JP3571756B2 - スピン偏極stm装置 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は、磁性体の磁化状態を原子レベルで検出することを可能にしたスピン偏極STM(走査型トンネル顕微鏡)装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
STM(走査型トンネル顕微鏡)は、表面の 1個 1個の原子を実空間で観察することを可能にした装置であり、 W等の非磁性体からなる探針と試料間に働くトンネル電流を検出して、試料の原子レベルでの表面形状を観察すること等に利用されている。さらに、STM装置は他の物理量を検出することで、例えば原子間力を利用したAFM(原子間力顕微鏡)や、磁気力を利用したMFM(磁気力顕微鏡)等、多くの広がりを見せている。さらに最近では、STM装置を磁気情報の記録・再生に用いようとする研究もなされている。ただし、通常の W等を探針に用いたSTM装置では、トンネル電流等からスピンに関する情報を得ることはできない。
【0003】
トンネル電流からスピンに関する情報を得る方法としては、スピン偏極STM(SP−STM)技術が知られている。これにより、磁性体のスピン状態を原子レベルの分解能をもって検出することが可能となる。例えば、Wiesendangerらは、強磁性 CrO2 チップを用いて、反強磁性体であるCr表面のスピン状態を観察することに成功している(Phys.Rev.Lett.65,247(1990))。しかし、この方法は試料のスピン構造が明確に分かっている場合には有効であるが、強磁性体やスピン状態が未知の試料に対しては適用することができない。また、強磁性体からなるチップを用い、観察しようとする試料のスピン状態を外部磁界で変化させて、スピン状態の違いに伴うトンネル電流の違いから試料の磁化状態を判定しようとすると、一般に強磁性体チップの磁化状態も変化してしまうため、実際には試料の磁化状態を判定することはできない。
【0004】
さらに、STM装置では、探針を走査させて、試料のトポロジカルな変化に対応したトンネル電流の違いから試料表面の原子の凹凸を検知するのであるが、原子スピンに関する情報を得るスピン偏極STM装置では、探針を走査させたとき、試料のトポロジカルな変化に伴うトンネル電流と、スピンの違いによるトンネル電流とを区別できなければならない。このためには、探針を取り換えることなく、探針の磁化状態を外部パラメータで変化させ得ることが望ましい。
【0005】
最近、末岡らはGaAs半導体チップを用いて、磁性体の磁化状態を観察する研究を行っている(Jpn.J.Appl.Phys.32,2989(1993))。これは、円偏光した励起光によって、スピン偏極されたGaAsの伝導電子を磁性体にトンネルさせる方法である。この場合、円偏光の方向を変えることで、スピン偏極の方向を変えることができるため、原理的には両者のトンネル電流の違いを利用して、磁性体の磁化状態を原子レベルの分解能で検出することが可能となる。しかし、一般にGaAsチップは、その作製が困難であり、実際にはまだその観察には成功していない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、スピン偏極STM装置においては、試料のトポロジカルな変化に伴うトンネル電流と、スピンの違いによるトンネル電流とを区別できなければならないため、探針の磁化状態を外部パラメータで変化させ得ることが望ましい。GaAs半導体チップからなる探針は、このようなスピン偏極STM装置用として有効であるが、一般にその作製が困難であり、実用的ではない。
【0007】
本発明は、このような課題に対処するためになされたもので、磁化状態を外部パラメータで変化させることができ、かつ容易に作製することが可能な探針を用いることによって、実用的に各種試料の磁化状態を正確に検出することを可能にしたスピン偏極STM装置を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明のスピン偏極STM装置は、エネルギーギャップが0.03eV以上の半導体からなるスペーサ層を介して積層された複数の磁性体層を有し、光照射により前記磁性体層間の磁気的相互作用が変化する積層膜からなる探針と、前記積層膜からなる探針に光を照射し、前記磁性体層間の磁気的相互作用を変化させる手段と、前記探針と試料間に働くトンネル電流または磁気力を検出する手段とを具備することを特徴としている。
すなわち、極最近、例えばFeとSiOあるいはFeとSiを交互に積層した積層膜において、光の照射によりFe層間の磁気的な交換相互作用が変化するという新しい現象が見いだされており(Phys.Rev.Lett.71,185(1993)、Z.Phys.B92,137(1993))、本発明はこのような磁化状態が外部パラメータで変化し得る積層膜をスピン偏極STM装置の探針に用いるというものである。
【0009】
【作用】
本発明のスピン偏極STM装置においては、探針として、光により磁性体層間の磁気的相互作用が変化する磁性体層とスペーサ層との積層膜を用いている。探針として用いた積層膜中の磁性体層間の磁気的相互作用は、光照射により変化するため、光を照射する前の状態(初期状態)と光照射時とでは、探針と試料間に働くトンネル電流や磁気力が変化する。またこのとき、試料のスピンが探針方向を向いているか、あるいは探針と反対方向を向いているかによっても、探針と試料間に働くトンネル電流や磁気力が変化する。従って、例えば初期状態における探針と試料間に働くトンネル電流または磁気力と、光照射時におけるトンネル電流または磁気力とを比較することによって、試料の磁化状態を正確に判定することが可能となる。
【0010】
【実施例】
次に、本発明の実施例について説明する。
【0011】
図1は、本発明の一実施例によるスピン偏極STM装置の概略構成を示す図であり、図2はこのスピン偏極STM装置の探針として用いた積層膜の構造を示す断面図である。図1において、1は探針であり、この探針1は図2に示すように、磁性体層2とスペーサ層3とを交互に積層した積層膜4からなるものである。この積層膜4は、光照射により磁性体層2間の磁気的な交換相互作用が可逆的に変化する、いわゆる光誘導磁気効果を有するものであり、例えば非磁性基板5上に形成して、探針1として使用される。また、微細加工により積層膜4を形成することも可能である。
【0012】
上記積層膜4からなる探針1は、X−Y−Z方向に自在に移動可能なスキャナ6に保持されており、この探針1に対して、その走査時にレーザ光等を随時照射することが可能な図示しない光照射手段が設けられている。スキャナ6は、直交された 3つの圧電体により構成されており、スキャナ6の動作は主に走査回路7により制御される。積層膜4からなる探針1により検出された、探針1と磁性体試料8間の例えばスピン偏極トンネル電流は、トンネル電流増幅回路9で増幅された後に、磁性体試料8の磁化状態を判定する手段としてのスピン方向判定回路10に送られ、後に詳述するスピン方向の判定方法に従って磁性体試料8のスピンに関する情報として出力される。
【0013】
なお、磁性体試料8の表面凹凸が大きいような場合には、例えば図1中に点線で示すように、トンネル電流増幅回路9からの出力を一旦サーボ回路11に送り、光照射前の初期状態におけるスピン偏極トンネル電流が設定値以上となるように、スキャナ6のZ軸方向の動作をフィードバック制御すればよい。
【0014】
探針1として用いた積層膜4において、磁性体層2はFe、Co、Niおよびこれらの 2種以上の合金からなるものである。また、スペーサ層3としては、光を照射した際に、磁性体層2間の磁気的な交換相互作用を変化させることが可能な材料、例えばエネルギーギャップが0.03eV以上、さらには0.05eV以上の半導体が好ましく用いられる。スペーサ層3として用いる半導体のエネルギーギャップが0.03eV未満であると、室温において光誘導磁気効果を発現することが困難となる。
【0015】
ここで、磁性体層2とスペーサ層3との積層膜4としては、特に光を照射しないとき、すなわち初期状態では、スペーサ層3を介した磁性体層2間のスピンが互いに略反平行で、光を照射したときにスピンの方向が略平行に変化する積層膜4が、このようなスピン配列を容易に実現できる点で特に望ましい。初期状態における磁性体層2間のスピンの向きは、スペーサ層3の構成材料や厚さにより異なり、例えばSi、a−Si、 SiO、 ZnO、遷移金属シリサイド Mx Siy (MはFe、Co、Niおよびこれらの 2種以上の合金から選ばれた 1種を示し、 xおよび yは任意の数である)等を用いることによって、上述したようなスピンの初期状態を満足させることができる。またこのとき、積層膜4の面内には、一軸磁気異方性が導入されていることが望ましく、これにより探針1の磁化状態を安定化でき、トンネル電流等の測定が容易となる。ただし本発明では、スピンの向きは磁性体層2の厚さ方向であっても構わない。
【0016】
また、探針1として用いる積層膜4は、光を遮断すると直ちに光を照射しない状態、すなわち初期のスピン配列(磁化状態)に戻ることが望ましい。このような場合、光をパルス状で照射すれば、それに応じて磁性体試料8からのスピンに依存したトンネル電流を検出することができる。光を遮断した際に、積層膜4の磁化状態が直ちに初期状態に戻るかどうかは、磁性体層2の厚さd[cm]、異方性K [erg/cm3 ] と、スペーサ層3の厚さ等に基づく磁性体層2間の磁気的な交換相互作用の大きさJ [erg/cm2 ] 等により決定され、これらの値が(J/d)K<1を満足することにより、積層膜4の磁化状態を光遮断後直ちに初期状態に戻すことができる。
【0017】
なお、本発明において、探針1として用いる積層膜4に照射する光としては、例えば半導体レーザ等のレーザ光を挙げることができ、具体的にはスペーサ層3の構成材料のエネルギーギャップに対応した波長のレーザ光をスペーサ層3に照射すればよい。
【0018】
磁性体層2の具体的な厚さは、探針1の分解能および上記条件を満足させるために、 1〜10nmの範囲とすることが好ましい。また、スペーサ層3の厚さは、磁性体層2間の交換相互作用を変化させるのに必要な光エネルギーにも影響し、スペーサ層3の厚さが薄いほど上記光エネルギーを少なくすることができるが、薄すぎると上記式中のJの値が増大するので、上記条件を考慮した上で 1〜10nmの範囲とすることが好ましい。
【0019】
上述したような構成の積層膜4は、例えばMBE法や超高真空スパッタ法等の超高真空を用いる薄膜形成法で作製することができる。また、RFマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法、真空蒸着法等の初期真空度が 1×10−5Pa以下の通常の薄膜形成技術によっても作製することができる。
【0020】
この実施例では、スピン偏極STM装置の探針1として用いる積層膜4として、イオンビームスパッタ法により厚さ 3nmのFe膜(磁性体層2)と厚さ 4nmの SiO膜(スペーサ層3)とを交互に積層した多層積層膜をSi基板上に作製した。この際に用いたイオンビームスパッタ装置を図3に示す。
【0021】
図3において、チャンバ21の排気口22は、図示しない真空ポンプに接続されており、チャンバ21内の圧力は圧力ゲージ23により測定される。チャンバ21内には、基板ホルダ24が設置され、この基板ホルダ24に基板25が保持される。基板ホルダ24内にはヒータ26が配設されていると共に、基板ホルダ24付近には冷却水27が流されており、これらにより基板ホルダ24および基板25の温度が調節可能となっている。基板ホルダ24の温度は、熱電対28により測定される。基板25の前面にはシャッタ29が設けられている。基板25と対向する位置には、ターゲットホルダ30が設けられ、その表面に複数のターゲット31が取り付けられている。ターゲットホルダ30は、冷却水32により冷却される。ターゲット21に対向する位置にはイオンガン33が設けられ、イオンガン33には、例えばArガス34が供給される。
【0022】
上述したようなイオンビームスパッタ装置を用いて、まずチャンバ21内にSi基板25をセットし、チャンバ21内を 6.7×10−5Paまで排気したのち、Arガスを 1.3×10−2Paまで導入し、スパッタArの加速電圧を500V、ビーム電流30mAの条件にて、Fe、 SiOの順番に交互にスパッタリングを行った。積層数は20とした。この後、積層膜4は先端径が好ましくは 1〜10nm程度となるように加工され、探針1が作製される。ここで、探針1の好ましい先端径を 1〜10nmとしたのは、 1nm未満の先端径を有する探針1を作製することは加工上困難であり、また先端径が10nmを超えると、磁性体の磁化状態を判定する際の分解能が低下するおそれがあるからである。
【0023】
このようにして得た積層膜に外部からArレーザ光を照射し、その前後の磁化曲線をKerr効果測定装置を用いて測定した。その結果を図4に示す。図4(a)は照射前であり、図4(b)は光照射時の磁化曲線である。図4から明らかなように、光照射前の磁化は零であるが、光照射時には大きな磁化が発生し、磁化状態が大きく異なっており、積層膜が光誘導磁気効果を有していることが分かる。これは、光照射前にはFe層間のスピンが互いに反平行であったものが、光照射によりスピンが平行に変化したことを意味する。また、光照射を止めると、元の磁化零の状態に直ちに戻った。
【0024】
次に、上述したような積層膜4からなる探針1を用い、探針1と磁性体試料8間のトンネル電流を検出して、磁性体試料8の磁化状態を判定する方法について述べる。
【0025】
積層膜4からなる探針1は、図5に示すように、スピンが反平行に向いた方向が、観察しようとする磁性体試料8面の磁化方向と平行または反平行となるように配置される。ただし、探針1と磁性体試料8間の磁気力を検出する場合は、磁性体試料8の磁化方向が探針1との対向面と平行である場合でも、図5に示すように探針1のスピンが反平行に向いた方向を磁性体試料8面に向けて、磁性体試料8からの漏洩磁界で磁性体試料8の磁化状態が判定される。そして、まず図6(a)に示すように、探針1に光を照射する前の初期状態において、すなわち磁性体層2間のスピンが互いに反平行の状態において、磁性体試料8から探針1へのスピン偏極トンネル電流I0 を測定する。次いで、探針1に光を照射すると、探針1のスピンは交換相互作用の変化によって、図6(a)から図6(b)のように、磁性体層2間のスピンが互いに平行な状態に変化する。
【0026】
このとき、磁性体試料8から探針1へのスピン偏極トンネル電流Iは、磁性体試料8のスピンの向きが磁性体層2間のスピンが互いに平行となった探針1のスピンの向きと同じ場合(図6(b−1):I↑↑)と、異なる場合(図6(b−2):I↑↓)とで大きさが異なる。また、これらスピン偏極トンネル電流I↑↑、I↑↓は、光照射前の初期状態におけるスピン偏極トンネル電流I0 とも異なり、これらの間にはI↑↑>I0 >I↑↓の関係が成立する。
【0027】
従って、光を照射する前の初期状態におけるスピン偏極トンネル電流I0 を参照情報とし、それと光照射時のスピン偏極トンネル電流I↑↑またはI↑↓とを比較することにより、磁性体試料8のスピンの向き、すなわち磁化状態を原子レベルで決定することができる。そして、この磁化状態の判定は、各磁区毎に初期状態におけるスピン偏極トンネル電流I0 との比較により行っているため、トポロジカルなトンネル電流の差と区別することができ、これにより磁性体試料8の磁化状態を正確に判定することが可能となる。
【0028】
上述したようなスピン偏極STM装置によれば、例えば磁性体試料8の磁化状態を原子レベルの分解能で観測することが可能となる。また、磁性体試料8として垂直磁気記録媒体を用いれば、スピン偏極STM装置は例えばナノメートル領域の磁区の超高密度磁気再生装置として使用することができる。
【0029】
なお、上記実施例においては、探針と試料間のトンネル電流を測定するスピン偏極STM装置に適用した例について説明したが、本発明はこれに限らず、探針と試料間の磁気力を検出するスピン偏極STM装置に用いることもできる。
【0030】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のスピン偏極STM装置によれば、磁性体の磁化状態を原子レベルの分解能で正確に観測することができ、極めて高い学術的意義をもたらすばかりでなく、例えばナノメートル領域の磁区を判定する超高密度磁気再生が可能となり、今後の超高密度磁気記録再生の開発に大きく寄与する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例によるスピン偏極STM装置の概略構成を示す図である。
【図2】図1に示すスピン偏極STM装置の探針として用いた積層膜の構造を示す断面図である。
【図3】本発明の実施例にて探針として用いた積層膜の作製に用いたイオンビームスパッタ装置の構成を示す図である。
【図4】図3に示すイオンビームスパッタ装置で作製した積層膜の光誘導磁気効果を示す図である。
【図5】積層膜からなる探針の配置状態を示す図である。
【図6】光誘導磁気効果を利用した試料の磁化状態の判定方法を説明するための図である。
【符号の説明】
1……探針
2……磁性体層
3……スペーサ層
4……積層膜
6……スキャナ
9……トンネル電流増幅回路
10…スピン方向判定回路
Claims (4)
- エネルギーギャップが0.03eV以上の半導体からなるスペーサ層を介して積層された複数の磁性体層を有し、光照射により前記磁性体層間の磁気的相互作用が変化する積層膜からなる探針と、
前記積層膜からなる探針に光を照射し、前記磁性体層間の磁気的相互作用を変化させる手段と、
前記探針と試料間に働くトンネル電流または磁気力を検出する手段と
を具備することを特徴とするスピン偏極STM装置。 - 前記積層膜は、初期状態における前記磁性体層間のスピンが互いに略反平行で、光照射時に前記スピンが略平行となることを特徴とする、請求項1記載のスピン偏極STM装置。
- 前記初期状態における前記探針と試料間に働くトンネル電流または磁気力と、前記光照射時の前記探針と試料間に働くトンネル電流または磁気力との比較から、前記試料の磁化状態を判定する手段を有することを特徴とする、請求項2記載のスピン偏極STM装置。
- 前記積層膜は、光を遮断すると前記初期状態のスピン配列に戻ることを特徴とする、請求項2記載のスピン偏極STM装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP12631794A JP3571756B2 (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | スピン偏極stm装置 |
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