JP3522809B2 - Inductor - Google Patents
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- ferromagnetic
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- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体基板上に導体でコ
イル状に形成されたインダクタ、特に導体の上下両面ま
たは片面に強磁性体層を有するインダクタに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体基板上に、コイル状に形成
された導体と、その導体の両面または片面に重ねられて
いる強磁性体層とからなるインダクタを設けることが知
られている。導体層としては金属層が、強磁性体層とし
てはセンダスト合金やフェライトの蒸着層とか、バイン
ダー中に強磁性体粉末を分散させたインクの層などがそ
れぞれ用いられ、写真製版技術によりそれぞれ所定のパ
ターンで基板上に設けられる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】導体層や強磁性体層を
写真製版技術で形成するためには、各層ごとに数工程を
必要とするので、例えば強磁性体層−導体層−強磁性体
層の三層構成のインダクタを製造するには、10数工程
またはそれ以上の工程を必要とし、極めて面倒である。
本発明は、強磁性体層−導体層−強磁性体層の三層構
成、または導電体層−強磁性体層の二層構成からなり製
造工程数を減少させることが可能なインダクタを提供す
るものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】この発明に係るインダク
タにおいては、半導体基板上にコイル状パターンに形成
された導体層と、この導体層の上下両面及び両側面、ま
たは、上面及び両側面を覆う光硬化性強磁性有機物の光
硬化層とを備えたインダクタであって、上記半導体基板
に垂直な断面において、互いに隣り合う導体層の側面を
覆う光硬化層が相互に分離されていることを特徴とする
ものである。
【0005】
【作用】この発明においては、導体層で形成したコイル
のインダクタンスを増大させるための強磁性体層とし
て、光硬化性有機物を使用したため、直に写真製版技術
を適用して、所望のパターンの強磁性体層を得るための
工程を簡略化することができる。
【0006】【実施例】この発明の実施例におけるインダクタ形成に
関して説明する。半導体基板上に光硬化性強磁性有機物
の薄層を設け、写真製版技術により所要のパターンで感
光させると、所要部分だけが硬化するので、未硬化部分
を溶剤により除去することにより、所要パターンの第1
の強磁性材料層が形成される。
【0007】次に、上記強磁性材料層を含む半導体基板
の全面に周知のフオトレジスト材料を塗布し、写真製版
技術によりマスクを形成してコイル状の導体層を第1の
強磁性材料層上に形成する。
【0008】再び半導体基板の全面に光硬化性強磁性有
機物の薄層を設け、これを所要のパターンで感光させ、
未感光部分を除去して第2の強磁性材料層を形成する
と、強磁性有機物の層で挟まれた導体からなるコイルを
得ることができる。なお、第1及び第2の強磁性材料層
は、その一方を省略することができる。
【0009】従って、所要のパターンを持った第1及び
第2の強磁性材料層を形成する際には、それ自体を感光
させて所要のパターンを得ることができるため、従来所
要のパターンを得るために採用されていたフオトレジス
ト層を塗布する工程を省略することができる。
【0010】上述の感光過程において、光重合性モノマ
ーが有する電子供与基と電子受容基とは、適当な波長の
光を照射することにより前者は電子を放出してカチオン
ラジカルに変化し、後者はその電子を受容してアニオン
ラジカルに変化する。照射光は選択的にこのような光電
子移動反応を起こさせる必要上、単色性、指向性、時間
制御性に優れたレーザービーム光が望ましい。また、上
述の光照射に際して電場または磁場を印加するときは、
生成したカチオンラジカル及びアニオンラジカルの存在
を安定にすることができる。
【0011】上述の光電子移動反応のための光照射と同
時に、またはその後で、別の適当な波長の光を照射する
ことにより、モノマーは、上述のカチオンラジカル及び
アニオンラジカルを保持したまゝ光重合反応を起こして
硬化する。上述の光電子移動反応を行わせてから光重合
反応が完了するまでの間、前述の電場または磁場を印加
し続けることは、カチオンラジカル及びアニオンラジカ
ルの保有状態を固定する上で有益である。
【0012】上述のようにして重合硬化した有機物は、
カチオンラジカル及びアニオンラジカルを安定した状態
で保有するため、高い磁気機能を持ち、導体コイルのイ
ンダクタンスを高めることに貢献する。
【0013】以下、実施例についてさらに図面に基づい
て、より具体的に説明する。はじめに、電子供与基及び
電子受容基を有する光重合性ジアセチレンモノマーを適
当な溶媒で希釈して半導体基板1上に塗布し、これを乾
燥させて図1(a)に示すような未硬化層2を作る。こ
の層2に、光電子移動反応のための光と、重合反応用の
光とで所要のパターンを照射すると、照射部分だけが重
合してポリジアセチレン化合物に変化し、硬化するの
で、未照射部分を溶剤で洗い去ると、図1(b)に示す
ような所要パターンの硬化層3、3・・・が得られる。
【0014】上記の未硬化層2は、光照射によって次の
ような反応を起こす。図3(a)に示すジアセチレン化
合物モノマー分子21、21・・・はそれぞれ側鎖とし
て電子供与基22及び電子受容基23を有するジアセチ
レン基24で構成されている。これに光電子移動用の光
を照射すると、図3(b)に示すように電子供与基22
は電子を放出してカチオンラジカル25に変化し、電子
受容基23はその放出された電子を受容してアニオンラ
ジカル26に変化する。
【0015】次に、これに光重合用の光を照射すると、
図3(c)に示すように、ジアセチレン基24はカチオ
ンラジカル25及びアニオンラジカル26を保有したま
ゝ重合反応を起こし、ポリジアセチレン化合物27に変
化する。このポリジアセチレン化合物27は、カチオン
ラジカル25及びアニオンラジカル26を有しており、
これらカチオンラジカル25及びアニオンラジカルは化
合物27の側鎖位置にあるため、光照射を止めた後も安
定に存在す ることができ、高い磁気機能を発揮する。
【0016】上述の光電子移動反応用及び重合反応用の
光は、同時に照射してもよい。また、照射時に強い電場
または磁場を印加すれば、発生したカチオンラジカル及
びアニオンラジカルの保有状態をゼーマン効果等によっ
て一層安定させることができる。
【0017】基板1上に、通常のフオトレジストを用
い、硬化層3、3・・・に重ねて所要パターンのマスク
層4、4・・・を図1(c)に示すように作り、蒸着及
びメッキによりマスク層を通して図1(d)及び図2
(a)に示す導体層5、5・・・を作り、マスク層4、
4・・・を除去する。なお、図1(d)は図2(a)に
おけるD−D線に沿う断面図である。
【0018】導体の交叉部に絶縁層6を置き、再びフオ
トレジストによりマスクを作り、図1(e)に示すよう
に導体層5、5・・・の大部分に重なり交叉部において
これを跨ぐ導体層7、7・・・を作る。そして、その上
から基板1の全面に図1(f)に示すように未硬化層2
と同様な未硬化層8を形成し、所要パターンの光電子移
動反応用及び光重合反応用の光を照射して照射部分を重
合硬化させ、未重合部分を除去すると、図1(g)及び
図2(b)に示すようなパターンの硬化層9、9・・・
が得られる。なお、図1(g)は図2(b)におけるG
−G線に沿う断面図である。
【0019】図1(g)及び図2(b)から明らかなよ
うに、導体層7、7・・・で作られているコイルは、両
面を強磁性有機物層3、3及び9、9・・・で挟まれて
いるので、そのインダクタンスを高めることができる。
【0020】図4は、光硬化性強磁性有機物の他の例を
示す。図4(a)において、ジアセチレン化合物モノマ
ー31、31・・・は、ジアセチレン基32と、電子供
与基33と、電子受容基34と、ジアセチレン基32を
それぞれ電子供与基33及び電子受容基34に結び付け
ているスペーサー35及び36とからなる。
【0021】スペーサー35及び36は、光電子移動反
応用の光を照射したときだけ、電子供与基33が放出し
た電子を電子受容基34に運搬するもので、具体的に
は、酸素、硫黄、セレンなどの第6族元素や、炭素数6
以下のメチレン基などの一重結合性官能基が挙げられ
る。
【0022】このジアセチレン化合物モノマーは、光電
子移動反応用の光が照射されない限り、電子供与基33
が放出した電子を電子受容基34へ受渡すことができな
い。しかし、これに適当な波長の光電子移動反応用の光
を照射すると、電子供与基33が放出した電子が電子受
容基34に運ばれて、図4(b)に示すようにカチオン
ラジカル37及びアニオンラジカル38を生ずる。
【0023】そして、更に適当な波長の光重合反応用の
光を照射すれば、図4(c)に示すようにジアセチレン
基32はカチオンラジカル37及びアニオンラジカル3
8を保有したまゝ重合してポリジアセチレン化合物39
に変化する。この化合物もまた、図3に示した化合物と
同様に、安定して存在するカチオンラジカル及びアニオ
ンラジカルによって、優れた磁気性能を発揮する。
【0024】なお、インダクタの電流路を構成する導体
層に積層される強磁性体層として、例えば光硬化性の磁
性材料を用いる点に特徴があるが、この用途に適した材
料としては、上述のごとく電子供与基または電子受容基
のうちの少くとも一方を官能基として分子内に含む光重
合性モノマーが挙げられる。
【0025】この光重合性モノマーとしては、例えば、
光により重合し、ポリジアセチレン結合を生 成するジア
セチレン基やビニル基などを含むものが挙げられる。ま
たこの光重合性モノマーは、光重合するものであればい
づれの光反応性基でも使用可能であるが、ポリジアセチ
レン結合のようなπ−共役結合を形成するものが有機強
磁性材料におけるの磁気的機能の見地から望ましい。
【0026】そして、光照射によって電子を放出する官
能基、即ち電子供与基は、光照射時に電子を放出するも
のであり、そしてその電子を放出してできたカチオンラ
ジカルが光重合反応中にも安定に存在することができれ
ば、いずれの官能基も使用可能である。具体的な例とし
ては、トリフェニル基を有する官能基、ジブチルアミ
ン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン等の置換
アミンに代表される脂肪族、アントラセン、ベンゾアン
トラセン、置換ベンゾアントラセン、ジベンゾアントラ
セン、ビセン、ピレン、ベンゾピレン、ジベンゾピレ
ン、フェニレンジアミン等の炭素環式芳香族官能基、ピ
ロコリン、チオフェン、置換チオフェン、フラン、置換
フラン、ピロール、置換ピロール等の複素環式官能基、
カルバゾール更にはテトラチアフルバレンとその誘導体
等の電荷移動錯体を形成する官能基等が挙げられる。
尚、もちろんこれらの化合物に限られるわけではなく、
これらの官能基の誘導体やこれらの官能基を2種類以上
結合して組み合わせたような官能基を用いても差し支え
ない。
【0027】また、光照射時に電子を受容する官能基、
即ち電子受容基は、光照射時に放出された電子を受容す
るものであり、その電子を受容してできたアニオンラジ
カルが光重合反応中にも安定に存在することができれ
ば、いずれの官能基も使用可能である。具体的な例とし
ては、アクリル酸、アセトアミド、エチレンオキシド等
の脂肪族官能基、ニトロベンゼン等の炭素環式芳香族官
能基、更にはベンゾキノン、テトラシアノ−P−ベンゾ
キノン等のベンゾキノン誘導体からなる官能基、テトラ
シアノエチレンやテトラシアノキノジメタンとそれらの
誘導体からなる官能基等の電荷移動錯体を形成する官能
基が挙げられる。尚、もちろんこれらの官能基に限られ
るわけではなく、これらの官能基の誘導体やこれらの官
能基を2種類以上結合して組み合わせたような官能基を
用いても差し支えない。
【0028】尚、電子供与基と電子受容基は、両方が光
照射によって電子の供与と受容が起こることが望ましい
が、少なくともどちらか一方の官能基が電子の供与又は
受容を起こせば良い。このため、分子内に電子供与性ま
たは電子受容性の官能基のうち、少なくとも一方を含め
ば良い。
【0029】上述のような光硬化性強磁性有機物のモノ
マーなどの未硬化物を半導体基板上またはその上に形成
された導体層を覆って塗布し、これに所要パターンの光
を照射してその部分だけを硬化させ、未硬化部分を溶剤
等を用いて除去することにより、所要のパターンを持っ
た磁性材料層を形成したインダクタに関するものであ
る。
【0030】
【発明の効果】以上のように、この発明によるときは、
導体層で形成したコイルのインダクタンスを増大させる
ための強磁性体層として、光硬化性有機物を使用したた
め、直に写真製版技術を適用して、所望のパターンの強
磁性体層を得るための工程を簡略化することができる。 Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an inductor formed in a coil shape with a conductor on a semiconductor substrate, and more particularly to an inductor having a ferromagnetic layer on both upper and lower surfaces or one surface of a conductor. . [0002] Conventionally, it has been known to provide an inductor comprising a conductor formed in a coil shape and a ferromagnetic layer overlaid on both sides or one side of the conductor on a semiconductor substrate. I have. A metal layer is used as the conductor layer, a sendust alloy or ferrite vapor deposition layer is used as the ferromagnetic layer, or an ink layer in which ferromagnetic powder is dispersed in a binder is used as the ferromagnetic layer. It is provided on the substrate in a pattern. [0003] In order to form a conductor layer and a ferromagnetic layer by photolithography, several steps are required for each layer. For example, a ferromagnetic layer-conductor layer- Manufacture of an inductor having a three-layer structure of ferromagnetic layers requires ten or more steps or more, which is extremely troublesome.
The present invention provides an inductor that has a three-layer structure of a ferromagnetic layer, a conductor layer, and a ferromagnetic layer, or a two-layer structure of a conductor layer and a ferromagnetic layer, and can reduce the number of manufacturing steps. Things. [0004] An inductor according to the present invention is provided.
In the case of data, a coil-shaped pattern is formed on the semiconductor substrate
And the upper and lower surfaces and both sides of this conductor layer,
Or light of a photocurable ferromagnetic organic material covering the top and both sides
An inductor comprising a hardened layer, wherein the semiconductor substrate
Side surfaces of conductor layers adjacent to each other in a cross section perpendicular to
Characterized in that the covering photo-cured layers are separated from each other
Things. In the present invention, since a photocurable organic material is used as a ferromagnetic layer for increasing the inductance of a coil formed of a conductor layer, a photoengraving technique is directly applied to obtain a desired layer. Ru can be simplified process for obtaining the ferromagnetic layer pattern. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention
I will explain about it. Photocurable ferromagnetic organic material on semiconductor substrate
With a thin layer of photo-printing technology to achieve the desired pattern
When light is applied, only the required parts are cured, so uncured parts
Is removed by a solvent to obtain the first pattern of the required pattern.
Is formed. Next, a semiconductor substrate including the above ferromagnetic material layer
Apply a well-known photoresist material to the entire surface of the
A mask is formed by the technique, and the coil-shaped conductor layer is
It is formed on a ferromagnetic material layer. [0008] Photocurable ferromagnetic material is again formed on the entire surface of the semiconductor substrate.
Providing a thin layer of equipment, exposing it in the required pattern,
Removing the unexposed portion to form a second ferromagnetic material layer
And a coil consisting of a conductor sandwiched between ferromagnetic organic layers
Obtainable. The first and second ferromagnetic material layers
Can omit one of them. Accordingly, the first and second patterns having a required pattern
When forming the second ferromagnetic material layer, the second ferromagnetic material layer itself is exposed to light.
To obtain the required pattern.
Photoresis used to get the key pattern
The step of applying a coating layer can be omitted. In the above-described photosensitive process, a photopolymerizable monomer is used.
Between the electron donating group and the electron accepting group of the
By irradiating light, the former emits electrons and cations
Changes into a radical, the latter accepting that electron and anion
Turns into radicals. Irradiation light is selectively applied to such photoelectric
Monochromaticity, directivity, and time due to the need to cause a child transfer reaction
Laser beam light with excellent controllability is desirable. Also on
When applying an electric or magnetic field during the light irradiation described above,
Existence of formed cation radical and anion radical
Can be stabilized. Same as the light irradiation for the photoelectron transfer reaction described above.
Sometimes or later, irradiate with another suitable wavelength of light
Thereby, the monomer is a cation radical as described above and
A photopolymerization reaction occurs while retaining the anion radical
To cure. After performing the photoelectron transfer reaction described above, photopolymerization
Apply the above-mentioned electric or magnetic field until the reaction is completed
To keep the cation radical and anion radio
This is useful for fixing the holding status of files. The organic material polymerized and cured as described above is
Stable state of cation radical and anion radical
It has a high magnetic function, and
Contributes to increasing the conductance. Hereinafter, embodiments will be further described with reference to the drawings.
Then, it will be described more specifically. First, an electron donating group and
Suitable for photopolymerizable diacetylene monomer having an electron accepting group.
Dilute with an appropriate solvent, apply it on the semiconductor substrate 1, and dry it.
After drying, an uncured layer 2 as shown in FIG. This
In the layer 2 of the above, light for photoelectron transfer reaction and light for polymerization reaction
When the required pattern is irradiated with light, only the irradiated part
Changes to a polydiacetylene compound and cures
Then, when the unirradiated portion is washed away with a solvent, it is shown in FIG.
The cured layers 3, 3,... Having such a required pattern are obtained. The uncured layer 2 is irradiated with light to form
Cause such a reaction. Diacetylenization shown in FIG. 3 (a)
The compound monomer molecules 21, 21... Are each a side chain.
Having an electron donating group 22 and an electron accepting group 23
It is composed of a ren group 24. This is the light for photoelectron transfer
Is irradiated, as shown in FIG.
Emits an electron to change to a cation radical 25,
The acceptor group 23 accepts the released electrons and anions
It changes to Zical 26. Next, when this is irradiated with light for photopolymerization,
As shown in FIG. 3C, the diacetylene group 24 is
The radical 25 and the anion radical 26
ゝ A polymerization reaction occurs, converting to polydiacetylene compound 27.
Become This polydiacetylene compound 27 has a cation
Having a radical 25 and an anion radical 26,
These cation radicals 25 and anion radicals are
Because it is at the side chain position of compound 27, it is safe even after light irradiation is stopped.
Can you to exist in the constant, it exhibits a high magnetic function. For the above-described photoelectron transfer reaction and polymerization reaction
The light may be applied simultaneously. In addition, a strong electric field
Or, if a magnetic field is applied, the generated cation radicals and
And the anion radical holding state by Zeeman effect etc.
More stable. An ordinary photoresist is used on the substrate 1.
, A mask of a required pattern is superimposed on the cured layers 3, 3,...
The layers 4, 4,... Are formed as shown in FIG.
1 (d) and 2 through a mask layer by plating and plating.
The conductor layers 5, 5,... Shown in FIG.
4 is removed. FIG. 1 (d) is the same as FIG. 2 (a).
It is sectional drawing in alignment with DD line in FIG. The insulating layer 6 is placed at the intersection of the conductors, and
A mask is made of photoresist, and as shown in FIG.
At the intersection where the conductor layers 5, 5...
The conductor layers 7, 7,... And on it
As shown in FIG. 1F, an uncured layer 2
To form an uncured layer 8 similar to that of
Irradiation of light for kinetics and photopolymerization
After curing together and removing the unpolymerized part, FIG. 1 (g) and
The cured layers 9, 9... Having a pattern as shown in FIG.
Is obtained. Note that FIG. 1 (g) corresponds to G in FIG. 2 (b).
It is sectional drawing which follows the -G line. FIG . 1 (g) and FIG. 2 (b)
Thus, the coil made of the conductor layers 7, 7,...
... sandwiched between ferromagnetic organic layers 3, 3, 9, 9, ...
Therefore, the inductance can be increased. FIG . 4 shows another example of a photocurable ferromagnetic organic material.
Show. In FIG. 4A, the diacetylene compound monomer
-31, 31 ... are diacetylene groups 32 and electric children
Giving group 33, electron accepting group 34 and diacetylene group 32
Linked to an electron donating group 33 and an electron accepting group 34, respectively
Spacers 35 and 36. The spacers 35 and 36 serve as optoelectronic transfer
Only when irradiated with application light, the electron donating group 33 is released.
Transports the electrons to the electron accepting group 34.
Represents a Group 6 element such as oxygen, sulfur, or selenium;
Single bond functional groups such as the following methylene groups include
You. This diacetylenic compound monomer has an electron donating group 33 unless irradiated with light for a photoelectron transfer reaction.
Cannot be transferred to the electron accepting group. However, when this is irradiated with light for a photoelectron transfer reaction having an appropriate wavelength, the electrons emitted from the electron donating group 33 are carried to the electron accepting group 34, and as shown in FIG. This produces radicals 38. Further, for a photopolymerization reaction of a suitable wavelength,
When irradiated with light, as shown in FIG.
Group 32 is a cation radical 37 and an anion radical 3
Polymerized to retain the polydiacetylene compound 39
Changes to This compound is also the same as the compound shown in FIG.
Similarly, stably present cation radicals and anions
Excellent magnetic performance is exhibited by radicals. The conductor forming the current path of the inductor
As a ferromagnetic layer laminated on the layer, for example, a photocurable magnetic layer
It is characterized by the use of conductive materials, but is suitable for this purpose.
As described above, the electron donating group or the electron accepting group
Containing at least one of them as a functional group in the molecule
And a compatible monomer. As the photopolymerizable monomer, for example,
It was polymerized by light, to generate a polydiacetylene bond Gia
Those containing a cetylene group, a vinyl group and the like can be mentioned. Ma
The photopolymerizable monomer may be any that can be photopolymerized.
All photoreactive groups can be used, but polydiacetyl
Those that form a π-conjugate bond such as a ren bond are organic
It is desirable from the viewpoint of the magnetic function in the magnetic material. [0026] Then, a government that emits electrons by light irradiation
Active groups, that is, electron donating groups, emit electrons when irradiated with light.
And the cation radical formed by emitting the electron
Dical can be stably present during photopolymerization reaction
If so, any functional group can be used. As a concrete example
Is a functional group having a triphenyl group,
, Dipropylamine, diisopropylamine, etc.
Aliphatic such as amine, anthracene, benzoan
Thracene, substituted benzanthracene, dibenzoanthrace
Sen, bicene, pyrene, benzopyrene, dibenzopyrene
Carbocyclic aromatic functional groups such as
Locoline, thiophene, substituted thiophene, furan, substituted
Heterocyclic functional groups such as furan, pyrrole and substituted pyrrole;
Carbazole and also tetrathiafulvalene and its derivatives
And other functional groups that form a charge transfer complex.
Of course, it is not limited to these compounds,
Derivatives of these functional groups or two or more of these functional groups
Use of functional groups that combine and combine
Absent. A functional group that accepts electrons when irradiated with light,
In other words, the electron accepting group accepts the electrons released during light irradiation.
And the anion radiated by receiving the electron
Cal can be stably present during the photopolymerization reaction
If so, any functional group can be used. As a concrete example
Acrylic acid, acetamide, ethylene oxide, etc.
Aliphatic functional groups, nitrobenzene and other carbocyclic aromatic agents
Functional group, furthermore, benzoquinone, tetracyano-P-benzo
Functional groups consisting of benzoquinone derivatives such as quinone, tetra
Cyanoethylene and tetracyanoquinodimethane and their
Functionality that forms a charge transfer complex such as a derivative functional group
Groups. Of course, only these functional groups
However, derivatives of these functional groups and
Functional groups that combine two or more functional groups
It can be used. It should be noted that both the electron donating group and the electron accepting group
Irradiation should cause donation and acceptance of electrons
Has at least one of the functional groups donating an electron or
You just need to get it. For this reason, the electron donor or
Or at least one of the electron-accepting functional groups
Good. The above-mentioned photo-curable ferromagnetic organic compound
Uncured material, such as a polymer, is formed on or on a semiconductor substrate
To cover the conductor layer that has been
To cure only that part and remove the uncured part with solvent
Have the required pattern by removing
Related to an inductor having a magnetic material layer formed thereon.
You. As described above, according to the present invention,
Since a photocurable organic material was used as the ferromagnetic layer for increasing the inductance of the coil formed of the conductor layer, a process for obtaining a desired pattern of a ferromagnetic layer by directly applying photolithography technology. Ru can be simplified.
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を実施したインダクタの各製造工程を示
す断面図である。
【図2】上記インダクタの製造中及び完成品の平面図で
ある。
【図3】本発明の実施例に用いる光重合性強磁性有機物
の光照射による変化状態の説明図である。
【図4】本発明の他の実施例に用いる光重合性強磁性有
機物の光照射による変化状態の説明図である。
【符号の説明】
1 半導体基板
3 光重合性強磁性有機物の硬化層
5 導体層
7 導体層
9 光重合性強磁性有機物の硬化層
21 ジアセチレン化合物モノマー
22 電子供与基
23 電子受容基
24 ジアセチレン基
25 カチオンラジカル
26 アニオンラジカル
27 ジアセチレン化合物ポリマーBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a cross-sectional view showing each manufacturing process of an inductor embodying the present invention. FIG. 2 is a plan view of the inductor during manufacture and of a finished product. FIG. 3 is an explanatory diagram of a change state of a photopolymerizable ferromagnetic organic substance used in an example of the present invention by light irradiation. FIG. 4 is an explanatory view of a change state of a photopolymerizable ferromagnetic organic substance used in another embodiment of the present invention by light irradiation. DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS 1 semiconductor substrate 3 cured layer of photopolymerizable ferromagnetic organic substance 5 conductor layer 7 conductor layer 9 cured layer of photopolymerizable ferromagnetic organic substance 21 diacetylene compound monomer 22 electron donating group 23 electron accepting group 24 diacetylene Group 25 cation radical 26 anion radical 27 diacetylene compound polymer
Claims (1)
された導体層と、この導体層の上下両面及び両側面、ま
たは、上面及び両側面を覆う光硬化性強磁性有機物の光
硬化層とを備えたインダクタであって、 上記半導体基板に垂直な断面において、互いに隣り合う
導体層の側面を覆う光硬化層が相互に分離されてい るこ
とを特徴とするインダクタ。(57) [Claim 1] A conductor layer formed in a coil-like pattern on a semiconductor substrate, and upper and lower surfaces and both side surfaces of the conductor layer ,
Or a photocurable layer of a photocurable ferromagnetic organic material covering the upper surface and both side surfaces, wherein the inductors are adjacent to each other in a cross section perpendicular to the semiconductor substrate.
An inductor, wherein a photo-cured layer covering a side surface of a conductor layer is separated from each other .
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