JP3524216B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JP3524216B2 JP15034595A JP15034595A JP3524216B2 JP 3524216 B2 JP3524216 B2 JP 3524216B2 JP 15034595 A JP15034595 A JP 15034595A JP 15034595 A JP15034595 A JP 15034595A JP 3524216 B2 JP3524216 B2 JP 3524216B2
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【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は、例えばヒューズ等を溶
断することにより情報の記憶及び変更を行うことができ
る半導体集積回路に関するものである。 【0002】 【従来の技術】図2は、従来のヒューズ溶断型プログラ
マブルROM(以下、ヒューズROMという)の一構成
例を示す回路図である。このヒューズROMは、ヒュー
ズ素子溶断制御信号入力端子11を有している。ヒュー
ズ素子溶断制御信号入力端子11は、ヒューズ素子12
を介して電源電位Vccに接続されている。又、このヒ
ューズROMは、リセット信号入力端子13を備えてい
る。リセット信号入力端子13は、2入力NOR回路1
4の第1の入力端子に接続され、該NOR回路14の出
力端子が、ヒューズ素子溶断制御信号入力端子11に接
続されると共に、インバータ15の入力端子に接続され
ている。インバータ15の出力端子は、NOR回路14
の第2の入力端子に接続されると共に、出力端子OUT
に接続されている。尚、NOR回路14とインバータ1
5とで、該インバータ15の入力端子の論理レベルをラ
ッチするラッチ回路が構成されている。 【0003】図3は、図2中のNOR回路の回路図であ
る。このNOR回路では、第1の入力端子IN1 がPチャ
ネル型MOSトランジスタ(以下、PMOSという)14
a のゲートGに接続されると共に、Nチャネル型MOS
トランジスタ(以下、NMOSという)14b のゲートG
に接続されている。又、第2の入力端子IN2 がPMOS
14c のゲートGに接続されると共に、NMOS14d のゲ
ートGに接続されている。PMOS14a のソースSは電
源電位Vccに接続され、該PMOS14a のドレインD
がPMOS14c のソースSに接続されている。NMOS
14d のソースSは電源電位Vssに接続され、該NMO
S14dのドレインDがPMOS14c のドレインDに接続
されると共に、出力端子14outに接続されている。NM
OS14b のソースSは電源電位Vssに接続され、該N
MOS14b のドレインDが出力端子14out に接続されて
いる。これらのNMOS14b,14d がオン状態になった場
合、ドレインDとソースS間の抵抗値は、ヒューズ素子
12の抵抗値よりも十分大きくなるように設計されてい
る。 【0004】次に、図2の動作を説明する。ヒューズ素
子12が溶断されていないとき、リセット信号入力端子
13は通常低レベル(以下、“L”という)であるが、
或る一定の時間だけ高レベル(以下、“H”という)に
なると、NOR回路14は“L”を出力する筈である
が、ヒューズ素子12の抵抗値はNOR回路14中のN
MOS14b のオン抵抗の値よりも十分小さいので、ヒュ
ーズ素子溶断制御信号S11が“H”となり、インバー
タ15の出力信号S15は“L”になる。一方、ヒュー
ズ素子溶断制御信号入力端子11に電源電位Vccと異
なる電位を供給すると、ヒューズ素子12に大電流が流
れ、この時に発生するジュール熱によって該ヒューズ素
子12が溶断される。次に、ヒューズ素子溶断制御信号
入力端子11を開放状態とし、リセット信号S13を
“H”にすると、NOR回路14の出力信号S14は
“L”となり、インバータ15の出力信号S15が
“H”になる。その後、リセット信号S13が“L”に
変化しても、インバータ14からの“H”の出力信号S
14がNOR回路14の入力端子IN2 へ入力されている
ので、出力信号S15が“H”の状態が保持される。 【0005】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図2の
ヒューズROMでは、次のような課題があった。即ち、
誤ってヒューズ素子12を溶断した場合や一度ヒューズ
素子12を溶断した後、出力信号S14の論理レベルを
修正する必要が生じても、該論理レベルを変更すること
ができず、このヒューズROMを不良品として扱ってい
たので、製造コストが高くなっていた。本発明は、ヒュ
ーズ素子等の導電素子を破壊した後でも、2度以上デー
タを修正することができる半導体集積回路を提供するも
のである。 【0006】 【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するために、半導体集積回路において、一方の端子が
電源電位に接続され、必要に応じて若番側から順次破壊
される1番目からn(n;2以上の整数)番目までのn
個の導電素子と、前記1番目からn番目までの各導電素
子に対応して該各導電素子の他方の端子にそれぞれ接続
され、(k−1)番目(k;2以上でn以下の整数)の
前記導電素子が破壊されてオフ状態になっているときに
は、k番目の前記導電素子がオン状態にあるか又はオフ
状態にあるかを表す情報をラッチする1番目からn番目
までのn個のラッチ回路とを備え、前記k番目のラッチ
回路がラッチしている情報を若番側のラッチ回路へ順次
伝達して前記1番目のラッチ回路から出力する構成にし
ている。 【0007】 【作用】本発明によれば、以上のように半導体集積回路
を構成したので、1番目からn番目までの各導電素子が
オン状態にあるか又はオフ状態にあるかを表す情報が該
各導電素子に対応した各ラッチ回路にそれぞれラッチさ
れる。(k−1)番目(k;2以上でn以下の整数)の
導電素子が破壊されてオフ状態になっているときには、
k番目の前記導電素子がオン状態にあるか又はオフ状態
にあるかを表す情報がk番目のラッチ回路にラッチさ
れ、該情報が(k−1)番目から2番目のラッチ回路ま
で順次経由して1番目のラッチ回路へ伝達されて出力さ
れる。このため、前記各導電素子を1番目からn番目ま
で順次破壊することにより、設定した出力信号の論理レ
ベルがn回変更される。そのため、誤って導電素子を破
壊した場合や該導電素子を破壊した後に出力信号の論理
レベルを変更する必要がある場合、従来では不良品とし
て扱っていたものが良品として処理され、製造コストが
低減される。従って、前記課題を解決できるのである。 【0008】 【実施例】第1の実施例 図1は、本発明の第1の実施例を示すヒューズROMの
回路図であり、従来の図2中の要素と共通の要素には共
通の符号が付されている。このヒューズROMは、図2
のヒューズROMに、ヒューズ素子1個、インバータ2
個、NOR回路1個、及びPMOS1個で構成された回
路素子ブロックを設けたものである。即ち、このヒュー
ズROMには、ヒューズ素子溶断制御信号入力端子21
が設けられている。ヒューズ素子溶断制御信号入力端子
21は、導電素子であるヒューズ素子22を介して電源
電位Vccに接続されている。又、このヒューズROM
は、リセット信号入力端子23を備えている。リセット
信号入力端子23は、2入力NOR回路24の第1の入
力端子に接続され、該NOR回路24の出力端子が、ヒ
ューズ素子溶断制御信号入力端子21に接続されると共
にインバータ25の入力端子に接続されている。NOR
回路24は、NOR回路14と同様の構成である。尚、
NOR回路24とインバータ25とで、該インバータ2
5の入力端子の論理レベルをラッチするラッチ回路が構
成されている。インバータ25の出力端子は、NOR回
路24の第2の入力端子に接続されると共に、インバー
タ26の入力端子に接続されている。インバータ26の
出力端子は、PMOS27のゲートGに接続されてい
る。PMOS27のソースSは電源電位Vccに接続さ
れ、該PMOS27のドレインDがインバータ15の入
力端子に接続されている。 【0009】次に、図1の動作(1)〜(3)を説明す
る。 (1) 初期状態 ヒューズ素子12,22が溶断されていない状態、及び
ヒューズ素子溶断制御信号入力端子11,21が開放の
状態において、リセット信号S13,S23が通常の
“L”から或る一定時間だけ“H”になった場合、NO
R回路14,24の出力信号S14,S24は“L”に
なる筈であるが、通常、ヒューズ素子22の抵抗値はN
OR回路24中のNMOS14b のオン抵抗の値よりも小
さいので、ヒューズ素子溶断制御信号入力端子21が
“H”となり、インバータ25の出力端子は“L”にな
る。そのため、インバータ26の出力信号S26は
“H”になり、PMOS27はオフ状態になる。そし
て、ヒューズ素子12の抵抗値はNOR回路14中のN
MOS14b のオン抵抗の値よりも小さいので、ヒューズ
素子溶断制御信号入力端子11は“H”となり、インバ
ータ15の出力信号S15は“L”になる。 (2) ヒューズ素子12を溶断した場合 PMOS27がオフ状態なので、従来の図2のヒューズ
ROMにおいて、ヒューズ素子12を溶断した場合と同
一の動作でインバータ15の出力信号S15が“H”に
なる。 【0010】(3) ヒューズ素子12を溶断した後、
インバータ15の出力信号S15を変更する必要が生じ
た場合 ヒューズ素子22を溶断すること及びリセット信号S2
3を或る一定時間“H”にすることにより、NOR回路
24の出力信号S24が“L”となり、インバータ25
の出力信号S25が“H”となり、インバータ26の出
力信号S26が“L”になり、PMOS27がオン状態
となる。そして、NOR回路4中のNMOS14b のオン
抵抗の値よりもPMOS27のソースSとドレインD間
の抵抗値の方が小さいので、ヒューズ素子溶断制御信号
入力端子1は“H”となり、インバータ15の出力信号
S15が“L”となる。以上のように、この第1の実施
例では、ヒューズ素子22により、ヒューズ素子12を
溶断して設定した出力信号S15の論理レベルが変更さ
れる。そのため、誤ってヒューズ素子12を溶断した場
合や該ヒューズ素子12を溶断した後、出力信号S15
の論理レベルの変更が必要となった場合、従来では不良
品として扱っていたものが良品として処理され、製造コ
ストが低減される。 【0011】第2の実施例 図4は、本発明の第2の実施例を示すヒューズROMの
回路図であり、図2中の要素と共通の要素には共通の符
号が付されている。このヒューズROMは、図1のヒュ
ーズROMに、ヒューズ素子1個、インバータ2個、N
OR回路1個、及びPMOS1個で構成された回路素子
ブロックを複数設けたものである。即ち、このヒューズ
ROMは、ヒューズ素子溶断制御信号入力端子11〜n1を
有している。ヒューズ素子溶断制御信号入力端子11〜n1
は、導電素子であるヒューズ素子12〜n2をそれぞれ介し
て電源電位Vccに接続されている。又、このヒューズ
ROMは、リセット信号入力端子13〜n3を備えている。
リセット信号入力端子13〜n3は、2入力NOR回路14〜
n4の各第1の入力端子にそれぞれ接続され、該NOR回
路14〜n4の各出力端子が、ヒューズ素子溶断制御信号入
力端子21〜n1にそれぞれ接続されると共に、インバータ
15〜n5の各入力端子にそれぞれ接続されている。NOR
回路14〜n4は、図3に示すNOR回路14と同様の構成で
ある。インバータ15〜n5の各出力端子は、NOR回路14
〜n4の各第2の入力端子にそれぞれ接続されると共に、
インバータ16〜n6の各入力端子にそれぞれ接続されてい
る。尚、NOR回路14〜n4の各NOR回路とインバータ
15〜n5の各インバータとで、該インバータ15〜n5の各入
力端子の論理レベルをそれぞれラッチするラッチ回路が
それぞれ構成されている。インバータ16〜n6の各出力端
子は、PMOS17〜n7の各ゲートGにそれぞれ接続され
ている。PMOS17〜n7の各ソースSは電源電位Vcc
に接続され、該PMOS17〜n7の各ドレインDがインバ
ータ15〜n-1 5 の各入力端子にそれぞれ接続されてい
る。 【0012】次に、図4の動作(1)〜(4)を説明す
る。 (1) 初期状態 ヒューズ素子12〜n2が溶断されていない状態、及び
ヒューズ素子溶断制御信号入力端子11〜n1がオープ
ンの状態において、リセット信号S13〜Sn3が通常
の“L”から或る一定時間だけ“H”になった場合、N
OR回路14〜n4の各出力信号S14〜Sn4はそれ
ぞれ“L”になる筈であるが、通常、ヒューズ素子12
〜n2の各抵抗値はNOR回路14〜n4中の各NMO
S14b のオン抵抗の値よりも小さいので、ヒューズ素子
溶断制御信号入力端子11〜n1がそれぞれ“H”とな
り、インバータ15〜n5の出力端子の論理レベルは
“L”になる。そのため、インバータ26〜n6の各出
力信号S26〜Sn6がそれぞれ“H”になり、PMO
S27〜n7はそれぞれオフ状態になる。又、通常ヒュ
ーズ素子12〜n2の各抵抗値はNOR回路14〜n4
中のNMOS14b のオン抵抗の値よりも小さいので、ヒ
ューズ素子溶断制御信号入力端子11〜n1は“H”と
なり、インバータ15〜n5の各出力信号S15〜Sn
5は“L”になる。 (2) ヒューズ素子12を溶断した場合 PMOS27がオフ状態になっているので、従来の図2
のヒューズROMにおいて、ヒューズ素子12を溶断し
た場合と同一の動作でインバータ15の出力信号S15
が“H”になる。 【0013】(3) ヒューズ素子12を溶断した後、
インバータ15の出力信号S15を変更する必要が生じ
た場合 ヒューズ素子22を溶断すること及びリセット信号S2
3を或る一定時間“H”にすることにより、NOR回路
24の出力信号S24が“L”となり、インバータ25
の出力信号S25が“H”となり、インバータ26の出
力信号S26が“L”になり、PMOS27がオン状態
となる。そして、NOR回路4中のNMOS14b のオン
抵抗の値よりもPMOS27のソースSとドレインD間
の抵抗値の方が小さいので、ヒューズ素子溶断制御信号
入力端子1は“H”となり、インバータ15の出力信号
S15が“L”となる。 (4) ヒューズ素子32〜n2の各ヒューズ素子の溶
断前及び溶断後 前記(3)のヒューズ素子22の溶断の場合と同様の動
作であり、ヒューズ素子32〜n2を順次溶断すること
により、データ出力信号S15の論理レベルが“H”か
ら“L”、或いは“L”から“H”へ変更される。 【0014】以上のように、この第2の実施例では、第
1の実施例において従来の図2に示すヒューズROMに
追加されているヒューズ素子1個、インバータ2個、N
OR回路1個、及びPMOS1個を組み合わせた回路素
子ブロックをn個接続しているので、1番目からn番目
までのn個のヒューズ素子を順次溶断することにより出
力信号S15のレベルを2回以上n回変更することがで
き、誤ってヒューズ素子を溶断しても従来のように不良
品扱いすることなく、n回の出力信号S15の論理レベ
ルの変更ができ、良品として処理されるので、製造コス
トが低減される。 【0015】尚、本発明は上記実施例に限定されず、種
々の変形が可能である。その変形例としては、例えば次
のようなものがある。 (a) 図1中のPMOS27及び図4中のPMOS27〜
n7は、PMOSとNチャネルMOSトランジスタ(NM
OS)とを組み合わせたトランスファ回路やバイポーラ
トランジスタを用いてもよい。 (b) 導電素子は、ヒューズ素子に限らず、例えば、
アルミ配線、ダイオード、ポリシリコン等でも本発明が
適用される。 【0016】 【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、半導体集積回路を、n個の導電素子と該n個の各
導電素子がオン状態にあるか又はオフ状態にあるかの情
報をラッチするn個のラッチ回路とで構成し、該導電素
子を破壊して設定した出力信号の論理レベルを変更でき
るようにしたので、誤って導電素子を破壊した場合や、
該導電素子を破壊した後、出力信号の論理レベルの変更
が必要となった場合、従来では不良品として扱っていた
ものを良品として処理でき、製造コストを低減できる。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の第1の実施例を示すヒューズROMの
回路図である。 【図2】従来のヒューズROMの回路図である。 【図3】図2中のNOR回路の回路図である。 【図4】本発明の第2の実施例を示すヒューズROMの
回路図である。 【符号の説明】 k2(k;1〜n) ヒューズ素子
(導電素子) k4(k;1〜n) NOR回路 k5(k;1〜n) インバータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 17/14 - 17/18

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 一方の端子が電源電位に接続され、必要
    に応じて若番側から順次破壊される1番目からn(n;
    2以上の整数)番目までのn個の導電素子と、 前記1番目からn番目までの各導電素子に対応して該各
    導電素子の他方の端子にそれぞれ接続され、(k−1)
    番目(k;2以上でn以下の整数)の前記導電素子が破
    壊されてオフ状態になっているときには、k番目の前記
    導電素子がオン状態にあるか又はオフ状態にあるかを表
    す情報をラッチする1番目からn番目までのn個のラッ
    チ回路とを備え、 前記k番目のラッチ回路がラッチしている情報を若番側
    のラッチ回路へ順次伝達して前記1番目のラッチ回路か
    ら出力する構成にしたことを特徴とする半導体集積回
    路。
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