JP3554390B2 - デカボランガスの酸化処理法 - Google Patents
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- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 title claims description 19
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 title claims description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 110
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 35
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 22
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 20
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 17
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 16
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 8
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 6
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 claims description 6
- 150000002697 manganese compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 5
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims description 4
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 claims description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 24
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 24
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 23
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 6
- 238000009841 combustion method Methods 0.000 description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000003113 dilution method Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- WUUHFRRPHJEEKV-UHFFFAOYSA-N tripotassium borate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]B([O-])[O-] WUUHFRRPHJEEKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000011491 glass wool Substances 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 1
- RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N arsane Chemical compound [AsH3] RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 1
- ZOCHARZZJNPSEU-UHFFFAOYSA-N diboron Chemical compound B#B ZOCHARZZJNPSEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/346—Controlling the process
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- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は、デカボランガスの酸化処理法に関するものである。さらに、詳しくは、本発明は、ボロンコーティング技術の一種としてのボロン化処理(ボロナイゼーション)である。核融合装置においては、真空容器内をボロンで蒸着被覆(ボロンコーティング)をするために、ボロン化処理を実施している。
【0002】
その場合のボロン化処理は、常温で固体で、取扱いが容易なデカボラン(水素化硼素化合物の一種)を加熱してデカボランガスを得て、そのガスを真空容器内に注入した後、グロー放電によりデカボランガスを分解してボロン化処理を実施している。その際に、ボロン化処理時の未反応のデカボランガスや不要となったデカボランガスは、排気処置を介して排気され、過マンガン酸カリウム及び水酸化カリウムの顆粒状の酸化剤を充填したステンレス製充填筒の中に窒素等のキャリアガスといっしょに通過させられることにより、マンガン化合物等(酸化マンガン、硼素酸カリウム、水及び水素の安定な物質)にデカボランガスを酸化し、未反応のデカボランガスや不要となったデカボランガス(排ガス)をTLV値(長時間にわたる暴露の許容値)以下にするために、このデカボランガスの酸化処理法が行われている。
【0003】
【従来の技術】
従来より、ボロンコーティング法としては、ジボラン等の水素化ボロン化合物(化学材料ガス)を用い、真空容器等に一定圧力供給してグロー放電や化学蒸気蒸着によるものが知られている。ジボラン等の水素化ボロン化合物(化学材料ガス)を用いたグロー放電や化学蒸気蒸着によるボロンコーティング後の未反応ガスや不要ガスは、専用排気設備を介して不活性ガス(窒素ガス等)による希釈法、処理剤注入スクラバー法、燃焼法、物理吸着法等により処理されていた。
【0004】
グロー放電や化学蒸気蒸着(薄膜形成法)によるボロンコーティング後の排ガスには、ボロンコーティング技術の進歩とともに、供給時のガス状態で排気されることが少なくなり、活性度の高い化学粒子(励起された原子、分子及び反応生成物等)が多く含まれるようになってきた。そのため、不活性ガスによる希釈法、処理剤注入スクラバー法、燃焼法、物理吸着法等では完全に処理できなくなり、化学吸着方式を用いて、化学的に吸着除去し、クリーンな排ガス処理を実施している。
【0005】
化学吸着方式は、酸化剤を主成分として、化学材料ガスと反応させることにより酸化処理を行い、安定な物質に処理するもので、処理可能な主な化学材料ガスは、常温で気体で存在するジボラン(B2H6)、シラン(SiH4)、ホスフィン(PH3)、アルシン(AsH3)、セレン化水素(H2Se)、四フッ化水素(SiF4)、三フッ化ホウ素(BF3)、フッ化水素(HF)、四塩化ケイ素(SiCl4)、硫化水素(H2S)、塩化水素(HCl)、塩素(Cl2)、三塩化ホウ素(BCl3)、ジクロルシラン(SiH2Cl2)、フッ素(F2)等の気体類であり、デカボランのように常温で固体の物質の利用やデカボランを加熱して気化状態にし、デカボランガスとして利用する施設がなかったため、デカボランガス適用の処理法が確立しておらず、排ガス処理剤及び処理装置等が存在していなかったため、安全なデカボランガス処理法がなかった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、デカボランがジボランと同じ水素化ボロン類に属し、デカボラン1分子がジボラン5分子に相当することから、不活性ガス(窒素ガス等)による希釈法、処理剤注入スクラバー法、燃焼法、物理吸着法等では安全な処理ができないことから、化学吸着方式によりデカボランガスやボロン反応生成物(活性度の高い粒子)等を、安全で安定な物質に転換処理し、デカボランを用いたグロー放電や化学蒸気蒸着(プラズマCVD)によるボロンコーティング等の薄膜形成法後の排ガス濃度を減少させてクリーンにするものである。
【0007】
また、不活性ガス(窒素ガス等)による希釈法、処置剤注入スクラバー法、燃焼法、物理吸着法等は、処理装置の寿命等を確認することができなかったので、その反応状況を監視できるようにしたものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記の課題を解決するために、ステンレス製の充填筒に、主酸化剤となる過マンガン酸カリウムと反応を促進させる水酸化カリウムで構成する酸化剤を通気性がよいように顆粒状態で充填し、合せて、デカボランガスと酸化剤の酸化反応状態が確認できるように硫酸銅を主成分とする顆粒状のモニター剤を酸化剤と混合しないようにステンレス製の網(ステンレスメッシュ)で仕切って充填し、点検窓(モニター窓)からモニター剤が変色するのを観察することにより、デカボランガスの酸化反応が行われていることを監視ができるように、これらを充填するものである。
【0009】
酸化剤は、デカボランガスと反応した場合、反応熱を生じるため、その部分はステンレス製筒で覆われるようにしているため、点検窓から監視できない構造になっている。ステンレス製充填筒への充填順位は、酸化剤/モニター剤/酸化剤とし、その場合ボロン化処理中の排ガス処理の残時間が予測できるような配置構造にしているとともに、反応が一気に進まないことを応用して酸化剤の残量を確認して設備を安全に停止できるような充填構造にしている。
【0010】
排気ガスは、ステンレス製充填筒の下方から上方に向って酸化剤と反応が進行し、酸化反応によりマンガン化合物(酸化マンガン、硼素酸カリウム等)が生成される。安定なガス状物質(水素ガス等)は、充填筒内を通過して安全に大気放出できる構造にしている。
【0011】
以上のように、ステンレス製の充填筒に過マンガン酸カリウムと水酸化カリウムの酸化剤及び硫酸銅のモニター剤を混合しないように充填し、その中をデカボランガス等の排ガスを通過させることにより、マンガン化合物等の安定物質に酸化処理して排出できることからなる、デカボランガスの酸化処理法を提供している。
【0012】
【作用】
本発明は、デカボランガスの酸化処理法において、たとえば、ボロン化処理(ボロナイゼーション)時に不要となったデカボランガスや未反応デカボランガスを安全に処理する場合、それらのガスを排気するポンプ等の出口側と接続して、通気性をよくするために顆粒状にした酸化剤、モニター剤を充填したステンレス製充填筒内に導き、デカボランガスや反応デカボランガスを酸化剤と化学反応させることにより、酸化マンガンや硼素酸カリウム等の化合物ににして酸化処理するとともに、安定なガスに転換処理して大気放出するものである。筒内の酸化剤は、デカボランガスと反応すると発熱するため、耐熱、耐腐食に優れたステンレス製充填筒内で処理できるように酸化剤、モニター剤を区分け充填することができる。
【0013】
また、デカボランガスと酸化剤の酸化処理状況は、点検窓部に充填されているモニター剤の変色作用により、充填筒の下方より進行するデカボランガスと酸化剤の酸化処理状況(酸化剤の交換時期)に基づいて監視される。
【0014】
【実施例】
以下に、図面にそって実施例を示し、本発明のデカボランガスの酸化処理法について、さらに、詳しく説明する。
【0015】
従来の処理は、不活性ガス(窒素ガス等)による希釈法、処理剤注入スクラバー法、燃焼法及び物理吸着法等により対象ガスを燃したり、物理的吸着する等により処理していた。デカボランガスのような活性度の高い粒子は、それらの方式では排出ガスをクリーンにすることができない。そこで、デカボランガスのような活性度の高い粒子は化学的に吸着除去(酸化処理)する化学吸着方式によりクリーンな排ガスを実現できる。
【0016】
第1図は、デカボランガスの酸化処理法としてステンレス製充填筒に酸化剤等を充填した略図を示したものである。ステンレス製充填筒は、下方からガス溜、ステンレスメッシュ、酸化剤、ステンレスメッシュ、モニター剤、ステンレスメッシュ、酸化剤、グラスウール及び閉止フランジの順の充填構造になっている。ステンレスメッシュは酸化剤の混合、混入防止、グラスウールは酸化剤の暴れ防止の役目を果たしている。この例において、ボロナイゼーション等により、排出されたデカボランガス等は、ステンレス製充填筒の下方に配置される排ガス入口からガス溜に入り、ステンレスメッシュを介して、酸化剤、ステンレスメッシュ、モニター剤、ステンレスメッシュ、酸化剤、グラスウール、そして、排ガス出口の順に上昇(デカボランガスの比重は1より小さいことを利用)して処理される。酸化剤は、処理済みのものは廃棄物として処分することができるように、充填筒の閉止フランジより酸化剤等を入出できる構造にしている。また、デカボランガスの処理量により、酸化剤の量を可変できるようにステンレス製の充填等を連結フランジにより接続したり、複数の連結が可能な構造にしている。
【0017】
第2図は、酸化処理反応した場合の一例を示すものである。酸化剤が充填されたステンレス製の充填筒に入ったデカボランガス等は、酸化剤と酸化反応してマンガン化合物等の固体状で安定な物質に変化するとともに、水素等の気体状で安定な物質に変化する。気体状の物質は、酸化剤の間隙を通過して出口より排出される。下方より反応が進行し、酸化剤が反応してデカボランガス等を処理できなくなると、マンガン化合物等が蓄積して酸化剤の能力がなくなる。酸化剤の能力がなくなると、モニター剤とデカボランガスが反応して変色して、酸化剤の交換時期等を視覚に知らせる。
【0018】
その様は、点検窓より監視することができる。酸化剤の能力が低下した場合、ボロン化処理等を急停止できないことから、その設備を安全停止まで、モニター剤の上部に充填配置されている酸化剤によりその排ガスを処理できるようにしている。
【0019】
デカボランガス(B10H14)と酸化剤(過マンガン酸カリウム:KMnO4、水酸化カリウム:KOH)が反応した場合の化学式を以下に示します。
【0020】
B10H14+6KMnO4+36KOH→6K2MnO4+10K3BO3+6H2O+19H2・・・▲1▼
2B10H14+30K2MnO4+H2→15Mn2O3+20K3BO3+15H2O・・・▲2▼
デカボランガスと酸化剤の反応は、▲1▼、▲2▼の2種の反応が起こり、途中生成物も発生する。これらの反応は、最終的に以下の化学式で示されるように、酸化マンガン(Mn2O3)、硼素酸カリウム(K3BO3)、水(H2O)及び水素(H2)の安定物質に処理される。
【0021】
7B10H14+30KMnO4+180KOH→15Mn2O3+70K3BO3+45H2O+94H2・・・▲3▼
また、モニター剤である硫酸銅(CuSO4)は、通常、淡青色をしているが、デカボランガスと反応すると茶褐色に変色する。
【0022】
第3図は、本発明のデカボランガスの酸化処理法により、酸化剤等を充填した充填筒をボロナイゼーションに用いる場合に、ボロン化処理設備に除害装置DFLとして利用した場合の概要を示したものである。この場合、ボロン化処理設備は、原料容器MC、マスフロ−コントローラFC、ゲートバルブGV、ニューマチックバルブV、ターボ分子ポンプTMP、油回転ポンプRP及び除害装置DFL(1)等からなるデカボランガス供給系と、ゲートバルブ、ニューマチックバルブ、ターボ分子ポンプ、油回転ポンプ、及び除害装置DFL(2)等からなるデカボラン専用排気系とから構成される。なお、RGAは四重極質量分析計であり、G1〜G4はガス漏洩検知器であり、又点線で囲まれた領域は加熱範囲を示すものである。
【0023】
ボロナイゼーションは、デカボランガス供給系よりヘリウムガス及びデカボランガスをグロー電極を備えた真空容器等に注入し、それをグロー放電により分解して、ボロン膜を生成するものである。そのとき、デカボラン専用排気系にはデカボランガスの未反応ガスが、デカボランガス供給系からは真空容器等に注入停止により生じた不要デカボランガスが排出される。これらのガスは、有害性があるため除害装置により安全に処理され、大気放出される。
【0024】
第4図は、本発明のデカボランガスの酸化処理法による酸化剤等を充填した充填筒に窒素ガスをキャリアガスとして用い、排ガス濃度を監視(確認)できるように、隔膜電極法を用いたブレークモニターを組合わせた場合(除害装置)のフロー図を示したものである。除害装置は、一定流量、または、圧力の窒素ガスをブレークモニターと酸化剤等が充填された充填筒に圧送し、排ガス入口から入ってきたデカボランガスが酸化剤と反応し、その酸化処理された気体等を窒素ガスといっしょにブレークモニターに引き込み、圧送された窒素ガスと比較してガス濃度を検出する。異常がある場合(TLV値以上)は、警報出力する。その比較ガスは、排ガス出口より放出される。また、装置の不使用時及び反応物質の保管時に排ガス出入口のバルブにより密封できるシステムになっている。
【0025】
【発明の効果】
以上、詳しく説明したとおり、本発明のデカボランの酸化処理法は、デカボランを用いたボロンコーティング時に生じる排ガスを過マンガン酸カリウムと水酸化カリウムをステンレス製の充填筒に充填し、その中にデカボランガスを通気させて化学的に反応させ、酸化処理して安全な固体、又は気体の物質に処理することが可能となった。また、その酸化反応状況を充填筒の点検窓より監視できるため、酸化剤の交換時期等が把握でき、合せて、酸化処理された安全な固体等は、廃棄物として安全に処分できることが可能となった。
【0026】
また、本発明は、デカボランガスに限らず、水素化硼素類にも転用可能と考えられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】酸化剤を用いたデカボランガスの酸化処理法によりステンレス製充填筒に酸化剤等を充填したときの図を示したものである。
【図2】デカボランガスを充填筒内の酸化剤で酸化処理反応した場合の図を示したものである。
【図3】デカボランガスの酸化処理法による、酸化剤等を充填した充填筒をボロナイゼーションに用いる場合に、ボロン化処理設備において除害装置として利用した場合の図を示したものである。
【図4】デカボランガスの酸化処理法による、酸化剤等を充填した充填筒に窒素ガスをキャリアガスとし、排ガス濃度を監視(確認)できるように隔膜電極法を用いたブレークモニターを組合わせた除害装置のフロー図を示したものである。
【符号の説明】
V−1:排ガス入口第1弁
V−2:排ガス入口第2弁
V−3:処理ガス出口弁
P−1:圧力計元弁
P1: 圧力計
N−1:窒素ガス入口第1弁
N−2:窒素ガス入口第2弁
CK−1:逆止弁
PR−1:第1減圧弁
FM−1:流量計
PR−2:第2減圧弁
NV−1:流量調節弁
S−1:ブレイクモニター入口弁
S−2:ブレイクモニター出口弁
GF−1:ガスフィルター
Claims (1)
- 常温で固体のデカボランを加熱してデカボランガスを得て真空容器に注入後、そのガスを分解して真空容器内をボロンで蒸着被覆処理し、
ボロン蒸着後に不要となったデカボランガスや未反応のデカボランガスを、金属製筒にその下方から上方に向かって、順次、過マンガン酸カリウム及び水酸化カリウムで構成される顆粒状の酸化剤/硫酸銅を主成分とする顆粒状のモニター剤/前記酸化剤と同じ酸化剤が充填される酸化処理筒中をその下方から上方に通過させることにより、マンガン化合物等の安定な物質にデカボランガスを酸化処理し、
その酸化処理筒のモニター剤が充填された位置にガラス製の点検窓を設けてデカボランガスがモニター剤に反応して変色する様を監視し、
前記酸化処理筒の下部に充填配置された酸化剤の能力が低下した際にモニター剤の上部に充填配置された酸化剤によりデカボランガスを処理できるようにし、
更に窒素ガスをキャリアガスとして酸化処理筒に圧送し、酸化処理されたガスを窒素ガスとともにブレークモニターに引き込んで排ガス濃度を監視することを特徴とするデカボランガスの酸化処理法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP00872195A JP3554390B2 (ja) | 1995-01-24 | 1995-01-24 | デカボランガスの酸化処理法 |
US08/590,912 US5672325A (en) | 1995-01-24 | 1996-01-24 | Method for the oxidation treatment of decaborane gas |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP00872195A JP3554390B2 (ja) | 1995-01-24 | 1995-01-24 | デカボランガスの酸化処理法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08196862A JPH08196862A (ja) | 1996-08-06 |
JP3554390B2 true JP3554390B2 (ja) | 2004-08-18 |
Family
ID=11700821
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP00872195A Expired - Fee Related JP3554390B2 (ja) | 1995-01-24 | 1995-01-24 | デカボランガスの酸化処理法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5672325A (ja) |
JP (1) | JP3554390B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6267782B1 (en) * | 1997-11-20 | 2001-07-31 | St. Jude Medical, Inc. | Medical article with adhered antimicrobial metal |
US6143361A (en) * | 1998-10-19 | 2000-11-07 | Howmet Research Corporation | Method of reacting excess CVD gas reactant |
JP4565084B2 (ja) * | 2000-07-21 | 2010-10-20 | 独立行政法人 日本原子力研究開発機構 | デカボランを吸収するための防毒マスク用吸収缶、及びデカボランを吸収した吸収缶の無害化廃棄方法 |
US7320224B2 (en) * | 2004-01-21 | 2008-01-22 | Brooks Automation, Inc. | Method and apparatus for detecting and measuring state of fullness in cryopumps |
WO2008068917A1 (ja) * | 2006-12-01 | 2008-06-12 | Kanken Techno Co., Ltd. | 半導体製造排ガスの除害装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4743435A (en) * | 1985-03-13 | 1988-05-10 | Japan Pionics., Ltd. | Method for cleaning exhaust gases |
JPS6295119A (ja) * | 1985-10-21 | 1987-05-01 | Nippon Chem Ind Co Ltd:The | 水素化ガスの除去方法 |
EP0294142B1 (en) * | 1987-06-01 | 1992-03-25 | Japan Pionics., Ltd. | Method of cleaning exhaust gases |
JPH03137917A (ja) * | 1989-10-24 | 1991-06-12 | Iwatani Internatl Corp | 水素化物系廃ガスの乾式処理方法 |
-
1995
- 1995-01-24 JP JP00872195A patent/JP3554390B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-01-24 US US08/590,912 patent/US5672325A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5672325A (en) | 1997-09-30 |
JPH08196862A (ja) | 1996-08-06 |
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