JP3558684B2 - ピロリジルチオカルバペネム誘導体の乾燥方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、残留溶媒を減少させるためのピロリジルチオカルバペネム誘導体の乾燥方法、ならびに溶解性に優れた、該ピロリジルチオカルバペネム誘導体の結晶およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
次式で示される構造を有する、（１Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−２−［（３Ｓ，５Ｓ）−５−スルファモイルアミノメチル−１−ピロリジン−３−イル］チオ−１−メチル−１−カルバ−２−ペネム−３−カルボン酸（または（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−３−［［（３Ｓ，５Ｓ）−５−（スルファモイルアミノメチル）ピロリジン−３−イル］チオ］−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３．２．０．］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸）（以下、本明細書中では、Ｓ−４６６１という）は、ピロリジルチオカルバペネム誘導体であり、抗菌剤として有用な化合物である。
【０００３】
【化１】
【０００４】
上記Ｓ−４６６１は特開平５−２９４９７０号公報に記載されている。Ｓ−４６６１は結晶または非晶質の状態で精製される。このＳ−４６６１の精製工程には、有機溶媒、水またはその混合溶媒が用いられる。例えば、有機溶媒、水またはその混合溶媒で粗製のＳ−４６６１を洗浄したり、あるいはこれらの溶媒を用いて、再結晶などの手段でＳ−４６６１を精製したりする工程が行われる。しかし、このような工程を経て得られたＳ−４６６１を乾燥して、残留有機溶媒を所望の基準値以下まで減少させることは困難であった。すなわち、通常の減圧乾燥法を用いて乾燥した場合、残留有機溶媒含量は０．４％が限界であった。また超臨界抽出法を用いても、残留有機溶媒含量を減少させる顕著な効果はなかった。従って、Ｓ−４６６１の精製の際に、残留有機溶媒を効果的に除去する方法はいまだ見いだされていない。
【０００５】
上記Ｓ−４６６１の原薬または製品は、結晶の方が非晶質に比べて保存安定性、溶解性、操作性などに優れるため好ましく、さらに安定性、溶解性を高めるための添加剤を多量に使用する必要がないため好ましい。しかし、Ｓ−４６６１の安定性および溶解性の高い結晶を効率的に得るのに適した方法はいまだ見いだされていない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記従来の課題を解決するものであり、その目的は、残留有機溶媒を減少させるためのピロリジルチオカルバペネム誘導体の乾燥方法、ならびに溶解性や安定性などに優れた、該ピロリジルチオカルバペネム誘導体の結晶およびその製造方法に関する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明のＳ−４６６１の乾燥方法は、加湿ガスを用いてＳ−４６６１を処理する工程を包含する。この工程を本明細書中では一次乾燥工程という。一次乾燥工程は、処理されるＳ−４６６１を加湿ガスと接触させることにより行い得る。このＳ−４６６１と加湿ガスとの接触は任意の常法によって行われ、例えば流動乾燥法により行われる。
【０００８】
上記一次乾燥工程において加湿ガスとして用いられるガスは、空気またはＳ−４６６１に悪影響を及ぼさない任意の不活性ガスであり、このような不活性ガスとしては窒素、アルゴンなどが挙げられる。好ましくは、加湿ガスは加湿窒素または加湿空気であり、より好ましくは加湿窒素である。この加湿ガスは、相対湿度が５０％以上であることが好ましい。より好ましくは、相対湿度が７０％以上、さらに好ましくは８５％以上である。
【０００９】
一次乾燥工程における上記加湿ガスの温度は特に重要ではないが、Ｓ−４６６１の安定性の面からは、約１０〜４０℃が好ましく、より好ましくは２０〜３０℃である。
【００１０】
一次乾燥工程における上記加湿ガスの圧力は、約１０〜７５ｃｍＨｇであり得る。好ましくは、一次乾燥工程において、上記加湿ガスの圧力の幅は１０〜４０ｃｍＨｇ、好ましくは１０〜１５ｃｍＨｇの範囲内で変動し得る。実際に一次乾燥工程を行う圧力は、用いる溶媒の種類、残留量などの種々の条件により異なるが、例えば、１０〜２０、２０〜３０、３０〜４０、または６０〜７５ｃｍＨｇの減圧下で一次乾燥工程を行い得る。
【００１１】
上記一次乾燥工程で処理されるＳ−４６６１は、粗結晶、結晶または非晶質のいずれであってもよいが、好ましくは結晶である。上記一次乾燥工程で処理されるＳ−４６６１の溶媒および水分の初期含有量は特に重要ではないが、水分の含有量が多く、そして溶媒の含有量が少ない方が、比較的、脱溶媒しやすい傾向にある。
【００１２】
上記一次乾燥工程によって、水分含量は一旦増大するが、残留有機溶媒の含有量を１００ｐｐｍ以下にまで減少させることができる。一次乾燥により除去され得る溶媒としては、低級アルコール、ジクロルメタン、酢酸エチル、アセトンなどが例示される。
【００１３】
本発明のＳ−４６６１の乾燥方法は、上記一次乾燥工程に加えて、さらにＳ−４６６１を乾燥する工程を包含し得る。この工程を本明細書中では二次乾燥工程という。上記一次乾燥工程の目的が主として残留有機溶媒の除去であるのに対して、この二次乾燥工程の目的は主として脱水である。
【００１４】
上記二次乾燥工程としては、例えば、減圧乾燥、乾燥ガスによる乾燥などの任意の公知の乾燥方法が用いられ得る。好ましくは乾燥ガスによる乾燥が用いられる。あるいは上記のような公知の乾燥方法を組み合わせて用いてもよく、好ましくは、乾燥ガスを用いた減圧乾燥法である。
【００１５】
上記二次乾燥工程に用いられる乾燥ガスは空気またはＳ−４６６１に悪影響を及ぼさない任意の不活性ガスであり得、このような不活性ガスとしては窒素、アルゴンなどが挙げられる。好ましくは、乾燥ガスは乾燥窒素または乾燥空気であり、より好ましくは乾燥窒素である。この乾燥ガスは、相対湿度が１％以下であることが好ましい。
【００１６】
Ｓ−４６６１の結晶としては少なくとも２種類の異なる結晶形が存在することが判明している。この２種類の結晶形を以下、各々Ｉ型およびＩＩ型という。Ｉ型結晶およびＩＩ型結晶は、粉末Ｘ線回折で得られる特徴的なピークにより識別される。以下に各結晶形の特徴的な主ピークの回折角度（２θ）を示す。
【００１７】
Ｉ型：７．３２、１４．７２、１８．６２、２０．４２、２１．１、２２．１８、２３．８８、および２９．７６（度）
ＩＩ型：６．０６、１２．２、１４．５６、１７．０、１８．３８、２０．６８、２４．３８、２４．６０、２５．８８、および３０．１２（度）
（Ｘ線回折測定条件：ＣｕＫα線、１．５４オングストローム（モノクロメーター）、管電圧４０ｋＶ、管電流４０ｍＡ）。
【００１８】
本発明の乾燥方法を用いてＳ−４６６１を乾燥すると、Ｉ型結晶、ＩＩ型結晶、あるいはそれらの混合物のいずれを用いた場合であっても、得られる結晶は大部分が上記ＩＩ型結晶であることが見いだされた。このように、本発明の製造方法はＳ−４６６１のＩＩ型結晶を選択的に製造する方法であるといえる。従って、本発明の、Ｓ−４６６１のＩＩ型結晶の製造方法は、加湿ガスを用いてＳ−４６６１を処理する工程を包含する。この工程は上記一次乾燥工程と同様である。以下、この工程も一次乾燥工程という。
【００１９】
本発明の製造方法は、上記一次乾燥工程に加えて、さらにＳ−４６６１を乾燥する工程を包含し得る。この工程は上記本発明の乾燥方法における二次乾燥工程と同様である。以下この工程も二次乾燥工程という。
【００２０】
上記のように、本発明の乾燥方法を用いてＳ−４６６１を処理するとＩＩ型結晶が選択的に得られることから、本発明の乾燥工程中にＳ−４６６１の結晶構造の変換が起こることが判明した。すなわち、Ｓ−４６６１のＩ型結晶がＩＩ型結晶に変換される。従って、本発明の製造方法は、Ｓ−４６６１のＩ型結晶をＩＩ型結晶に変換する工程を包含する。
【００２１】
Ｉ型結晶のＩＩ型結晶への変換は、一次乾燥により、水分含量を増大させつつ脱有機溶媒させることにより起こる。一次乾燥工程において、残留有機溶媒の含有量が約５００ｐｐｍ付近まで下がるとＩ型結晶からＩＩ型結晶への変換が起こり始めると推定されている。残留有機溶媒の含有量が約２００ｐｐｍ以下になれば、ほぼ１００％、ＩＩ型結晶へと変換する。
【００２２】
なお、Ｉ型およびＩＩ型の結晶のＸ線回折パターンにおける特徴的なピークについては、回折角度（２θ）は、水分および／または有機溶媒の含有量にかかわらずそれぞれ変化しないが、その強度は必ずしも一定ではない。従って、各結晶を、単に、水分および／または有機溶媒の含有率で区別するのは困難である。
【００２３】
本発明に従って一次および二次乾燥工程を行えば、例えば、水分含量が約６％前後のＩＩ型結晶を得ることができる。しかしＩＩ型結晶でも付着水の増加により室温下で約１０％前後の含水率で安定することもある。また、Ｉ型結晶は、室温下、約０〜５．０％の含水率で安定する傾向にある。よって、単に溶媒含量を調節するだけでは、ＩＩ型結晶を選択的に得ることは不可能であり、本発明の製造法の有用性が裏付けられる。
【００２４】
本発明のＳ−４６６１のＩＩ型結晶はＩ型結晶と比較して、水への溶解速度が大きい。例えば、１００ｍｇのＳ−４６６１に水１ｍＬを加えて１分間静置し、１分経過後振り混ぜると、Ｉ型結晶はアメ状になって水と分離するが、ＩＩ型は約１０秒で澄明に溶解する。従って、Ｓ−４６６１の結晶を例えば凍結乾燥させるか注射剤などに使用する場合には、ＩＩ型結晶の方がＩ型結晶に比べて好ましい。
【００２５】
【実施例】
以下、本発明を参考例および実施例に基づき説明する。
【００２６】
（参考例１）
Ｓ−４６６１をメタノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過した。得られた結晶は、粉末Ｘ線回折測定の結果および水溶解性から、大部分がＩ型である結晶多形と判明した。ガスクロマトグラフィーによる残留溶媒量測定およびカール・フィッシャー法による水分量測定を行ったところ、メタノール３０．５％および水８．２％を含有していた。
【００２７】
（実施例１）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿窒素（相対湿度：８５〜９５％）を、２０〜３０ｃｍＨｇの減圧下、約０．８８Ｌ／分の速度で、参考例１で得られた、有機溶媒約３０％と水分約８％を含んでいるグラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（７．８７ｇ）に、２時間通した。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定したところ、メタノール含量は０．０１％以下であった。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることが判明した。
【００２８】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥窒素（相対湿度０％）を、２０〜３０ｃｍＨｇの減圧下、約０．８８Ｌ／分の速度で、さらに２時間通した。乾燥後、５．２４ｇの結晶が得られた。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、メタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は８．４８％であった。この結晶もＩＩ型であった。
【００２９】
（参考例２）
Ｓ−４６６１をメタノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過した。粉末Ｘ線回折測定の結果および水溶解性から、大部分がＩ型である結晶多形と判明した。ガスクロマトグラフィーによる残留溶媒量測定およびカール・フィッシャー法による水分量測定を行ったところ、メタノール１７．３％および水９．８％を含有していた。
【００３０】
（実施例２）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿窒素（相対湿度：８５〜９５％）を、２０〜３０ｃｍＨｇの減圧下、約０．８８Ｌ／分の速度で、参考例２で得られた、有機溶媒約１７％と水分約１０％を含んでいるグラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（５．９５ｇ）に、２時間通した。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定したところ、メタノール含量は０．０１％以下であった。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることが判明した。
【００３１】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥窒素（相対湿度０％）を、２０〜３０ｃｍＨｇの減圧下、約０．８８Ｌ／分の速度で、さらに３時間通した。乾燥後、４．６７ｇの結晶が得られた。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、メタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は７．９７％であった。この結晶もＩＩ型であった。
【００３２】
（参考例３）
Ｓ−４６６１をエタノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過した。粉末Ｘ線回折測定の結果および水溶解性から、大部分がＩ型である結晶多形と判明した。ガスクロマトグラフィーによる残留溶媒量測定およびカール・フィッシャー法による水分量測定を行ったところ、エタノール４．９８％および水１９．３％を含有していた。
【００３３】
（実施例３）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿窒素（相対湿度：８５〜９５％）を、１５〜１７ｃｍＨｇの減圧下、約０．８８Ｌ／分の速度で、参考例３で得られた、有機溶媒約５％と水分約１９％を含んでいるグラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（４．７５ｇ）に、３時間通した。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定したところ、エタノール含量は０．０１％以下であった。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることが判明した。
【００３４】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥窒素（相対湿度０％）を、１５〜１７ｃｍＨｇの減圧下、約０．８８Ｌ／分の速度で、さらに３時間通した。乾燥後、３．６１ｇの結晶が得られた。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、エタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は２．５０％であった。この結晶もＩＩ型であった。
【００３５】
（参考例４）
Ｓ−４６６１をエタノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過した。粉末Ｘ線回折測定の結果および水溶解性から、大部分がＩ型である結晶多形と判明した。ガスクロマトグラフィーによる残留溶媒量測定およびカール・フィッシャー法による水分量測定を行ったところ、エタノール２３．１％および水１３．３％を含有していた。
【００３６】
（実施例４）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿窒素（相対湿度：８５〜９５％）を、１５〜１７ｃｍＨｇの減圧下、約０．８８Ｌ／分の速度で、参考例４で得られた、有機溶媒約２３％と水分約１３％を含んでいるグラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（５．５４ｇ）に、２時間通した。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定したところ、エタノール含量は０．０１％以下であった。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることが判明した。
【００３７】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥窒素（相対湿度０％）を、１５〜１７ｃｍＨｇの減圧下、約０．８８Ｌ／分の速度で、さらに４時間通した。乾燥後、３．６１ｇの結晶が得られた。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、エタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は３．８０％であった。この結晶もＩＩ型であった。
【００３８】
（参考例５）
Ｓ−４６６１をメタノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過した。粉末Ｘ線回折測定の結果および水溶解性から、大部分がＩ型である結晶多形と判明した。ガスクロマトグラフィーによる残留溶媒量測定およびカール・フィッシャー法による水分量測定を行ったところ、メタノール０．２０％および水４．７％を含有していた。
【００３９】
（実施例５）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿窒素（相対湿度：８５〜９３％）を、７０〜７５ｃｍＨｇの減圧下、約４Ｌ／分の速度で、参考例５で得られた、有機溶媒約０．２％と水分約５％を含んでいるグラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（３．２０ｇ）に、２時間通した。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定したところ、メタノール含量は０．０１％以下であった。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることが判明した。
【００４０】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥窒素（相対湿度０％）を、３０〜３５ｃｍＨｇの減圧下、約４Ｌ／分の速度で、さらに３時間通した。乾燥後、３．１４ｇの結晶が得られた。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、メタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は４．４９％であった。この結晶もＩＩ型であった。
【００４１】
（参考例６）
Ｓ−４６６１をメタノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過した。粉末Ｘ線回折測定の結果および水溶解性から、大部分がＩ型である結晶多形と判明した。ガスクロマトグラフィーによる残留溶媒量測定およびカール・フィッシャー法による水分量測定を行ったところ、メタノール２２．０％および水１０．５％を含有していた。
【００４２】
（実施例６）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿窒素（相対湿度：８４〜８８％）を、３０〜３５ｃｍＨｇの減圧下、約４Ｌ／分の速度で、参考例６で得られた、有機溶媒約２２％と水分約１０％を含んでいるグラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（４．０３ｇ）に、３時間通した。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定したところ、メタノール含量は０．０１％以下であった。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることが判明した。
【００４３】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥窒素（相対湿度０％）を、３０〜３５ｃｍＨｇの減圧下、約４Ｌ／分の速度で、さらに３時間通した。乾燥後、２．８５ｇの結晶が得られた。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、メタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は４．４７％であった。この結晶もＩＩ型であった。
【００４４】
（参考例７）
Ｓ−４６６１をエタノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過した。粉末Ｘ線回折測定の結果および水溶解性から、大部分がＩ型である結晶多形と判明した。ガスクロマトグラフィーによる残留溶媒量測定およびカール・フィッシャー法による水分量測定を行ったところ、エタノール１３．６％および水２１．１％を含有していた。
【００４５】
（実施例７）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿窒素（相対湿度：８５〜９０％）を、１４〜１９ｃｍＨｇの減圧下、約２Ｌ／分の速度で、参考例７で得られた、有機溶媒約１４％と水分約２１％を含んでいるグラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（４．４７ｇ）に、３時間通した。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定したところ、エタノール含量は０．０１％以下であった。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることが判明した。
【００４６】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥窒素（相対湿度０％）を、１４〜１９ｃｍＨｇの減圧下、約２Ｌ／分の速度で、さらに３時間通した。乾燥後、３．０３ｇの結晶が得られた。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、エタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は３．７１％であった。この結晶もＩＩ型であった。
【００４７】
（参考例８）
Ｓ−４６６１をエタノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過した。粉末Ｘ線回折測定の結果および水溶解性から、大部分がＩ型である結晶多形と判明した。ガスクロマトグラフィーによる残留溶媒量測定およびカール・フィッシャー法による水分量測定を行ったところ、エタノール２．９％および水１７．３％を含有していた。
【００４８】
（実施例８）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿窒素（相対湿度：８０〜９０％）を、３６〜３８ｃｍＨｇの減圧下、約８Ｌ／分の速度で、参考例８で得られた、有機溶媒約３％と水分約１７％を含んでいるグラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（３．１２ｇ）に、１時間通した。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定したところ、エタノール含量は０．０１％以下であった。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることが判明した。
【００４９】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥窒素（相対湿度０％）を、３６〜３８ｃｍＨｇの減圧下、約８Ｌ／分の速度で、さらに１時間通した。乾燥後、２．５８ｇの結晶が得られた。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、エタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は３．４０％であった。この結晶もＩＩ型であった。
【００５０】
（参考例９）
Ｓ−４６６１をイソプロパノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過する。粉末Ｘ線回折測定によればＩ型とＩＩ型の結晶多形が得られることがわかる。この結晶は、イソプロパノール約５％および水約２０％を含有する。（実施例９）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿空気（相対湿度：７５〜８５％）を、２０〜３０ｃｍＨｇの減圧下、約０．９５Ｌ／分の速度で、参考例９で得られる、グラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（５．００ｇ）に、２時間通す。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定すると、メタノール含量は０．０１％以下である。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることがわかる。
【００５１】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥空気（相対湿度３％）を、３０〜４０ｃｍＨｇの減圧下、約０．９０Ｌ／分の速度で、さらに３時間通す。乾燥後、約４．０ｇの結晶を得る。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定すると、メタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は約１０％である。この結晶もＩＩ型である。
【００５２】
（比較例）
エタノール約１６％と水約９％を含有するＳ−４６６１結晶の約３００ｇを通常の減圧乾燥法で乾燥した。乾燥条件は、温度２５〜２７℃、圧力０．５〜１ｃｍＨｇとした。９５分の減圧乾燥の後、ガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、エタノール含量は約０．４％、水分含量は約０．２％であった。
【００５３】
【発明の効果】
本発明によれば、残留有機溶媒を効率的に減少し得る、ピロリジルチオカルバペネム誘導体の乾燥方法が提供される。さらに本発明によれば、溶解性および安定性に優れた、該ピロリジルチオカルバペネム誘導体の結晶およびその製造方法が提供される。この製造方法により、該ピロリジルチオカルバペネム誘導体の結晶のうち、より溶解性および安定性に優れた結晶形であるＩＩ型が選択的に得られ得る。
【産業上の利用分野】
本発明は、残留溶媒を減少させるためのピロリジルチオカルバペネム誘導体の乾燥方法、ならびに溶解性に優れた、該ピロリジルチオカルバペネム誘導体の結晶およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
次式で示される構造を有する、（１Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−２−［（３Ｓ，５Ｓ）−５−スルファモイルアミノメチル−１−ピロリジン−３−イル］チオ−１−メチル−１−カルバ−２−ペネム−３−カルボン酸（または（４Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−３−［［（３Ｓ，５Ｓ）−５−（スルファモイルアミノメチル）ピロリジン−３−イル］チオ］−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３．２．０．］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸）（以下、本明細書中では、Ｓ−４６６１という）は、ピロリジルチオカルバペネム誘導体であり、抗菌剤として有用な化合物である。
【０００３】
【化１】
上記Ｓ−４６６１は特開平５−２９４９７０号公報に記載されている。Ｓ−４６６１は結晶または非晶質の状態で精製される。このＳ−４６６１の精製工程には、有機溶媒、水またはその混合溶媒が用いられる。例えば、有機溶媒、水またはその混合溶媒で粗製のＳ−４６６１を洗浄したり、あるいはこれらの溶媒を用いて、再結晶などの手段でＳ−４６６１を精製したりする工程が行われる。しかし、このような工程を経て得られたＳ−４６６１を乾燥して、残留有機溶媒を所望の基準値以下まで減少させることは困難であった。すなわち、通常の減圧乾燥法を用いて乾燥した場合、残留有機溶媒含量は０．４％が限界であった。また超臨界抽出法を用いても、残留有機溶媒含量を減少させる顕著な効果はなかった。従って、Ｓ−４６６１の精製の際に、残留有機溶媒を効果的に除去する方法はいまだ見いだされていない。
【０００５】
上記Ｓ−４６６１の原薬または製品は、結晶の方が非晶質に比べて保存安定性、溶解性、操作性などに優れるため好ましく、さらに安定性、溶解性を高めるための添加剤を多量に使用する必要がないため好ましい。しかし、Ｓ−４６６１の安定性および溶解性の高い結晶を効率的に得るのに適した方法はいまだ見いだされていない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記従来の課題を解決するものであり、その目的は、残留有機溶媒を減少させるためのピロリジルチオカルバペネム誘導体の乾燥方法、ならびに溶解性や安定性などに優れた、該ピロリジルチオカルバペネム誘導体の結晶およびその製造方法に関する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明のＳ−４６６１の乾燥方法は、加湿ガスを用いてＳ−４６６１を処理する工程を包含する。この工程を本明細書中では一次乾燥工程という。一次乾燥工程は、処理されるＳ−４６６１を加湿ガスと接触させることにより行い得る。このＳ−４６６１と加湿ガスとの接触は任意の常法によって行われ、例えば流動乾燥法により行われる。
【０００８】
上記一次乾燥工程において加湿ガスとして用いられるガスは、空気またはＳ−４６６１に悪影響を及ぼさない任意の不活性ガスであり、このような不活性ガスとしては窒素、アルゴンなどが挙げられる。好ましくは、加湿ガスは加湿窒素または加湿空気であり、より好ましくは加湿窒素である。この加湿ガスは、相対湿度が５０％以上であることが好ましい。より好ましくは、相対湿度が７０％以上、さらに好ましくは８５％以上である。
【０００９】
一次乾燥工程における上記加湿ガスの温度は特に重要ではないが、Ｓ−４６６１の安定性の面からは、約１０〜４０℃が好ましく、より好ましくは２０〜３０℃である。
【００１０】
一次乾燥工程における上記加湿ガスの圧力は、約１０〜７５ｃｍＨｇであり得る。好ましくは、一次乾燥工程において、上記加湿ガスの圧力の幅は１０〜４０ｃｍＨｇ、好ましくは１０〜１５ｃｍＨｇの範囲内で変動し得る。実際に一次乾燥工程を行う圧力は、用いる溶媒の種類、残留量などの種々の条件により異なるが、例えば、１０〜２０、２０〜３０、３０〜４０、または６０〜７５ｃｍＨｇの減圧下で一次乾燥工程を行い得る。
【００１１】
上記一次乾燥工程で処理されるＳ−４６６１は、粗結晶、結晶または非晶質のいずれであってもよいが、好ましくは結晶である。上記一次乾燥工程で処理されるＳ−４６６１の溶媒および水分の初期含有量は特に重要ではないが、水分の含有量が多く、そして溶媒の含有量が少ない方が、比較的、脱溶媒しやすい傾向にある。
【００１２】
上記一次乾燥工程によって、水分含量は一旦増大するが、残留有機溶媒の含有量を１００ｐｐｍ以下にまで減少させることができる。一次乾燥により除去され得る溶媒としては、低級アルコール、ジクロルメタン、酢酸エチル、アセトンなどが例示される。
【００１３】
本発明のＳ−４６６１の乾燥方法は、上記一次乾燥工程に加えて、さらにＳ−４６６１を乾燥する工程を包含し得る。この工程を本明細書中では二次乾燥工程という。上記一次乾燥工程の目的が主として残留有機溶媒の除去であるのに対して、この二次乾燥工程の目的は主として脱水である。
【００１４】
上記二次乾燥工程としては、例えば、減圧乾燥、乾燥ガスによる乾燥などの任意の公知の乾燥方法が用いられ得る。好ましくは乾燥ガスによる乾燥が用いられる。あるいは上記のような公知の乾燥方法を組み合わせて用いてもよく、好ましくは、乾燥ガスを用いた減圧乾燥法である。
【００１５】
上記二次乾燥工程に用いられる乾燥ガスは空気またはＳ−４６６１に悪影響を及ぼさない任意の不活性ガスであり得、このような不活性ガスとしては窒素、アルゴンなどが挙げられる。好ましくは、乾燥ガスは乾燥窒素または乾燥空気であり、より好ましくは乾燥窒素である。この乾燥ガスは、相対湿度が１％以下であることが好ましい。
【００１６】
Ｓ−４６６１の結晶としては少なくとも２種類の異なる結晶形が存在することが判明している。この２種類の結晶形を以下、各々Ｉ型およびＩＩ型という。Ｉ型結晶およびＩＩ型結晶は、粉末Ｘ線回折で得られる特徴的なピークにより識別される。以下に各結晶形の特徴的な主ピークの回折角度（２θ）を示す。
【００１７】
Ｉ型：７．３２、１４．７２、１８．６２、２０．４２、２１．１、２２．１８、２３．８８、および２９．７６（度）
ＩＩ型：６．０６、１２．２、１４．５６、１７．０、１８．３８、２０．６８、２４．３８、２４．６０、２５．８８、および３０．１２（度）
（Ｘ線回折測定条件：ＣｕＫα線、１．５４オングストローム（モノクロメーター）、管電圧４０ｋＶ、管電流４０ｍＡ）。
【００１８】
本発明の乾燥方法を用いてＳ−４６６１を乾燥すると、Ｉ型結晶、ＩＩ型結晶、あるいはそれらの混合物のいずれを用いた場合であっても、得られる結晶は大部分が上記ＩＩ型結晶であることが見いだされた。このように、本発明の製造方法はＳ−４６６１のＩＩ型結晶を選択的に製造する方法であるといえる。従って、本発明の、Ｓ−４６６１のＩＩ型結晶の製造方法は、加湿ガスを用いてＳ−４６６１を処理する工程を包含する。この工程は上記一次乾燥工程と同様である。以下、この工程も一次乾燥工程という。
【００１９】
本発明の製造方法は、上記一次乾燥工程に加えて、さらにＳ−４６６１を乾燥する工程を包含し得る。この工程は上記本発明の乾燥方法における二次乾燥工程と同様である。以下この工程も二次乾燥工程という。
【００２０】
上記のように、本発明の乾燥方法を用いてＳ−４６６１を処理するとＩＩ型結晶が選択的に得られることから、本発明の乾燥工程中にＳ−４６６１の結晶構造の変換が起こることが判明した。すなわち、Ｓ−４６６１のＩ型結晶がＩＩ型結晶に変換される。従って、本発明の製造方法は、Ｓ−４６６１のＩ型結晶をＩＩ型結晶に変換する工程を包含する。
【００２１】
Ｉ型結晶のＩＩ型結晶への変換は、一次乾燥により、水分含量を増大させつつ脱有機溶媒させることにより起こる。一次乾燥工程において、残留有機溶媒の含有量が約５００ｐｐｍ付近まで下がるとＩ型結晶からＩＩ型結晶への変換が起こり始めると推定されている。残留有機溶媒の含有量が約２００ｐｐｍ以下になれば、ほぼ１００％、ＩＩ型結晶へと変換する。
【００２２】
なお、Ｉ型およびＩＩ型の結晶のＸ線回折パターンにおける特徴的なピークについては、回折角度（２θ）は、水分および／または有機溶媒の含有量にかかわらずそれぞれ変化しないが、その強度は必ずしも一定ではない。従って、各結晶を、単に、水分および／または有機溶媒の含有率で区別するのは困難である。
【００２３】
本発明に従って一次および二次乾燥工程を行えば、例えば、水分含量が約６％前後のＩＩ型結晶を得ることができる。しかしＩＩ型結晶でも付着水の増加により室温下で約１０％前後の含水率で安定することもある。また、Ｉ型結晶は、室温下、約０〜５．０％の含水率で安定する傾向にある。よって、単に溶媒含量を調節するだけでは、ＩＩ型結晶を選択的に得ることは不可能であり、本発明の製造法の有用性が裏付けられる。
【００２４】
本発明のＳ−４６６１のＩＩ型結晶はＩ型結晶と比較して、水への溶解速度が大きい。例えば、１００ｍｇのＳ−４６６１に水１ｍＬを加えて１分間静置し、１分経過後振り混ぜると、Ｉ型結晶はアメ状になって水と分離するが、ＩＩ型は約１０秒で澄明に溶解する。従って、Ｓ−４６６１の結晶を例えば凍結乾燥させるか注射剤などに使用する場合には、ＩＩ型結晶の方がＩ型結晶に比べて好ましい。
【００２５】
【実施例】
以下、本発明を参考例および実施例に基づき説明する。
【００２６】
（参考例１）
Ｓ−４６６１をメタノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過した。得られた結晶は、粉末Ｘ線回折測定の結果および水溶解性から、大部分がＩ型である結晶多形と判明した。ガスクロマトグラフィーによる残留溶媒量測定およびカール・フィッシャー法による水分量測定を行ったところ、メタノール３０．５％および水８．２％を含有していた。
【００２７】
（実施例１）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿窒素（相対湿度：８５〜９５％）を、２０〜３０ｃｍＨｇの減圧下、約０．８８Ｌ／分の速度で、参考例１で得られた、有機溶媒約３０％と水分約８％を含んでいるグラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（７．８７ｇ）に、２時間通した。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定したところ、メタノール含量は０．０１％以下であった。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることが判明した。
【００２８】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥窒素（相対湿度０％）を、２０〜３０ｃｍＨｇの減圧下、約０．８８Ｌ／分の速度で、さらに２時間通した。乾燥後、５．２４ｇの結晶が得られた。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、メタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は８．４８％であった。この結晶もＩＩ型であった。
【００２９】
（参考例２）
Ｓ−４６６１をメタノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過した。粉末Ｘ線回折測定の結果および水溶解性から、大部分がＩ型である結晶多形と判明した。ガスクロマトグラフィーによる残留溶媒量測定およびカール・フィッシャー法による水分量測定を行ったところ、メタノール１７．３％および水９．８％を含有していた。
【００３０】
（実施例２）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿窒素（相対湿度：８５〜９５％）を、２０〜３０ｃｍＨｇの減圧下、約０．８８Ｌ／分の速度で、参考例２で得られた、有機溶媒約１７％と水分約１０％を含んでいるグラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（５．９５ｇ）に、２時間通した。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定したところ、メタノール含量は０．０１％以下であった。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることが判明した。
【００３１】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥窒素（相対湿度０％）を、２０〜３０ｃｍＨｇの減圧下、約０．８８Ｌ／分の速度で、さらに３時間通した。乾燥後、４．６７ｇの結晶が得られた。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、メタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は７．９７％であった。この結晶もＩＩ型であった。
【００３２】
（参考例３）
Ｓ−４６６１をエタノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過した。粉末Ｘ線回折測定の結果および水溶解性から、大部分がＩ型である結晶多形と判明した。ガスクロマトグラフィーによる残留溶媒量測定およびカール・フィッシャー法による水分量測定を行ったところ、エタノール４．９８％および水１９．３％を含有していた。
【００３３】
（実施例３）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿窒素（相対湿度：８５〜９５％）を、１５〜１７ｃｍＨｇの減圧下、約０．８８Ｌ／分の速度で、参考例３で得られた、有機溶媒約５％と水分約１９％を含んでいるグラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（４．７５ｇ）に、３時間通した。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定したところ、エタノール含量は０．０１％以下であった。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることが判明した。
【００３４】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥窒素（相対湿度０％）を、１５〜１７ｃｍＨｇの減圧下、約０．８８Ｌ／分の速度で、さらに３時間通した。乾燥後、３．６１ｇの結晶が得られた。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、エタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は２．５０％であった。この結晶もＩＩ型であった。
【００３５】
（参考例４）
Ｓ−４６６１をエタノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過した。粉末Ｘ線回折測定の結果および水溶解性から、大部分がＩ型である結晶多形と判明した。ガスクロマトグラフィーによる残留溶媒量測定およびカール・フィッシャー法による水分量測定を行ったところ、エタノール２３．１％および水１３．３％を含有していた。
【００３６】
（実施例４）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿窒素（相対湿度：８５〜９５％）を、１５〜１７ｃｍＨｇの減圧下、約０．８８Ｌ／分の速度で、参考例４で得られた、有機溶媒約２３％と水分約１３％を含んでいるグラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（５．５４ｇ）に、２時間通した。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定したところ、エタノール含量は０．０１％以下であった。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることが判明した。
【００３７】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥窒素（相対湿度０％）を、１５〜１７ｃｍＨｇの減圧下、約０．８８Ｌ／分の速度で、さらに４時間通した。乾燥後、３．６１ｇの結晶が得られた。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、エタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は３．８０％であった。この結晶もＩＩ型であった。
【００３８】
（参考例５）
Ｓ−４６６１をメタノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過した。粉末Ｘ線回折測定の結果および水溶解性から、大部分がＩ型である結晶多形と判明した。ガスクロマトグラフィーによる残留溶媒量測定およびカール・フィッシャー法による水分量測定を行ったところ、メタノール０．２０％および水４．７％を含有していた。
【００３９】
（実施例５）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿窒素（相対湿度：８５〜９３％）を、７０〜７５ｃｍＨｇの減圧下、約４Ｌ／分の速度で、参考例５で得られた、有機溶媒約０．２％と水分約５％を含んでいるグラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（３．２０ｇ）に、２時間通した。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定したところ、メタノール含量は０．０１％以下であった。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることが判明した。
【００４０】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥窒素（相対湿度０％）を、３０〜３５ｃｍＨｇの減圧下、約４Ｌ／分の速度で、さらに３時間通した。乾燥後、３．１４ｇの結晶が得られた。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、メタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は４．４９％であった。この結晶もＩＩ型であった。
【００４１】
（参考例６）
Ｓ−４６６１をメタノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過した。粉末Ｘ線回折測定の結果および水溶解性から、大部分がＩ型である結晶多形と判明した。ガスクロマトグラフィーによる残留溶媒量測定およびカール・フィッシャー法による水分量測定を行ったところ、メタノール２２．０％および水１０．５％を含有していた。
【００４２】
（実施例６）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿窒素（相対湿度：８４〜８８％）を、３０〜３５ｃｍＨｇの減圧下、約４Ｌ／分の速度で、参考例６で得られた、有機溶媒約２２％と水分約１０％を含んでいるグラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（４．０３ｇ）に、３時間通した。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定したところ、メタノール含量は０．０１％以下であった。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることが判明した。
【００４３】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥窒素（相対湿度０％）を、３０〜３５ｃｍＨｇの減圧下、約４Ｌ／分の速度で、さらに３時間通した。乾燥後、２．８５ｇの結晶が得られた。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、メタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は４．４７％であった。この結晶もＩＩ型であった。
【００４４】
（参考例７）
Ｓ−４６６１をエタノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過した。粉末Ｘ線回折測定の結果および水溶解性から、大部分がＩ型である結晶多形と判明した。ガスクロマトグラフィーによる残留溶媒量測定およびカール・フィッシャー法による水分量測定を行ったところ、エタノール１３．６％および水２１．１％を含有していた。
【００４５】
（実施例７）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿窒素（相対湿度：８５〜９０％）を、１４〜１９ｃｍＨｇの減圧下、約２Ｌ／分の速度で、参考例７で得られた、有機溶媒約１４％と水分約２１％を含んでいるグラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（４．４７ｇ）に、３時間通した。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定したところ、エタノール含量は０．０１％以下であった。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることが判明した。
【００４６】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥窒素（相対湿度０％）を、１４〜１９ｃｍＨｇの減圧下、約２Ｌ／分の速度で、さらに３時間通した。乾燥後、３．０３ｇの結晶が得られた。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、エタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は３．７１％であった。この結晶もＩＩ型であった。
【００４７】
（参考例８）
Ｓ−４６６１をエタノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過した。粉末Ｘ線回折測定の結果および水溶解性から、大部分がＩ型である結晶多形と判明した。ガスクロマトグラフィーによる残留溶媒量測定およびカール・フィッシャー法による水分量測定を行ったところ、エタノール２．９％および水１７．３％を含有していた。
【００４８】
（実施例８）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿窒素（相対湿度：８０〜９０％）を、３６〜３８ｃｍＨｇの減圧下、約８Ｌ／分の速度で、参考例８で得られた、有機溶媒約３％と水分約１７％を含んでいるグラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（３．１２ｇ）に、１時間通した。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定したところ、エタノール含量は０．０１％以下であった。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることが判明した。
【００４９】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥窒素（相対湿度０％）を、３６〜３８ｃｍＨｇの減圧下、約８Ｌ／分の速度で、さらに１時間通した。乾燥後、２．５８ｇの結晶が得られた。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、エタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は３．４０％であった。この結晶もＩＩ型であった。
【００５０】
（参考例９）
Ｓ−４６６１をイソプロパノール／水混合溶媒より晶析させ、グラスフィルターで濾過する。粉末Ｘ線回折測定によればＩ型とＩＩ型の結晶多形が得られることがわかる。この結晶は、イソプロパノール約５％および水約２０％を含有する。（実施例９）
一次乾燥工程：水中を通して加湿した後、温度を２７〜３０℃に調節した加湿空気（相対湿度：７５〜８５％）を、２０〜３０ｃｍＨｇの減圧下、約０．９５Ｌ／分の速度で、参考例９で得られる、グラスフィルター中のＳ−４６６１結晶層（５．００ｇ）に、２時間通す。処理後、結晶を一部取り出し、ガスクロマトグラフィーで残留溶媒量を測定すると、メタノール含量は０．０１％以下である。粉末Ｘ線回折測定の結果、この結晶はＩＩ型に変換されていることがわかる。
【００５１】
二次乾燥工程：上記一次乾燥工程で用いた結晶層に、２７〜３０℃に調節した乾燥空気（相対湿度３％）を、３０〜４０ｃｍＨｇの減圧下、約０．９０Ｌ／分の速度で、さらに３時間通す。乾燥後、約４．０ｇの結晶を得る。この結晶をガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定すると、メタノール含量は０．０１％以下（すなわち１００ｐｐｍ以下）、水分含量は約１０％である。この結晶もＩＩ型である。
【００５２】
（比較例）
エタノール約１６％と水約９％を含有するＳ−４６６１結晶の約３００ｇを通常の減圧乾燥法で乾燥した。乾燥条件は、温度２５〜２７℃、圧力０．５〜１ｃｍＨｇとした。９５分の減圧乾燥の後、ガスクロマトグラフィーおよびカール・フィッシャー法で測定したところ、エタノール含量は約０．４％、水分含量は約０．２％であった。
【００５３】
【発明の効果】
本発明によれば、残留有機溶媒を効率的に減少し得る、ピロリジルチオカルバペネム誘導体の乾燥方法が提供される。さらに本発明によれば、溶解性および安定性に優れた、該ピロリジルチオカルバペネム誘導体の結晶およびその製造方法が提供される。この製造方法により、該ピロリジルチオカルバペネム誘導体の結晶のうち、より溶解性および安定性に優れた結晶形であるＩＩ型が選択的に得られ得る。
Claims (8)
- 加湿ガスを用いて（１Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−２−［（３Ｓ，５Ｓ）−５−スルファモイルアミノメチル−１−ピロリジン−３−イル］チオ−１−メチル−１−カルバ−２−ペネム−３−カルボン酸を処理する工程を包含する、
該（１Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−２−［（３Ｓ，５Ｓ）−５−スルファモイルアミノメチル−１−ピロリジン−３−イル］チオ−１−メチル−１−カルバ−２−ペネム−３−カルボン酸の乾燥方法。 - さらに乾燥ガスを用いて前記処理後の（１Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−２−［（３Ｓ，５Ｓ）−５−スルファモイルアミノメチル−１−ピロリジン−３−イル］チオ−１−メチル−１−カルバ−２−ペネム−３−カルボン酸を乾燥する工程を包含する、請求項１に記載の乾燥方法。
- 前記加湿ガスが加湿窒素または加湿空気である、請求項１または２に記載の乾燥方法。
- 前記乾燥ガスが乾燥窒素または乾燥空気である、請求項２に記載の方法。
- 粉末Ｘ線回折による回折パターンが回折角度（２θ）＝６．０６、１２．２、１４．５６、１７．０、１８．３８、２０．６８、２４．３８、２４．６０、２５．８８、および３０．１２（度）に主ピークを有する、（１Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−２−［（３Ｓ，５Ｓ）−５−スルファモイルアミノメチル−１−ピロリジン−３−イル］チオ−１−メチル−１−カルバ−２−ペネム−３−カルボン酸のII型結晶の製造方法であって、
加湿ガスを用いて（１Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−２−［（３Ｓ，５Ｓ）−５−スルファモイルアミノメチル−１−ピロリジン−３−イル］チオ−１−メチル−１−カルバ−２−ペネム−３−カルボン酸を処理する工程を包含する、
製造方法。 - さらに乾燥ガスを用いて前記処理後の（１Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−２−［（３Ｓ，５Ｓ）−５−スルファモイルアミノメチル−１−ピロリジン−３−イル］チオ−１−メチル−１−カルバ−２−ペネム−３−カルボン酸を乾燥する工程を包含する、請求項５に記載の製造方法。
- 粉末Ｘ線回折による回折パターンが回折角度（２θ）＝７．３２、１４．７２、１８．６２、２０．４２、２１．１、２２．１８、２３．８８および２９．７６（度）に主ピークを有する、（１Ｒ，５Ｓ，６Ｓ）−６−［（１Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−２−［（３Ｓ，５Ｓ）−５−スルファモイルアミノメチル−１−ピロリジン−３−イル］チオ−１−メチル−１−カルバ−２−ペネム−３−カルボン酸のＩ型結晶を前記II型結晶に変換する工程を包含する、請求項５または６に記載の製造方法。
- Ｉ型結晶をII型結晶に変換する前記工程が、加湿ガスでＩ型結晶を処理することにより行われる、請求項７に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
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| JP14668994A JP3558684B2 (ja) | 1994-06-28 | 1994-06-28 | ピロリジルチオカルバペネム誘導体の乾燥方法 |
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