスロール間で練られて前記アニロックスロール上に常時薄膜となって保持され、前記アニロックスロールから版胴上の刷版に転移保持され、塗布テーブル上に固定されたガラス基板が版胴直下を通過する時に、刷版からガラス基板上に転写塗布される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
配向膜の印刷における重要な点は、所望の膜厚にいかにあわせるか、ばらつきをいかに少なくするかという点である。従来技術において塗布液を一定にした場合、印刷膜厚やばらつきは以下の調整結果に依存する。すなわち、ドクターロールの面精度と均一性、アニロックスロールのセル形状や深さおよびピッチ、刷版のセル形状や高さおよびピッチ、各ロール間のギャップ(ドクターロールとアニロックスロール、アニロックスロールと刷版、刷版とガラス基板)、各ロールの直径、ロールの相対速度などである。このように調整項目は非常に多く、調整やメンテナンスに手間がかかる。
【0006】
また、この装置は非常に大型であり、大型の基板を処理対象としており、小型の基板に対する配向剤の塗布には適していない。
【0007】
本発明は、このような現状を考慮して成されたものであり、その目的は、調整項目が少なく簡易的に配向剤の均一塗布を実現できる方法および装置を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明による配向剤塗布方法は、配向剤を保持した配向剤保持部により表面を覆われた塗布部材を接触調整部材に所定の圧力で押圧させることによって、前記基板表面と前記塗布部材との間に所望の接触状態を与え、この所望の接触状態に保持したまま、前記塗布部材を前記基板に対して少なくとも一方向に相対的に移動させることにより、前記基板表面に前記配向剤を塗布する。
【0010】
本発明による配向剤塗布装置は、液晶光学素子の基板を保持する基板保持部材と、配向剤を保持する配向剤保持部により表面を覆われた塗布部材と、前記塗布部材が所定の圧力で押圧された際に前記塗布部材と前記基板表面との間に所望の接触状態を与える接触調整部材とを備えている。
【0011】
【発明の実施の形態】
[第一の実施の形態]
第一の実施の形態の配向剤塗布装置について、図1〜図6を参照しながら説明する。
【0012】
図1(A)と図1(B)はそれぞれ第一の実施の形態の配向剤塗布装置の正面図と側断面図であり、配向剤の塗布工程の開始前の状態すなわち装置に基板がセットされた直後の状態を示している。
【0013】
図1に示されるように、配向剤塗布装置は、液晶光学素子の基板12が載置されるベース14と、配向剤を塗布するための塗布部材16と、基板12と塗布部材16とを所望の接触状態に保持するための一対のストッパ32とを備えている。
【0014】
ベース14は、例えば金属材料からなり、基板12が設置される領域の内部に形成された穴(図示せず)を有している。穴の個数は1個でも複数個でもよい。穴はチューブ48を介して空圧機器50に連結されている。空圧機器50は、空圧制御部(図示せず)によって空圧が制御され、チューブ48を介して基板12をベース14に真空吸着することにより、基板12をベース14に適宜固定させる。
【0015】
一対のストッパ32は共に、磁性材料、例えば永久磁石からなり、一定の幅と高さを有し、その長さは基板12よりも長い。一対のストッパ32は、基板12の間隔より広い間隔をおいてベース14に固定され、両者の間に基板12が載置される。また、ストッパ32は、後述するように、塗布部材16がストッパ32に所定の圧力で押圧された際に、塗布部材16と基板表面の間に所望の接触状態が与えられる高さを有している。つまり、本実施の形態では、ストッパ32が、塗布部材16と基板表面との間に所望の接触状態を与える接触調整部材を構成している。
【0016】
ストッパ32は、磁力によってベース14に固定されるため、その位置は基板12の大きさに応じて任意に変更できる。また、ストッパ32は、基板12の厚みに応じて、適切な高さのものに容易に交換できる。これにより、様々な大きさや厚みの基板12に対しても、塗布部材16の適切な接触状態を提供できる。
【0017】
塗布部材16は、スキージ20と、これを保持するスキージホルダー22とを備えている。本明細書において、「スキージ」という用語は、表面の液(配向剤)をならすための部材を言い、好ましくはゴム等の弾性材で作られる。スキージ20は、その弾性変形により基板12の凹凸を吸収し、所定の厚み以上に塗布された配向剤をならす。
【0018】
スキージ20は、2つのストッパ32の設置間隔よりも大きい幅を有している。また、スキージ20は、ほぼ正方形の断面形状を有する形状つまり角柱形状をしており、そのエッジが下側を向くように、スキージホルダー22に保持されている。
【0019】
塗布部材16は、広義には、スキージ20とスキージホルダー22に取り付けられる配向剤保持シート18をも含んでいる。配向剤保持シート18は、スキージ20とスキージホルダー22を覆うように取り付けられ、必要に応じて適宜交換される。
【0020】
配向剤保持シート18は、配向剤を均一に保持する働きをし、例えば不織布であり、好ましくは、ケバ立ちがなくクラス100のクリーンルームに対応し、かつ配向剤の吸収・保液性を有する不織布であり、例えばベンコットリントフリー(商品名)が好適に用いられる。
【0021】
塗布部材16は、上下方向と水平方向に移動可能に支持されている。このため、塗布装置は、塗布部材16を上下に移動させる上下移動機構と、塗布部材16を上下移動機構と共に水平に移動させる水平移動機構とを有している。
【0022】
上下移動機構は、スキージホルダー22に取り付けられた2本の平行なシリンダーシャフト28と、シリンダーシャフト28を案内するシャフトホルダー26と、スキージホルダー22を上下に移動させるためのシリンダー24と、シャフトホルダー26およびシリンダー24を支持するシリンダーステージ42とを備えている。
【0023】
シリンダー24は、往復移動可能なシリンダーシャフト46を備えており、シリンダーシャフト46はスキージホルダー22に連結されている。これにより、スキージホルダー22は、シリンダー24によるシリンダーシャフト46の往復移動に従って上下に移動される。
【0024】
シリンダーシャフト46の移動およびその駆動力は、シリンダー制御部(図示せず)によって制御される。これにより、塗布部材16は、ストッパ32に所望の力で押圧され得る。
【0025】
水平移動機構は、ベース14に立てられた4本の柱38と、4本の柱38の二本ずつによって支持される2つのスライダーステージ40と、2つのスライダーステージ40にそれぞれ設けられた2本の平行なスライダー30と、2本のスライダー30の上をそれぞれ往復移動可能な2つのスライドテーブル44であって、シリンダーステージ42を支持する2つのスライドテーブル44を備えている。
【0026】
スライダー30は、スライドテーブル44に駆動力を与えてこれを移動させる。その移動の方向および速度は、スライダー制御部(図示せず)によって制御される。これにより、塗布部材16が任意の速度で水平方向に移動され得る。これにより、印刷条件のひとつであるスキージ20の印刷速度を制御できる。
【0027】
スライドテーブル44の可動範囲は、基板12の長さよりも長く設定されている。スライドテーブル44の速度や移動量等は、スライダー制御部(図示せず)によって制御される。
【0028】
従って、上下移動機構と水平移動機構の組み合わせにより、塗布部材16は、ストッパ32に所望の力で押圧されたまま、基板12の表面に平行に移動され得る。
【0029】
配向剤塗布装置は、さらに、塗布部材16に配向剤を供給するためのディスペンサ34を備えている。ディスペンサ34は、配向剤を吐出するための3本のニードル36を有している。ディスペンサ34は、ディスペンサ制御部(図示せず)によって制御され、ニードル36の先端から適量の配向剤を吐出する。
【0030】
ディスペンサ34は、基板12が載置される領域に干渉しない位置に配置されており、ニードル36の先端は塗布部材16の移動範囲内に位置している。
【0031】
続いて、配向剤塗布方法について図1〜図6を用いて説明する。
【0032】
図1に示されるように、塗布工程の開始に先立ち、まず、配向剤を塗布すべき基板12をベース14の上に載置し、空圧機器50により真空吸着して基板12をベース14に固定する。
【0033】
工程1(図2).水平移動機構(スライダー30)により塗布部材16をニードル36の上方に配置した後、上下移動機構(シリンダー24)により塗布部材16を下降させ、その表面を覆っている配向剤保持シート18をニードル36の先端に接触させ、ディスペンサ34のニードル36から配向剤を吐出させ、適量の配向剤を配向剤保持シート18に供給する。
【0034】
工程2(図3).シリンダー24により塗布部材16を上昇させた後、スライダー30により塗布部材16を基板12の上方に移動させ、シリンダー24により塗布部材16を下降させ、塗布部材16をストッパ32に対して所定の力で押圧させ、塗布部材16と基板12を所望の接触状態に保持する。これにより、配向剤保持シート18に保持された配向剤は基板12の表面に接触する。
【0035】
配向剤保持シート18と基板12の接触位置は、大きく見れば基板12の一方の端部(例えば右側の端部)の近くであるが、少なくとも配向剤保持シート18と基板12が接触した際に広がる配向剤が端部までには達しない距離だけは離れている。
【0036】
工程3(図4).ストッパ32に対する塗布部材16の押圧力を一定に保ちながら、塗布部材16を基板12の右側の端部に向けて(すなわち図4(B)の右方向に)、端部の近くまで水平移動させる。
【0037】
工程4(図5).続いて、ストッパ32に対する塗布部材16の押圧力を一定に保ちながら、塗布部材16を今度は反対に基板12の反対側の端部に向けて(すなわち逆方向つまり図5(B)の左方向に)水平移動させる。
【0038】
工程5(図6).塗布部材16が基板12の反対側の端部(すなわち左側の端部)の近くまで達したら、塗布部材16の水平移動を停止させる。
【0039】
上述した工程1〜工程5の一連の作業によって、基板12の表面に配向剤が塗布される。
【0040】
その後は、シリンダー24により塗布部材16を上昇させた後、スライダー30により塗布部材16を右方向に移動させて、塗布部材16を図1に示される最初の位置に戻す。さらに、空圧機器50による真空吸着を停止させ、基板12の固定を解除して、基板12をベース14から取り出せるようにする。
【0041】
これまでの説明から分かるように、配向剤を含んだ配向剤保持シート18は、基板12の端部の側面に触れることがない。従って、基板12の側面への配向剤のだれが生じない。また、塗布される配向剤の膜厚は、ストッパに対する塗布部材16の押圧力や塗布部材16の水平移動の速度を調整することによって、制御することができる。従って、調整項目が少なくかつ簡単な構造で簡易的に配向剤を基板表面に均一に塗布できる。
【0042】
さらに、上述した配向剤の塗布方法では、配向剤を含んだ配向剤保持シート18を基板12の表面に、配向剤を塗布すべき領域の内側で接触させた後、塗布部材16を近い側の端部まで一旦移動させた後、続けて反対側の端部まで移動させている。この工程により、塗布むらが発生しやすい塗布開始位置の前後においても、配向剤が基板表面に均一に塗布される。その理由は、以下のように考えられる。
【0043】
一般に、スキージ20を用いた液体の塗布では、塗布開始位置の前後で塗布むらが発生しやすい。これは、配向剤と基板との界面張力のために、塗布開始位置において、スキージ20の前後に配向剤が所定の厚み以上にぬれひろがってしまい、スキージ20の一方向だけの移動では塗布開始位置の余分な配向剤が十分に引き延ばされないためである考えられる。
【0044】
本実施の形態では、スキージ20は塗布開始位置から一方向に移動された後に反対方向に移動されて再び塗布開始位置を横切るので、塗布開始位置において所定の厚み以上にぬれひろがった余分な配向剤が、配向剤保持シート18によって除去され、またスキージ20によって十分に引き延ばされるためと類推される。
【0045】
本発明の実施の形態の各構成は、当然、各種の変形や変更が可能である。
【0046】
例えば、ディスペンサ34のニードル36の数は、3つであったが、この数はこれに限定されるものではなく、任意に変更可能である。
【0047】
また、スキージ20は、断面がほぼ正方形の角柱形状をしているが、スキージ20の形状はこれに限定されるものではなく、様々な形状に変更可能である。
【0048】
図7は塗布部材16の第一の変形例を示している。本変形例では、スキージ20は、平型のスキージであり、平板状の形状を有している。スキージホルダー22は、スキージ20のエッジが基板12の表面に接触するように、シリンダー24のシリンダーシャフト46に傾斜して取り付けられている。
【0049】
図8は塗布部材16の第二の変形例を示している。本変形例では、スキージ20は、I型スキージであり、ハイフンを印字するスタンプとほぼ同じ形状を有している。つまり、スキージ20は、断面が長方形の角柱形状部と、その一側面の中央に延びる幅の狭い一定の幅の突出部とを有している。
【0050】
さらに、塗布方法は以下のように変更されてもよい。
【0051】
配向剤の塗布開始位置については、図2に示される工程1の後、塗布部材16の配向剤保持シート18を、基板12の一方の端部よりわずかに内側の位置(すなわち塗布すべき領域の端)で基板12の表面に接触させ、塗布部材16を基板12の他方の端部に向けて一方向のみに移動させることにより、配向剤の塗布を行なってもよい。この方法では、塗布開始位置に塗りむらが生じやすいが、この部分が実際に使用される領域の外に位置している分には何等問題は生じない。
【0052】
また、配向剤塗布動作は、1回に限定されるものでなく、適当な回数、繰り返されてもよい。つまり、図6の工程5に続いて、工程3(図4)から工程5(図6)を逆行する工程、すなわち塗布部材16を右方向へ移動させる工程を追加してもよい。さらに、塗布部材16を左右方向に移動させる作業は、適当な回数繰り返されてもよい。
【0053】
[第二の実施の形態]
第二の実施の形態の配向剤塗布装置について図9を参照しながら説明する。本実施の形態の装置は第一の実施の形態の装置と類似している。図9において、第一の実施の形態の部材と同じ参照符号で示された部材は同等の部材であり、その詳しい説明は記載の重複を避けるために省略する。以下では、相違する構成に重点をおいて説明する。
【0054】
本実施の形態の配向剤塗布装置は、図9に示されるように、第一の実施の形態のシリンダー24の代わりに、両ロッド型のシリンダー52と、シリンダー52のシリンダーシャフト54に取り付けられたストッパ56とを備えている。また、本実施形態の装置は、第一の実施の形態の装置とは異なり、ストッパ32を備えていない。
【0055】
シリンダー52は、上下に突出したシリンダーシャフト54を有している。シリンダーシャフト54はシリンダー52により上下方向に移動され得る。
【0056】
シリンダーシャフト54の下端はスキージホルダー22に連結されている。シリンダーシャフト54の上方に突出した部分には、軸方向に精密なねじ山と目盛りが形成されている。ねじ山と目盛りは等しいピッチを有している。
【0057】
ストッパ56は、ほぼ円柱形状の金属材料からなり、軸方向にめねじを有する貫通穴が形成されている。また、外周に沿って100分割される精密な目盛りが形成されている。
【0058】
このようなシリンダーシャフト54とストッパ56の組み合わせは、マイクロメータヘッドとして機能する。従って、ストッパ56を回転させてシリンダーシャフト54に対するストッパ56の位置を調整することにより、シリンダーシャフト54の軸方向の移動量の測定と停止位置の制御が行える。これにより、塗布部材16が取り得る最下位置の調整を行える。
【0059】
つまり、本実施の形態では、シリンダーシャフト54とストッパ56が、塗布部材16と基板表面との間に所望の接触状態を与える接触調整部材を構成している。
【0060】
本実施の形態では、基板12と配向剤保持シート18の間隔(配向剤の接触状態)を目盛りを参考にストッパ56を回転させるだけの簡単な作業で調整できる。これにより、厚みの異なる様々な基板に対して、配向剤を均一な膜厚で容易に塗布することができる。
【0061】
本発明の実施の形態の各構成は、当然、各種の変形や変更が可能である。
【0062】
図10は、第二の実施の形態の配向剤塗布装置の変形例に係る配向剤塗布装置を示している。
【0063】
本変形例の装置では、シリンダーステージ42は、ベース60に立てられた2本の柱62に直接固定されている。
【0064】
ベース60の上にはガイドベース64が設けられている。ガイドベース64には、特定の方向(図10(B)の左右方向)に往復可能な基板テーブル66が設けられている。ガイドベース64は、基板テーブル66を移動させ、その方向や速度は、ガイドベース制御部(図示せず)によって制御される。基板テーブル66の可動範囲は、基板12の長さよりも長い。
【0065】
基板テーブル66は、基板12が設置される領域の内部に形成された穴(図示せず)を有している。穴はチューブ48を介して空圧機器50に連結されている。空圧機器50は、真空吸着により、基板12を基板テーブル66に適宜固定させる。
【0066】
さらに、基板テーブル66には、ディスペンサ制御部(図示せず)により制御されたディスペンサ34(図示せず)により適量の配向剤を吐出するためのニードル36が設けられている。
【0067】
本変形例の装置では、基板12は、基板テーブル66と共に、ガイドベース64によって水平に移動される。つまり、本変形例では、ガイドベース64が水平移動機構を構成している。
【0068】
本変形例においても、基板12と配向剤保持シート18の間隔(配向剤の接触状態)を目盛りを参考にストッパ56を回転させるだけの簡単な作業で調整できる。これにより、厚みの異なる様々な基板に対して、配向剤を均一な膜厚で容易に塗布することができる。
【0069】
これまで、いくつかの実施の形態について図面を参照しながら具体的に説明したが、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で行なわれるすべての実施を含む。
【0070】
従って、本発明の配向剤塗布方法と配向剤塗布装置について、以下のことが言える。
【0071】
(1)液晶光学素子の基板の表面に配向剤を塗布する配向剤塗布方法において、配向剤を保持した配向剤保持部により表面を覆われた塗布部材を、前記基板表面と前記塗布部材との間に所望の接触状態を与えるための接触調整部材に対して所定の圧力で押圧した状態で、前記基板に対して相対的に移動させることで、前記基板表面に均一に前記配向剤を塗布することを特徴とする配向剤塗布方法。
【0072】
(実施の形態との対応)
液晶光学素子の基板は基板12に、配向剤は配向剤に、配向剤保持部は配向剤保持シート18に、塗布部材はスキージ20に、それぞれ対応する。
【0073】
(作用効果)
調整項目が少なく簡易的に配向剤を均一塗布する方法を提供できる。
【0074】
(2)前記配向剤塗布部材が前記基板の端部より内側で前記基板に対向する位置において、前記塗布部材を前記接触調整部材に対して所定の圧力で押圧させ、押圧した状態のまま前記基板の一方の端部近傍まで前記塗布部材を移動させ、その後、前記基板のもう一方の端部に向けて移動させることで前記配向剤を塗布することを特徴とする請求項1に記載の配向剤塗布方法。
【0075】
(作用効果)
塗りむらが生じ易い塗布開始位置においても配向剤を均一に塗布する方法を提供できる。
【0076】
(3)液晶光学素子の基板を保持する基板保持部材と、配向剤を保持する配向剤保持部により表面を覆われた塗布部材と、前記塗布部材を前記基板表面に対して所望の接触状態を与えるように保持する接触調整部材とを有することを特徴とする配向剤塗布装置。
【0077】
(実施の形態との対応)
液晶光学素子の基板は基板12に、基板保持部材はベース14または基板テーブル66に、配向剤は配向剤に、配向剤保持部は配向剤保持シート18に、塗布部材はスキージ20に、接触調整部材はストッパ32またはストッパ56に、それぞれ対応する。
【0078】
(作用効果)
接触調整部材は塗布部材の基板との接触状態を制御する機能を有する。これにより、単純な構成で配向剤を均一塗布できる装置を提供できる。
【0079】
(4)前記塗布部材を前記接触調整部材に対して所定の圧力で押圧した状態で移動させる移動手段をさらに有することを特徴とする第3項に記載の配向剤塗布装置。
【0080】
(実施の形態との対応)
移動手段はスライダー30、基板テーブル66に対応する。
【0081】
(作用効果)
移動手段により押圧した状態で配向剤の塗布が可能となるので、配向剤の塗布量の制御ができる。
【0082】
(5)前記配向剤を前記塗布部材の配向剤保持部に供給する配向剤供給手段をさらに有することを特徴とする第3項または第4項に記載の配向剤塗布装置。
【0083】
(実施の形態との対応)
配向剤供給手段はディスペンサ34に対応する。
【0084】
(作用効果)
配向剤供給手段は、配向剤保持部の配向剤量を常に適量となるよう制御できる。
【0085】
(6)前記配向剤保持部は、前記配向剤を吸収する不織布であることを特徴とする第3項ないし第5項のいずれかひとつに記載の配向剤塗布装置。
【0086】
(作用効果)
不織布は、配向剤を均一に保持する機能を有する。これにより、配向剤の基板表面への供給量が安定するので歩留まりを向上できる。
【0087】
(7)前記塗布部材は、平型または角型またはI型のスキージであることを特徴とする第3項ないし第6項のいずれかひとつに記載の配向剤塗布装置。
【0088】
(作用効果)
スキージは、配向剤を塗布する機能および除去する機能を有する。これにより、塗布量の制御ができる。
【0089】
(8)前記塗布部材は弾性部材からなることを特徴とする第3項ないし第7項のいずれかひとつに記載の配向剤塗布装置。
【0090】
(作用効果)
弾力を有する部材は、基板の凹凸を吸収する機能を有する。これにより、基板の変形にも対応できる。
【0091】
【発明の効果】
本発明によれば、調整項目が少なく簡易的に配向剤の均一塗布を実現できる配向剤塗布方法および配向剤塗布装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】第一の実施の形態の配向剤塗布装置を示しており、配向剤の塗布の開始前の状態すなわち装置に基板がセットされた状態を示しており、(A)は正面図、(B)は側断面図である。
【図2】配向剤の塗布の最初の工程の状態における第一の実施の形態の配向剤塗布装置を示しており、(A)は正面図、(B)は側断面図である。
【図3】図2に続く配向剤の塗布工程の状態における第一の実施の形態の配向剤塗布装置を示しており、(A)は正面図、(B)は側断面図である。
【図4】図3に続く配向剤の塗布工程の状態における第一の実施の形態の配向剤塗布装置を示しており、(A)は正面図、(B)は側断面図である。
【図5】図4に続く配向剤の塗布工程の状態における第一の実施の形態の配向剤塗布装置を示しており、(A)は正面図、(B)は側断面図である。
【図6】図5に続く配向剤の塗布工程の状態における第一の実施の形態の配向剤塗布装置を示しており、(A)は正面図、(B)は側断面図である。
【図7】第一の実施の形態の配向剤塗布装置に適用可能な塗布部材の第一の変形例を示している。
【図8】第一の実施の形態の配向剤塗布装置に適用可能な塗布部材の第二の変形例を示している。
【図9】第二の実施の形態の配向剤塗布装置を示しており、配向剤の塗布の開始前の状態を示しており、(A)は正面図、(B)は側断面図である。
【図10】第二の実施の形態の変形例による配向剤塗布装置を示しており、配向剤の塗布の開始前の状態を示しており、(A)は正面図、(B)は側断面図である。
【図11】従来の配向剤塗布装置の主要部の構成を概略的に示している。
【符号の説明】
14 ベース
16 塗布部材
18 配向剤保持シート
20 スキージ
22 スキージホルダー
32 ストッパ
Claims (4)
- 液晶光学素子の基板の表面に配向剤を塗布する配向剤塗布方法において、配向剤を保持した配向剤保持部により表面を覆われた塗布部材を接触調整部材に所定の圧力で押圧させることによって、前記基板表面と前記塗布部材との間に所望の接触状態を与え、この所望の接触状態に保持したまま、前記塗布部材を前記基板に対して少なくとも一方向に相対的に移動させることにより、前記基板表面に前記配向剤を塗布することを特徴とする配向剤塗布方法。
- 前記基板表面と前記塗布部材とを所望の接触状態に保持した最初の位置から、前記接触調整部材に対する前記塗布部材の押圧力を一定に保ちながら、前記塗布部材を、前記基板の一方の端部近くまで移動させた後、前記基板の反対側の端部近くまで移動させることを特徴とする請求項1に記載の配向剤塗布方法。
- 液晶光学素子の基板を保持する基板保持部材と、
配向剤を保持する配向剤保持部により表面を覆われた塗布部材と、
前記塗布部材が所定の圧力で押圧された際に前記塗布部材と前記基板表面との間に所望の接触状態を与える接触調整部材とを備えていることを特徴とする配向剤塗布装置。 - 前記接触調整部材は、前記基板を挟んで基板を保持する部材に載置され、前記塗布部材がこの接触調整部材に所定の圧力で押圧された際に、前記塗布部材と前記基板表面の間に所望の接触状態が与えられる高さを有しており、かつ、前記基板の厚さに応じて交換可能に設けられていることを特徴とする請求項3に記載の配向剤塗布装置。
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