JP3527955B2 - 蛍光ｘ線分析装置 - Google Patents
蛍光ｘ線分析装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、試料の蛍光Ｘ線分
析を行う蛍光Ｘ線分析装置に関し、特に試料の各成分の
分析値計算の補正に使用するパラメータの設定に関す
る。
析を行う蛍光Ｘ線分析装置に関し、特に試料の各成分の
分析値計算の補正に使用するパラメータの設定に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】一般に、蛍光Ｘ線分析においては、試料
の蛍光Ｘ線分析を行う装置と、試料の前処理を行う試料
前処理装置などの外部の機器とを結合して用いる場合が
多い。試料前処理装置には、例えばセメントのような粉
末試料と融剤の混合物を加熱溶融してガラスビードを作
製する試料溶融装置がある。
の蛍光Ｘ線分析を行う装置と、試料の前処理を行う試料
前処理装置などの外部の機器とを結合して用いる場合が
多い。試料前処理装置には、例えばセメントのような粉
末試料と融剤の混合物を加熱溶融してガラスビードを作
製する試料溶融装置がある。
【０００３】この場合、試料溶融装置で得られた試料重
量、融剤（フラックス）重量および作製したガラスビー
ドの重量等の試料の情報を蛍光Ｘ線分析装置内部のコン
ピュータへ転送して、ガラスビードの融剤重量と試料重
量との比である希釈率や、試料重量と融剤重量の合計か
らガラスビード重量を減算したイグロス重量と試料重量
との比であるイグロス含有率などのパラメータを求め、
このパラメータを試料の各成分の分析値計算の補正に使
用する。上記試料溶融装置を用いずに、別途天秤で計量
した試料重量、融剤重量および作成したガラスビードの
重量の情報を上記コンピュータへ転送する場合もある。
量、融剤（フラックス）重量および作製したガラスビー
ドの重量等の試料の情報を蛍光Ｘ線分析装置内部のコン
ピュータへ転送して、ガラスビードの融剤重量と試料重
量との比である希釈率や、試料重量と融剤重量の合計か
らガラスビード重量を減算したイグロス重量と試料重量
との比であるイグロス含有率などのパラメータを求め、
このパラメータを試料の各成分の分析値計算の補正に使
用する。上記試料溶融装置を用いずに、別途天秤で計量
した試料重量、融剤重量および作成したガラスビードの
重量の情報を上記コンピュータへ転送する場合もある。
【０００４】一方、外部の機器として発光分光分析装置
などの他種の分析装置を用いる場合、その分析装置で得
られた測定値（光強度）等の試料の情報を蛍光Ｘ線分析
装置付属のコンピュータへ転送し、このコンピュータで
成分含有率を計算して、試料の各成分の分析値計算の補
正に使用する場合がある。また、上記のように、試料の
情報を外部の機器から転送する代わりに、分析試料ごと
に蛍光Ｘ線分析装置付属のコンピュータへ直接手入力し
て、上記データ処理を行う場合もある。
などの他種の分析装置を用いる場合、その分析装置で得
られた測定値（光強度）等の試料の情報を蛍光Ｘ線分析
装置付属のコンピュータへ転送し、このコンピュータで
成分含有率を計算して、試料の各成分の分析値計算の補
正に使用する場合がある。また、上記のように、試料の
情報を外部の機器から転送する代わりに、分析試料ごと
に蛍光Ｘ線分析装置付属のコンピュータへ直接手入力し
て、上記データ処理を行う場合もある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、外部の機器に
より得られた試料の情報に基づいて、蛍光Ｘ線分析装置
付属のコンピュータでデータ処理を行う場合、従来、例
えばガラスビードの希釈率やイグロス含有率などのパラ
メータの計算式については、予め装置のプログラムに組
み込まれているため、ユーザーが分析精度の向上等の目
的に合わせてその計算式を変更したい場合、プログラム
自体を変更する必要があり、その変更が困難であるとい
う問題があった。また、プログラムを変更しない限り、
装置を他の分析法の計算に使用できないという問題もあ
った。
より得られた試料の情報に基づいて、蛍光Ｘ線分析装置
付属のコンピュータでデータ処理を行う場合、従来、例
えばガラスビードの希釈率やイグロス含有率などのパラ
メータの計算式については、予め装置のプログラムに組
み込まれているため、ユーザーが分析精度の向上等の目
的に合わせてその計算式を変更したい場合、プログラム
自体を変更する必要があり、その変更が困難であるとい
う問題があった。また、プログラムを変更しない限り、
装置を他の分析法の計算に使用できないという問題もあ
った。
【０００６】本発明は、上記の問題点を解決して、試料
の各成分の分析値計算の補正に使用するパラメータの計
算式を、分析精度の向上等の目的に合わせて容易に設定
できる蛍光Ｘ線分析装置を提供することを目的としてい
る。
の各成分の分析値計算の補正に使用するパラメータの計
算式を、分析精度の向上等の目的に合わせて容易に設定
できる蛍光Ｘ線分析装置を提供することを目的としてい
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１に係る蛍光Ｘ線分析装置は、外部の機器に
より得られた試料の情報に基づき、少なくとも試料重
量、融剤重量およびガラスビード重量を含む計算式を用
いて、試料の成分含有率、試料と融剤の混合物を加熱溶
融して作成されたガラスビードの融剤重量と試料重量と
の比である希釈率、および試料重量と融剤重量の合計か
らガラスビード重量を減算したイグロス重量と試料重量
との比であるイグロス含有率の少なくとも１つを含むパ
ラメータの計算を行い、このパラメータを使用して、試
料の各成分の分析値計算の補正式による補正を行う蛍光
Ｘ線分析装置であって、前記計算式を入力する入力手段
と、入力された計算式を記憶する記憶手段と、試料分析
時に、前記記憶された計算式にしたがって計算された前
記パラメータを用いて、予め組み込まれた前記補正式を
有するプログラムにしたがった演算を行い、分析値計算
を補正する演算手段とを備えている。
に、請求項１に係る蛍光Ｘ線分析装置は、外部の機器に
より得られた試料の情報に基づき、少なくとも試料重
量、融剤重量およびガラスビード重量を含む計算式を用
いて、試料の成分含有率、試料と融剤の混合物を加熱溶
融して作成されたガラスビードの融剤重量と試料重量と
の比である希釈率、および試料重量と融剤重量の合計か
らガラスビード重量を減算したイグロス重量と試料重量
との比であるイグロス含有率の少なくとも１つを含むパ
ラメータの計算を行い、このパラメータを使用して、試
料の各成分の分析値計算の補正式による補正を行う蛍光
Ｘ線分析装置であって、前記計算式を入力する入力手段
と、入力された計算式を記憶する記憶手段と、試料分析
時に、前記記憶された計算式にしたがって計算された前
記パラメータを用いて、予め組み込まれた前記補正式を
有するプログラムにしたがった演算を行い、分析値計算
を補正する演算手段とを備えている。
【０００８】上記構成によれば、予めパラメータを含む
分析値計算の補正式がプログラムに組み込まれているも
のであって、パラメータの計算式自体は組み込まれずに
入力されるから、試料の情報に基づいて、試料の各成分
の分析値計算の補正に使用するパラメータの計算式を入
力できるので、分析精度の向上等の目的に合わせて、ユ
ーザー側で容易かつ迅速に計算式を適宜変更でき、この
結果を用いて分析値計算を補正することができる。ま
た、別の計算式を用いて他の分析法の計算に装置を用い
ることもできる。
分析値計算の補正式がプログラムに組み込まれているも
のであって、パラメータの計算式自体は組み込まれずに
入力されるから、試料の情報に基づいて、試料の各成分
の分析値計算の補正に使用するパラメータの計算式を入
力できるので、分析精度の向上等の目的に合わせて、ユ
ーザー側で容易かつ迅速に計算式を適宜変更でき、この
結果を用いて分析値計算を補正することができる。ま
た、別の計算式を用いて他の分析法の計算に装置を用い
ることもできる。
【０００９】請求項２に係る蛍光Ｘ線分析装置は、請求
項１において、さらに、前記外部の機器により得られた
試料の情報を蛍光Ｘ線分析装置内部のコンピュータに転
送するデータ転送手段を備えている。したがって、外部
の機器により得られた試料の情報が自動的に転送される
ので、試料の情報をその都度手入力する必要がない。
項１において、さらに、前記外部の機器により得られた
試料の情報を蛍光Ｘ線分析装置内部のコンピュータに転
送するデータ転送手段を備えている。したがって、外部
の機器により得られた試料の情報が自動的に転送される
ので、試料の情報をその都度手入力する必要がない。
【００１０】請求項３に係る蛍光Ｘ線分析装置は、請求
項１または２において、前記入力手段は、前記計算式を
演算子を用いて数学演算式どおりに入力するので、容易
に計算式を入力できる。
項１または２において、前記入力手段は、前記計算式を
演算子を用いて数学演算式どおりに入力するので、容易
に計算式を入力できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る
蛍光Ｘ線分析装置の構成図を示す。この蛍光Ｘ線分析装
置１２は、例えばガラスビードを用いて試料の各成分の
含有率を分析するものであり、本装置１２には、外部の
機器として、例えばセメントのような粉末試料と融剤の
混合物を加熱溶融してガラスビードを作製する試料溶融
装置２２が接続されている。
基づいて説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る
蛍光Ｘ線分析装置の構成図を示す。この蛍光Ｘ線分析装
置１２は、例えばガラスビードを用いて試料の各成分の
含有率を分析するものであり、本装置１２には、外部の
機器として、例えばセメントのような粉末試料と融剤の
混合物を加熱溶融してガラスビードを作製する試料溶融
装置２２が接続されている。
【００１２】上記試料溶融装置２２には試料，融剤をほ
ぼ定量ずつ切り出して自動秤量し、ガラスビード作成
後、ガラスビードを自動秤量する秤量手段（自動秤量
機）２４が設けられている。試料溶融装置２２は、その
内部にＣＰＵ（コンピュータ）２５を備えており、この
コンピュータ２５は、試料重量，融剤重量，ガラスビー
ド重量等の試料の情報を記憶するメモリ２８と、メモリ
２８に記憶された試料の情報を蛍光Ｘ線分析装置１２付
属のコンピュータ１５へ転送するデータ転送手段２６と
を有している。
ぼ定量ずつ切り出して自動秤量し、ガラスビード作成
後、ガラスビードを自動秤量する秤量手段（自動秤量
機）２４が設けられている。試料溶融装置２２は、その
内部にＣＰＵ（コンピュータ）２５を備えており、この
コンピュータ２５は、試料重量，融剤重量，ガラスビー
ド重量等の試料の情報を記憶するメモリ２８と、メモリ
２８に記憶された試料の情報を蛍光Ｘ線分析装置１２付
属のコンピュータ１５へ転送するデータ転送手段２６と
を有している。
【００１３】上記蛍光Ｘ線分析装置１２は、その装置全
体を制御するＣＰＵ（コンピュータ）１５を備えてお
り、このコンピュータ１５は入力手段１４、演算手段１
６および記憶手段（メモリ）１８を有している。
体を制御するＣＰＵ（コンピュータ）１５を備えてお
り、このコンピュータ１５は入力手段１４、演算手段１
６および記憶手段（メモリ）１８を有している。
【００１４】入力手段１４は、例えば、ガラスビードの
融剤重量と試料重量との比である希釈率、および試料重
量と融剤重量の合計からガラスビード重量を減算したイ
グロス重量と試料重量との比であるイグロス含有率とい
うパラメータの計算式を入力する。この計算式は、試料
溶融装置２２の自動秤量機２４により得られた試料重
量，融剤重量，ガラスビード重量等の試料の情報に基づ
いて設定される。この入力手段１４は例えばキーボード
であり、パラメータの計算式を演算子を用いて数学演算
式どおりに入力する。演算子には、四則演算、左右括
弧、平方根、指数、対数等が含まれる。記憶手段１８
は、入力手段１４により入力された計算式を記憶する。
融剤重量と試料重量との比である希釈率、および試料重
量と融剤重量の合計からガラスビード重量を減算したイ
グロス重量と試料重量との比であるイグロス含有率とい
うパラメータの計算式を入力する。この計算式は、試料
溶融装置２２の自動秤量機２４により得られた試料重
量，融剤重量，ガラスビード重量等の試料の情報に基づ
いて設定される。この入力手段１４は例えばキーボード
であり、パラメータの計算式を演算子を用いて数学演算
式どおりに入力する。演算子には、四則演算、左右括
弧、平方根、指数、対数等が含まれる。記憶手段１８
は、入力手段１４により入力された計算式を記憶する。
【００１５】演算手段１６は、試料分析時に、記憶手段
１８に記憶された計算式にしたがって計算された前記パ
ラメータを用いて、予め組み込まれたプログラムにした
がった演算を行い、分析値計算を補正する。すなわち、
演算手段１６は、上記の計算式を用いて、自動秤量機２
４により得られた融剤重量と試料重量の比から希釈率を
演算し、また、試料重量と融剤重量の合計から、自動秤
量機２４により得られたガラスビード重量を減算してイ
グロス重量を求めて、このイグロス重量と試料重量との
比からイグロス含有率を演算する。そして、上記の希釈
率とイグロス含有率というパラメータを用いて、予め組
み込まれたプログラムにしたがった演算を行い、蛍光Ｘ
線分析装置１２により得られた試料の各成分の含有率を
補正する。
１８に記憶された計算式にしたがって計算された前記パ
ラメータを用いて、予め組み込まれたプログラムにした
がった演算を行い、分析値計算を補正する。すなわち、
演算手段１６は、上記の計算式を用いて、自動秤量機２
４により得られた融剤重量と試料重量の比から希釈率を
演算し、また、試料重量と融剤重量の合計から、自動秤
量機２４により得られたガラスビード重量を減算してイ
グロス重量を求めて、このイグロス重量と試料重量との
比からイグロス含有率を演算する。そして、上記の希釈
率とイグロス含有率というパラメータを用いて、予め組
み込まれたプログラムにしたがった演算を行い、蛍光Ｘ
線分析装置１２により得られた試料の各成分の含有率を
補正する。
【００１６】上記構成の蛍光Ｘ線分析装置の動作を、図
２に示すガラスビード法の工程図を用いて、説明する。
２に示すガラスビード法の工程図を用いて、説明する。
【００１７】図１の試料溶融装置２２において、まず、
図２（ａ）のように、例えばセメントのような試料を１
００メッシュ以下の粉状物に粉砕しておく。ついで、図
２（ｂ）のように、るつぼ５のみが自動秤量機（秤量手
段）２４の秤量器４０に載せられて、その重量（風袋重
量）が秤量される。そして、図２（ｃ）のように、粉状
物にした微量の試料１が、自動秤量機２４により、るつ
ぼ５内に一定量切り出されて、試料重量が秤量器４０で
秤量される。この後、図２（ｄ）のように、希釈率に応
じて一定量の融剤３（例えば、ホウ酸リチウム）が上記
試料１に加えられ、試料重量と融剤重量の合計重量が秤
量される。試料１と融剤３の混合物はるつぼ５内で約１
１００°Ｃまで加熱されて溶融され、ガラスビード４が
得られる。図２（ｅ）のように、こうして得られたガラ
スビード４とるつぼ５の合計重量から、図２（ｂ）のる
つぼ重量が差し引かれて、ガラスビード重量が得られ
る。
図２（ａ）のように、例えばセメントのような試料を１
００メッシュ以下の粉状物に粉砕しておく。ついで、図
２（ｂ）のように、るつぼ５のみが自動秤量機（秤量手
段）２４の秤量器４０に載せられて、その重量（風袋重
量）が秤量される。そして、図２（ｃ）のように、粉状
物にした微量の試料１が、自動秤量機２４により、るつ
ぼ５内に一定量切り出されて、試料重量が秤量器４０で
秤量される。この後、図２（ｄ）のように、希釈率に応
じて一定量の融剤３（例えば、ホウ酸リチウム）が上記
試料１に加えられ、試料重量と融剤重量の合計重量が秤
量される。試料１と融剤３の混合物はるつぼ５内で約１
１００°Ｃまで加熱されて溶融され、ガラスビード４が
得られる。図２（ｅ）のように、こうして得られたガラ
スビード４とるつぼ５の合計重量から、図２（ｂ）のる
つぼ重量が差し引かれて、ガラスビード重量が得られ
る。
【００１８】蛍光Ｘ線分析装置１２は、図２（ｆ）のよ
うに、図示しないＸ線源から１次Ｘ線（放射線）Ｂ１
を、試料溶融装置２２から搬入されたガラスビード４に
照射し、このガラスビード４から発生した各元素固有の
蛍光Ｘ線Ｂ２をＸ線検出器６で検出する。検出された蛍
光Ｘ線Ｂ２は、図示しない計数回路部でＸ線強度が測定
され、これらの各元素についての蛍光Ｘ線Ｂ２の測定強
度に基づき、検量線を用いて各元素の含有率を演算する
ことにより、試料１の組成が分析される。
うに、図示しないＸ線源から１次Ｘ線（放射線）Ｂ１
を、試料溶融装置２２から搬入されたガラスビード４に
照射し、このガラスビード４から発生した各元素固有の
蛍光Ｘ線Ｂ２をＸ線検出器６で検出する。検出された蛍
光Ｘ線Ｂ２は、図示しない計数回路部でＸ線強度が測定
され、これらの各元素についての蛍光Ｘ線Ｂ２の測定強
度に基づき、検量線を用いて各元素の含有率を演算する
ことにより、試料１の組成が分析される。
【００１９】秤量手段２４により得られた試料１の重量
Ｓ、融剤３の重量Ｆ、およびガラスビード４の重量Ｂの
試料の情報は、コンピュータ２５のデータ転送手段２６
によりコンピュータ１５に送られる。なお、試料の情報
をデータ転送せずに、入力手段１４によりコンピュータ
１５に直接手入力するようにしてもよい。コンピュータ
１５に内蔵した演算手段１６は、希釈率Ｒを計算式
（１）に基づいて、イグロス含有率Ｇを計算式（２）に
基づいて、それぞれ演算する。 Ｒ＝Ｆ／Ｓ （１） Ｇ＝ｐ（（Ｆ＋Ｓ−Ｂ）／Ｓ）＋ｑ （２） ただし、ｐ，ｑは係数
Ｓ、融剤３の重量Ｆ、およびガラスビード４の重量Ｂの
試料の情報は、コンピュータ２５のデータ転送手段２６
によりコンピュータ１５に送られる。なお、試料の情報
をデータ転送せずに、入力手段１４によりコンピュータ
１５に直接手入力するようにしてもよい。コンピュータ
１５に内蔵した演算手段１６は、希釈率Ｒを計算式
（１）に基づいて、イグロス含有率Ｇを計算式（２）に
基づいて、それぞれ演算する。 Ｒ＝Ｆ／Ｓ （１） Ｇ＝ｐ（（Ｆ＋Ｓ−Ｂ）／Ｓ）＋ｑ （２） ただし、ｐ，ｑは係数
【００２０】上記の計算式（１），（２）は、入力手段
１４により、予めコンピュータ１５に入力されて、記憶
手段１６により記憶されているが、試料分析時に入力す
るようにしてもよい。計算式（１），（２）は演算子
＝, ×，／, （, ）, ＋ ,−等を用いて数学演算式どお
りに入力されるので、容易に計算式を入力することがで
きる。これらの計算式は、試料分析時にプログラムソフ
ト上で随時取り込まれる。別の計算式を設定すれば、同
一のプログラムで装置を他の分析法の計算に用いること
もできる。
１４により、予めコンピュータ１５に入力されて、記憶
手段１６により記憶されているが、試料分析時に入力す
るようにしてもよい。計算式（１），（２）は演算子
＝, ×，／, （, ）, ＋ ,−等を用いて数学演算式どお
りに入力されるので、容易に計算式を入力することがで
きる。これらの計算式は、試料分析時にプログラムソフ
ト上で随時取り込まれる。別の計算式を設定すれば、同
一のプログラムで装置を他の分析法の計算に用いること
もできる。
【００２１】上記の計算式（１）はＲ＝Ｂ／Ｓを用いて
もよい。計算式（２）は、試料１の揮散だけでなく、融
剤３の揮散分も含まれたものである。試料１の種類に応
じて、ユーザーは、計算式（１）、係数ｐ，ｑを適宜変
更した計算式（２）を入力手段１４により入力する。融
剤３の揮散を考慮しない場合には、ｐ＝１，ｑ＝０にな
る。
もよい。計算式（２）は、試料１の揮散だけでなく、融
剤３の揮散分も含まれたものである。試料１の種類に応
じて、ユーザーは、計算式（１）、係数ｐ，ｑを適宜変
更した計算式（２）を入力手段１４により入力する。融
剤３の揮散を考慮しない場合には、ｐ＝１，ｑ＝０にな
る。
【００２２】ついで、演算手段１６は、式（３）を用い
て、試料１の各成分の分析値を補正する。式（３）は予
めプログラムに組み込まれている。式（３）のすべての
補正定数αj,αf,αg は、希釈率Ｒおよびイグロス含有
率Ｇの補正定数を含め、定量分析に用いられるファンダ
メンタルパラメータ法などで理論的に求めた理論マトリ
ックス補正係数を使用した。理論マトリックス補正係数
を用いることにより、正確な補正が行うことができる。
式（３）の右辺第１項（ａＩi2＋ｂＩi ＋ｃ）は検量線
定数ａ，ｂ，ｃをもつ検量線から含有率を求めるための
検量線式を示し、第２項は補正項である。Ｋｒ，αf Ｒ
は希釈率による補正項であり、Ｒの基準希釈率＜Ｒ＞か
らのずれ量に比例した項である。αｇＧはイグロス含有
率Ｇに比例した項である。
て、試料１の各成分の分析値を補正する。式（３）は予
めプログラムに組み込まれている。式（３）のすべての
補正定数αj,αf,αg は、希釈率Ｒおよびイグロス含有
率Ｇの補正定数を含め、定量分析に用いられるファンダ
メンタルパラメータ法などで理論的に求めた理論マトリ
ックス補正係数を使用した。理論マトリックス補正係数
を用いることにより、正確な補正が行うことができる。
式（３）の右辺第１項（ａＩi2＋ｂＩi ＋ｃ）は検量線
定数ａ，ｂ，ｃをもつ検量線から含有率を求めるための
検量線式を示し、第２項は補正項である。Ｋｒ，αf Ｒ
は希釈率による補正項であり、Ｒの基準希釈率＜Ｒ＞か
らのずれ量に比例した項である。αｇＧはイグロス含有
率Ｇに比例した項である。
【００２３】
【数１】
【００２４】式（３）は希釈率Ｒとイグロス含有率Ｇを
補正項に含んでいるが、イグロス補正が不要な試料１ま
たはイグロスを元素を除いた残分として理論マトリック
ス補正係数を計算している場合には、希釈率Ｒとイグロ
ス含有率Ｇの補正項は使用しない。
補正項に含んでいるが、イグロス補正が不要な試料１ま
たはイグロスを元素を除いた残分として理論マトリック
ス補正係数を計算している場合には、希釈率Ｒとイグロ
ス含有率Ｇの補正項は使用しない。
【００２５】ユーザーは、上記の計算式（１），（２）
を容易かつ迅速に設定できるので、試料１の種類に応じ
て、ガラスビード試料については、分析精度の向上を目
的として、計算式（２）が最適となるように適宜変更す
ることができる。また、ガラスビード以外の鉄鋼等の試
料については、計算式（１），（２）を分析値計算の補
正に使用せずに、つまり、希釈率Ｒとイグロス含有率Ｇ
に関する補正項を用いずに設定することができる。
を容易かつ迅速に設定できるので、試料１の種類に応じ
て、ガラスビード試料については、分析精度の向上を目
的として、計算式（２）が最適となるように適宜変更す
ることができる。また、ガラスビード以外の鉄鋼等の試
料については、計算式（１），（２）を分析値計算の補
正に使用せずに、つまり、希釈率Ｒとイグロス含有率Ｇ
に関する補正項を用いずに設定することができる。
【００２６】こうして、本装置では、従来と異なり、試
料１の情報に基づいて、試料１の各成分の分析値計算の
補正に使用するパラメータの計算式（１），（２）を入
力できるので、分析精度の向上等の目的に合わせて、ユ
ーザー側で容易かつ迅速に計算式を適宜変更でき、この
結果を用いて分析値計算を補正することができる。
料１の情報に基づいて、試料１の各成分の分析値計算の
補正に使用するパラメータの計算式（１），（２）を入
力できるので、分析精度の向上等の目的に合わせて、ユ
ーザー側で容易かつ迅速に計算式を適宜変更でき、この
結果を用いて分析値計算を補正することができる。
【００２７】なお、上記実施形態では、検量線法による
分析方法を用いているが、ファンダメンタルパラメータ
法を用いても同様の補正が可能である。この場合、希釈
率Ｒについては計算式（１）と同じ希釈率を用いる。イ
グロス含有率Ｇについては、式（３）で、吸収係数が０
の元素として扱う。
分析方法を用いているが、ファンダメンタルパラメータ
法を用いても同様の補正が可能である。この場合、希釈
率Ｒについては計算式（１）と同じ希釈率を用いる。イ
グロス含有率Ｇについては、式（３）で、吸収係数が０
の元素として扱う。
【００２８】また、上記補正は、分析成分の含有率に対
して補正を行ったが、Ｘ線強度に対して補正を行っても
よい。
して補正を行ったが、Ｘ線強度に対して補正を行っても
よい。
【００２９】なお、この実施形態では、外部の機器とし
て試料溶融装置２２を用いているが、発光分光分析装置
を用いる場合には、パラメータは試料の成分含有率であ
り、このパラメータにより試料の各成分の分析値計算を
補正する。例えば、炭素の測定値（光強度）ＣＢの２次
式で成分含有率Ｃに換算するとき、パラメータの計算式
（４）が用いられる。 Ｃ＝ｍ・ＣＢ2 ＋ｎ・ＣＢ＋ｏ （４） ただし、ｍ，ｎ，ｏは係数
て試料溶融装置２２を用いているが、発光分光分析装置
を用いる場合には、パラメータは試料の成分含有率であ
り、このパラメータにより試料の各成分の分析値計算を
補正する。例えば、炭素の測定値（光強度）ＣＢの２次
式で成分含有率Ｃに換算するとき、パラメータの計算式
（４）が用いられる。 Ｃ＝ｍ・ＣＢ2 ＋ｎ・ＣＢ＋ｏ （４） ただし、ｍ，ｎ，ｏは係数
【００３０】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、試料の
情報に基づいて、試料の各成分の分析値計算の補正に使
用するパラメータの計算式を入力できるので、分析精度
の向上等の目的に合わせて、ユーザー側で容易かつ迅速
に計算式を適宜変更でき、この結果を用いて分析値計算
を補正することができる。また、別の計算式を用いて他
の分析法の計算に装置を用いることもできる。
情報に基づいて、試料の各成分の分析値計算の補正に使
用するパラメータの計算式を入力できるので、分析精度
の向上等の目的に合わせて、ユーザー側で容易かつ迅速
に計算式を適宜変更でき、この結果を用いて分析値計算
を補正することができる。また、別の計算式を用いて他
の分析法の計算に装置を用いることもできる。
【図１】本発明の第１実施形態に係る蛍光Ｘ線分析装置
を示す構成図である。
を示す構成図である。
【図２】ガラスビード法を示す工程図である。
１…試料、３…融剤、４…ガラスビード、１２…蛍光Ｘ
線分析装置、１４…入力手段、１６…演算手段、１８…
記憶手段（メモリ）、２２…試料溶融装置、２４…秤量
手段、２６…データ転送手段。
線分析装置、１４…入力手段、１６…演算手段、１８…
記憶手段（メモリ）、２２…試料溶融装置、２４…秤量
手段、２６…データ転送手段。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平５−322810（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G01N 23/00 - 23/227
G01N 1/28
Claims (3)
- 【請求項１】 外部の機器により得られた試料の情報に
基づき、少なくとも試料重量、融剤重量およびガラスビ
ード重量を含む計算式を用いて、試料の成分含有率、試
料と融剤の混合物を加熱溶融して作製されたガラスビー
ドの融剤重量と試料重量との比である希釈率、および試
料重量と融剤重量の合計からガラスビード重量を減算し
たイグロス重量と試料重量との比であるイグロス含有率
の少なくとも１つを含むパラメータの計算を行い、この
パラメータを使用して、試料の各成分の分析値計算の補
正式による補正を行う蛍光Ｘ線分析装置であって、 前記計算式を入力する入力手段と、入力された計算式を
記憶する記憶手段と、試料分析時に、前記記憶された計
算式にしたがって計算された前記パラメータを用いて、
予め組み込まれた前記補正式を有するプログラムにした
がった演算を行い、分析値計算を補正する演算手段とを
備えた蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項２】 請求項１において、さらに、 前記外部の機器により得られた試料の情報を蛍光Ｘ線分
析装置内部のコンピュータに転送するデータ転送手段を
備えた蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項３】 請求項１または２において、 前記入力手段は、前記計算式を演算子を用いて数学演算
式どおりに入力する蛍光Ｘ線分析装置。
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Applications Claiming Priority (1)
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| JP23923299A JP3527955B2 (ja) | 1999-08-26 | 1999-08-26 | 蛍光ｘ線分析装置 |
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| JP2001066269A JP2001066269A (ja) | 2001-03-16 |
| JP3527955B2 true JP3527955B2 (ja) | 2004-05-17 |
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| JP5489096B2 (ja) * | 2009-10-26 | 2014-05-14 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析装置 |
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-
1999
- 1999-08-26 JP JP23923299A patent/JP3527955B2/ja not_active Expired - Fee Related
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