JP3529860B2 - 4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオキシジベンゾイルメタンおよびその製法 - Google Patents
4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオキシジベンゾイルメタンおよびその製法Info
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Description
−4´−メタクリロイルオキシジベンゾイルメタンおよ
びその製法に関する。さらに詳しくは、化粧料、繊維、
フイルム、インキ、塗料、コンタクトレンズなどの原料
として有用な紫外線吸収性を呈する4−tert−ブチ
ル−4´−メタクリロイルオキシジベンゾイルメタンお
よびその製法に関する。
降り注がれている。紫外線は、波長が320〜400n
mの長波長紫外線(以下、UV−Aという)、波長が2
90〜320nmの中波長紫外線(以下、UV−Bとい
う)および波長が180〜290nmの短波長紫外線
(以下、UV−Cという)に分けることができる。
外線は、太陽光によるものであるが、オゾン層によって
ほとんどのUV−Cは吸収され、UV−BおよびUV−
Aが地表に達する。この紫外線UV−BおよびUV−A
による影響は、人体に対しても、人間を取り巻くすべて
の物質に対しても及ぶ。
て、UV−Aよりもエネルギーが高く、人体に強い影響
を与えるUV−Bに対してなされてきたが、最近ではU
V−Aが人体に悪影響を及ぼすことがしだいに明らかに
されている。
透過するため、人間は、日常生活において知らず知らず
のうちにUV−Aによって被曝している。UV−Aは、
UV−Bと比べて急激な作用を人体には与えないが、そ
の30〜50%が皮膚の真皮にまで到達し、血管壁や結
合組織中の弾性繊維に微慢性の変化をもたらし、これら
の変化が老化促進につながると考えられている。
し、急激に日焼けを起こさせ、シミ、ソバカス、皮膚の
乾燥などの原因となるが、UV−Aは、これらUV−B
による皮膚の変性作用を増強させることが知られてい
る。
Bだけでなく、UV−Aからも皮膚を保護することは、
皮膚の老化促進を予防し、シミ、ソバカスの発生や他の
悪影響を防ぐ意味において重要であり、化粧料の分野に
おいて、UV−A吸収剤が開発され、市販されるように
なってきた。
分子材料の分野では、従来のUV−B領域での高分子材
料の劣化を防止する紫外線吸収剤に加え、近年、重合技
術の進歩とともに機能性高分子材料の開発が進み、UV
−A領域での機能性高分子材料の劣化の防止も重要視さ
れるようになり、繊維、フイルム、インキ、塗料、コン
タクトレンズなどの分野においても、UV−A吸収剤の
需要が高まっている。
主として、ベンゾトリアゾール系、2−ヒドロキシベン
ゾフェノン系およびジベンゾイルメタン系の化合物があ
り、これらのなかでは、ジベンゾイルメタン系の化合物
がUV−A領域でもっとも大きな幅広い極大吸収を有す
る。ベンゾトリアゾール系の化合物は、UV−B領域お
よびUV−A領域に幅広い吸収帯を有するが、UV−A
領域での紫外線吸収能力は、ジベンゾイルメタン系の化
合物の半分以下である。また、2−ヒドロキシベンゾフ
ェノン系の化合物は、ベンゾトリアゾール系の化合物よ
りもUV−A領域での紫外線吸収能力がさらに小さい。
は、たとえば4−tert−ブチル−4´−メトキシジ
ベンゾイルメタン(ジボタン(株)製、商品名:パラソ
ールA、λmax :358nm、logεmax :4.5
9、エタノール中)や、たとえば特開昭62−5645
4号公報に開示された2−エトキシカルボニル−4´−
メトキシジベンゾイルメタン(λmax :344nm、l
ogεmax :4.42、エタノール中)などの2−アル
コキシカルボニル−4´−メトキシジベンゾイルメタン
などがあり、これらのうち、4−tert−ブチル−4
´−メトキシジベンゾイルメタンは、320〜400n
mの領域で吸収帯を有し、かつ極大吸収が大きい。
−4´−メトキシジベンゾイルメタンなどのUV−A吸
収剤には、化粧料の分野においては、UV−Aの被曝時
の皮膚への刺激性、吸収性などの安全面から、人体に対
するUV−A吸収剤として使用可能な化合物の種類およ
びその量に制限があるため、有効量のUV−A吸収剤を
用いることができないという欠点がある。また、繊維、
フイルム、インキ、塗料、コンタクトレンズなどの高分
子材料においては、主として製品化前の工程で前記UV
−A吸収剤が用いられているが、かかるUV−A吸収剤
が揮発や溶出したり、さらにえられた成形品の表面から
の揮発や、表面でのブリードアウトやはじきが生じるこ
とがあり、その結果、UV−Aによる製品の劣化を充分
に阻止することができないといった問題がある。
紫外線散乱剤として用いられている皮膚吸収性が小さい
二酸化チタンや酸化亜鉛などの無機粉末を用いることも
試みられている。しかしながら、これら無機粉末は、U
V−A領域の紫外線を防御するためには、大量に用いる
必要があるため、化粧料に用いたばあいには、使用時に
自然な感触が損なわれるといった問題が生じる。
て、たとえば化粧料の分野においては、UV−A領域に
吸収帯を有するモノマーを高分子量化させることによ
り、皮膚での吸収を防止し、皮膚への刺激を抑制するこ
とが試みられたり、また繊維、フイルム、インキ、塗
料、コンタクトレンズなどの高分子材料の分野において
は、UV−A領域に吸収帯を有するモノマーをラジカル
重合反応によって直接高分子化合物中に組み込ませ、U
V−Aによる劣化を防止することが試みられており、こ
れらの試みにおいて、UV−A吸収性モノマーやUV−
A吸収性ポリマーが報告されている。
ンゾトリアゾール系のモノマーである2−(2´−ヒド
ロキシ−5´−メタクリロイルオキシエチルフェニル)
−2H−ベンゾトリアゾールなどがある(特公昭60−
38411号公報)。また、前記UV−A吸収性ポリマ
ーとしては、たとえばジベンゾイルメタン系の4−メト
キシ−2´−ビニルオキシジベンゾイルメタンを1モノ
マー成分として用いてえられた共重合体などがある(特
開平3−22013号公報)。
シ−5´−メタクリロイルオキシエチルフェニル)−2
H−ベンゾトリアゾールは、ベンゾトリアゾール系の化
合物であり、そのUV−A領域での紫外線吸収能力がジ
ベンゾイルメタン系の化合物と比べてかなり小さいた
め、紫外線吸収能力にそれほどすぐれたものではない。
また、前記共重合体には、前記ジベンゾイルメタン系の
化合物として例示された2−アルコキシカルボニル−4
´−メトキシジベンゾイルメタン骨格が用いられてはい
るものの、4−メトキシ−2´−ビニルオキシジベンゾ
イルメタンに基づくUV−A領域での紫外線吸収能力は
確認されていない。
ーやUV−A吸収性ポリマーの研究が行なわれているも
のの、とくに波長320〜400nmのUV−A領域に
おいて、幅広い紫外線極大吸収を有し、UV−Aの吸収
能力が大きいジベンゾイルメタン系のUV−A吸収性モ
ノマーの開発が待ち望まれている。
術に鑑みてなされたものであり、きわめてすぐれたUV
−A吸収性を呈するジベンゾイルメタン系新規化合物お
よびその製法を提供することを目的とする。
式(I):
−メタクリロイルオキシジベンゾイルメタン、および
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンに、有機溶媒
中で金属ハロゲン化物を2種以上、および塩基の存在下
でニ酸化炭素を反応させたのち、4−tert−ブチル
安息香酸ハロゲン化物を反応させることを特徴とする式
(I):
−メタクリロイルオキシジベンゾイルメタンの製法に関
する。
4´−メタクリロイルオキシジベンゾイルメタンは、式
(I):
ロイルオキシアセトフェノンに、有機溶媒中で金属ハロ
ゲン化物および塩基の存在下で二酸化炭素を反応させた
のち、4−tert−ブチル安息香酸ハロゲン化物を反
応させることによりえられる。
ル、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、1,4−ジオキサ
ン、1,3−ジオキソラン、ジクロロメタン、クロロホ
ルム、ジメチルスルホキシドなどがあげられ、これらの
なかでは酢酸エチルがとくに好ましい。
塩化マグネシウム、塩化カルシウムなどの金属塩化物、
臭化マグネシウムなどの金属臭化物、ヨウ化リチウム、
ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムなどの金属ヨウ化物
などがあげられ、これらは2種以上を混合して用いるこ
とができる。
にも多いばあいには、前記有機溶媒中での撹拌が困難と
なるので、4−メタクリロイルオキシアセトフェノン1
モルに対して15モル以下、なかんづく13モル以下と
することが好ましく、またあまりにも少ないばあいに
は、4−メタクリロイルオキシアセトフェノンと二酸化
炭素との反応が完結しにくくなるので、4−メタクリロ
イルオキシアセトフェノン1モルに対して1モル以上、
なかんづく1.5モル以上とすることが好ましい。
塩化マグネシウムと金属ヨウ化物との併用が、反応性が
高く、高価な金属ヨウ化物の触媒作用を利用することが
できるにもかかわらず、低コストである点で好ましい。
このばあい、塩化マグネシウムと金属ヨウ化物との使用
割合(塩化マグネシウム/金属ヨウ化物(モル比))
は、両者の反応性を考慮すると、通常、90/10〜9
9/1程度、なかんづく95/5〜98/2程度である
ことが好ましい。
ミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルア
ミンなどの三級アミン、ヘキサメチルホスホルアミド、
ジメチルホルムアミドなどのアミドなどがあげられ、こ
れらは単独でまたは2種以上を混合して用いられる。こ
れらのなかでは、トリエチルアミン、トリ−n−プロピ
ルアミン、トリ−n−ブチルアミンなどの三級アミン、
なかでもトリエチルアミンが好ましい。
いには、反応溶液の量が多くなり、生産効率が低下する
ようになるので、4−メタクリロイルオキシアセトフェ
ノン1モルに対して15モル以下、なかんづく10モル
以下とすることが好ましく、またあまりにも少ないばあ
いには、4−メタクリロイルオキシアセトフェノンと二
酸化炭素との反応が完結しにくくなるので、4−メタク
リロイルオキシアセトフェノン1モルに対して3モル以
上、なかんづく5モル以上とすることが好ましい。
媒に懸濁させたのち、これに4−メタクリロイルオキシ
アセトフェノンを添加する際には、かかる有機溶媒の懸
濁液の液温は、4−メタクリロイルオキシアセトフェノ
ンと二酸化炭素との反応性を向上させ、反応をより短時
間で完結させるために、10℃以上、なかんづく15℃
以上とすることが好ましく、また4−メタクリロイルオ
キシアセトフェノンのメタクリロイルオキシ基の重合や
塩基による分解が生じるおそれをなくすために、40℃
以下、なかんづく30℃以下とすることが好ましい。
ノンの使用量は、とくに限定がないが、生産性の面およ
び反応時間を考慮すれば、有機溶媒100mlに対して
1〜20g、なかんづく5〜15gであることが好まし
い。
ェノンと二酸化炭素とを反応させる際には、4−メタク
リロイルオキシアセトフェノンの重合反応を防止するた
めに、あらかじめ前記有機溶媒の懸濁液に重合反応防止
剤を添加しておくことが好ましい。
−メトキシフェノール、1,4−ヒドロキノン、1,4
−ベンゾキノンなどがあげられ、これらは単独でまたは
2種以上を混合して用いることができる。
メタクリロイルオキシアセトフェノン100重量部に対
して0.01〜0.1重量部、なかんづく0.03〜
0.06重量部となるように調整することが好ましい。
ノンと二酸化炭素との反応は、二酸化炭素雰囲気中で、
たとえば前記有機溶媒の懸濁液に二酸化炭素を吹き込む
ことによって行なうことができる。両者の反応の終了
は、たとえば薄層クロマトグラフィー(以下、TLCと
いう)や高速液体クロマトグラフィー(以下、HPLC
という)などによって、原料である4−メタクリロイル
オキシアセトフェノンの消失によって確認することがで
きる。
と二酸化炭素との反応終了後、えられた反応液を撹拌し
ながら該反応液に、4−tert−ブチル安息香酸ハロ
ゲン化物を添加し、両者の反応を行なう。なお、このと
き、たとえばトリエチルアミンなどの塩基の活性が二酸
化炭素によって低下しているばあいには、さらにこれら
の塩基を、前記金属ハロゲン化物とともに有機溶媒に懸
濁させた塩基との合計量が、たとえば前記使用量の範囲
内に含まれるように調整して添加することにより、反応
時間を短縮させることができる。
ン化物としては、たとえば4−tert−ブチルベンゾ
イルクロリド、4−tert−ブチルベンゾイルブロミ
ド、4−tert−ブチルベンゾイルアイオダイドなど
があげられるが、これらのなかでは、低価格であり、入
手が容易であるという点で4−tert−ブチルベンゾ
イルクロリドが好適に使用しうる。
ン化物の使用量は、あまりにも多いばあいには、副生成
物が増加し、4−tert−ブチル−4´−メタクリロ
イルオキシジベンゾイルメタンの収率が低下するように
なるので、4−メタクリロイルオキシアセトフェノン1
モルに対して1.5モル以下、なかんづく1.2モル以
下とすることが好ましく、またあまりにも少ないばあい
には、反応処理後、反応中間体である3−(4−メタク
リロイルオキシフェニル)−3−オキソ−プロパン酸の
回収量が多くなってしまうので、4−メタクリロイルオ
キシアセトフェノン1モルに対して0.5モル以上、な
かんづく0.7モル以上とすることが好ましい。
酸ハロゲン化物を添加する際には、かかる反応液の液温
は、反応の進行を充分に持続させるために、0℃以上、
なかんづく3℃以上とすることが好ましく、また副生成
物の生成を充分に抑制するために、25℃以下、なかん
づく10℃以下とすることが好ましい。
物の添加後は、反応液を撹拌しながら、10〜40℃、
好ましくは20〜35℃の温度で乾燥空気雰囲気中で反
応させる。かかる反応時の温度は、前記下限値よりも低
いばあいには、反応が完結するまでに長時間を要するよ
うになり、また前記上限値よりも高いばあいには、副生
成物が増加し、4−tert−ブチル−4´−メタクリ
ロイルオキシジベンゾイルメタンの収率が低下するよう
になる傾向がある。
って、反応中間体である3−(4−メタクリロイルオキ
シフェニル)−3−オキソ−プロパン酸の消失によって
確認することができる。
ナトリウム水溶液、希塩酸、希硫酸などの酸性水溶液な
どによって処理したのち、有機溶媒で抽出し、たとえば
エバポレーターなどによって減圧下で濃縮することによ
り、濃縮された油状物がえられる。
サン、シクロヘキサン、トルエン、ベンゼン、酢酸エチ
ル、ジクロロメタン、クロロホルムなどがあげられる
が、これらのなかではn−ヘキサン、シクロヘキサン、
ジクロロメタン、酢酸エチルが好ましく、とくに酢酸エ
チルが好ましい。
ラムクロマトグラフィーによる処理や再結晶させること
により、前記式(I)で表わされる4−tert−ブチ
ル−4´−メタクリロイルオキシジベンゾイルメタンを
取り出すことができる。
4´−メタクリロイルオキシジベンゾイルメタンは、ベ
ンゼン環の4´位に、重合活性があるメタクリロイルオ
キシ基を有し、かつUV(紫外線)スペクトルにおいて
λmax が348nm(logεmax =3.45、エタノ
ール中)であり、UV−A領域に幅広い吸収帯を有す
る。
4´−メタクリロイルオキシジベンゾイルメタンは、U
V−A領域に幅広い吸収帯を有するという性質を利用し
て、UV−A領域における吸収が要求される、たとえば
化粧料、繊維、フイルム、インキ、塗料、コンタクトレ
ンズなどの原料として好適に使用しうるものである。
4´−メタクリロイルオキシジベンゾイルメタンおよび
その製法を実施例にもとづいて詳細に説明するが、本発
明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
に、塩化マグネシウム19.0g(0.20モル)とヨ
ウ化カリウム0.83g(0.005モル)を27℃で
懸濁させ、15分間撹拌したのち、トリエチルアミン5
4.6g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素をこの
反応器内に吹き込み、さらに15分間撹拌後、二酸化炭
素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセトフェノ
ン20.4g(0.10モル)と1,4−ベンゾキノン
0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失をTL
C〔シリカゲルプレート、展開液:n−ヘキサン−酢酸
エチル(体積比3:1)〕およびHPLC〔カラム:O
DS(オクタデシル基が化学結合されたシリカゲル、φ
4.6×150mm)、移動層:アセトニトリル〕によ
り確認し、二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を5℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了をTLC〔シリカゲルプレート、展開
液:n−ヘキサン−酢酸エチル(体積比3:1)〕およ
びHPLC〔カラム:ODS(オクタデシル基が化学結
合されたシリカゲル、φ4.6×150mm)、移動
層:アセトニトリル〕によって確認し、反応液を10%
硫酸水素ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチルで抽出
した。
硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過したのち、有機層を濃縮
してえた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
〔展開液:n−ヘキサン−酢酸エチル(体積比10:
1)〕で精製し、n−ヘキサンで再結晶することによ
り、白色結晶を収率65%でえた。
った。
(日本電子(株)製、GSX−270)、13C−NMR
(日本電子(株)製、GSX−270)、赤外吸収スペ
クトル(IR、(株)島津製作所製、FTIR−420
0)、紫外線吸収最大波長(UV(λmax )、(株)島
津製作所製、UV−240)、高分解能マススペクトル
(日本電子(株)製、HX−100(分析機器)、およ
び日本電子(株)製、DA−5000(データ処理))
および元素分析を行なった。
る4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオキシ
ジベンゾイルメタンであることが確認された。
l3 )δppm:16.90(brs,1H,エノール系ヒ
ドロキシル水素) 8.03(psude d,2H,J=8.4 ,芳香核水素) 7.93(d,2H,J=8.4 ,芳香核水素) 7.51(d,2H,J=8.4 ,芳香核水素) 7.26(d,2H,J=8.4 ,芳香核水素) 6.82(s,1H,エノール系オレフィン水素) 6.38(m,1H,ビニリデン水素) 5.80(m,1H,ビニリデン水素) 2.07(s,3H,CH3 ) 1.34(s,9H,tert−C4 H9 )13 C−NMR(67.5MHz)(CDCl3 )δppm:
185.6, 184.5, 165.3, 156.3, 154.1, 135.5, 13
3.2, 132.6,128.7, 128.6, 127.8, 127.1, 127.
0, 125.7, 121.9, 116.0,114.7,93.2,92.8,35.
1,31.1,31.0,18.3 IR(KBr):3742,2965,2101,1773,1603,131
9,1210,1167,1127,791 cm-1 UV(λmax ):348 nm(エタノール中、logε=
3.45) 高分解能マススペクトル:365.1745(M+ +1) 元素分析: 計算値(C23H24O4 に基づく):C;78.80 %,H;
6.64% 実測値:C;78.74 %,H;6.65% 実施例2 反応容器に入れた乾燥させた酢酸エチル200ml中
に、塩化マグネシウム19.0g(0.20モル)とヨ
ウ化ナトリウム0.75g(0.005モル)を27℃
で懸濁させ、15分間撹拌したのち、トリエチルアミン
54.6g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素をこ
の反応器内に吹き込み、さらに15分間撹拌後、二酸化
炭素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセトフェ
ノン20.4g(0.1モル)と4−メトキシフェノー
ル0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド15.8g(0.08モル)およ
びトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を7℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよびH
PLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理によ
って白色結晶を収率64%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λma x )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
塩化マグネシウム19.0g(0.20モル)とヨウ化
リチウム0.67g(0.005モル)を27℃で懸濁
させ、15分間撹拌したのち、トリエチルアミン54.
6g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素をこの反応
器内に吹き込み、さらに15分間撹拌後、二酸化炭素雰
囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセトフェノン2
0.4g(0.10モル)と1,4−ヒドロキノン0.
01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を5℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよびH
PLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理によ
って白色結晶を収率67%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λmax )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
に、臭化マグネシウム36.8g(0.20モル)とヨ
ウ化ナトリウム0.75g(0.005モル)を27℃
で懸濁させ、15分間撹拌したのち、トリエチルアミン
54.6g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素をこ
の反応器内に吹き込み、さらに15分間撹拌後、二酸化
炭素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセトフェ
ノン20.4g(0.10モル)と1,4−ベンゾキノ
ン0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を5℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよびH
PLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理によ
って白色結晶を収率66%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λmax )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
に、臭化マグネシウム36.8g(0.20モル)とヨ
ウ化カリウム0.83g(0.005モル)を27℃で
懸濁させ、15分間撹拌したのち、トリエチルアミン5
4.6g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素をこの
反応器内に吹き込み、さらに15分間撹拌後、二酸化炭
素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセトフェノ
ン20.4g(0.10モル)と1,4−ベンゾキノン
0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を5℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよびH
PLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理によ
って白色結晶を収率66%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λmax )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
に、塩化マグネシウム9.50g(0.10モル)およ
び臭化マグネシウム9.20g(0.05モル)と、ヨ
ウ化カリウム0.83g(0.005モル)とを27℃
で懸濁させ、15分間撹拌後、トリエチルアミン54.
6g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素をこの反応
器内に吹き込み、さらに15分間撹拌したのち、二酸化
炭素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセトフェ
ノン20.4g(0.10モル)と1,4−ベンゾキノ
ン0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を5℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよびH
PLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理によ
って白色結晶を収率66%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λmax )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
に、塩化マグネシウム95.2g(1.0モル)を27
℃で懸濁させ、15分間撹拌後、トリエチルアミン5
4.6g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素をこの
反応器内に吹き込み、さらに15分間撹拌したのち、二
酸化炭素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセト
フェノン20.4g(0.10モル)と1,4−ベンゾ
キノン0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を5℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよびH
PLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理によ
って白色結晶を収率35%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λmax )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
臭化マグネシウム184.1g(1.0モル)を27℃
で懸濁させ、15分間撹拌したのち、トリエチルアミン
54.6g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素をこ
の反応器内に吹き込み、さらに15分間撹拌後、二酸化
炭素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセトフェ
ノン20.4g(0.10モル)と1,4−ベンゾキノ
ン0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を7℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよびH
PLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理によ
って白色結晶を収率49%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λmax )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
塩化カルシウム22.2g(0.20モル)とヨウ化カ
リウム0.83g(0.005モル)を27℃で懸濁さ
せ、15分間撹拌したのち、トリエチルアミン54.6
g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素をこの反応器
内に吹き込み、さらに15分間撹拌後、二酸化炭素雰囲
気中で、4−メタクリロイルオキシアセトフェノン2
0.4g(0.10モル)と1,4−ベンゾキノン0.
01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を5℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよびH
PLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理によ
って白色結晶を収率45%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λmax )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
に、塩化マグネシウム19.0g(0.20モル)とヨ
ウ化カリウム0.83g(0.005モル)を27℃で
懸濁させ、15分間撹拌したのち、トリエチルアミン5
4.6g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素をこの
反応器内に吹き込み、さらに15分間撹拌後、二酸化炭
素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセトフェノ
ン20.4g(0.10モル)と1,4−ベンゾキノン
0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルブロミド24.1g(0.10モル)およ
びトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を5℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよびH
PLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理によ
って白色結晶を収率67%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λmax )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
塩化マグネシウム19.0g(0.20モル)とヨウ化
カリウム0.83g(0.005モル)を27℃で懸濁
させ、15分間撹拌したのち、トリエチルアミン54.
6g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素をこの反応
器内に吹き込み、さらに15分間撹拌後、二酸化炭素雰
囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセトフェノン2
0.4g(0.10モル)と1,4−ベンゾキノン0.
01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルアイオダイド28.8g(0.10モル)
およびトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を
5℃で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌し
たのち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよ
びHPLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理
によって白色結晶を収率68%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λmax )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
塩化マグネシウム19.0g(0.20モル)とヨウ化
カリウム0.83g(0.005モル)を27℃で懸濁
させ、15分間撹拌したのち、トリ−n−ブチルアミン
100.1g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素を
この反応器内に吹き込み、さらに15分間撹拌後、二酸
化炭素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセトフ
ェノン20.4g(0.10モル)と1,4−ベンゾキ
ノン0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びトリ−n−ブチルアミン50.0g(0.27モル)
を5℃で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌
したのち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCお
よびHPLCによって確認し、実施例1と同様の反応処
理によって白色結晶を収率64%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λmax )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
塩化マグネシウム19.0g(0.20モル)とヨウ化
カリウム0.83g(0.005モル)を27℃で懸濁
させ、15分間撹拌したのち、トリ−i−プロピルアミ
ン77.3g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素を
この反応器内に吹き込み、さらに15分間撹拌後、二酸
化炭素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセトフ
ェノン20.4g(0.10モル)と1,4−ベンゾキ
ノン0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びトリエチルアミン38.7g(0.27モル)を5℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよびH
PLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理によ
って白色結晶を収率63%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λmax )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
塩化マグネシウム19.0g(0.20モル)とヨウ化
カリウム0.83g(0.005モル)を27℃で懸濁
させ、15分間撹拌したのち、ヘキサメチルホスホルア
ミド88.1g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素
をこの反応器内に吹き込み、さらに15分間撹拌後、二
酸化炭素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセト
フェノン20.4g(0.10モル)と1,4−ベンゾ
キノン0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びヘキサメチルホスホルアミド44.1g(0.27モ
ル)を5℃で添加した。この反応液を27℃で24時間
撹拌したのち、反応の終了を実施例1と同様にしてTL
CおよびHPLCによって確認し、実施例1と同様の反
応処理によって白色結晶を収率60%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λmax )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
塩化マグネシウム19.0g(0.20モル)とヨウ化
カリウム0.83g(0.005モル)を27℃で懸濁
させ、15分間撹拌したのち、ジメチルホルムアミド3
9.5g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素をこの
反応器内に吹き込み、さらに15分間撹拌後、二酸化炭
素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセトフェノ
ン20.4g(0.10モル)と1,4−ベンゾキノン
0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を5℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよびH
PLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理によ
って白色結晶を収率61%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λma x )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
中に、塩化マグネシウム19.0g(0.20モル)と
ヨウ化カリウム0.83g(0.005モル)を27℃
で懸濁させ、15分間撹拌したのち、トリエチルアミン
54.6g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素をこ
の反応器内に吹き込み、さらに15分間撹拌後、二酸化
炭素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセトフェ
ノン20.4g(0.10モル)と1,4−ベンゾキノ
ン0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を5℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよびH
PLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理によ
って白色結晶を収率43%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λmax )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
l中に、塩化マグネシウム19.0g(0.20モル)
とヨウ化カリウム0.83g(0.005モル)を27
℃で懸濁させ、15分間撹拌したのち、トリエチルアミ
ン54.6g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素を
この反応器内に吹き込み、さらに15分間撹拌後、二酸
化炭素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセトフ
ェノン20.4g(0.10モル)と1,4−ベンゾキ
ノン0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を5℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよびH
PLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理によ
って白色結晶を収率53%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λmax )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
ml中に、塩化マグネシウム19.0g(0.20モ
ル)とヨウ化カリウム0.83g(0.005モル)を
27℃で懸濁させ、15分間撹拌したのち、トリエチル
アミン54.6g(0.54モル)を添加し、二酸化炭
素をこの反応器内に吹き込み、さらに15分間撹拌後、
二酸化炭素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセ
トフェノン20.4g(0.10モル)と1,4−ベン
ゾキノン0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を5℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよびH
PLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理によ
って白色結晶を収率54%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λma x )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
塩化マグネシウム19.0g(0.20モル)とヨウ化
カリウム0.83g(0.005モル)を27℃で懸濁
させ、15分間撹拌したのち、トリエチルアミン54.
6g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素をこの反応
器内に吹き込み、さらに15分間撹拌したのち、二酸化
炭素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセトフェ
ノン20.4g(0.10モル)と1,4−ベンゾキノ
ン0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を5℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよびH
PLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理によ
って白色結晶を収率59%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λmax )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
中に、塩化マグネシウム19.0g(0.20モル)と
ヨウ化カリウム0.83g(0.005モル)を27℃
で懸濁させ、15分間撹拌したのち、トリエチルアミン
54.6g(0.54モル)を添加し、二酸化炭素をこ
の反応器内に吹き込み、さらに15分間撹拌したのち、
二酸化炭素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキシアセ
トフェノン20.4g(0.10モル)と1,4−ベン
ゾキノン0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を5℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよびH
PLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理によ
って白色結晶を収率62%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λmax )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
0ml中に、塩化マグネシウム19.0g(0.20モ
ル)とヨウ化カリウム0.83g(0.005モル)を
27℃で懸濁させ、15分間撹拌したのち、トリエチル
アミン54.6g(0.54モル)を添加し、二酸化炭
素をこの反応器内に吹き込み、さらに15分間撹拌した
のち、二酸化炭素雰囲気中で、4−メタクリロイルオキ
シアセトフェノン20.4g(0.10モル)と1,4
−ベンゾキノン0.01gを添加した。
4−メタクリロイルオキシアセトフェノンの消失を実施
例1と同様にしてTLCおよびHPLCにより確認し、
二酸化炭素の吹き込みを停止した。
ルベンゾイルクロリド19.7g(0.10モル)およ
びトリエチルアミン27.3g(0.27モル)を5℃
で添加した。この反応液を27℃で24時間撹拌したの
ち、反応の終了を実施例1と同様にしてTLCおよびH
PLCによって確認し、実施例1と同様の反応処理によ
って白色結晶を収率58%でえた。
R、13C−NMR、IR、UV(λma x )、高分解能マ
ススペクトルおよび元素分析を実施例1と同様にして調
べたところ、実施例1と同様の結果がえられた。
とする4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオ
キシジベンゾイルメタンであることが確認された。
クリロイルオキシジベンゾイルメタンの吸光度を示すグ
ラフを図1に示す。
れた4−tert−ブチル−4´−メタクリロイルオキ
シジベンゾイルメタンは、波長320〜400nmの領
域(UV−A領域)で高吸光度を呈することがわかる。
メタクリロイルオキシジベンゾイルメタンは、UV−A
領域で高い紫外線吸収性を呈するので、該4−tert
−ブチル−4´−メタクリロイルオキシジベンゾイルメ
タンを高分子量化させることによってえられたポリマー
を化粧料に用いたばあいには、皮膚にUV−Aが吸収さ
れるのを防ぐことができ、また、たとえばラジカル重合
反応などによって直接分子中に組込んだばあいには、繊
維、フイルム、インキ、塗料、コンタクトレンズなど
に、UV−A領域で高い紫外線吸収能を付与させること
ができる。
で、4−tert−ブチル−ジベンゾイルメタンのベン
ゼン環の4´位に重合活性のあるメタクリロイルオキシ
基を容易に導入することができ、かつ金属ハロゲン化物
を少量用いるだけで反応が進行するので、生産性、経済
面にもすぐれるという効果が奏される。
´−メタクリロイルオキシジベンゾイルメタンの吸光度
を示すグラフである。
Claims (2)
- 【請求項1】 式(I): 【化1】 で表わされる4−tert−ブチル−4´−メタクリロ
イルオキシジベンゾイルメタン。 - 【請求項2】 4−メタクリロイルオキシアセトフェ
ノンに、有機溶媒中で金属ハロゲン化物を2種以上、お
よび塩基の存在下でニ酸化炭素を反応させたのち、4−
tert−ブチル安息香酸ハロゲン化物を反応させるこ
とを特徴とする式(I): 【化2】 で表わされる4−tert−ブチル−4′−メタクリロ
イルオキシジベンゾイルメタンの製法。
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日本化学会誌,1977,No.9,P1344〜1348 |
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