JP3525022B2 - 基板加熱装置 - Google Patents
基板加熱装置Info
- Publication number
- JP3525022B2 JP3525022B2 JP35537996A JP35537996A JP3525022B2 JP 3525022 B2 JP3525022 B2 JP 3525022B2 JP 35537996 A JP35537996 A JP 35537996A JP 35537996 A JP35537996 A JP 35537996A JP 3525022 B2 JP3525022 B2 JP 3525022B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- hot plate
- substrate
- heating
- set temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Control Of Resistance Heating (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Description
液晶用ガラス基板などの基板を加熱する基板加熱装置に
関する。
用に昇温されるホットプレートを備え、このホットプレ
ートの上面にスペーサとしての複数のボールを配設し、
これらボールの上端に基板をホットプレートの上面から
浮かせた状態で支持するとともに、ホットプレート上方
にホットプレートカバーを配置し、半密閉空間を形成し
て基板を加熱する構成のものが知られている。この構成
によれば、基板裏面の汚染を防止した上で、基板を加熱
することができる。
板間において均一に加熱処理するためには、基板を加熱
するためのホットプレート自身の設定温度を所望の温度
に保つことが要求される他に、基板自身が加熱処理時に
置かれる周辺の雰囲気温度も一定に保つ必要がある。
は、装置の立ち上げ時や、加熱温度をより高く設定した
りまた加熱温度をより低く設定したりする設定温度の変
更時において、ホットプレートの温度は比較的早く設定
温度まで追従させることができるが、基板が支持されて
置かれるべき周辺の雰囲気温度は、ホットプレートから
間接的に熱が伝えられるにすぎないため、温度の追従性
は非常に悪い。そのため、基板が置かれるべき周辺の雰
囲気温度が所望の定常状態の温度となるまでに多大な時
間を要し、装置の稼働効率が低下するといった問題が生
じることとなる。
は、装置の立ち上げ時や加熱温度の設定変更が生じたよ
うな場合でも、基板が加熱処理時に置かれる周辺の雰囲
気温度を素早く所望の定常状態の温度まで移行させるこ
とのできるようにすることを目的とする。
述した課題を解決するための手段として、以下に示す構
成をとった。
能なホットプレートにより基板を加熱する基板加熱装置
であって、前記基板をホットプレートの上方に、上面か
ら浮かせた状態で支持するスペーサと、前記ホットプレ
ートの少なくとも上方を覆う部材とを備え、前記部材
に、加熱と冷却の可能な温調手段を設けたことを特徴と
している。
の少なくとも上方を覆う材料に、温調手段を設けている
ことから、ホットプレート上方の雰囲気の温度を、温調
手段によっても調整することにより、装置の立ち上げ時
や加熱温度の設定変更が生じたような場合でも、基板が
加熱処理時に置かれる周辺の雰囲気温度を素早く所望の
定常状態の温度まで移行させることができる。
段が設けられる部材が、ホットプレートの上方を覆うカ
バーである構成とすることができる。また、前記ホット
プレート、スペーサ、部材および温調手段を収容する筺
体を備え、前記筺体に、加熱と冷却の可能な第2の温調
手段を備えた構成とすることもできる。
て、前記温調手段がペルチェ素子を含む構成とすること
ができる。ペルチェ素子は温度の調整を素早くできるこ
とから、この構成によれば、基板が置かれるべき周辺の
雰囲気の温度をより一層素早く変更することができる。
また、ペルチェ素子を利用した構成であることから、構
造が簡単で小型化が可能となる。この発明の第2の基板
加熱装置は、上面を昇温可能なホットプレートにより基
板を加熱する基板加熱装置であって、前記ホットプレー
トの少なくとも上方を覆う部材と、前記部材に設けら
れ、加熱と冷却の可能な温調手段と、前記ホットプレー
トと温調手段とを制御する制御手段とを備え、前記制御
手段は、前記ホットプレートの目標とする加熱温度を第
1の設定温度と、該第1の設定温度よりも高温側の第2
の設定温度との間で変更可能であり、前記ホットプレー
トの目標とする加熱温度を前記第1の設定温度から第2
の設定温度に変更する場合には、前記ホットプレートの
温度を第1の設定温度から第2の設定温度に制御すると
共に前記温調手段を加熱させ、前記ホットプレートの目
標とする加熱温度を前記第2の設定温度から第1の設定
温度に変更する場合には、前記ホットプレートの温度を
第2の設定温度から第1の設定温度に制御すると共に前
記温調手段を冷却させる構成を特徴としている。
例に基づき説明する。
実施例に係わる基板加熱装置が配設された基板処理装置
の全体構成を示す斜視図である。
導体ウエハ(以下、基板と呼ぶ)Wに対して、塗布処
理、現像処理、加熱処理および冷却処理を行なうための
装置であり、未処理基板や処理済み基板を保管するイン
デクサ部1と、基板Wに対して前記一連の処理を行なう
基板処理部2とを有している。
一列に配置される4個のカセットCと、カセットCの配
列方向に沿って移動可能な移載ロボット4とを有してい
る。カセットCは、それぞれ基板Wを上下方向に多段で
収納できるようになっている。また、移載ロボット4
は、カセットCに対して基板Wを出し入れし、基板処理
部2との間で基板Wの受け渡しを行なう。
対して直交する方向に配列されたスピンコータ10およ
びそれぞれ現像処理を行なう2つのスピンデベロッパ1
1、12と、スピンコータ10および2つのスピンデベ
ロッパ11、12のそれぞれに対向するように配置され
たクーリングユニット15およびホットユニット16と
を有している。そして、スピンコータ10およびスピン
デベロッパ11、12とクーリングユニット15および
ホットユニット16との間には、これらが配列された方
向に移動可能な搬送ロボット17が設けられている。
トレジスト液等を塗布処理するためのものであり、スピ
ンデベロッパ11、12は現像処理を行なうためのもの
である。また、クーリングユニット15およびホットユ
ニット16は互いに積層されており、それぞれ基板Wの
冷却、加熱を行なうためのものである。搬送ロボット1
7は、水平方向および上下方向に移動可能な移動台20
と、基板Wを支持可能なアーム21とを有している。ア
ーム21は、移動台20に対して進退可能に設けられる
とともに、その進退は、移動台20が水平面内で旋回す
ることによりいずれの方向にも可能となっている。この
ような搬送ロボット17により、スピンコータ10およ
びスピンデベロッパ11、12とクーリングユニット1
5およびホットユニット16との間で、またクーリング
ユニット15とホットユニット16との間で、さらにイ
ンデクサ部1の移載ロボット4との間で基板Wの受け渡
しが可能である。
部1にカセットCが搬入されてくると、そのカセットC
内の基板Wが移載ロボット4によって基板処理部2の搬
送ロボット17に引き渡される。搬送ロボット17は、
予めプログラムされた搬送順序に従ってスピンコータ1
0、スピンデベロッパ11、12、クーリングユニット
15およびホットユニット16の間で基板Wを搬送す
る。各処理部で処理された基板Wは、搬送ロボット17
によってインデクサ部1の移載ロボット4に引き渡さ
れ、カセットC内に収納される。
装置としてのホットユニット16の構成を説明する。図
2は、ホットユニット16の構成を示す説明図である。
側を構成する筐体30の内部には、ヒータなどの加熱手
段を内部に有して基板Wを所望の温度で加熱するための
ホットプレート40と、基板Wの熱処理時にホットプレ
ート40上に降下して保温のための半密閉空間を形成す
るホットプレートカバー60とが設けられている。
入された基板Wを3点支持によって受け取るリフタピン
42と、このリフタピン42から基板Wを受け取ってホ
ットプレート40上に支持するプロキシミティギャップ
用ボール44とを備える。各リフタピン42は、図示を
省略するアクチュエータによって昇降自在となってお
り、アクチュエータを動作させることにより基板Wを水
平に保って昇降させることが可能になる。プロキシミテ
ィギャップ用ボール44は、ホットプレート40上に埋
め込まれており、このプロキシミティギャップ用ボール
44の上端はホットプレート40の表面から若干突出し
ている。リフタピン42の下降に伴って下降してきた基
板Wをホットプレート40上にホットプレート40表面
と平行になるように浮かして支持する。したがって、基
板Wは、ホットプレート40と直接接触することなくプ
ロキシミティギャップ用ボール44上に支持され、裏面
の汚染が防止されるようになっている。
方から覆う上板部62と、この上板部62の周縁から下
方に延びるスカート状の4枚の側板部64とを備える。
このホットプレートカバー60は、図示を省略する昇降
機構によって上下動可能となっており、基板Wの加熱処
理に際して降下して、ホットプレート40上に半密閉空
間を形成する。すなわち、ホットプレートカバー60
は、下方に開口部を有する箱状の形状を有しており、こ
の開口部がホットプレート40によってわずかな隙間を
残してほぼ密閉される。
は、温度を調整可能な温調部66が固着されている。温
調部66は、ペルチェ効果を利用したペルチェ素子によ
って構成されるもので、ペルチェ素子に供給する電流の
方向を切り換えることにより、加熱も冷却も行なうこと
ができる。温調部66は、図示しないコントローラによ
って制御された電流を受けることで温度が調整される。
なお、ホットプレートカバー60は、アルミニウムもし
くはステンレス製である。
ホットプレート40の加熱温度を従前の設定温度であっ
た90℃から110℃に上昇させる場合を例にとり説明
する。まず、ホットプレート40のヒータなどの加熱手
段の出力を上げ、ホットプレート40自身の温度を90
℃から110℃まで昇温させるとともに、温調部66を
構成するベルチェ素子に正方向の所定の電流を供給し、
ホットプレートカバー60を昇温させる。ホットプレー
トカバー60が昇温するとホットプレート40とホット
プレートカバー60によって形成される半密閉空間内の
雰囲気温度を高めることができる。その結果、基板Wが
置かれるべき周辺の雰囲気温度を所望の定常状態の温度
に素早く移すことができる。
に設定することが完了するとともに、基板Wが置かれる
べき周辺の雰囲気温度を所望の定常状態の温度に移すこ
とが完了すると、ホットプレート40にて基板Wの加熱
処理が行なえる状態となる。そこで、搬送ロボット17
により基板Wをホットユニット16に搬入し、基板Wの
加熱処理を行なう。基板Wをホットユニット16へ搬入
するにあたっては、予めホットプレートカバー60およ
びリフトピン42を上昇させておき、搬送ロボット17
のアーム21に支持された未処理基板をリフトピン42
に載せる。そして、リフトピン42を降下させてプロキ
シミティギャップ用ボール44上に基板Wを載せ替え、
ホットプレート40上に載置して所定時間基板Wの加熱
処理を行なう。加熱処理が終了すると、リフトピン42
を上昇させて再び基板Wをリフトピン42上に支持し、
搬送ロボット17のアーム21によりホットユニット1
6から基板Wの搬出を行なう。このようにして基板Wの
加熱処理が行なえるようになった以降は、順次基板がホ
ットユニット16に搬入されて基板Wの加熱処理が行な
われていく。
設定温度を従前の設定温度から降下させる場合、従来
は、ホットプレート40の温度を次の目標とする設定温
度に設定するだけで、基板Wの置かれるべき周辺の雰囲
気温度は自然冷却により降下させるようにしていたが、
この実施例では、温調部66を構成するペルチェ素子に
負方向の所定の電流を供給し、ホットプレートカバー6
0を降温させる。ホットプレートカバー60が降温する
とホットプレート40とホットプレートカバー60によ
って形成される半密閉空間内の雰囲気温度を低下させる
ことができる。その結果、基板Wが置かれるべき周辺の
雰囲気温度を所望の定常状態の温度に素早く移すことが
できる。したがって、低温側への温度変更時にも雰囲気
温度を素早く所望の定常状態の温度に移すことができ
る。
ルチェ素子から構成していることから、ホットプレート
カバー60の温度を素早く変更することができる。した
がって、基板Wが置かれるべき周辺の雰囲気温度の変更
をより一層素早く行なうことができる。また、ペルチェ
素子を利用した構成であることから、ホットプレートカ
バー60の厚みをそれ程厚くすることもない。
する。この発明の第2実施例は、第1実施例と比較し
て、ホットユニット16の構成が相違し、ホットユニッ
ト16を除く基板処理装置のその他の構成は同一であ
る。図3は、この第2実施例のホットユニット116の
構成を示す説明図である。
ユニット116は、第1実施例と同一のホットプレート
40とホットプレートカバー60とを備える。なお、図
中、第1実施例と同一の構成には第1実施例と同じ番号
をつけた。この第2実施例のホットユニット116と第
1実施例のホットユニット16との相違する点は、ホッ
トユニット16の外側を構成する筐体130にある。
調整可能な第2の温調部132が固着されている。第2
の温調部132は、ホットプレートカバー60に設けた
温調部(以下、第1の温調部と呼ぶ)66と同様のもの
であり、ペルチェ素子によって構成され、ペルチェ素子
に供給する電流の方向を切り換えることにより、加熱も
冷却も行なうことができる。この第2の温調部132
も、図示しないコントローラによって制御された電流を
受けることで温度が調整される。
加熱温度を所定の目標温度に設定して、ホットプレート
40の加熱処理を行なうときに、第1の温調部66を構
成するペルチェ素子に正方向の所定の電流を供給し、ホ
ットプレートカバー60を昇温させるとともに、第2の
温調部132を構成するペルチェ素子に正方向の所定の
電流を供給し、筐体130を昇温させる。
置の立ち上げ時や温度変更時に、基板が置かれるべき周
辺の雰囲気温度を素早く変更することができるといった
効果を奏する。
ての第1および第2の温調部66、132を、ホットプ
レートカバー60と筐体130との両方に設けていた
が、これに換えて、筐体130に第2の温調部132だ
けを設ける構成としてもよい。
2の温調部66、132を、ペルチェ素子により構成す
るのに替えて、温調水を流す配管により構成してもよ
い。図4は、温調部を温調水の配管210により構成し
た場合のホットプレートカバー260の平面図である。
図示するように、ホットプレートカバー260の上面に
は、配管210が蛇行状に張り巡らされて固着されてい
る。
温度を所定の目標温度に設定して、ホットプレートの加
熱処理を行なうときに、配管210に図示しない供給源
から温水を供給して、配管210を発熱させる。なお、
温度を低下させる場合には、配管210に冷水を供給す
る構成とする。
施例と同様に、装置の立ち上げ時や温度変更時に、基板
が置かれるべき周辺の雰囲気温度を素早く変更すること
ができるといった効果を奏する。
では、ホットプレートカバー260の上面に配管210
を固着した構成としたが、この構成に替えて、ホットプ
レートカバー260の裏面(即ち、ホットプレート側の
面)に配管を固着する構成としてもよい。
が、この発明は、こうした実施例に何等限定されるもの
ではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲において種
々なる態様にて実施することが可能である。
配設された基板処理装置の全体構成を示す斜視図であ
る。
成を示す説明図である。
トユニット116の構成を示す説明図である。
実施態様のホットプレートカバー260の平面図であ
る。
Claims (6)
- 【請求項1】 上面を昇温可能なホットプレートにより
基板を加熱する基板加熱装置であって、前記基板をホットプレートの上方に、上面から浮かせた
状態で支持するスペーサと、 前記ホットプレートの少なくとも上方を覆う部材とを備
え、 前記部材 に、加熱と冷却の可能な温調手段を設けたこと
を特徴とする基板加熱装置。 - 【請求項2】 前記温調手段が設けられる部材が、ホッ
トプレートの上方を覆うカバーである請求項1記載の基
板加熱装置。 - 【請求項3】 請求項1または2記載の基板加熱装置で
あって、 前記ホットプレート、スペーサ、部材および温調手段を
収容する筺体を備え、 前記筺体に、加熱と冷却の可能な第2の温調手段を備え
た 基板加熱装置。 - 【請求項4】 前記温調手段がペルチェ素子により構成
されるものである請求項1、2または3記載の基板加熱
装置。 - 【請求項5】 請求項1ないし4のいずれかに記載の基
板加熱装置であって、 前記ホットプレートと温調手段とを制御する制御手段を
備えるとともに、 前記制御手段は、 前記ホットプレートの目標とする加熱温度を第1の設定
温度と、該第1の設定温度よりも高温側の第2の設定温
度との間で変更可能であり、前記ホットプレートの目標
とする加熱温度を前記第1の設定温度から第2の設定温
度に変更する場合には、前記ホットプレートの温度を第
1の設定温度から第2の設定温度に制御すると共に前記
温調手段を加熱させ、前記ホットプレートの目標とする
加熱温度を前記第2の設定温度から第1の設定温度に変
更する場合には、前記ホットプレートの温度を第2の設
定温度から第1の設定温度に制御すると共に前記温調手
段を冷却させる構成である基板加熱装置。 - 【請求項6】 上面を昇温可能なホットプレートにより
基板を加熱する基板加熱装置であって、 前記ホットプレートの少なくとも上方を覆う部材と、 前記部材に設けられ、加熱と冷却の可能な温調手段と、 前記ホットプレートと温調手段とを制御する制御手段と
を備え、 前記制御手段は、 前記ホットプレートの目標とする加熱温度を第1の設定
温度と、該第1の設定温度よりも高温側の第2の設定温
度との間で変更可能であり、前記ホットプレートの目標
とする加熱温度を前記第1の設定温度から第2の設定温
度に変更する場合には、前記ホットプレートの温度を第
1の設定温度から第2の設定温度に制御すると共に前記
温調手段を加熱させ、前記ホットプレートの目標とする
加熱温度を前記第2の設定温度から第1の設定温度に変
更する場合には、前記ホットプレートの温度を第2の設
定温度から第1の設定温度に制御すると共に前記温調手
段を冷却させる構成である基板加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35537996A JP3525022B2 (ja) | 1996-12-20 | 1996-12-20 | 基板加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35537996A JP3525022B2 (ja) | 1996-12-20 | 1996-12-20 | 基板加熱装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10189429A JPH10189429A (ja) | 1998-07-21 |
JP3525022B2 true JP3525022B2 (ja) | 2004-05-10 |
Family
ID=18443598
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP35537996A Expired - Lifetime JP3525022B2 (ja) | 1996-12-20 | 1996-12-20 | 基板加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3525022B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6345150B1 (en) * | 1999-11-30 | 2002-02-05 | Wafermasters, Inc. | Single wafer annealing oven |
JP3589929B2 (ja) * | 2000-02-22 | 2004-11-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 加熱処理装置 |
US6744020B2 (en) | 2001-01-04 | 2004-06-01 | Tokyo Electron Limited | Heat processing apparatus |
US20040229477A1 (en) * | 2003-05-13 | 2004-11-18 | Daniel Timothy J. | Apparatus and method for producing a <111> orientation aluminum film for an integrated circuit device |
JP4694878B2 (ja) * | 2005-04-20 | 2011-06-08 | Okiセミコンダクタ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
JP4530933B2 (ja) * | 2005-07-21 | 2010-08-25 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板熱処理装置 |
JP6737094B2 (ja) * | 2016-09-12 | 2020-08-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板加熱装置、基板加熱方法及び記憶媒体 |
JP6789096B2 (ja) | 2016-12-22 | 2020-11-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置、熱処理方法及びコンピュータ記憶媒体 |
JP7200638B2 (ja) * | 2018-12-05 | 2023-01-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置及び熱処理方法 |
CN111403308A (zh) * | 2020-03-30 | 2020-07-10 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 热预算自动控制方法及其自动控制系统 |
-
1996
- 1996-12-20 JP JP35537996A patent/JP3525022B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10189429A (ja) | 1998-07-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3665826B2 (ja) | 基板熱処理装置 | |
JP3052116B2 (ja) | 熱処理装置 | |
KR100274127B1 (ko) | 기판 온도 제어방법, 기판 열처리장치 및 기판 지지장치 | |
TWI448843B (zh) | 處理基板之裝置 | |
JP2004235468A (ja) | 熱的処理方法および熱的処理装置 | |
KR20070122390A (ko) | 기판 처리 방법 및 장치 | |
JP3525022B2 (ja) | 基板加熱装置 | |
JP4334486B2 (ja) | 加熱処理装置 | |
JP4765750B2 (ja) | 熱処理装置、熱処理方法、記憶媒体 | |
JP3811103B2 (ja) | 熱的処理装置および熱的処理方法 | |
JP4811860B2 (ja) | 熱処理方法、そのプログラム及び熱処理装置 | |
JP2002093687A (ja) | 基板の熱処理方法及び基板の熱処理装置 | |
TW201117257A (en) | Temperature increase control method for heating device for substrate treatment system, program, computer recording medium, and substrate treatment system | |
JPH11111823A (ja) | 基板熱処理装置 | |
JP3451166B2 (ja) | 基板熱処理装置 | |
JP2001093829A (ja) | 基板加熱処理装置および温度制御方法 | |
JP3504822B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理用露光装置 | |
JP2000091218A (ja) | 加熱処理方法及び加熱処理装置 | |
JP7200638B2 (ja) | 熱処理装置及び熱処理方法 | |
JP2001230201A (ja) | 加熱・冷却処理装置及び方法,基板処理装置 | |
WO2003092068A1 (fr) | Procede et mecanisme de convoyage de substrat | |
JPH10340835A (ja) | 基板熱処理装置 | |
JP3688098B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2001237171A (ja) | 加熱処理装置 | |
JP2002208554A (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040210 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040216 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080220 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090220 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100220 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100220 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100220 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110220 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110220 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140220 Year of fee payment: 10 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |